JP6403358B2 - 安定な軟質磁性ナノ粒子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
上記のように、FeAlナノ粒子は、図6に示した改良された不活性ガス凝集マグネトロンスパッタリング装置を用いて得られた。図6は改良された不活性ガス凝集マグネトロン同時スパッタリング装置の模式図である。図6は2つのFeターゲットおよび1つのAlターゲットを示す。図は、FeおよびAlクラスターの核生成が行われ、その後により大型のナノ粒子を生成する結合が続く凝集ゾーン、核生成直後の合金ナノ粒子が通過してナノクラスタービームを生成する開口部、および基板上にナノ粒子を堆積するようにナノ粒子のナノクラスタービームが向かうメインチャンバの、3つの部分に分けられる。金属原子の過飽和蒸気はアルゴン(Ar)雰囲気中の同時スパッタリングにより生成される。凝集チャンバは水冷式であり、スパッタリングに先立ち約10−6mbarまで排気される。高純度のFe(99.9%)およびAl(99.9995%)ターゲットがDC同時スパッタリングプロセスに使用された。一定圧力プロセスは、凝集ゾーン内で3×10−1mbar、メインチャンバ内で8.4×10−4mbarに保たれ、Arのフローレートは80sccmとされた。この差圧は、凝集ゾーンにおける存在時間を定め、このためナノ粒子の結晶性、サイズおよび形状に影響するキーファクターである。1インチのFeおよびAlターゲットに印加されるDCパワーはそれぞれ11Wおよび16Wに固定された。原子質量の違い(Al:1.426オングストロームおよびFe:1.124オングストローム)(非特許文献21)およびスパッタ収率の違い(Al:0.42およびFe:0.47)に起因して、AlへのパワーはFeへのパワーより高い。DO3相およびA2相が低温(<摂氏500℃)で成長し安定する、Fe−Alの二元状態図のFeリッチな部分において作用するように、パワーの比は固定された。特性評価のため、シリコン基板および窒化シリコンのTEMウィンドウグリッドにナノ粒子を堆積させた。凝集ゾーンの長さは90mmに設定され、堆積の間は基板を回転させる。こうした金属間化合物のナノ粒子のサイズ、モルフォロジー、および結晶構造は、走査型電子顕微鏡(SEM)FEI Quanta FEG 250、および300kVで作動させた画像相関走査型/透過型電子顕微鏡(S/TEM)FEI Titan 80−300kVを使用して評価された。電子エネルギー損失分光法(EELS)は、Gatan GIF 量子画像フィルタを使用して個々のNPsの組成を検証するために行われた。これらの試料の化学的組成および酸化膜は、300Wにおいて作動させた単一AlK−アルファソースを備えるX線光電子分光(XPS)Kratos Axis UltraDLD 39−306を用いて評価された。磁場および温度の関数としての磁化測定は、カンタムデザインの寒剤フリーの物理特性測定システム(PPMS)ダイナクールの振動試料型磁力計モード(VSM)を用いて行われた。
図7は本発明の実施形態に係る代表的なナノ粒子の異なる領域から得られたEELSスペクトルである。ナノ粒子は、より光りにくいシェルに囲まれた明るいコアで形成されている。各元素の同定は、原子番号と関連づいたADFイメージのコントラストの違いに基づく。FeリッチのFe−Alコアの存在は明るいコントラストにより実証される。こうしたナノ粒子から空間分解された化学的な情報は、図7の左側の画像に示すように、STEMの形状における代表的なNPを横切る一連の点から、電子エネルギー損失スペクトルを得ることにより取得される。図7(a)は測定された領域1−3における内殻電子励起スペクトルを示し、図7(b)は領域1−3における価電子励起スペクトルを示す。領域1−3のSTEM−EELSスペクトルは、NP内のFe、AlおよびOの存在を表す。(a)および(b)に見ることができるように、領域1は明るいコアの位置に対応してFe−L2,3の大きなエッジを示し、コアの両側のスペクトル(領域2および領域3)はAl−L2,3およびO−Kのエッジが支配的である。
図8は、クリスタルメーカー(登録商標)のソフトウェアを使って得られた、DO3構造(b)のシミュレーションされたX線粉末回折パターン(a)、および
対応する[00−1]晶帯軸における電子線回折パターン(c)を示す。DO3は、相互に侵入した4つのfcc副格子に存在し、誘導されたbcc構造である。FFT解析の反射(図2(b))は、図8のシミュレーションされた回折パターンの反射と比較することができる。FFTにおいて計算された格子間隔および角度(図2)のすべてが、クリスタルメーカー(登録商標)から得られた値(表2)と完全に一致している。表2はFFT解析から計算された値と、クリスタルメーカー(登録商標)により計算された対応する面間隔および角度の値とを示している。さらに、実験的な面間隔から計算された格子のパラメータ(5.769)は、既知の格子のパラメータ(5.792)(非特許文献22)とよく一致している。格子のパラメータのわずかな違いは、微小なサイズのナノ粒子の圧縮歪みにより説明することができると指摘しておくことは重要である。
図9はアラビアゴム(GA)で覆われた磁性ナノ粒子に採用される回収手順を模式的に示す。
(ステップ1)
アラビアゴム(GA)膜を形成するため、ガラススライド基板(76mm×26mm)を紫外線照射の下において10分間ドライエタノールで十分にすすぎ、N2ガス下で乾燥させる。10mgのGA(シグマアルドリッチ、セントルイス、米国)が250μLの脱イオン(DI)水溶液に分散され、洗浄されたガラス基板上に静かに配置される。30秒間、3000rpmでスピンコータ(MS−A−150、ミカサ、日本)を駆動することで、GA薄膜が形成された。
(ステップ2)
DI水中にNPs/GA/ガラス試料を浸し、15分間の超音波照射を行うことでNPsが剥離され、60分間、100000rpmの遠心分離機を用いて過剰なGAポリマーを分離させる分離ステップが続く。
(ステップ3)
DI水中において50%のメタノールで沈殿したNPを洗浄した後、0.1μmフィルタを使ったMilli−Qシステム(日本ミリポア株式会社、東京、日本)から得られるDI水にNPを再分散させる。
Claims (7)
- アルミナからなる不活性シェルの中に収納されたコアとしてDO3相の鉄アルミナイドナノ合金を有し、
前記不活性シェルはAl 2 O 3 およびFeAl 2 O 4 を含む軟質磁性ナノ粒子。 - 前記不活性シェルの上を覆うポリマーをさらに有する請求項1に記載の軟質磁性ナノ粒子。
- 前記ポリマーはアラビアゴム(GA)である請求項2に記載の軟質磁性ナノ粒子。
- ナノ粒子は300Kにおいて170emu/g以上の飽和磁化、および300Kにおいて20Oe以下の保磁力を有する請求項1に記載の軟質磁性ナノ粒子。
- 鉄アルミナイドからなる前記コアは結晶相であり、前記不活性シェルはアモルファス相である請求項1に記載の軟質磁性ナノ粒子。
- アルミナからなる不活性シェルの中に収納されたコアとしてDO3相の鉄アルミナイド合金をそれぞれ有する複数の軟質磁性ナノ粒子の製造方法であって、
凝集ゾーンにFeターゲットおよびAlターゲットが配置され、前記凝集ゾーンよりも低圧のメインチャンバに基板が配置され、前記凝集ゾーンと前記メインチャンバとは開口部を通じて連通し、
Ar雰囲気中で前記Feターゲットおよび前記Alターゲットにマグネトロンパワーを印加し、Fe原子およびAl原子を同時スパッタリングすることにより、前記凝集ゾーンにおいてAlおよびFeの金属原子の過飽和蒸気を生成する工程と、
前記過飽和蒸気からより大きなナノ粒子を生成する工程と、
前記凝集ゾーンと前記メインチャンバとの圧力差により前記より大きなナノ粒子を、前記開口部から放出される前記ナノ粒子のナノクラスタービームを生成するように、前記開口部から通過させる工程と、
前記ナノクラスタービームを基板に向けて、前記基板の上に前記ナノ粒子を堆積させる工程と、を有し、
前記Alターゲットに印加するマグネトロンパワーは、前記Feターゲットに印加するマグネトロンパワーよりも高い製造方法。 - 前記基板の上に堆積した前記ナノ粒子を酸素に暴露して前記ナノ粒子の表面を酸化させる工程を含む請求項6に記載の製造方法。
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