JP6402976B2 - 重合性化合物及び光学異方体 - Google Patents

Description

本発明は重合性基を有する化合物、当該化合物を含有する重合性組成物及び当該重合性組成物を用いた光学異方体に関する。

重合性基を有する化合物（重合性化合物）は種々の光学材料に使用される。例えば、重合性化合物を含む重合性組成物を液晶状態で配列させた後、重合させることにより、均一な配向を有する重合体を作製することが可能である。このような重合体は、ディスプレイに必要な偏光板、位相差板、３Ｄ表示を行うために必要なレンチキュラーレンズ等に使用することができる。多くの場合、要求される光学特性、重合速度、溶解性、融点、ガラス転移温度、重合体の透明性、機械的強度、表面硬度、耐熱性及び耐光性を満たすために、２種類以上の重合性化合物を含む重合性組成物が使用される。その際、使用する重合性化合物には、他の特性に悪影響を及ぼすことなく、重合性組成物に良好な物性をもたらすことが求められる。

人間は左右の各々の目から入った映像が脳内で一体化する際に、奥行きや立体感を感じる。３Ｄ表示は、右目用及び左目用に別々の角度で撮影した映像を各々右目及び左目に送ることにより、奥行きや立体感を感じさせる仕組みである。右目用及び左目用の各々の映像を各々の目に送る方法として、レンチキュラーレンズを使用したものが知られている。

重合性化合物をレンチキュラーレンズ用に使用する場合には、多くの場合１種類又は２種類以上の重合性化合物及びその他の添加剤を混合し重合性組成物を調製する。その際、当該重合性組成物の融点まで加熱し、各成分を均一に混合する場合がある。その場合、加熱した際に重合性組成物に変色が起こらないことが重要である。加熱によって変色が起こりやすい重合性組成物を使用した場合、重合性組成物を加熱調製する際の許容温度範囲が狭くなるため、プロセス上不利となる。加熱による重合性組成物の変色の程度は、重合性組成物を調製する場合の反応釜の容量が大きくなることに伴い顕著になって現れる傾向がある。反応釜の容量が大きくなるに従い、重合性組成物の反応釜内壁に接する部分が局所的に高温に加熱されやすくなるためであると考えられる。

また、３Ｄディスプレイ用途にレンチキュラーレンズを使用する場合には、ディスプレイの内部部品のレイアウト自由度やディスプレイそのもののデザイン性の観点から、レンチキュラーレンズの膜厚がなるべく小さいことが好ましい。そのため、使用する重合性化合物には他の特性に悪影響を及ぼすことなく、屈折率異方性が大きいことが望まれる。

また、レンチキュラーレンズを作製する場合に、重合性組成物を基材に塗布した後、ラビング処理した樹脂金型を取り付け、紫外線を照射し重合させるが、その際塗布した重合性組成物に変色によるムラが生じないことが必要である。変色によるムラの生じたレンチキュラーレンズを、例えば３Ｄディスプレイに使用した場合、３Ｄ表示の品質が低下したり、ディスプレイの明るさにムラが生じたり、ディスプレイの色味が不自然であったりしてしまい、ディスプレイ製品の品質を大きく低下させてしまう問題がある。

当該分野において屈折率異方性の大きな化合物として種々の重合性化合物が知られているが、それらの重合性化合物は、加熱した際に変色が起こりやすかったり（特許文献１、３）、加熱調製した重合性組成物を基材に塗布した後、ラビング処理した樹脂金型を取り付け重合させた場合に、変色によるムラが生じやすかったりする問題があった（特許文献１、２、３）。

特開２０１１−１４８７６１号公報 特開２０１３−１８０９７４号公報 特開２０１０−０８３７８１号公報

本発明が解決しようとする課題は、重合性組成物を加熱調製した場合に変色が起こりにくく、屈折率異方性の大きな重合性化合物を提供し、当該重合性化合物を含有する重合性組成物に樹脂金型を取り付け重合させた際に変色によるムラが生じにくい重合性組成物を提供することである。更に、当該重合性組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。

本願発明は一般式（Ｉ）

（式中、Ｐ^１及びＰ^２は各々独立して重合性基を表し、Ｓ^１及びＳ^２は各々独立してスペーサー基を表すが、Ｓ^１及び／又はＳ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ^１及びＸ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１及び／又はＸ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^１−（Ｓ^１−Ｘ^１）_ｎ１−及び−（Ｘ^２−Ｓ^２）_ｎ２−Ｐ^２には、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−Ｓ−及び−Ｓ−Ｏ−基を含まない。）、ｎ１及びｎ２は０から８の整数を表し、Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良いが、Ａ^１及び／又はＡ^２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、Ｂは下記式（ｂ−１）又は（ｂ−２）

から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１及び／又はＺ^２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、ｍ１及びｍ２は０、１又は２を表すが、ｍ１＋ｍ２は２、３又は４を表し、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から１２のアルキル基、若しくは、Ｌは−（Ｘ−Ｓ）_ｎ−Ｐで表される基（式中、Ｐは重合性基を表し、Ｓはスペーサー基を表し、ＸはＸ^１及びＸ^２と同様の意味を表すが、Ｓが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｎは０から８の整数を表す。）を表すが、前記アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、前記アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い。）で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する組成物、当該組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

本願発明の化合物は、屈折率異方性が大きく、重合性組成物を加熱調製した場合に変色が起こりにくいことから、重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する組成物を用いた光学異方体は、樹脂金型を取り付け重合させた際に変色によるムラが生じにくいことからレンチキュラーレンズ等の光学材料の用途に有用である。

本願発明は一般式（Ｉ）で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する組成物、当該組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

本願発明において重合性基とは重合可能な基を意味し、スペーサー基とはＰｕｒｅ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．７３，Ｎｏ．５，ｐｐ．８４５−８９５，２００１記載の「ｓｐａｃｅｒ」を意味する。

一般式（Ｉ）においてＰ^１及びＰ^２は重合性基を表すが、それぞれ独立して下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−８）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−８）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。

Ｓ^１及びＳ^２は各々独立してスペーサー基を表すが、Ｓ^１及び／又はＳ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましく、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基を表すことがより好ましく、炭素原子数１から８のアルキレン基を表すことが特に好ましい。

Ｘ^１及びＸ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１及び／又はＸ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。ただし、Ｐ^１−（Ｓ^１−Ｘ^１）_ｎ１−及び−（Ｘ^２−Ｓ^２）_ｎ２−Ｐ^２には、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−Ｓ−及び−Ｓ−Ｏ−基を含まない。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から各々独立して−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、−Ｏ−を表すことがさらに好ましい。また、ｍ１が０を表す場合、又はｍ２が０を表す場合、それぞれＸ^１又はＸ^２は、−Ｏ−を表すことが特に好ましい。

Ａ^１及びＡ^２は各々独立して無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ^１及び／又はＡ^２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良い。液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から下記の式（ａ−１）から式（ａ−６）

及び下記の式（ａ−７）から式（ａ−１４）

から選ばれる基を表すことが好ましく、各々独立して式（ａ−１）から式（ａ−６）又は式（ａ−７）から式（ａ−９）から選ばれる基を表すことがより好ましく、式（ａ−１）から式（ａ−６）又は式（ａ−７）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

Ｂは下記式（ｂ−１）又は（ｂ−２）

から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から下記の式（ｂ−３）から式（ｂ−１４）

から選ばれる基を表すことが好ましく、式（ｂ−３）から式（ｂ−１０）から選ばれる基を表すことがより好ましく、式（ｂ−３）から式（ｂ−６）、式（ｂ−９）、式（ｂ−１０）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、式（ｂ−３）から式（ｂ−６）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１及び／又はＺ^２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さ、重合した際の変色によるムラの起こりにくさの観点から、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらに好ましく、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。また、基Ｂに直接連結するＺ^１及びＺ^２は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましい。

置換基Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から１２のアルキル基、若しくは、Ｌは−（Ｘ−Ｓ）_ｎ−Ｐで表される基（式中、Ｐは重合性基を表し、Ｓはスペーサー基を表し、ＸはＸ^１及びＸ^２と同様の意味を表すが、Ｓが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｎは０から８の整数を表す。）を表し、前記アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、前記アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良いが、置換基Ｌは液晶性、合成の容易さ及び原料の入手容易さの観点からフッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から１２のアルキル基を表すことが好ましく、前記アルキル基は直鎖状であっても分岐状であってもよく、前記アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−によって置換されても良く、フッ素原子、塩素原子、炭素原子数１から７の直鎖アルコキシ基、炭素原子数１から８の直鎖アルキル基を表すことがより好ましい。そして、さらに重合した際の変色によるムラの生じにくさの観点から、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基を表すことがさらに好ましく、フッ素原子又はメチル基を表すことが特に好ましい。

ｎ１及びｎ２はそれぞれ独立して０から８の整数を表すが、液晶性、重合した際の変色によるムラの生じにくさ、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から０から３の整数を表すことが好ましく、０又は１を表すことがより好ましく、１を表すことが特に好ましい。

ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立して０、１又は２を表すが、ｍ１＋ｍ２は２、３又は４を表す。合成の容易さ及び重合した際の変色によるムラの生じにくさの観点から、ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立して１又は２を表し、ｍ１＋ｍ２は２又は３を表すことが好ましく、ｍ１＋ｍ２は２を表すことがより好ましく、ｍ１及びｍ２は１を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物として具体的には、下記の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０６）で表される化合物が好ましい。

上記式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０６）で表される化合物のうち、液晶性、重合した際の変色によるムラの生じにくさ、原料の入手容易さ及び合成の容易さなどの観点から、一般式（Ｉ）において、Ｐ^１及びＰ^２がそれぞれ独立して上記式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）を表し、ｎ１及びｎ２がそれぞれ１を表し、Ｓ^１及びＳ^２がそれぞれ独立して炭素原子数１から８のアルキレン基を表し、Ｘ^１及びＸ^２がそれぞれ独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、ｍ１及びｍ２がそれぞれ１を表し、Ａ^１及びＡ^２がそれぞれ独立して上記式（ａ−１）から式（ａ−７）から選ばれる基を表し、Ｚ^１及びＺ^２がそれぞれ独立して−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｂが上記式（ｂ−３）から式（ｂ−６）から選ばれる基を表し、置換基Ｌがフッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基から選ばれる基を表す、式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４）、式（Ｉ−１９）、式（Ｉ−２３）、式（Ｉ−８２）、式（Ｉ−８７）で表される化合物が特に好ましい。

本願発明の化合物は以下の製法で製造することができる。
（製法１）下記式（Ｓ−１０）で表される化合物の製造

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓ^１、Ｓ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｌ、ｎ１、ｎ２は各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数を表し、ｓは各々独立して０から３の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎは各々独立してハロゲン原子又はハロゲン等価体を表し、ＰＧは保護基を表す。）
一般式（Ｓ−１）で表される化合物のヒドロキシル基を保護基（ＰＧ）により保護する。保護基（ＰＧ）としては、脱保護工程に至るまで安定に保護しうるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）等に挙げられている保護基（ＰＧ）が好ましい。保護基の具体例としてはテトラヒドロピラニル基等が挙げられる。

一般式（Ｓ−２）で表される化合物をホウ酸化することにより一般式（Ｓ−３）で表される化合物を得る。ホウ酸化の方法としては一般式（Ｓ−２）で表される化合物をグリニャール試薬へと誘導し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法、又は一般式（Ｓ−２）で表される化合物をハロゲンリチウム交換反応によりリチオ化し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法が挙げられる。ホウ酸エステルの具体例としてはホウ酸トリメチル、ホウ酸トリイソプロピル等が挙げられる。リチオ化剤の具体例としてはブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等が挙げられる。

一般式（Ｓ−３）で表される化合物を一般式（Ｓ−４）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−５）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒の具体例としては［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、酢酸パラジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）等が挙げられる。塩基の具体例としては炭酸カリウム、リン酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。反応条件としては例えばＭｅｔａｌ−Ｃａｔａｌｙｚｅｄ Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ（Ａｒｍｉｎ ｄｅ Ｍｅｉｊｅｒｅ、Ｆｒａｎｃｏｉｓ Ｄｉｅｄｒｉｃｈ共著、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ）、Ｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓｔｓ：Ｎｅｗ Ｐｅｒｓｐｅｃｔｉｖｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ ２１ｓｔ Ｃｅｎｔｕｒｙ（Ｊｉｒｏ Ｔｓｕｊｉ著、Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｌｔｄ．）、Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ：Ａ Ｐｒａｃｔｉｃａｌ Ｇｕｉｄｅ（Ｔｏｐｉｃｓ ｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）（Ｓ．Ｌ．Ｂｕｃｈｗａｌｄ、Ｋ．Ｆｕｇａｍｉ、Ｔ．Ｈｉｙａｍａ、Ｍ．Ｋｏｓｕｇｉ、Ｍ．Ｍｉｕｒａ、Ｎ．Ｍｉｙａｕｒａ、Ａ．Ｒ．Ｍｕｃｉ、Ｍ．Ｎｏｍｕｒａ、Ｅ．Ｓｈｉｒａｋａｗａ、Ｋ．Ｔａｍａｏ著、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ）等の文献に記載の方法が挙げられる。

一般式（Ｓ−５）で表される化合物を一般式（Ｓ−６）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−７）で表される化合物を得る。反応条件としては例えば、縮合剤を用いる方法、又は一般式（Ｓ−６）で表される化合物を酸クロリド、混合酸無水物又はカルボン酸無水物とした後、一般式（Ｓ−５）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。縮合剤を用いる場合、縮合剤として例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩等が挙げられる。塩基としては例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。

一般式（Ｓ−７）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、一般式（Ｓ−８）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば前記文献に挙げられているものが好ましい。

一般式（Ｓ−８）で表される化合物を一般式（Ｓ−９）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−１０）で表される化合物を得る。反応条件としては前記の方法が挙げられる。

前記各工程において記載した以外の反応条件として、例えば実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ−Ｉｎｓｔｉｔｕｔ ｆｕｅｒ Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎ ａｎｄ Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献に記載のもの又はＳｃｉＦｉｎｄｅｒ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ Ｓｅｒｖｉｃｅ，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）、Ｒｅａｘｙｓ（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ Ｌｔｄ．）等のデータベースに収載のものが挙げられる。

また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒の具体例としてはエタノール、テトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロメタン、水等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒の具体例としてはベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。

また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤の具体例としてはシリカゲル、アルミナ、活性炭等が挙げられる。
（製法２）下記式（Ｓ−２６）で表される化合物の製造

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｓ^１、Ｓ^２、Ｌは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数を表し、ｓは各々独立して０から３の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎは各々独立してハロゲン原子又はハロゲン等価体を表し、ＰＧは保護基を表す。）
一般式（Ｓ−１１）で表される化合物を例えば塩基存在下一般式（Ｓ−１２）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−１３）で表される化合物を得る。塩基の具体例としては炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。

一般式（Ｓ−１３）で表される化合物をホウ酸化することにより一般式（Ｓ−１４）で表される化合物を得る。ホウ酸化の方法としては一般式（Ｓ−１３）で表される化合物をグリニャール試薬へと誘導し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法、又は一般式（Ｓ−１３）で表される化合物をハロゲンリチウム交換反応によりリチオ化し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法が挙げられる。ホウ酸エステルの具体例としてはホウ酸トリメチル、ホウ酸トリイソプロピル等が挙げられる。リチオ化剤の具体例としてはブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム等が挙げられる。

一般式（Ｓ−１４）で表される化合物を一般式（Ｓ−１５）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−１６）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒、塩基、反応条件としては製法１記載のものが挙げられる。

同様の方法を繰り返すことによって一般式（Ｓ−２３）で表される化合物を得る。一般式（Ｓ−２３）で表される化合物に重合性基を導入することにより一般式（Ｓ−２４）で表される化合物を得る。

一般式（Ｓ−２４）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、一般式（Ｓ−２５）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば製法１記載の文献に挙げられているものが好ましい。

一般式（Ｓ−２５）で表される化合物に重合性基を導入することにより一般式（Ｓ−２６）で表される化合物を得る。

前記各工程において記載した以外の反応条件として、製法１記載の文献に記載のもの又はデータベースに収載のものが挙げられる。また、製法１同様に各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。製法１同様に各工程において必要に応じて精製を行うことができる。

本願発明の化合物は、ネマチック液晶組成物、スメクチック液晶組成物、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが好ましい。本願発明の反応性化合物を用いる液晶組成物において本願発明以外の化合物を添加しても構わない。

本願発明の反応性化合物と混合して使用される他の反応性化合物としては、具体的には一般式（ＩＩ−１）

及び／又は一般式（ＩＩ−２）

（式中、Ｐ^３、Ｐ^４及びＰ^５は各々独立して重合性基を表し、Ｓ^３、Ｓ^４及びＳ^５は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^３、Ｘ^４及びＸ^５は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｚ^３及びＺ^４は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５及びＡ^６は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５及びＡ^６は各々独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖又は分岐アルキル基を表し、ｍ３及びｍ４は０、１、２又は３を表すが、ｍ３及び／又はｍ４が２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ^３、Ａ^５、Ｚ^３及び／又はＺ^４は同一であっても異なっていても良いが、一般式（Ｉ）で表される化合物を除く。）で表される化合物が好ましく、Ｐ^３、Ｐ^４及びＰ^５がアクリル基又はメタクリル基である場合が特に好ましい。一般式（ＩＩ−１）で表される化合物として具体的には、一般式（ＩＩ−１Ａ）

（式中、Ｗ^１及びＷ^２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ^６及びＳ^７は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ^６及びＸ^７は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ^５及びＺ^６は各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ^７、Ａ^８及びＡ^９は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子、炭素原子数１から４のアルキル基又は炭素原子数１から４のアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＩ−１Ａ−１）から式（ＩＩ−１Ａ−８）で表される化合物が特に好ましい。

（式中、Ｗ^１及びＷ^２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ^６は一般式（ＩＩ−１Ａ）におけるＳ^６と同じ意味を表し、Ｓ^７は一般式（ＩＩ−１Ａ）におけるＳ^７と同じ意味を表す。）上記式（ＩＩ−１Ａ−１）から式（ＩＩ−１Ａ−８）において、Ｓ^６及びＳ^７が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物がさらに好ましい。

また、一般式（ＩＩ−１Ｂ）

（式中、Ｗ^３及びＷ^４は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ^８及びＳ^９は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ^８及びＸ^９は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ^７は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ^１０、Ａ^１１及びＡ^１２は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子、炭素原子数１から４のアルキル基又は炭素原子数１から４のアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＩ−１Ｂ−１）から式（ＩＩ−１Ｂ−８）で表される化合物が特に好ましい。

（式中、Ｗ^３及びＷ^４は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ^８は一般式（ＩＩ−１Ｂ）におけるＳ^８と同じ意味を表し、Ｓ^９は一般式（ＩＩ−１Ｂ）におけるＳ^９と同じ意味を表す。）上記式（ＩＩ−１Ｂ−１）から式（ＩＩ−１Ｂ−８）において、耐熱性及び耐久性の観点から、式（ＩＩ−１Ｂ−２）、式（ＩＩ−１Ｂ−５）、式（ＩＩ−１Ｂ−６）、式（ＩＩ−１Ｂ−７）及び式（ＩＩ−１Ｂ−８）で表される化合物が好ましく、式（ＩＩ−１Ｂ−２）で表される化合物がさらに好ましく、Ｓ^８及びＳ^９が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

この他、好ましい２官能重合性化合物としては下記一般式（ＩＩ−１Ｃ−１）から式（ＩＩ−１Ｃ−８）で表される化合物が挙げられる。

（式中、Ｗ^５及びＷ^６は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ^１０及びＳ^１１は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表す。）上記式（ＩＩ−１Ｃ−１）から式（ＩＩ−１Ｃ−８）において、式（ＩＩ−１Ｃ−２）、式（ＩＩ−１Ｃ−３）、式（ＩＩ−１Ｃ−４）、式（ＩＩ−１Ｃ−６）、式（ＩＩ−１Ｃ−７）及び式（ＩＩ−１Ｃ−８）で表される化合物が好ましく、Ｓ^１０及びＳ^１１が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

また、一般式（ＩＩ−２）で表される化合物として具体的には、下記一般式（ＩＩ−２−１）から式（ＩＩ−２−９）で表される化合物が挙げられる。

（式中、Ｐ^６は一般式（Ｉ）におけるＰ^１又はＰ^２と同じ意味を表し、Ｓ^１２は単結合又は炭素原子数１から２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^１０は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−を表し、Ｚ^８は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ａ^１３は１，４−フェニレン基又はナフタレン−２，６−ジイル基を表すが、Ａ^１３は無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｌ^１はフッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、ｒは０から４の整数を表し、Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ニトロ基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）
本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物には、当該組成物の液晶性を大きく損なわない程度に、液晶性を示さない重合性化合物を添加することも可能である。具体的には、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識される化合物であれば特に制限なく使用可能である。具体例として例えば「光硬化技術データブック、材料編（モノマー，オリゴマー，光重合開始剤）」（市村國宏、加藤清視監修、テクノネット社）記載のものが挙げられる。

また、本願発明の化合物は光重合開始剤を使用しなくても重合させることが可能であるが、目的により光重合開始剤を添加しても構わない。その場合は光重合開始剤の濃度は、本願発明の化合物に対し０．１質量％から１５質量％が好ましく、０．２質量％から１０質量％がより好ましく、０．４質量％から８質量％がさらに好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。光重合開始剤の具体例としては２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７）、安息香酸［１−［４−（フェニルチオ）ベンゾイル］ヘプチリデン］アミノ（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１）等が挙げられる。熱重合開始剤としては、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられる。熱重合開始剤の具体例としては２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）等が挙げられる。また、１種類の重合開始剤を用いても良く、２種類以上の重合開始剤を併用して用いても良い。

また、本発明の液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、組成物に対して０．００５質量％から１質量％の範囲が好ましく、０．０２質量％から０．８質量％がより好ましく、０．０３質量％から０．５質量％がさらに好ましい。また、１種類の安定剤を用いても良く、２種類以上の安定剤を併用して用いても良い。安定剤としては、具体的には式（ＩＩＩ−１）から式（ＩＩＩ−３６）

（式中、ｎは０から２０の整数を表す。）で表される化合物が好ましい。

また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物をフィルム類、光学素子類、機能性顔料類、医薬品類、化粧品類、コーティング剤類、合成樹脂類等の用途に利用する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等を添加することもできる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合することにより得られるポリマーは種々の用途に利用できる。例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、配向させずに重合することにより得られるポリマーは、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。また、配向させた後に重合することにより得られるポリマーは、光学異方性を有しており有用である。このような光学異方体は、例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、布等でラビング処理した基板、有機薄膜を形成した基板又はＳｉＯ_２を斜方蒸着した配向膜を有する基板に担持させるか、基板間に挟持させた後、当該重合性液晶組成物を重合することによって製造することができる。

重合性液晶組成物を基板上に担持させる際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。またコーティングの際、重合性液晶組成物に有機溶媒を添加しても良い。有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、非プロトン性溶媒等を使用することができるが、例えば炭化水素系溶媒としてはトルエン又はヘキサンを、ハロゲン化炭化水素系溶媒としては塩化メチレンを、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、アセトキシ−２−エトキシエタン又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを、アルコール系溶媒としてはメタノール、エタノール又は２−プロパノールを、ケトン系溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、γ−ブチルラクトン又はＮ−メチルピロリジノン類を、エステル系溶媒としては酢酸エチル又はセロソルブを、非プロトン性溶媒としてはジメチルホルムアミド又はアセトニトリルを挙げることができる。これらは単独でも、組み合わせて用いても良く、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すれば良い。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。重合性液晶材料の塗布性をさらに向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることや、重合性液晶材料にレベリング剤を添加する事も有効である。基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設ける方法は、重合性液晶材料を重合することにより得られるポリマーと基板との密着性を向上させるために有効である。

上記以外の配向処理としては、液晶材料の流動配向の利用、電場又は磁場の利用を挙げることができる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合わせて用いても良い。さらに、ラビングに代わる配向処理方法として、光配向法を用いることもできる。基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していても良い。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合させる際、迅速に重合が進行することが望ましいため、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することにより重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良く、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性を有していなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。また、照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合によって光学異方体を製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ^２〜２Ｗ／ｃｍ^２が好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ^２以下の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり生産性が悪化してしまい、２Ｗ／ｃｍ^２以上の場合、重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物が劣化してしまう危険がある。

重合によって得られた当該光学異方体は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０〜２５０℃の範囲であることが好ましく、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲であることが好ましい。

このような方法によって製造される当該光学異方体は、基板から剥離して単体で用いても、剥離せずに用いても良い。また、得られた光学異方体を積層しても、他の基板に貼り合わせて用いてもよい。

以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。
（実施例１）式（Ｉ−１）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−１−１）で表される化合物２．５０ｇ（０．０１１２モル）、式（Ｉ−１−２）で表される化合物１．５５ｇ（０．０１１２モル）、炭酸カリウム２．３２ｇ（０．０１６８モル）、エタノール３０ｍＬ、水２０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１３ｇ（０．１１２ミリモル）を加えた。加熱撹拌した後、酢酸エチルで希釈し塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１−３）で表される化合物１．８５ｇ（０．００７８５モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−１−３）で表される化合物１．８５ｇ（０．００７８５モル）、式（Ｉ−１−４）で表される化合物４．５９ｇ（０．０１５７モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１９ｇ（１．５７ミリモル）、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド２．１８ｇ（０．０１７３モル）を滴下した。撹拌した後、析出物を濾過し、有機層を塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１）で表される化合物３．６９ｇを得た。
転移温度：Ｃ １１３ Ｓ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．４４−１．５７（ｍ，８Ｈ），１．７４（ｑｕｉｎ，４Ｈ），１．８６（ｑｕｉｎ，４Ｈ），４．０７（ｔｄ，４Ｈ），４．１９（ｔ，４Ｈ），５．８３（ｄｄ，２Ｈ），６．１４（ｄｄ，２Ｈ），６．４２（ｄｄ，２Ｈ），６．９９（ｄｄ，４Ｈ），７．３３（ｄ，２Ｈ），７．３９（ｄｄ，１Ｈ），７．７１（ｄ，１Ｈ），７．７７（ｄ，３Ｈ），７．９１（ｄ，１Ｈ），７．９６（ｄ，１Ｈ），８．０７（ｓ，１Ｈ），８．１９（ｔ，４Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２５．６８，２５．７１，２８．５２，２８．９７，６４．４５，６８．０６，１１４．２６，１１４．２８，１１８．５３，１２１．５１，１２１．５５，１２１．９４，１２２．２１，１２５．６３，１２６．１８，１２８．２３，１２８．３７，１２８．５２，１２９．６２，１３０．６１，１３１．６３，１３２．３３，１３２．９６，１３７．６１，１３８．４９，１４８．８３，１５０．５９，１６３．４５，１６３．４７，１６４．９８，１６５．０８，１６６．３２ｐｐｍ．
（実施例２）式（Ｉ−２）で表される化合物の製造

実施例１と同様の方法によって式（Ｉ−２）で表される化合物を得た。
転移温度：Ｃ １４２ Ｓ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２．２３（ｑｕｉｎ，４Ｈ），４．１８（ｔｄ，４Ｈ），４．４０（ｔ，４Ｈ），５．８７（ｄｄ，２Ｈ），６．１５（ｄｄ，２Ｈ），６．４４（２Ｈ），７．０１（ｄｄ，４Ｈ），７．３４（ｄ，２Ｈ），７．３９（ｄｄ，１Ｈ），７．７１（ｄ，１Ｈ），７．７７（ｄ，３Ｈ），７．９１（ｄ，１Ｈ），７．９６（ｄ，１Ｈ），８．０７（ｓ，１Ｈ），８．２０（ｔ，４Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ２８．４９，６１．１５，６４．６３，１１４．２８，１１４．３０，１１８．５５，１２１．８５，１２１．８９，１２１．９４，１２２．２３，１２５．６６，１２６．２１，１２８．２４，１２８．４１，１２９．６７，１３１．０８，１３１．６６，１３２．３８，１３２．９７，１３７．６３，１３８．５４，１４８．８２，１５０．５８，１６３．１１，１６３．１２，１６４．９４，１６５．０４，１６６．１６ｐｐｍ．
（実施例３）式（Ｉ−３）で表される化合物の製造

実施例１と同様の方法によって式（Ｉ−３）で表される化合物を得た。
転移温度：Ｃ １０７ Ｎ ＞２３０ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．４８−１．５８（ｍ，８Ｈ），１．７４（ｑｕｉｎ，４Ｈ），１．８６（ｑｕｉｎ，４Ｈ），４．０７（ｔ，４Ｈ），４．１９（ｔ，４Ｈ），５．８４（ｄｄ，２Ｈ），６．１４（ｄｄ，２Ｈ），６．４２（ｄｄ，２Ｈ），７．００（ｄｄ，４Ｈ），７．３８（ｍ，２Ｈ），７．５５（ｍ，２Ｈ），７．７３（ｍ，２Ｈ），７．９２（ｄ，１Ｈ），７．９６（ｄ，１Ｈ），８．０６（ｓ，１Ｈ），８．２０（ｍ，４Ｈ）ｐｐｍ．
（実施例４）式（Ｉ−４）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−４−１）で表される化合物２．００ｇ、式（Ｉ−４−２）で表される化合物２．０８ｇ（ＷＯ２０１２−１３３６０７Ａ１号公報記載の方法によって製造した。）、炭酸カリウム１．５６ｇ、エタノール４０ｍＬを加えた。窒素置換した後、パラジウム触媒を加えた。加熱撹拌した後、トルエンで希釈し塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４−３）で表される化合物１．５１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−４−３）で表される化合物１．５１ｇ、エタノール５０ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液を加えた。加熱撹拌した後、中和し溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４−４）で表される化合物１．１１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−４−４）で表される化合物１．１１ｇ、式（Ｉ−４−５）で表される化合物１．７１ｇ（特開２０１０−０２４４３８号公報記載の方法によって製造した。）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０９ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．０１ｇを滴下した。撹拌した後、析出物を濾過し、有機層を塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４）で表される化合物１．８８ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＭＳ：７４２
（実施例５）式（Ｉ−５）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−１−１）で表される化合物５．００ｇ、３−クロロプロパノール２．７５ｇ、炭酸セシウム１１．０ｇ、ジメチルスルホキシド５０ｍＬを加えた。加熱撹拌した後、ジクロロメタンで希釈し塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５−１）で表される化合物４．４１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−５−１）で表される化合物４．４１ｇ、ビス（ピナコラート）ジボロン４．３８ｇ、酢酸カリウム３．０８ｇ、ジメチルスルホキシド４０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド０．２３ｇを加えた。加熱撹拌した後ジクロロメタンで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−５−２）で表される化合物３．６０ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−５−２）で表される化合物３．６０ｇ、式（Ｉ−５−３）で表される化合物３．３０ｇ、炭酸カリウム２．２８ｇ、エタノール５０ｍＬを加えた。加熱撹拌した後、ジクロロメタンで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−５−４）で表される化合物２．８８ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−５−４）で表される化合物２．８８ｇ、ビス（ピナコラート）ジボロン２．１５ｇ、酢酸カリウム１．５１ｇ、ジメチルスルホキシド３０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド０．１１ｇを加えた。加熱撹拌した後ジクロロメタンで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−５−５）で表される化合物２．２７ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−５−６）で表される化合物５．００ｇ（特開２０１０−２７５２４４号公報記載の方法によって製造した。）、３−クロロプロパノール２．３０ｇ、炭酸セシウム９．１５ｇ、ジメチルスルホキシド３０ｍＬを加えた。加熱撹拌した後ジクロロメタンで希釈し塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５−７）で表される化合物４．２６ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−５−５）で表される化合物２．２７ｇ、式（Ｉ−５−７）で表される化合物１．７５ｇ、炭酸カリウム１．１２ｇ、エタノール５０ｍＬを加えた。加熱撹拌した後ジクロロメタンで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５−８）で表される化合物２．０３ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−５−８）で表される化合物２．０３ｇ、ジイソプロピルエチルアミン１．０７ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル０．７５ｇを滴下した。撹拌した後、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５）で表される化合物１．７１ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＭＳ：６４８
（実施例６）式（Ｉ−６）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−５−１）で表される化合物２．５０ｇ、式（Ｉ−６−１）で表される化合物１．９７ｇ、炭酸カリウム１．８４ｇ、エタノール５０ｍＬを加えた。加熱撹拌した後、ジクロロメタンで希釈し食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−６−２）で表される化合物２．３６ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−６−２）で表される化合物２．３６ｇ、２−（トリフルオロメチル）アクリル酸１．０５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０８ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．９４ｇを滴下した。撹拌した後、析出物を濾過し、有機層を塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−６−３）で表される化合物２．１８ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−６−３）で表される化合物２．１８ｇ、メタノール５０ｍＬ、塩酸１ｍＬを加えた。撹拌した後、溶媒を留去し酢酸エチルに再溶解させ食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−６−４）で表される化合物１．４５ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−５−６）で表される化合物５．００ｇ、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル２．９６ｇ、炭酸カリウム３．１９ｇ、Ｎ−メチルピロリドン５０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、酢酸パラジウム（ＩＩ）を加えた。加熱撹拌した後ジクロロメタンで希釈し塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−６−５）で表される化合物４．０１ｇを得た。

オートクレーブに式（Ｉ−６−５）で表される化合物４．０１ｇ、５％パラジウム炭素０．４０ｇ、酢酸エチル４０ｍＬを加えた。水素圧０．５ＭＰａで撹拌した後、触媒を濾過した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−６−６）で表される化合物３．６２ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−６−６）で表される化合物３．６２ｇ、２−（トリフルオロメチル）アクリル酸１．６３ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１２ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．４７ｇを滴下した。撹拌した後、析出物を濾過し、有機層を塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−６−７）で表される化合物３．３７ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−６−７）で表される化合物３．３７ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬ、トリフルオロ酢酸２０ｍＬを加えた。撹拌した後、溶媒を留去した。ジイソプロピルエーテルを加え析出物を濾過した。分散洗浄することによって式（Ｉ−６−８）で表される化合物２．３９ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−６−８）で表される化合物１．５４ｇ、式（Ｉ−６−４）で表される化合物１．４５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０４ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．５３ｇを滴下した。撹拌した後、析出物を濾過し有機層を塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−６）で表される化合物２．０４ｇを得た。
ＭＳ：８３８
（実施例７）式（Ｉ−７）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−１−１）で表される化合物５．００ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム０．２８ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン２．４５ｇを滴下した。撹拌した後、重曹水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−７−１）で表される化合物６．２０ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−７−１）で表される化合物６．２０ｇ、ビス（ピナコラート）ジボロン５．６４ｇ、酢酸カリウム３．９６ｇ、ジメチルスルホキシド６０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド０．７４ｇを加えた。加熱撹拌した後ジクロロメタンで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−７−２）で表される化合物５．７２ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−７−２）で表される化合物５．７２ｇ、式（Ｉ−７−３）で表される化合物５．１２ｇ、炭酸カリウム３．３５ｇ、エタノール５０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、パラジウム触媒を加えた。加熱撹拌した後ジクロロメタンで希釈し塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７−４）で表される化合物５．３９ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−７−４）で表される化合物５．３９ｇ、式（Ｉ−１−２）で表される化合物１．７８ｇ、炭酸カリウム２．６８ｇ、エタノール６０ｍＬ、水３０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、パラジウム触媒を加えた。加熱撹拌した後、酢酸エチルで希釈し塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７−５）で表される化合物３．８９ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−７−５）で表される化合物３．８９ｇ、３−クロロプロパノール１．１１ｇ、炭酸セシウム４．４２ｇ、ジメチルスルホキシド４０ｍＬを加えた。加熱撹拌した後ジクロロメタンで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７−６）で表される化合物３．５４ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−７−６）で表される化合物３．５４ｇ、３−エチル−３−オキセタンメタノール１．０１ｇ、トリフェニルホスフィン２．２８ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル１．７５ｇを滴下した。撹拌した後、溶媒を留去しカラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７−７）で表される化合物２．９７ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−７−７）で表される化合物２．９７ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、メタノール２０ｍＬ、塩酸１ｍＬを加えた。撹拌した後、溶媒を留去し分散洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７−８）で表される化合物２．５５ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−７−８）で表される化合物２．５５ｇ、式（Ｉ−１−４）で表される化合物１．４８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０６ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．７７ｇを滴下した。撹拌した後、析出物を濾過した。有機層を塩酸、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７）で表される化合物２．７５ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＭＳ：７７６
（実施例８）式（Ｉ−８）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−７−１）で表される化合物５．００ｇ、式（Ｉ−６−１）で表される化合物４．９８ｇ、炭酸カリウム４．６５ｇ、エタノール５０ｍＬ、水５０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後パラジウム触媒を加えた。加熱撹拌した後酢酸エチルで希釈し塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−８−１）で表される化合物５．０３ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−８−１）で表される化合物５．０３ｇ、式（Ｉ−８−２）で表される化合物４．５４ｇ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ（Ｗｅｉｎｈｅｉｍ，Ｇｅｒｍａｎｙ）（２００９），２１（４３），４３４８−４３５２記載の方法によって製造した。）、炭酸セシウム７．６７ｇ、ジメチルスルホキシド５０ｍＬを加えた。加熱撹拌した後、ジクロロメタンで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−８−３）で表される化合物５．５６ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−８−３）で表される化合物５．５６ｇ、テトラヒドロフラン４０ｍＬ、メタノール４０ｍＬ、塩酸１ｍＬを加えた。撹拌した後、溶媒を留去し分散洗浄した。乾燥させることにより、式（Ｉ−８−４）で表される化合物４．１８ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−２−１）で表される化合物５．００ｇ、式（Ｉ−８−５）で表される化合物４．００ｇ（ＷＯ２０１３−０１１９３２Ａ１号公報記載の方法によって製造した。）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２４ｇ、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド３．０３ｇを滴下した。撹拌した後、析出物を濾過した。有機層を塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−８−６）で表される化合物６．９１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−８−６）で表される化合物６．９１ｇ、ジクロロメタンを加えた。トリフルオロ酢酸と反応させ、式（Ｉ−８−７）で表される化合物１．８０ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−８−７）で表される化合物１．８０ｇ、式（Ｉ−８−４）で表される化合物２．０３ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０６ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．７３ｇを滴下した。撹拌した後、析出物を濾過した。有機層を塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−８）で表される化合物２．６２ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＭＳ：７８０
（実施例９）式（Ｉ−９）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−９−１）で表される化合物５．００ｇ、式（Ｉ−１−２）で表される化合物２．９６ｇ、炭酸カリウム４．４５ｇ、エタノール４０ｍＬ、水３０ｍＬを加えた。加熱撹拌した後、酢酸エチルで希釈し塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９−２）で表される化合物３．７０ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−９−２）で表される化合物３．７０ｇ、式（Ｉ−９−３）で表される化合物３．０２ｇ、ジブチルすずオキシド０．１９ｇ、トルエンを加えた。加熱還流させながら溶媒を除去・追加し続けた。溶媒を留去しカラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９−４）で表される化合物４．９９ｇを得た。

実施例７と同様の方法によって式（Ｉ−９−８）で表される化合物を得た。反応容器に式（Ｉ−９−８）で表される化合物３．００ｇ、ジイソプロピルエチルアミン０．８５ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化メタクリロイル０．６９ｇを滴下した。撹拌した後、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９）で表される化合物２．３４ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＭＳ：６５８
（実施例１０）式（Ｉ−１０）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−７−１）で表される化合物５．００ｇ、式（Ｉ−１０−１）で表される化合物２．５７ｇ、炭酸カリウム３．３７ｇ、エタノール５０ｍＬを加えた。加熱撹拌した後トルエンで希釈し食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１０−２）で表される化合物３．８８ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−２）で表される化合物３．８８ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬを加えた。−７０℃でブチルリチウム溶液を滴下した。撹拌した後、ヨウ素をテトラヒドロフランに溶解させた溶液を滴下した。撹拌した後、トルエンで希釈しチオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１０−３）で表される化合物３．１９ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−３）で表される化合物３．１９ｇ、式（Ｉ−１−２）で表される化合物０．９４ｇ、炭酸カリウム１．４２ｇ、エタノール３０ｍＬ、水１５ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、パラジウム触媒を加えた。加熱撹拌した後、酢酸エチルで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１０−４）で表される化合物１．７７ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−４）で表される化合物１．７７ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、メタノール２０ｍＬ、塩酸１ｍＬを加えた。撹拌した後、溶媒を留去し分散洗浄することにより、式（Ｉ−１０−５）で表される化合物１．２９ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−６）で表される化合物５．００ｇ、３−クロロプロパノール５．０３ｇ、炭酸セシウム２０．０ｇ、ジメチルスルホキシド５０ｍＬを加えた。加熱撹拌した後ジクロロメタンで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−１０−７）で表される化合物５．１６ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−７）で表される化合物５．１６ｇ、２，３−エポキシ−２−メチル−１−プロパノール２．７８ｇ、トリフェニルホスフィン９．０２ｇ、テトラヒドロフラン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル６．９５ｇを滴下した。撹拌した後、溶媒を留去しカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、式（Ｉ−１０−８）で表される化合物５．０２ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−８）で表される化合物５．０２ｇ、メタノール５０ｍＬ、水２０ｍＬ、過酸化水素水２０ｍＬを加えた。撹拌した後、溶媒を留去し、分散洗浄した。乾燥させることにより、式（Ｉ−１０−９）で表される化合物４．２７ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−５）で表される化合物１．２９ｇ、式（Ｉ−１０−９）で表される化合物１．９７ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０９ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．０３ｇを滴下した。撹拌した後、析出物を濾過した。有機層を塩酸、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１０）で表される化合物２．１８ｇを得た。
ＭＳ：８４４
同様の方法及び公知の方法を用いて、下記式（Ｉ−１１）から式（Ｉ−１０６）で表される化合物を製造した。

（実施例１１〜２０、比較例１〜３）
実施例１から実施例１０記載の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物及び、特許文献１記載の化合物（Ｒ−１）、特許文献２記載の化合物（Ｒ−２）並びに特許文献３記載の化合物（Ｒ−３）を評価対象の化合物とした。

下記化合物（Ｘ−１）から化合物（Ｘ−３）で表される化合物からなる液晶組成物を評価用の母体液晶（Ｘ）とした。母体液晶（Ｘ）の組成を表１に示す。

重合性組成物を加熱調製した際の、評価対象の化合物の変色の起こりにくさを評価した。母体液晶（Ｘ）に対して、評価対象の各化合物を２５重量部添加した後、１２０℃で５分間加熱撹拌し均一な組成物を得た。得られた組成物の変色の度合いを目視観察によって評価した。変色が少ない場合は◎、変色がごくわずかに見られる場合は〇、変色がやや見られる場合は△、変色がかなり見られる場合は×とした。結果を表２に示す。

表２より、本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物はいずれも比較化合物（Ｒ−１）から比較化合物（Ｒ−３）と比較して、変色が起こりにくいか、変色の起こりにくさが同程度であることがわかる。
（実施例２１〜実施例３０、比較例４〜比較例６）
配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。母体液晶（Ｘ）に評価対象となる化合物を２０％添加することにより調製した組成物各々に対し、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）を０．５重量部及び４−メトキシフェノールを０．１重量部添加した。この組成物をラビングしたガラス基材に７５℃でスピンコート法により塗布した。得られた塗布膜の上に配向処理が施された樹脂金型をラビングしたガラス基材の配向方向と樹脂金型の配向方向が並行になるように配置した後、室温まで冷却した。その後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を５０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で４０秒間照射した（図１参照）。得られた重合体の変色によるムラの度合いを目視観察によって評価した。ムラがほとんど見られない場合は◎、ムラが重合体の一部にごくわずかに見られる場合は〇、ムラがやや多く見られる場合は△、ムラが重合体の全体に見られる場合は×とした。結果を表３に示す。

表３より、本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物は、いずれも比較化合物（Ｒ−１）から比較化合物（Ｒ−３）と比較して、変色によるムラが少ないことがわかる。

以上の結果から、実施例１から実施例１０記載の本願発明である式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物は、屈折率異方性が大きく、重合性組成物を加熱調製した場合に変色が起こりにくく、本願発明の化合物を含有する組成物を用いた光学異方体は、樹脂金型を取り付け重合させた場合に変色によるムラが生じにくいことがわかる。

レンチキュラーレンズの構成を模式図で示す。

１：配向処理が施された樹脂金型
２：重合性液晶組成物の塗布膜
３：ガラス基材
４：重合性液晶組成物の重合体
（Ａ）：樹脂金型取り付け前の塗布膜
（Ｂ）：紫外線照射後のレンチキュラーレンズ

Claims (7)

1. 一般式（Ｉ）
   

   

   （式中、Ｐ^１及びＰ^２ は下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）
   

   

   から選ばれる基を表すが、Ｐ ^１ 及びＰ ^２ は共に同じ基を表し、
   Ｓ^１及びＳ^２は各々独立して１個の−ＣＨ _２ −又は隣接していない２個以上の−ＣＨ _２ −が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すが、Ｓ^１及び／又はＳ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
   Ｘ^１及びＸ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｘ^１及び／又はＸ^２が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く（ただし、Ｐ^１−（Ｓ^１−Ｘ^１）_ｎ１−及び−（Ｘ^２−Ｓ^２）_ｎ２−Ｐ^２には、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−Ｓ−及び−Ｓ−Ｏ−基を含まない。）、
   ｎ１及びｎ２は０から８の整数を表し、
   Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良いが、Ａ^１及び／又はＡ^２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
   Ｂは下記式（ｂ−１）又は（ｂ−２）
   

   

   から選ばれる基を表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、
   Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は単結合を表すが、Ｚ^１及び／又はＺ^２が複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く、
   ｍ１及びｍ２は０、１又は２を表すが、ｍ１＋ｍ２は２、３又は４を表し、
   Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルファニル基、ニトロ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、又は、炭素原子数１から１２のアルキル基を表すが、前記アルキル基は直鎖状であっても分岐状であっても良く、前記アルキル基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い。）で表される化合物。
2. 前記一般式（Ｉ）において、Ａ^１及びＡ^２がそれぞれ独立して下記の式（ａ−１）から式（ａ−６）
   

   

   及び下記の式（ａ−７）から式（ａ−１４）
   

   

   から選ばれる基を表す請求項１に記載の化合物。
3. 前記一般式（Ｉ）において、Ｂが下記の式（ｂ−３）から式（ｂ−１４）
   

   

   から選ばれる基を表す請求項１又は２に記載の化合物。
4. 請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の化合物を含有する組成物。
5. 請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の化合物を含有する液晶組成物。
6. 請求項４又は請求項５に記載の組成物を重合することにより得られる重合体。
7. 請求項６記載の重合体を用いた光学異方体。

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