JP6406613B2 - 含有する炭素及び硫黄の濃度を低減するニッケル粉の製造方法 - Google Patents
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Description
非特許文献1記載の方法は、硫酸ニッケル水溶液に錯化剤を混合、錯化処理してニッケルアンミン錯体の溶液を形成し、その溶液を加圧容器に入れて密栓後、150〜250℃程度に昇温、保持し、その中に水素ガスを吹き込む、いわゆる錯化還元法と呼ばれる方法で、水素によりニッケルアンミン錯体が還元されてニッケル粉を生成するものである。
酸化ニッケルを230℃ 以上、870℃ 以下の温度範囲に加熱、焙焼して酸化ニッケルを形成する焙焼工程。(5)水酸化工程で得られた水酸化ニッケルを230℃ 以上、870℃ 以下の温度範囲に加熱、焙焼して酸化ニッケルを形成する焙焼工程。(6)焙焼工程で得られた酸化ニッケルを、水温50℃以上の水を用いて水洗浄し、次いで50℃以上の温度で假焼することによって、洗浄後酸化ニッケルを形成することを特徴とする洗浄・假焼工程、を経て硫黄を分離したフェロニッケル原料を得るものである。
このように、ニッケル粉の性状への影響を回避しながら硫黄や炭素を効果的にニッケルと分離するのに適した方法は見当たらなかった。
以下、本発明の製造方法を、図面を参照しながら説明する。
本発明は錯化還元法を用いて作製されたニッケル粉に含まれる不純物、特に炭素及び硫黄のニッケル粉からの除去を特徴とするもので、先ず供試粉となるニッケル粉は、図1の上工程として記載される「錯化処理」と「水素還元処理」を経て作製されるニッケル粉である。
本発明に係るニッケル粉から不純物の炭素、硫黄成分を除去する方法は、図1に示されるように、供試粉に対して、供試粉に水を用いた洗浄処理を施し、不純物の中で水溶性不純物を取り除く「洗浄工程」と、「洗浄工程」において取り除けなかった残存炭素及び硫黄を、高温で焙焼処理することにより分離する「焙焼工程」を順に経ることによって、得られるニッケル粉中の不純物濃度を低減して純度の高いニッケル粉を生成するものである。
そこで、以下に本発明における特徴を成す「洗浄工程」及び「焙焼工程」について詳細する。
供試粉のニッケル粉を、所定の方法で洗浄し、水溶性の不純物濃度を低減したニッケル粉を得る工程である。
具体的な洗浄方法は、ニッケル粉にかけ水をしたり、その水温を90℃程度まで上げたりするなど様々な方法を用いることができる。また、超音波を加えた雰囲気下で洗浄することでも効果がある。
洗浄工程で水溶性の硫黄や炭素の大部分を除去したニッケル粉を、高温で焙焼することで、残留した硫黄や炭素を分離し、純度の高いニッケル粉を得る工程である。
本発明は、この焙焼工程の際の雰囲気に、酸化雰囲気、完全な不活性雰囲気を用いるのではなく、ごくわずかな量の水素ガスを含む還元雰囲気中において、効果的に硫黄と炭素を除去できることを見出し、完成せしめたものである。
しかし、700℃未満では、炭素や硫黄の分離が不十分となる。一方、焙焼温度は高い方が、分離は効率よく進むが、1000℃を越えた温度で焙焼しても分離はほとんど増加せず、特に1250℃を越えるとニッケル粉の焼結が進み、ニッケル粉を酸に溶解する用途に対して溶解性が低下するなど好ましくない。
実験装置としてバッチ式の容量3Lのオートクレーブを用いた。純水880mlに試薬硫酸ニッケル六水和物672g(ニッケル純分で150g)、硫酸アンモニウム660gを含む溶液を調製し、これに25%アンモニア水382mlを添加し、合計の液量が2000mlになるように調整して始液とし、この始液をオートクレーブの内筒缶内に入れた。
液温が185℃に到達した時点から、水素ボンベの水素ガスをスラリーに、4.0リットル/minの流量で吹込み、内部圧力を3.5MPaになるように昇圧し維持しながら水素還元反応を生じさせた。
水素ガスの吹き込み開始から60分間反応させ、時間経過後に水素ガスの供給を停止し、その後撹拌しながら室温まで冷却した。
回収したニッケル粉は約140gだった。なお、ニッケル粉量を装入した硫酸ニッケル溶液に含有するニッケル物量除して算出した還元率は約83%だった。
次に、作製したニッケル粉を供試粉として用い、10gずつ、5サンプル分取した。
次に、分取したそれぞれのニッケル粉を濾紙上に乗せ、真空ポンプを用いて吸引しながら液温50℃の純水を、かけ水として100ml、75ml、50ml、30ml、10mlと量を変えて、それぞれの上から掛け、水洗浄した。
水洗浄後、それぞれのニッケル粉を時計皿に取り出し、真空乾燥機に入れて一晩かけて乾燥させて不純物の低減したニッケル粉を作製した。
次に、洗浄工程で50mlの量のかけ水を行った洗浄によって硫黄品位が0.04重量%となったサンプルを10gずつ、4サンプルに分取し、それぞれを市販のブリケットマシン(新東工業株式会社製、BGS−IV)を用いて、10×15×20mmサイズの俵状に成型し、次いでこの成型物を内径60mmの管状炉内にセットし、ボンベから供給した高純度窒素ガスを960ml/minの流量で供給し、管状炉内部の空気を完全に窒素に置換した。
それぞれの温度に達した後、ボンベから水素ガスと置換した窒素と同じ窒素ガスを、水素ガスを毎分40ml、窒素ガスを毎分960mlの流量で管状炉に供給しながら、1時間保持した。供給したガスの水素ガス濃度は3重量%である。
炉内温度が70℃を下回ったところで管状炉を開け、中のニッケル粉を取り出し、ICPを用いて分析した。
実施例1における硫黄品位及び炭素品位の変化を表1に示す。
そこで、以下の実施例では、さらなる洗浄工程の効果の把握を行った。
実施例1と同じ方法で水素ガスを用いて生成したニッケル粉を10g分取し、供試粉のニッケル粉とした。このニッケル粉の硫黄品位は0.75重量%、炭素品位は0.06重量%だった。
次に、このニッケル粉を容量100mlビーカーに入れ、ここに90℃の純水を50ml添加した。その後、攪拌機およびヒーターを用いて、液温を90℃に保持したまま、400rpmの回転数で1時間撹拌した。
撹拌終了後、濾紙を用いて濾過し、実施例1と同じ真空乾燥機を用いて乾燥させた。
このニッケル粉の硫黄及び炭素を分析したところ、硫黄品位0.05重量%まで低減し、炭素品位0.02重量%まで低減した。
実施例2における硫黄品位及び炭素品位の変化を表2に示す。
実施例1と同じ水素還元した供試粉となるニッケル粉を用い、実施例1と同じ方法で水洗浄した洗浄工程後のニッケル粉を5g分取した。このニッケル粉の硫黄品位は、0.8重量%から0.03重量%に低減され、炭素品位も、0.10重量%から0.04重量%へと低減された。
この真空ポンプによる吸引後、超音波洗浄する操作を4回繰り返した。
上記の洗浄で得たニッケル粉を、濾紙を用いて濾過し、時計皿に取り出し、真空乾燥機で一晩乾燥させた。
実施例3における硫黄品位及び炭素品位の変化を表3に示す。
Claims (3)
- 含有する炭素及び硫黄の濃度を低減するニッケル粉の製造方法であって、
硫酸ニッケル水溶液に錯化剤を添加して形成したニッケル錯体イオンを含有する溶液を作製する錯化処理と、
加圧容器内に装入した前記ニッケル錯体イオンを含有する溶液を、液温150〜250℃に保持し、前記ニッケル錯体イオンを含有する溶液に水素ガスを吹き込んで水素還元を行ってニッケル粉を生成する水素還元処理と、
前記ニッケル粉を、液温50℃以上、90℃以下で、ニッケル粉の重量に対して1倍量以上、5倍量以下の水量による水洗浄、又は、低圧下でニッケル粉と水との混合物を超音波洗浄し、硫黄及び炭素の各含有量の両者を低減したニッケル粉を生成する水洗浄処理と、
水洗浄処理されたニッケル粉を窒素と濃度2〜4重量%の水素の混合気体雰囲気下で焙焼する焙焼処理を順に経ることを特徴とする含有する炭素及び硫黄の濃度を低減するニッケル粉の製造方法。 - 前記焙焼処理の混合気体における水素濃度が、2〜4重量%であることを特徴とする請求項1記載の含有する炭素及び硫黄の濃度を低減するニッケル粉の製造方法。
- 前記焙焼処理における温度が、700℃以上、1250℃以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の含有する炭素及び硫黄の濃度を低減するニッケル粉の製造方法。
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