JP6388157B2 - インク組成物 - Google Patents

Description

本発明は、インク組成物に関する。

インクジェット記録方法は、比較的単純な装置で、高精細な画像の記録が可能であり、各方面で急速な発展を遂げている。その中で、得られる記録物の画像等について種々の検討がなされている。例えば、特許文献１には、良好なオゾンガス堅牢性と高い印画濃度を有する着色組成物を提供することを目的として、所定のフタロシアニン染料を２種類含む着色組成物が開示されている。

特開２０１３−１２２０３９号公報

インク組成物は、カートリッジ、パック、大容量タンク等の様々なインク収容体に充填されて用いられる。このように、インクの使用用途の拡大に伴い、上記のような耐オゾン性に加えて、さらに高信頼性（初期充填性、連続印刷安定性、印刷安定性（間欠））にも優れるインク組成物が望まれる。

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、耐オゾン性に加えて、初期充填性、連続印刷安定性、印刷安定性（間欠）に優れるインク組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した。その結果、所定の染料を所定量用いることにより上記課題を解決できることを見出して、本発明を完成させた。

すなわち、本発明は以下のとおりである。
〔１〕
下記式（Ｃ−１）で表される染料（Ｃ−１）と、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー８６を含む染料（Ｃ−２）と、主鎖の炭素数が１２以上であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物と、主鎖の炭素数が１０以上であるアセチレングリコールと、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルと、を含み、
前記染料（Ｃ−１）と、前記染料（Ｃ−２）との含有量比率Ａ（前記染料（Ｃ−１）：前記染料（Ｃ−２））が、７：３〜９．５：０．５であり、
前記染料（Ｃ−１）の含有量が、２．０〜５．０質量％である、インク組成物。
（式（Ｃ−１）中、
Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅は、各々独立して、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘ
テロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アミド基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイル
アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホン
アミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキ
シ基、アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、アリールオキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、ホス
ホリル基、アシル基又はイオン性親水性基を表す。これらの基は、さらに置換基を有して
いてもよい。
Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄は、各々独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若
しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無
置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテ
ロ環基を表す。但し、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄のうち少なくとも１つは、イオン性親水性
基を置換基として有する。
ｌ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ₁、ｑ₂、ｑ₃及びｑ₄は、各々独立して、１又は２を表す。
Ｍ₁は、水素原子、金属元素、金属酸化物、金属水酸化物又は金属ハロゲン化物を表す
。）
〔２〕
前記染料（Ｃ−２）の含有量が、０．１０〜１．０質量％である、前項〔１〕に記載の
インク組成物。
〔３〕
下記式（Ｃ−３）で表される染料（Ｃ−３）を含み、
該染料（Ｃ−３）の含有量が、０．５０〜１．５質量％である、前項〔１〕又は〔２〕
のいずれか１項に記載のインク組成物。
（式（Ｃ−３）中、
Ｒ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₆は、各々独立して、水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘ
テロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アミド基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイル
アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホン
アミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキ
シ基、アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、アリールオキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、ホス
ホリル基、アシル基又はイオン性親水性基を表す。これらの基は、さらに置換基を有して
いてもよい。
Ｚ₅、Ｚ₆、Ｚ₇、及びＺ₈は、各々独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若
しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無
置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテ
ロ環基を表す。但し、Ｚ₅、Ｚ₆、Ｚ₇、及びＺ₈のうち少なくとも１つは、イオン性親水性
基を置換基として有する。
ｔ、ｕ、ｖ、ｗ、ｑ₅、ｑ₆、ｑ₇及びｑ₈は、各々独立して、１又は２を表す。
Ｍ₂は、水素原子、金属元素、金属酸化物、金属水酸化物又は金属ハロゲン化物を表す
。）
〔４〕
トリエチレングリコールアルキルエーテルを含む、前項〔１〕〜〔３〕のいずれか１項
に記載のインク組成物。
〔５〕
シリコンウェーハに対する動的接触角が、滴下後１００ｍｓｅｃで２４°以下であり、
かつ滴下後５１００ｍｓｅｃで９°以下である、前項〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記
載のインク組成物。
〔６〕
前記ポリオキシアルキレンアルキルエーテルに対する前記トリエチレングリコールアル
キルエーテルの質量比が２以上である、前項〔４〕又は〔５〕に記載のインク組成物。
〔７〕
前記ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの含有量が、１．０質量％〜５．０質量％
である、前項〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載のインク組成物。
〔８〕
前記トリエチレングリコールアルキルエーテルの含有量が、３．０質量％〜１５質量％
である、前項〔４〕〜〔７〕のいずれか１項に記載のインク組成物。
〔９〕
前記トリエチレングリコールアルキルエーテルが、トリエチレングリコールモノブチル
エーテルを含む、前項〔４〕〜〔８〕のいずれか１項に記載のインク組成物。

以下、本発明の実施の形態（以下、「本実施形態」という。）について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。

〔インク組成物〕
本実施形態のインク組成物は、下記式（Ｃ−１）で表される染料（Ｃ−１）と、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー８６及び１９９の少なくともいずれかを含む染料（Ｃ−２）と、主鎖の炭素数が１２以上であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物と、主鎖の炭素数が１０以上であるアセチレングリコールと、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルと、を含み、
前記染料（Ｃ−１）と、前記染料（Ｃ−２）との含有量比率Ａ（前記染料（Ｃ−１）：前記染料（Ｃ−２））が、７：３〜９．５：０．５であり、
前記染料（Ｃ−１）の含有量が、２．０〜５．０質量％である。
（式（Ｃ−１）中、
Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミド基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、ホスホリル基、アシル基又はイオン性親水性基を表す。これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄は、各々独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。但し、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄のうち少なくとも１つは、イオン性親水性基を置換基として有する。
ｌ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ₁、ｑ₂、ｑ₃及びｑ₄は、各々独立して、１又は２を表す。
Ｍ₁は、水素原子、金属元素、金属酸化物、金属水酸化物又は金属ハロゲン化物を表す。）

（置換基群Ａ）
まず、置換基群Ａ、イオン性親水性基について定義する。
置換基群Ａとしては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、スルホンアミド基、イオン性親水性基が例として挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよく、更なる置換基としては、以上に説明した置換基群Ａから選択される基を挙げることができる。

更に詳しくは、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が挙げられる。

アルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えば、アルコキシ基、アルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。詳細には、アルキル基としては、好ましくは、炭素数１から３０のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２―エチルヘキシル基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられ、ビシクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基等が挙げられる。

アラルキル基としては、置換若しくは無置換のアラルキル基が挙げられ、置換若しくは無置換のアラルキル基としては、炭素原子数が７〜３０のアラルキル基が好ましい。例えばベンジル基及び２−フェネチル基を挙げられる。

アルケニル基としては、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基が挙げられ、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を包含する。詳細には、アルケニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基等が挙げられ、シクロアルケニル基としては、好ましくは、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基等が挙げられ、ビシクロアルケニル基としては、置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換若しくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基等が挙げられる。

アルキニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。

アリール基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリール基、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。

ヘテロ環基としては、好ましくは、５又は６員の置換若しくは無置換の芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５又は６員の芳香族のヘテロ環基、例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。

アルコキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等が挙げられる。

アリールオキシ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等が挙げられる。

シリルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から２０の置換若しくは無置換のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基等が挙げられる。

ヘテロ環オキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基等が挙げられる。

アシルオキシ基としては、好ましくは、ホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

カルバモイルオキシ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基等が挙げられる。

アルコキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。

アミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアニリノ基、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、トリアジニルアミノ基等が挙げられる。

アシルアミノ基としては、好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アミノカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アルコキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。

スルファモイルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルホニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等が挙げられる。

アルキルチオ基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等が挙げられる。

アリールチオ基としては、好ましくは、炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等が挙げられる。

ヘテロ環チオ基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基等が挙げられる。

スルファモイル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルフィニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基等が挙げられる。

アルキル又はアリールスルホニル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基等が挙げられる。

アシル基としては、好ましくは、ホルミル基、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数２から３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基等が挙げられる。

アリールオキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数７から３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。

アルコキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数２から３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。

カルバモイル基としては、好ましくは、炭素数１から３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等が挙げられる。

アリール又はヘテロ環アゾ基としては、好ましくは炭素数６から３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ等が挙げられる。

イミド基としては、好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基等が挙げられる。

ホスフィノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基等が挙げられる。

ホスフィニル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基等が挙げられる。

ホスフィニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基等が挙げられる。

ホスフィニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基が挙げられる。

シリル基としては、好ましくは、炭素数０から３０の置換若しくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基等が挙げられる。

（イオン性親水性基）
イオン性親水性基としては、特に限定されないが、例えば、スルホ基、カルボキシル基、チオカルボキシル基、スルフィノ基、ホスホノ基、ジヒドロキシホスフィノ基、４級アンモニウム基などが挙げられる。特に好ましくはスルホ基、カルボキシル基である。またカルボキシル基、ホスホノ基及びスルホ基は塩の状態であってもよく、塩を形成する対カチオンの例には、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン（例、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン）及び有機カチオン（例、テトラメチルアンモニウムイオン、テトラメチルグアニジウムイオン、テトラメチルホスホニウム）が含まれ、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩が好ましく、リチウム塩又はリチウム塩を主成分とする混合塩が更に好ましく、リチウム塩が最も好ましい。

〔式（Ｃ−１）で表される染料（Ｃ−１）〕
以下、式（Ｃ−１）で表される染料（Ｃ−１）について詳細に説明する。
（式（Ｃ−１）中、
Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミド基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、ホスホリル基、アシル基又はイオン性親水性基を表す。これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄は、各々独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。但し、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄のうち少なくとも１つは、イオン性親水性基を置換基として有する。
ｌ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ₁、ｑ₂、ｑ₃及びｑ₄は、各々独立して、１又は２を表す。
Ｍ₁は、水素原子、金属元素、金属酸化物、金属水酸化物又は金属ハロゲン化物を表す。）

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミド基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、ホスホリル基、アシル基又はイオン性親水性基を表す。これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基としては、上記置換基群Ａに記載の置換基が挙げられる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアルキル基には、置換基を有するアルキル基及び無置換のアルキル基が含まれる。アルキル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のアルキル基が好ましい。置換基の例には、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シアノ基、及びハロゲン原子及びイオン性親水性基が含まれる。アルキル基の例には、メチル、エチル、ブチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、シアノエチル、トリフルオロメチル、３−スルホプロピル及び４−スルホブチルが含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すシクロアルキル基には、置換基を有するシクロアルキル基及び無置換のシクロアルキル基が含まれる。シクロアルキル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が５〜１２のシクロアルキル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。シクロアルキル基の例には、シクロヘキシル基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアルケニル基には、置換基を有するアルケニル基及び無置換のアルケニル基が含まれる。アルケニル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が２〜１２のアルケニル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基等が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアラルキル基としては、置換基を有するアラルキル基及び無置換のアラルキル基が含まれる。アラルキル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が７〜１２のアラルキル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アラルキル基の例には、ベンジル基、及び２−フェネチル基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアリール基には、置換基を有するアリール基及び無置換のアリール基が含まれる。アリール基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が６〜１２のアリール基が好ましい。置換基の例には、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルキルアミノ基及びイオン性親水性基が含まれる。アリール基の例には、フェニル、ｐ−トリル、ｐ−メトキシフェニル、ｏ−クロロフェニル及びｍ−（３−スルホプロピルアミノ）フェニルが含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すヘテロ環基には、置換基を有するヘテロ環基及び無置換のヘテロ環基が含まれる。ヘテロ環基としては、５員又は６員環のヘテロ環基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。へテロ環基の例には、２−ピリジル基、２−チエニル基及び２−フリル基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアルキルアミノ基には、置換基を有するアルキルアミノ基及び無置換のアルキルアミノ基が含まれる。アルキルアミノ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数１〜６のアルキルアミノ基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アルキルアミノ基の例には、メチルアミノ基及びジエチルアミノ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアルコキシ基には、置換基を有するアルコキシ基及び無置換のアルコキシ基が含まれる。置換基を除いたときのアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基が好ましい。置換基の例には、アルコキシ基、ヒドロキシル基及びイオン性親水性基が含まれる。アルコキシ基の例には、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、メトキシエトキシ基、ヒドロキシエトキシ基及び３−カルボキシプロポキシ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアリールオキシ基には、置換基を有するアリールオキシ基及び無置換のアリールオキシ基が含まれる。アリールオキシ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が６〜１２のアリールオキシ基が好ましい。置換基の例には、アルコキシ基及びイオン性親水性基が含まれる。アリールオキシ基の例には、フェノキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基及びｏ−メトキシフェノキシ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアミド基には、置換基を有するアミド基及び無置換のアミド基が含まれる。アミド基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が２〜１２のアミド基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アミド基の例には、アセトアミド基、プロピオンアミド基、ベンズアミド基及び３，５−ジスルホベンズアミド基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアリールアミノ基には、置換基を有するアリールアミノ基及び無置換のアリールアミノ基が含まれる。アリールアミノ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が６〜１２のアリールアミノ基が好ましい。置換基の例としては、ハロゲン原子及びイオン性親水性基が含まれる。アリールアミノ基の例としては、アニリノ基及び２−クロロアニリノ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すウレイド基には、置換基を有するウレイド基及び無置換のウレイド基が含まれる。ウレイド基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のウレイド基が好ましい。置換基の例には、アルキル基及びアリール基が含まれる。ウレイド基の例には、３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基及び３−フェニルウレイド基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すスルファモイルアミノ基には、置換基を有するスルファモイルアミノ基及び無置換のスルファモイルアミノ基が含まれる。置換基の例には、アルキル基が含まれる。スルファモイルアミノ基の例には、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアルキルチオ基には、置換基を有するアルキルチオ基及び無置換のアルキルチオ基が含まれる。アルキルチオ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のアルキルチオ基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基及びエチルチオ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアリールチオ基には、置換基を有するアリールチオ基及び無置換のアリールチオ基が含まれる。アリールチオ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が６〜１２のアリールチオ基が好ましい。置換基の例には、アルキル基、及びイオン性親水性基が含まれる。アリールチオ基の例には、フェニルチオ基及びｐ−トリルチオ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアルコキシカルボニルアミノ基には、置換基を有するアルコキシカルボニルアミノ基及び無置換のアルコキシカルボニルアミノ基が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、エトキシカルボニルアミノ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すスルホンアミド基には、置換基を有するスルホンアミド基及び無置換のスルホンアミド基が含まれる。スルホンアミド基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のスルホンアミド基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、及び３−カルボキシベンゼンスルホンアミドが含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すカルバモイル基には、置換基を有するカルバモイル基及び無置換のカルバモイル基が含まれる。置換基の例には、アルキル基が含まれる。カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基及びジメチルカルバモイル基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すスルファモイル基には、置換基を有するスルファモイル基及び無置換のスルファモイル基が含まれる。置換基の例には、アルキル基、アリ−ル基が含まれる。スルファモイル基の例には、ジメチルスルファモイル基及びジ−（２−ヒドロキシエチル）スルファモイル基、フェニルスルファモイル基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアルコキシカルボニル基には、置換基を有するアルコキシカルボニル基及び無置換のアルコキシカルボニル基が含まれる。アルコキシカルボニル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が２〜１２のアルコキシカルボニル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基及びエトキシカルボニル基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すヘテロ環オキシ基には、置換基を有するヘテロ環オキシ基及び無置換のヘテロ環オキシ基が含まれる。ヘテロ環オキシ基としては、５員又は６員環のヘテロ環を有するヘテロ環オキシ基が好ましい。置換基の例には、ヒドロキシル基、及びイオン性親水性基が含まれる。ヘテロ環オキシ基の例には、２−テトラヒドロピラニルオキシ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアゾ基には、置換基を有するアゾ基及び無置換のアゾ基が含まれる。アゾ基の例には、ｐ−ニトロフェニルアゾ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアシルオキシ基には、置換基を有するアシルオキシ基及び無置換のアシルオキシ基が含まれる。アシルオキシ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数１〜１２のアシルオキシ基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アシルオキシ基の例には、アセトキシ基及びベンゾイルオキシ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すカルバモイルオキシ基には、置換基を有するカルバモイルオキシ基及び無置換のカルバモイルオキシ基が含まれる。置換基の例には、アルキル基が含まれる。カルバモイルオキシ基の例には、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すシリルオキシ基には、置換基を有するシリルオキシ基及び無置換のシリルオキシ基が含まれる。置換基の例には、アルキル基が含まれる。シリルオキシ基の例には、トリメチルシリルオキシ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアリールオキシカルボニル基には、置換基を有するアリールオキシカルボニル基及び無置換のアリールオキシカルボニル基が含まれる。アリールオキシカルボニル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が７〜１２のアリールオキシカルボニル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアリールオキシカルボニルアミノ基には、置換基を有するアリールオキシカルボニルアミノ基及び無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が含まれる。アリールオキシカルボニルアミノ基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、フェノキシカルボニルアミノ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すイミド基には、置換基を有するイミド基及び無置換のイミド基が含まれる。イミド基の例には、Ｎ−フタルイミド基及びＮ−スクシンイミド基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すヘテロ環チオ基には、置換基を有するヘテロ環チオ基及び無置換のヘテロ環チオ基が含まれる。ヘテロ環チオ基としては、５員又は６員環のヘテロ環を有することが好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。へテロ環チオ基の例には、２−ピリジルチオ基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すホスホリル基には、置換基を有するホスホリル基及び無置換のホスホリル基が含まれる。ホスホリル基の例には、フェノキシホスホリル基及びフェニルホスホリル基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すアシル基には、置換基を有するアシル基及び無置換のアシル基が含まれる。アシル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のアシル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アシル基の例には、アセチル基及びベンゾイル基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅が表すイオン性親水性基には、スルホ基、カルボキシル基、及び４級アンモニウム基等が含まれる。イオン性親水性基としては、カルボキシル基及びスルホ基が好ましく、特にスルホ基が好ましい。カルボキシル基及びスルホ基は塩の状態であってもよく、塩を形成する対イオンの例には、アルカリ金属イオン（例、ナトリウムイオン、カリウムイオン）及び有機カチオン（例、テトラメチルグアニジウムイオン）が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅は、なかでも、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルコキシ基、アミド基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基及びアルコキシカルボニル基が好ましく、特に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基が好ましく、水素原子が最も好ましい。

式（Ｃ−１）中、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄は、各々独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。但し、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄のうち少なくとも１つは、イオン性親水性基を置換基として有する。置換基としては、上記置換基群Ａに記載の置換基が挙げられる。

式（Ｃ−１）中、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄が表すアルキル基には、置換基を有するアルキル基及び無置換のアルキル基が含まれる。アルキル基は、置換基を除いたときの炭素原子数が１〜１２のアルキル基が好ましい。置換基の例には、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シアノ基、アルキルアミノ基（ＲＮＨ−、ＲＲ’Ｎ−）、カルバモイル基（―ＣＯＮＨＲ）、スルファモイル基（―ＳＯ₂ＮＨＲ、―ＳＯ₂ＮＲＲ’）、スルホニルアミノ基（―ＮＨＳＯ₂Ｒ）、−ＳＯＮＨＲ基、−ＳＯＮＲＲ’基、ハロゲン原子及びイオン性親水性基が含まれる。（なお前記Ｒ、Ｒ’はアルキル基、フェニル基を表し、さらにこれらは置換基を有してもよい。置換基としては、アルキルアミノ基、ヒドロキシル基、イオン性親水性基などが挙げられる。Ｒ、Ｒ’は化学結合により環を形成していてもよい。）アルキル基の例には、メチル、エチル、ブチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ヒドロキシエチル、メトキシエチル、シアノエチル、トリフルオロメチル、３−スルホプロピル及び４−スルホブチルが含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄が表すシクロアルキル基には、置換基を有するシクロアルキル基及び無置換のシクロアルキル基が含まれる。シクロアルキル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が５〜１２のシクロアルキル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。シクロアルキル基の例には、シクロヘキシル基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄が表すアルケニル基には、置換基を有するアルケニル基及び無置換のアルケニル基が含まれる。アルケニル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が２〜１２のアルケニル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基等が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄が表すアラルキル基としては、置換基を有するアラルキル基及び無置換のアラルキル基が含まれる。アラルキル基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が７〜１２のアラルキル基が好ましい。置換基の例には、イオン性親水性基が含まれる。アラルキル基の例には、ベンジル基、及び２−フェネチル基が含まれる。

式（Ｃ−１）中、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄が表すアリール基には、置換基を有するアリール基及び無置換のアリール基が含まれる。アリール基としては、置換基を除いたときの炭素原子数が６〜１２のアリール基が好ましい。アリール基の例には、フェニル、ｐ−トリル、ｐ−メトキシフェニル、ｏ−クロロフェニル及びｍ−（３−スルホプロピルアミノ）フェニル、ｍ−スルホフェニルが含まれる。置換基の例には、アルキル基（Ｒ−）、アルコキシ基（ＲＯ―）、アルキルアミノ基（ＲＮＨ−、ＲＲ’Ｎ−）、カルバモイル基（―ＣＯＮＨＲ）、スルファモイル基（―ＳＯ₂ＮＨＲ）、スルホニルアミノ基（―ＮＨＳＯ₂Ｒ）、ハロゲン原子、イオン性親水性基が含まれる（なお前記Ｒ、Ｒ’はアルキル基、フェニル基を表し、さらにこれらはイオン性親水性基を有してもよい）。

式（Ｃ−１）中、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄が表すヘテロ環基は、置換基を有するヘテロ環基及び無置換のヘテロ環基が含まれ、さらに他の環と縮合環を形成していてもよい。ヘテロ環基としては、５員又は６員環のヘテロ環基が好ましい。ヘテロ環基は、さらに他の環と縮合環を形成していてもよい。へテロ環基の例には、ヘテロ環の置換位置を限定せずに挙げると、各々独立して、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、ピラゾール、ベンゾピラゾール、トリアゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンゾイソチアゾール、オキサゾール、ベンゾオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ピロール、ベンゾピロール、インドール、イソオキサゾール、ベンゾイソオキサゾール、チオフェン、ベンゾチオフェン、フラン、ベンゾフラン、ピリジン、キノリン、イソキノリン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、キノクサリン、トリアジン等が含まれる。置換基の例には、アルキル基（Ｒ−）、アリール基（Ｒ−）、アルコキシ基（ＲＯ―）、アルキルアミノ基（ＲＮＨ−、ＲＲ’Ｎ−）、カルバモイル基（―ＣＯＮＨＲ）、スルファモイル基（―ＳＯ₂ＮＨＲ）、スルホニルアミノ基（―ＮＨＳＯ₂Ｒ）、スルホニル基（−ＳＯ₂Ｒ）、アシルアミノ基（−ＮＨＣＯＲ）、ハロゲン原子、イオン性親水性基が含まれる（なお前記Ｒ、Ｒ’はアルキル基、アリール基を表し、さらにこれらはイオン性親水性基、又はイオン性親水性基を有する置換基を有してもよい）。

式（Ｃ−１）中、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロ環基が好ましく、置換のアルキル基、置換のアリール基、置換のヘテロ環基がより好ましく、置換のアルキル基であることがさらに好ましい。

式（Ｃ−１）中、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄のうち少なくとも１つは、イオン性親水性基を置換基として有する。置換基としてのイオン性親水性基には、スルホ基、カルボキシル基、及び４級アンモニウム基等が含まれる。該イオン性親水性基としては、カルボキシル基及びスルホ基が好ましく、特にスルホ基が好ましい。カルボキシル基及びスルホ基は塩の状態であってもよく、塩を形成する対イオンの例には、アルカリ金属イオン（例、ナトリウムイオン、カリウムイオン）及び有機カチオン（例、テトラメチルグアニジウムイオン）が含まれる。

式（Ｃ−１）中、ｌ、ｍ、ｎ及びｐは、各々独立して、１又は２を表す。すなわち、４≦ｌ＋ｍ＋ｎ＋ｐ≦８を満たす。好ましくは４≦ｌ＋ｍ＋ｎ＋ｐ≦６を満たすことであり、最も好ましくは、それぞれが１（ｌ＝ｍ＝ｎ＝ｐ＝１）である場合である。

式（Ｃ−１）中、ｑ₁、ｑ₂、ｑ₃及びｑ₄は、各々独立して、１又は２を表す。特にｑ₁＝ｑ₂＝ｑ₃＝ｑ₄＝２であることが好ましい。

式（Ｃ−１）中、Ｍ₁は、水素原子、金属元素、金属酸化物、金属水酸化物又は金属ハロゲン化物を表す。

式（Ｃ−１）中、Ｍ₁として好ましいものは、水素原子の他に、金属元素として、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ等が挙げられる。なかでも特に、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ａｌ等が好ましく、Ｃｕが最も好ましい。金属酸化物としては、ＶＯ、ＧｅＯ等が好ましく挙げられる。また、金属水酸化物としては、Ｓｉ（ＯＨ）₂、Ｃｒ（ＯＨ）₂、Ｓｎ（ＯＨ）₂等が好ましく挙げられる。さらに、金属ハロゲン化物としては、ＡｌＣｌ、ＳｉＣｌ₂、ＶＣｌ、ＶＣｌ₂、ＶＯＣｌ、ＦｅＣｌ、ＧａＣｌ、ＺｒＣｌ等が挙げられる。

式（Ｃ−１）で表される染料の含有量は、インク組成物の総量に対して、好ましくは２．０〜５．０質量％であり、より好ましくは２．２〜４．７５質量％である。式（Ｃ−１）で表される染料の含有量が上記範囲内であることにより、良好な堅牢性と高い印画濃度を有する画像が得られる傾向にある。

〔染料（Ｃ−２）〕
染料（Ｃ−２）としては、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー８６及び１９９の少なくともいずれかが挙げられる。その他、特に限定されないが、例えば、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー１、２、１５、７１、８６、８７、９８、１６５、１９９、及び２０２を用いることができる。このなかでも、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー８６及び１９９の少なくともいずれかが好ましい。このような染料を用いることにより、インクジェットプリンターのヘッドノズル面における染料凝集が緩和され、印字安定性能がより向上する傾向にある。

染料（Ｃ−２）の含有量は、好ましくは０．０５０〜１．２質量％であり、より好ましくは０．１０〜１．０質量％であり、さらに好ましくは０．２０〜０．８０質量％である。染料（Ｃ−２）の含有量が０．０５０質量％以上であることにより、インクジェットプリンターのヘッドノズル面における染料凝集が緩和され、印字安定性がより向上する傾向にある。また、染料（Ｃ−２）の含有量が１．２質量％以下であることにより、染料C−１が本来より備えている印刷物の耐オゾン性能を損なうことなく、インクジェットプリンターのヘッドノズル面における染料凝集が緩和され、印字安定性能がより向上する傾向にある。

染料（Ｃ−１）と、染料（Ｃ−２）との含有量比率Ａ（染料（Ｃ−１）：染料（Ｃ−２））は、７：３〜９．５：０．５であり、より好ましくは７．５：２．５〜９．３：０．７であり、さらに好ましくは８：２〜９：１である。含有量比率Ａが上記範囲内であることにより、染料C−１が本来より備えている印刷物の耐オゾン性能を損なうことなく、インクジェットプリンターのヘッドノズル面における染料凝集が緩和され、印字安定性能がより向上する。

〔式（Ｃ−３）で表される染料（Ｃ−３）〕
本実施形態のインク組成物は、式（Ｃ−３）で表される染料（Ｃ−３）をさらに含んでもよい。染料（Ｃ−３）を含むことにより、印刷物の耐オゾン性能がより向上する傾向にある。以下、式（Ｃ−３）で表される染料（Ｃ−３）について詳細に説明する。
（式（Ｃ−３）中、
Ｒ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₆は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミド基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキシ基、アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、ホスホリル基、アシル基又はイオン性親水性基を表す。これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。
Ｚ₅、Ｚ₆、Ｚ₇、及びＺ₈は、各々独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテロ環基を表す。但し、Ｚ₅、Ｚ₆、Ｚ₇、及びＺ₈のうち少なくとも１つは、イオン性親水性基を置換基として有する。
ｔ、ｕ、ｖ、ｗ、ｑ₅、ｑ₆、ｑ₇及びｑ₈は、各々独立して、１又は２を表す。
Ｍ₂は、水素原子、金属元素、金属酸化物、金属水酸化物又は金属ハロゲン化物を表す。）

式（Ｃ−３）中、Ｒ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₆は、各々独立して、前記式（Ｃ−１）中のＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅と各々同義である。

式（Ｃ−３）中、Ｚ₅、Ｚ₆、Ｚ₇、及びＺ₈は、各々独立して、前記式（Ｃ−１）中のＺ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄と各々同義である。

式（Ｃ−３）中、ｔ、ｕ、ｖ、ｗ、ｑ₅、ｑ₆、ｑ₇及びｑ₈は、各々独立して、１又は２を表す。

式（Ｃ−３）中、Ｍ₂は、前記式（Ｃ−１）中のＭ₁と同義である。

式（Ｃ−３）中、Ｒ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₆は、各々独立して、前記式（Ｃ−１）中のＲ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅と各々同義であり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、アルコキシ基、アミド基、ウレイド基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基及びアルコキシカルボニル基が好ましく、特に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基が好ましく、水素原子が最も好ましい。これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基としては、上記置換基群Ａに記載の置換基が挙げられる。

式（Ｃ−３）中、Ｚ₅、Ｚ₆、Ｚ₇、及びＺ₈は、各々独立して、前記式（Ｃ−１）中のＺ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄と各々同義である。

式（Ｃ−３）中、Ｚ₅、Ｚ₆、Ｚ₇、及びＺ₈は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロ環基が好ましく、置換のアルキル基、置換のアリール基、置換のヘテロ環基がより好ましく、置換のアルキル基であることがさらに好ましい。また、置換のアルキル基が有する置換基の少なくとも一つが、−ＳＯＮＨＲ基であることがオゾン堅牢性の観点から最も好ましい。

式（Ｃ−３）中、Ｚ₅、Ｚ₆、Ｚ₇、及びＺ₈のうち少なくとも１つが置換基として有するイオン性親水性基は、前記式（Ｃ−１）中のＺ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄が置換基として有するイオン性親水性基と同義であり、好ましい例も同様である。

式（Ｃ−３）中、ｔ、ｕ、ｖ及びｗは、各々独立して、１又は２を表す。すなわち、４≦ｔ＋ｕ＋ｖ＋ｗ≦８を満たす。好ましくは４≦ｔ＋ｕ＋ｖ＋ｗ≦６を満たすことであり、最も好ましくは、それぞれが１（ｔ＝ｕ＝ｖ＝ｗ＝１）である場合である。

式（Ｃ−３）中、ｑ₅、ｑ₆、ｑ₇及びｑ₈は、各々独立して、１又は２を表す。特にｑ₅＝ｑ₆＝ｑ₇＝ｑ₈＝２であることが好ましい。

式（Ｃ−３）中、Ｍ₂は、前記式（Ｃ−１）中のＭ₁と同義であり、好ましい例も同様である。

式（Ｃ−３）で表される染料の含有量は、インク組成物の総量に対して、好ましくは０．１０〜２．５質量％であり、より好ましくは０．２５〜２．０質量％であり、さらに好ましくは０．５０〜１．５質量％である。式（Ｃ−３）で表される染料の含有量が上記範囲内であることにより、良好な堅牢性と高い印画濃度を有する画像が得られる傾向にある。

染料（Ｃ−１）と、染料（Ｃ−３）との含有量比率Ｂ（染料（Ｃ−１）：染料（Ｃ−３））は、好ましくは６５：３５〜９５：５であり、より好ましくは７０：３０〜９０：１０であり、さらに好ましくは７５：２５〜８５：１５である。含有量比率Ｂが上記範囲内であることにより、印刷物の耐オゾン性能がより向上する傾向にある。

染料（Ｃ−２）と、染料（Ｃ−３）との含有量比率Ｃ（染料（Ｃ−２）：染料（Ｃ−３））は、好ましくは３５：６５〜６５：３５であり、より好ましくは４０：６０〜６０：４０であり、さらに好ましくは４５：５５〜５５：４５である。含有量比率Ｃが上記範囲内であることにより、インクジェットプリンターのヘッドノズル面における染料凝集が緩和され、印字安定性能がより向上する傾向にある。

式（Ｃ−１）及び式（Ｃ−３）で表される染料は、例えば白井−小林共著、（株）アイピーシー発行「フタロシアニン−化学と機能−」（Ｐ．１〜６２）、Ｃ．Ｃ．Ｌｅｚｎｏｆｆ−Ａ．Ｂ．Ｐ．Ｌｅｖｅｒ共著、ＶＣＨ発行‘Ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅｓ−Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ’（Ｐ．１〜５４）等に記載、引用もしくはこれらに類似の方法を組み合わせて合成することができる。

以下、式（Ｃ−３）で表される染料の合成を例にとって説明する。式（Ｃ−３）で表される染料のうちＲ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₆が水素、ｑ₅、ｑ₆、ｑ₇及びｑ₈が２である化合物は、例えば下記式（Ｃ−３−１）で表されるフタロニトリル誘導体及び／又は下記式（Ｃ−３−２）で表されるジイミノイソインドリン誘導体と下記Ｍ−（Ｙ）ｄで表される金属誘導体を反応させることにより合成される。

式（Ｃ−３−１）式及び／又は式（Ｃ−３−２）中、ｘは式（Ｃ−３）中のｔ、ｕ、ｖ、ｗと同義である。ＺはＺ₅、Ｚ₆、Ｚ₇、及びＺ₈に対応する置換基を表す。

Ｙはハロゲン原子、酢酸陰イオン、アセチルアセトネート、酸素などの１価又は２価の配位子を示し、ｄは１〜４の整数である。

Ｍ−（Ｙ）ｄで表される金属誘導体としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ，Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｔ、Ｐｂのハロゲン化物、カルボン酸誘導体、硫酸塩、硝酸塩、カルボニル化合物、酸化物、錯体等が挙げられる。具体例としては塩化銅、臭化銅、沃化銅、塩化ニッケル、臭化ニッケル、酢酸ニッケル、塩化コバルト、臭化コバルト、酢酸コバルト、塩化鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、沃化亜鉛、酢酸亜鉛、塩化バナジウム、オキシ三塩化バナジウム、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、塩化アルミニウム、塩化マンガン、酢酸マンガン、アセチルアセトンマンガン、塩化マンガン、塩化鉛、酢酸鉛、塩化インジウム、塩化チタン、塩化スズ等が挙げられる。

かくして得られる、前記式（Ｃ−３）で表される染料のうちＲ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₆が水素、ｑ₅、ｑ₆、ｑ₇及びｑ₈が２で表されるフタロシアニン化合物（例えば：ｔ＝ｕ＝ｖ＝ｗ＝１の場合）は、通常、Ｒａ（ＳＯ₂−Ｚ₅）、Ｒｂ（ＳＯ₂−Ｚ₆）、Ｒｃ（ＳＯ₂−Ｚ₇）、Ｒｄ（ＳＯ₂−Ｚ₈）の各置換位置における異性体である下記式（Ｃ−３−３）〜（Ｃ−３−６）で表される化合物の混合物となっている。

すなわち、上記式（Ｃ−３−３）〜（Ｃ−３−６）で表される化合物は、β−位置換型（下記式（Ｃ−３）におけるＲ₁〜Ｒ₁₆をそれぞれ１位〜１６位とした場合、２及び又は３位、６及び又は７位、１０及び又は１１位、１４及び又は１５位に特定の置換基を有するフタロシアニン化合物）である。

式（Ｃ−１）で表される染料は、α−位置換型（１及び又は４位、５及び又は８位、９及び又は１２位、１３及び又は１６位に特定の置換基を有するフタロシアニン化合物）にあたる。

また、式（Ｃ−３）で表される染料はβ−位置換型（２及び又は３位、６及び又は７位、１０及び又は１１位、１４及び又は１５位に特定の置換基を有するフタロシアニン化合物）にあたる。本実施形態ではいずれの置換型においても、−ＳＯ−Ｚ及び／又は−ＳＯ₂−Ｚで表される特定の置換基を有することが、良好な堅牢性のために重要である。

式（Ｃ−１）又は式（Ｃ−３）で表される染料の具体例を、式（Ｃ−３−７）を用いて以下に示すが、本実施形態に用いられるフタロシアニン染料は、下記の例に限定されるものではない。

（式（Ｃ−１）で表される染料の例示）
※以下、（Ｒ₁，Ｒ₄）（Ｒ₂，Ｒ₃）（Ｒ₅，Ｒ₈）（Ｒ₆，Ｒ₇）（Ｒ₉，Ｒ₁₂）（Ｒ₁₀，Ｒ₁₁）（Ｒ₁₃，Ｒ₁₆）（Ｒ₁₄，Ｒ₁₅）の各組の具体例は、各々独立に順不同である。

（式（Ｃ−３）で表される染料の例示）
※以下、（Ｒ₁，Ｒ₄）（Ｒ₂，Ｒ₃）（Ｒ₅，Ｒ₈）（Ｒ₆，Ｒ₇）（Ｒ₉，Ｒ₁₂）（Ｒ₁₀，Ｒ₁₁）（Ｒ₁₃，Ｒ₁₆）（Ｒ₁₄，Ｒ₁₅）の各組の具体例は、各々独立に順不同である。

〔染料以外の成分〕
以下、インク組成物に含まれうる染料以外の成分について説明する。

〔主鎖の炭素数が１２以上であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物、及び、主鎖の炭素数が１０以上であるアセチレングリコール〕
本実施形態のインク組成物は、主鎖の炭素数が１２以上であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物と、主鎖の炭素数が１０以上であるアセチレングリコールと、を含む。アセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物と、主鎖の炭素数が１０以上であるアセチレングリコールと、を含むことにより、色再現性、ブリードが抑制され画質がより向上する。

〔主鎖の炭素数が１２以上であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物〕
主鎖の炭素数が１２以上であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物（以下、「アセチレングリコールＡ」ともいう。）は、後述する主鎖の炭素数が１０以上であるアセチレングリコールとともに、アセチレングリコール系界面活性剤（ノニオン系界面活性剤）に含まれるものである。ノニオン系界面活性剤は、被記録媒体上でインクを均一に拡げる作用がある。そのため、ノニオン系界面活性剤を含むインクを用いてインクジェット記録を行った場合、滲みの少ない比較的高精細な画像が得られる。なお、本明細書における「主鎖」とは、ＩＵＰＡＣ命名法に基づく主鎖を意味する。

特に、アセチレングリコールＡは、主鎖の炭素数が１２以上であることにより、インク流路を構成するゴムやプラスチック等の高分子部材及びインクにおける気泡発生の一因となり得る異物に対する濡れ性に優れる。そのため、アセチレングリコールＡを用いることにより、インクタンクからヘッドまでの高分子部材の流路面に、発生した気泡が残留することを抑制することができる。また、これにより、初期充填性が優れるとともに、残留した気泡の成長、及び流路面に付着していた気泡の離脱に起因するドット抜けを共に防止できることから、連続印刷安定性が良好となる。さらに、アセチレングリコールＡは、アルキレンオキサイド付加物であることによりインク中における溶解性が優れたものとなる。

アセチレングリコールＡのＨＬＢ（Hydrophile - Lipophile Balance）値は、上記の濡れ性が一層優れたものとなるため、好ましくは８〜１５である。なお、ここでＨＬＢ値は、グリフィン法で定義されるＨＬＢ値とする。

アセチレングリコールＡとしては、以下に限定されないが、例えば、下記式（１）で表される化合物が挙げられる。
（上記式（１）中、Ｒ¹、Ｒ^1'、Ｒ²、及びＲ^2'は互いに独立して炭素数１〜５のアルキル基を表し、主鎖の炭素数は１２以上であり、−ＯＲ³は−ＯＨ又は−Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_mＨを表し、−ＯＲ^3'は−ＯＨ又は−Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_nＨを表す。その際、ｍ及びｎは互いに独立して０．５〜２５の小数を含む値であり、ｍ＋ｎは１〜４０の小数を含む値である（ただし、−ＯＲ³及び−ＯＲ^3'が共に−ＯＨである場合を除く。）。）

アセチレングリコールＡの具体例としては、特に限定されないが、例えば、２，５，８，１１−テトラメチル−６−ドデシン−５，８−ジオールのエトキシル化物及び５，８−ジメチル−６−ドデシン−５，８−ジオールのエトキシル化物が挙げられる。上記アセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物の中でもアセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物及びアセチレングリコールのプロピレンオキサイド付加物が好ましく、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物がより好ましい。

アセチレングリコール中のアルキレンオキサイド単位の付加モル数は、Ｒ³及びＲ^3'それぞれにおいて、好ましくは１〜２０モルである。また、当該付加モル数の総数（Ｒ³及びＲ^3'の合計）は、好ましくは２〜４０モルである。アルキレンオキサイドの付加モル数の総数が４０モル以下であると、静的及び動的表面張力を小さくすることができ、インクの吸収性能が良好となる。

アセチレングリコールＡの市販品としては、以下に限定されないが、例えば、オルフィンＥＸＰ４３００、Ｅ１０１０（日信化学工業社（Nissin Chemical Industry CO.,Ltd.）製商品名、炭素数１２、エチレンオキサイド付加物）が挙げられる。

アセチレングリコールＡは、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本実施形態のインク組成物に含まれるアセチレングリコールＡの含有量は、インク組成物の総量に対して、好ましくは０．０５０〜１．０質量％であり、より好ましくは０．０７５〜０．７５質量％であり、さらに好ましくは０．１０〜０．５０質量％である。アセチレングリコールＡの含有量が０．０５０質量％以上であることにより、疎水面への濡れ性が上がり充填性がより向上する傾向にある。また、アセチレングリコールＡの含有量が１．０質量％以下であることにより、溶解安定性がより向上する傾向にある。

〔主鎖の炭素数が１０以上であるアセチレングリコール〕
主鎖の炭素数が１０以上のアセチレングリコール（以下、「アセチレングリコールＢ」ともいう。）は、インク中に発生した気泡を効果的に消泡させることができる。これにより、初期充填性及び連続印刷安定性が優れたものとなる。

アセチレングリコールＢのＨＬＢ値は、消泡性に優れるため、７以下が好ましく、３〜５がより好ましい。

アセチレングリコールＢとしては、特に限定されないが、例えば、下記式（２）で表されるアセチレングリコールが挙げられる。
（上記式（２）中、Ｒ¹、Ｒ^1'、Ｒ²、及びＲ^2'は互いに独立して炭素数１〜５のアルキル基を表し、主鎖の炭素数は１０以上である。なお、当該式（２）中のＲ¹、Ｒ^1'、Ｒ²、及びＲ^2'は、上述した式（１）中のＲ¹、Ｒ^1'、Ｒ²、及びＲ^2'と関係のないものである。）

アセチレングリコールＢの具体例としては、以下に限定されないが、２，５，８，１１−テトラメチル−６−ドデシン−５，８−ジオール、５，８−ジメチル−６−ドデシン−５，８−ジオール、２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７−ジオール及び４，７−ジメチル−５−デシン−４，７−ジオールが好ましく挙げられる。

アセチレングリコールＢの市販品としては、以下に限定されないが、例えば、サーフィノール１０４ＰＧ５０（２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７−ジオール）、サーフィノールＤＦ１１０Ｄ（２，５，８，１１−テトラメチル−６−ドデシン−５，８−ジオール）（以上、エアプロダクツ社製商品名）が挙げられる。

アセチレングリコールＢは、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

アセチレングリコールＢの含有量は、インク組成物の総量に対して、好ましくは０．０５０〜１．０質量％であり、より好ましくは０．０７５〜０．７５質量％であり、さらに好ましくは０．１０〜０．５０質量％である。アセチレングリコールＢの含有量が０．０５０質量％以上であることにより、抑泡性が上がり、充填性がより向上する傾向にある。また、アセチレングリコールＢの含有量が１．０質量％以下であることにより、溶解安定性がより向上する傾向にある。

アセチレングリコールＡ及びアセチレングリコールＢの総含有量は、インク組成物の総量に対して、好ましくは０．１０〜１．２５質量％であり、より好ましくは０．３０〜１．０質量％であり、さらに好ましくは０．４５〜０．７５質量％である。アセチレングリコールＡ及びアセチレングリコールＢの総含有量が前記範囲内にあることにより、インクに対する溶解性が良好となり、これらのアセチレングリコールを配合した際に凝集物が発生するのを効果的に防止できる。

〔ポリオキシアルキレンアルキルエーテル〕
本実施形態のインク組成物は、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルを含む。ポリオキシアルキレンアルキルエーテルを含むことにより、アセチレングリコールＡとアセチレングリコールＢの溶解性、分散性がより向上する傾向にある。また、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、アセチレングリコールＡとアセチレングリコールＢの有する低い動的表面張力に影響を及ぼしにくい。

ところで、インク連続供給システム（ＣＩＳＳ）は、疎水性の材料からなるインク流路やインクタンクが使用されることが多いため、インク連続供給システムに用いるインクセットにおいては、各インクが比較的疎水性の界面活性剤を使用することが効果的である。この観点から、アセチレングリコールＡ及びアセチレングリコールＢを併用することが有効であるが、アセチレングリコールＡ及びアセチレングリコールＢの効果を得つつ、さらに、溶解安定性、初期充填性、連続印刷安定性を向上させる観点から、特に、本実施形態のインクセットを、インク連続供給システム（ＣＩＳＳ）を備える記録装置に対して用いる場合には、インクがポリオキシアルキレンアルキルエーテルを含むことが好ましい。

ここで、「インク供給システム」とは、空気導入口を有するインク収容容器（インクタンク）と、インク収容容器内の上記液体を吐出するノズルを有するプリントヘッドと、上記インク収容容器及び上記プリントヘッドを接続し、上記インク収容容器から上記プリントヘッドへ上記液体を供給するインク供給路と、を備えるものをいう。

また、「インク流路」とは、インクジェット記録装置において、インクを流通させるための流路をいう。インク流路としては、例えば、インクを貯留するインク収容容器からインクジェット式記録ヘッドにインクを供給するためのインク供給路や、インクジェット式記録ヘッド内においてインクをノズル開口部まで流通させるための流路が挙げられる。

ポリオキシアルキレンアルキルエーテルのＨＬＢ値は、好ましくは１１〜１６であり、より好ましくは１２〜１５である。ポリオキシアルキレンアルキルエーテルのＨＬＢ値が上記範囲内であることにより、初期充填性及び連続印刷安定性がより向上する傾向にある。

ポリオキシアルキレンアルキルエーテルとしては、以下に限定されないが、例えば、下記式（３）で表される化合物が挙げられる。このようなポリオキシアルキレンアルキルエーテルを用いることにより、保存安定性及び連続印刷安定性がより向上する傾向にある。
Ｒ⁶Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_w（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_x（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_y（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_zＨ・・・（３）
（上記式（３）中、Ｒ⁶は、炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましくは炭素数５〜１５のアルキル基を表し、より好ましくは炭素数１０〜１５のアルキル基を表す。また、ｗは１〜２０の値であり、ｘ、ｙ、及びｚは互いに独立して０又は１〜２０の値である。さらに、ｗ、ｘ、ｙ、及びｚは、５≦ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ≦３０を満たし、好ましくは５≦ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ≦２５を満たす。）

ポリオキシアルキレンアルキルエーテルとしては、特に限定されないが、具体的には、
Ｃ₁₂Ｈ₂₅Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₆（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）₂（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₆（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）₈Ｈ、
Ｃ₁₃Ｈ₂₇Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₆（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）₂（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₆（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）₈Ｈ、
Ｃ₁₂Ｈ₂₅Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_w（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_x（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_y（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_zＨ
（ここで、ｗ＋ｙ＝１５、ｘ＋ｚ＝４）、
Ｃ₁₃Ｈ₂₇Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_w（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_x（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_y（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_zＨ
（ここで、ｗ＋ｙ＝１５、ｘ＋ｚ＝４）、
Ｃ₁₂Ｈ₂₅Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₈（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）₂（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₆Ｈ、
Ｃ₁₃Ｈ₂₇Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₈（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）₂（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₆Ｈ、
Ｃ₁₂Ｈ₂₅Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₁₂（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）₂（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₁₂Ｈ、
Ｃ₁₃Ｈ₂₇Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₁₂（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）₂（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₁₂Ｈ、
ＣＨ₃（ＣＨ₂）₉（ＣＨ₃）ＣＨＯ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₇（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_4.5Ｈ、
ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₁（ＣＨ₃）ＣＨＯ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₇（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_4.5Ｈ、
ＣＨ₃（ＣＨ₂）₉（ＣＨ₃）ＣＨＯ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₅（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_3.5Ｈ、
ＣＨ₃（ＣＨ₂）₁₁（ＣＨ₃）ＣＨＯ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₅（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_3.5Ｈ、
Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₁₄（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）₂Ｈ、
Ｃ₁₁Ｈ₂₃Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₈Ｈ、
Ｃ₁₀Ｈ₂₁Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₁₁Ｈ、及び
Ｃ₁₂Ｈ₂₅Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₁₅Ｈが挙げられる。

ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの市販品としては、特に限定されないが、具体的には、
ノイゲンＤＬ−０４１５（Ｒ⁶Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_W（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_x（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_y（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_zＨ、「Ｒ⁶」：炭素数１２，１３のアルキル、ｗ＋ｙ＝１５、ｘ＋ｚ＝４、ＨＬＢ値１５．０）、
ノイゲンＥＴ−１１６Ｂ（Ｒ⁶Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₇（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_4.5Ｈ、「Ｒ⁶」：炭素数１２，１４のアルキル、ＨＬＢ値１２．０）、
ノイゲンＥＴ−１０６Ａ（Ｒ⁶Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₅（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）_3.5Ｈ、「Ｒ⁶」：炭素数１２，１４のアルキル、ＨＬＢ値１０．９）、
ノイゲンＤＨ−０３００（Ｒ⁶Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₂Ｈ、「Ｒ⁶」：炭素数１４のアルキル、ＨＬＢ値４．０）、
ノイゲンＹＸ−４００（Ｒ⁶Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₄₀Ｈ、「Ｒ⁶」：炭素数１２のアルキル、ＨＬＢ値１８．１）、
ノイゲンＥＡ−１６０（Ｃ₉Ｈ₁₉Ｃ₆Ｈ₄Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_16.8Ｈ、ＨＬＢ値１５．４）（以上、第一工業製薬社製）、及び
エマルゲン１１０８（花王社製商品名、Ｒ⁶Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）₈Ｈ、「Ｒ⁶」：炭素数１１のアルキル、ＨＬＢ値１３．４）が挙げられる。

ポリオキシアルキレンアルキルエーテルは、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの含有量は、インク組成物の総量に対し、好ましくは０．５０〜５．５０質量％であり、より好ましくは１．０〜５．０質量％であり、さらに好ましくは１．５０〜４．５０質量％である。ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの含有量が上記範囲であることにより、保存安定性及び連続印刷安定性がより向上する傾向にある。

また、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの含有量は、アセチレングリコールＡの含有量１質量部に対して、好ましくは５．０〜１５質量部であり、より好ましくは７．５〜１２．５質量部である。ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの含有量が上記範囲内であることにより、アセチレングリコールＡが十分に可溶化し、水溶性が良好となる傾向にある。そのため、配合した際に凝集物が発生したりインクの吸収性にバラツキが発生したりすることを抑制できる傾向にある。

さらに、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの含有量は、アセチレングリコールＡ及びアセチレングリコールＢの総含有量１質量部に対して、好ましくは２．５〜７．５であり、より好ましくは３．５〜６．５質量部である。ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの含有量が上記範囲内にあることにより、アセチレングリコールＡ及びアセチレングリコールＢが十分に可溶化して水溶性が良好となる。そのため、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル及びアセチレングリコールＡ及びアセチレングリコールＢを配合する際に凝集物が発生したり、インクの吸収性にバラツキが発生したりすることを抑制できる傾向にある。

〔上記以外の界面活性剤〕
本実施形態のインク組成物は、上記以外の界面活性剤を含んでもよい。当該界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤のうち少なくともいずれかが好ましい。インクがこれらの界面活性剤を含むことにより、布帛に付着したインクの乾燥性が一層良好となり、かつ、高速印刷が可能となる。

これらの中でも、インクへの溶解度が大きくなりインク中に異物が一層発生し難くなるため、シリコーン系界面活性剤がより好ましい。

フッ素系界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物、パーフルオロアルキルベタイン、パーフルオロアルキルアミンオキサイド化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、特に限定されないが、例えば、Ｓ−１４４、Ｓ−１４５（旭硝子株式会社製）；ＦＣ−１７０Ｃ、ＦＣ−４３０、フロラード−ＦＣ４４３０（住友スリーエム株式会社製）；ＦＳＯ、ＦＳＯ−１００、ＦＳＮ、ＦＳＮ−１００、ＦＳ−３００（Ｄｕｐｏｎｔ社製）；ＦＴ−２５０、２５１（株式会社ネオス製）などが挙げられる。フッ素系界面活性剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

シリコーン系界面活性剤としては、ポリシロキサン系化合物、ポリエーテル変性オルガノシロキサン等が挙げられる。シリコーン系界面活性剤の市販品としては、特に限定されないが、具体的には、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４７、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３４９（以上商品名、ビックケミー・ジャパン株式会社製）、ＫＦ−３５１Ａ、ＫＦ−３５２Ａ、ＫＦ−３５３、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−６１５Ａ、ＫＦ−９４５、ＫＦ−６４０、ＫＦ−６４２、ＫＦ−６４３、ＫＦ−６０２０、Ｘ−２２−４５１５、ＫＦ−６０１１、ＫＦ−６０１２、ＫＦ−６０１５、ＫＦ−６０１７（以上商品名、信越化学株式会社製）等が挙げられる。

〔溶剤〕
インク組成物は、溶剤をさらに含んでもよい。溶剤としては、特に限定されないが、例えば、有機溶剤又は水を用いることができる。

水としては、例えば、イオン交換水、限外濾過水、逆浸透水、及び蒸留水等の純水、並びに超純水のような、イオン性不純物を極力除去したものが挙げられる。また、紫外線照射又は過酸化水素の添加等によって滅菌した水を用いると、インクを長期保存する場合にカビやバクテリアの発生を防止することができる。これにより貯蔵安定性がより向上する傾向にある。

有機溶剤の中でも、揮発性の水溶性有機溶剤がより好ましい。有機溶剤としては、特に限定されないが、具体的には、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｉｓｏ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、及びｔｅｒｔ−ペンタノール等のアルコール類又はグリコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、及び１，１，３，３−テトラメチル尿素が挙げられる。

溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。有機溶剤の含有量は特に制限されず、必要に応じて適宜決定することができる。

このなかでも、トリエチレングリコール、グリセリン、トリエチレングリコールアルキルエーテルが好ましく、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等のトリエチレングリコールアルキルエーテルがより好ましい。このような溶剤を用いることにより、界面活性剤の溶解安定性がより向上する傾向にある。

トリエチレングリコールアルキルエーテルの含有量は、好ましくは３．０％〜１５．０％であり、より好ましくは４．０％〜１２．５％であり、さらに好ましくは５．０％〜１０％である。トリエチレングリコールアルキルエーテルの含有量が上記範囲内であることにより、界面活性剤の溶解安定性がより向上する傾向にある。

ポリオキシアルキレンアルキルエーテルに対するトリエチレングリコールアルキルエーテルの質量比は、好ましくは１．５以上であり、好ましくは１．７５以上であり、好ましくは２以上である。また、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルに対するトリエチレングリコールアルキルエーテルの質量比の上限は、特に限定されないが、１０以下が好ましい。ポリオキシアルキレンアルキルエーテルに対するトリエチレングリコールアルキルエーテルの質量比が上記範囲内であることにより、インクジェットヘッドノズルにおける、界面活性剤の分離による吐出不良がより抑制される傾向にある。

〔ｐＨ調整剤〕
本実施形態で用いるインク組成物は、ｐＨ調整剤を含んでもよい。ｐＨ調整剤は、インクのｐＨ値の調整を容易にすることができる。ｐＨ調整剤としては、特に限定されないが、例えば、無機酸（例えば、硫酸、塩酸、硝酸等）、無機塩基（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等）、有機塩基（トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、トリプロパノールアミン）、有機酸（例えば、アジピン酸、クエン酸、コハク酸等）等が挙げられる。ｐＨ調整剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。

〔その他の成分〕
本実施形態で用いるインク組成物は、その保存安定性及びヘッドからの吐出安定性を良好に維持するため、目詰まり改善のため、又はインクの劣化を防止するため、溶解助剤、粘度調整剤、ｐＨ調整剤、酸化防止剤、防腐剤、防黴剤、腐食防止剤、及び分散に影響を与える金属イオンを捕獲するためのキレート化剤などの、種々の添加剤を適宜添加することもできる。

〔動的接触角〕
本実施形態のインク組成物のシリコンウェーハに対する動的接触角は、滴下後１００ｍｓｅｃにおいて、好ましくは２４°以下であり、より好ましくは２２°以下であり、さらに好ましくは２０°以下である。また、本実施形態のインク組成物のシリコンウェーハに対する動的接触角は、滴下後５１００ｍｓｅｃにおいて、好ましくは９°以下であり、より好ましくは７°以下であり、さらに好ましくは５°以下である。シリコンウェーハに対する動的接触角が上記範囲内であることにより、インクジェットプリンターの充填性がより向上する傾向にある。

以下、本発明を実施例及び比較例を用いてより具体的に説明する。本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。

［インク組成物用の材料］
下記の実施例及び比較例において使用したインク組成物用の主な材料は、以下の通りである。
〔染料〕
染料（Ｃ−１） ：下記参照
染料（Ｃ−２） ：Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー１９９
染料（Ｃ−２） ：Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー８６
染料（Ｃ−３） ：下記参照
〔界面活性剤〕
オルフィンＥ１０１０：主鎖の炭素数１０、エチレンオキサイドの付加モル数１０、ＨＬＢ１３〜１４、日信化学工業社製
サーフィノールＴＧ：主鎖の炭素数１０、エチレンオキサイドの付加モル数１０、ＨＬＢ９、エアプロダクツ社製
サーフィノール１０４ＰＧ５０：主鎖の炭素数１０、エチレンオキサイドの付加なし、ＨＬＢ４、エアプロダクツ社製
ニューコール１００６：ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、日本乳化剤社製
〔溶剤〕
トリエチレングリコール
トリエチレングリコールモノブチルエーテル
グリセリン
〔ｐＨ調整剤〕
トリエタノールアミン

［インク組成物の調製］
各材料を下記の表１に示す組成で混合し、十分に撹拌し、各インク組成物を得た。なお、下記の表１中、数値の単位は質量％であり、合計は１００．０質量％である。

〔動的接触角〕
シリコンウェーハ上にインク組成物を０．５μＬ滴下し、シリコンウェーハにインク組成物が付着した時点から１００ｍｓ後と、５１００ｍｓ後のインク組成物の接触角を、協和界面科学製ＰＣＡ−１を用いて測定した。なお、測定は、２５℃、湿度５０％の条件下で行った。なお、インクの測定と同じ動的表面張力の測定条件にて、イオン交換水を測定したところ、当該シリコンウェーハの値は、１００ｍｓｅｃで７７°、５１００ｍｓｅｃで７５°であった。

〔印画濃度〕
調製した各インクセットを、インクジェットプリンターＬ８００（セイコーエプソン社製）のインクタンクに充填した。Ｌ８００の定める初期充填シーケンスに従い、ヘッドへの初期充填動作を行った。この後、ヘッドの全ノズルからインクが吐出できるかどうかを確認した。ＰＧＰＰに対してベタ画像を印刷することによって記録物を得た。得られた記録物のＯＤ値に基づいて、因果濃度を下記基準で評価した。
Ａ ： ＯＤ値が２．３以上である。
Ｂ ： ＯＤ値が２．３未満である。

〔耐オゾン性〕
上記インク組成物をインクジェットプリンタＥＰ−８０３（セイコーエプソン株式会社製）に充填し、写真用紙＜光沢＞（セイコーエプソン株式会社製）に、ＯＤ値が０．５、１．０、１．５、２．０になるように調整されたベタ画像を印刷することによって記録物をそれぞれ作成した。

得られた記録物のＯＤ値（Ｄ０）を反射濃度計（商品名：Ｓｐｅｃｔｒｏｌｉｎｏ、Ｇｒｅｔａｇ社製）を用いて測定した。その後、記録物をオゾンウェザーメーター（商品名：ＯＭＳ―Ｌ、スガ試験機株式会社製）を使用し、温度が２３℃、湿度が５０％ＲＨ、オゾン濃度５ｐｐｍの条件下で４０時間、６０時間、８０時間曝露した。曝露後、記録物のＯＤ値（Ｄ）を、反射濃度計（商品名：Ｓｐｅｃｔｒｏｌｉｎｏ、Ｇｒｅｔａｇ社製）を用いて測定し、次式により光学濃度残存率（ＲＯＤ）を求め、下記判定基準により、耐オゾン性を評価した。
ＲＯＤ（％）＝（Ｄ／Ｄ０）×１００
測定条件：光源フィルタなし、光源：Ｄ５０、視野角２度
（評価基準）
Ａ ： ８０時間曝露しても、すべての記録物のＲＯＤが７０％以上である。
Ｂ ： ６０時間曝露しても、すべての記録物のＲＯＤが７０％以上であるが、８０時間曝露するとＲＯＤが７０％未満となる。
Ｃ ： ４０時間曝露しても、すべての記録物のＲＯＤが７０％以上であるが、６０時間曝露するとＲＯＤが７０％未満となる。
Ｄ ： ４０時間曝露するとすべての記録物のＲＯＤが７０％未満となる。

〔初期充填性〕
調製した各インクセットを、インクジェットプリンターＬ８００（セイコーエプソン社製）のインクタンクに充填した。Ｌ８００の定める初期充填シーケンスに従い、ヘッドへの初期充填動作を行った。この後、ヘッドの全ノズルからインクが吐出できるかどうかを確認するため、ノズルチェックを実施した。インクが吐出できないノズルがある場合には、ヘッドのクリーニング（ノズル内のインクの吸引）を行い、その後再度ノズルチェックを実施した。全ノズルからインクが吐出できるまでに要したクリーニングの回数に基づき、以下の評価基準により初期充填性を評価した。
（評価基準）
Ａ ： 初期充填シーケンスのみで全ノズルから吐出する。
Ｂ ： 全ノズルからインクが吐出できるまでに要したクリーニング回数が１回である。
Ｃ ： 全ノズルからインクが吐出できるまでに要したクリーニング回数が２回以上である。

〔連続印刷安定性〕
上記「初期充填性の評価」によって、ヘッドの全ノズルからインクが吐出できることを確認した後、各インク組成物及びＡ４サイズの普通紙（Ｐ紙〔製品名〕、富士ゼロックス社製）を用いて、７０％Ｄｕｔｙの画像を印刷することにより、連続印刷安定性の評価を行った。印刷枚数は、５００枚の連続印刷を２回行い、合計で１，０００枚とした。その後、ノズルチェックを実施し、ノズル抜けの本数に基づき、以下の評価基準により連続印刷安定性を評価した。
（評価基準）
Ａ ： ノズル抜けが発生した回数が１本以下である。
Ｂ ： ノズル抜けが発生した回数が２本以下である。
Ｃ ： ノズル抜けが発生した回数が３本以上である。

〔印刷安定性（間欠）〕
上記「初期充填性の評価」によって、ヘッドの全ノズルからインクが吐出できることを確認した後、評価用のヘッド動作シーケンスプログラムを用いて、インクジェットプリンターの紙送り方向と平行となるような縦罫線パターンを印刷し、以下の評価基準により印刷安定性（間欠）を評価した。
試験環境 ： ４０℃２５％Ｒｈ
評価用ヘッド動作シーケンス ： インクを吐出しない状態でヘッド主走査方向にヘッドを４０秒間往復運動させ、その後インク空打ち（フラッシング）を５回繰り返した後に、罫線を２本印刷させる。
（評価基準）
Ｇ ： １本目、２本目ともに罫線が正常に印刷される（目視確認）。
ＮＧ ： １本目の罫線が正常に印刷されない（目視確認）。

Claims (9)

1. 下記式（Ｃ−１）で表される染料（Ｃ−１）と、Ｃ．Ｉ．ダイレクトブルー８６を含む染料（Ｃ−２）と、主鎖の炭素数が１２以上であるアセチレングリコールのアルキレンオキサイド付加物と、主鎖の炭素数が１０以上であるアセチレングリコールと、界面活性剤であるポリオキシアルキレンアルキルエーテルと、を含み、
   前記染料（Ｃ−１）と、前記染料（Ｃ−２）との含有量比率Ａ（前記染料（Ｃ−１）：前記染料（Ｃ−２））が、７：３〜９．５：０．５であり、
   前記染料（Ｃ−１）の含有量が、２．０〜５．０質量％である、インク組成物。
   （式（Ｃ−１）中、
   Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₆、Ｒ₇、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₄及びＲ₁₅は、各々独立して、水素原子、ハロゲ
   ン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘ
   テロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコ
   キシ基、アリールオキシ基、アミド基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイル
   アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホン
   アミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキ
   シ基、アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、アリールオキ
   シカルボニル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、ホス
   ホリル基、アシル基又はイオン性親水性基を表す。これらの基は、さらに置換基を有して
   いてもよい。
   Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄は、各々独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若
   しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無
   置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテ
   ロ環基を表す。但し、Ｚ₁、Ｚ₂、Ｚ₃、及びＺ₄のうち少なくとも１つは、イオン性親水性
   基を置換基として有する。
   ｌ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ₁、ｑ₂、ｑ₃及びｑ₄は、各々独立して、１又は２を表す。
   Ｍ₁は、水素原子、金属元素、金属酸化物、金属水酸化物又は金属ハロゲン化物を表す
   。）
2. 前記染料（Ｃ−２）の含有量が、０．１０〜１．０質量％である、請求項１に記載のイ
   ンク組成物。
3. 下記式（Ｃ−３）で表される染料（Ｃ−３）を含み、
   該染料（Ｃ−３）の含有量が、０．５０〜１．５質量％である、請求項１又は２に記載
   のインク組成物。
   （式（Ｃ−３）中、
   Ｒ₁、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₆は、各々独立して、水素原子、ハロゲ
   ン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘ
   テロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコ
   キシ基、アリールオキシ基、アミド基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイル
   アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホン
   アミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキ
   シ基、アゾ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリルオキシ基、アリールオキ
   シカルボニル基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド基、ヘテロ環チオ基、ホス
   ホリル基、アシル基又はイオン性親水性基を表す。これらの基は、さらに置換基を有して
   いてもよい。
   Ｚ₅、Ｚ₆、Ｚ₇、及びＺ₈は、各々独立して、置換若しくは無置換のアルキル基、置換若
   しくは無置換のシクロアルキル基、置換若しくは無置換のアルケニル基、置換若しくは無
   置換のアラルキル基、置換若しくは無置換のアリール基、又は置換若しくは無置換のヘテ
   ロ環基を表す。但し、Ｚ₅、Ｚ₆、Ｚ₇、及びＺ₈のうち少なくとも１つは、イオン性親水性
   基を置換基として有する。
   ｔ、ｕ、ｖ、ｗ、ｑ₅、ｑ₆、ｑ₇及びｑ₈は、各々独立して、１又は２を表す。
   Ｍ₂は、水素原子、金属元素、金属酸化物、金属水酸化物又は金属ハロゲン化物を表す
   。）
4. 溶剤であるトリエチレングリコールアルキルエーテルを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のインク組成物。
5. シリコンウェーハに対する動的接触角が、滴下後１００ｍｓｅｃで２４°以下であり、
   かつ滴下後５１００ｍｓｅｃで９°以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のイ
   ンク組成物。
6. 前記ポリオキシアルキレンアルキルエーテルに対する前記トリエチレングリコールアル
   キルエーテルの質量比が２以上である、請求項４又は５に記載のインク組成物。
7. 前記ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの含有量が、１．０質量％〜５．０質量％
   である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のインク組成物。
8. 前記トリエチレングリコールアルキルエーテルの含有量が、３．０質量％〜１５質量％
   である、請求項４〜７のいずれか１項に記載のインク組成物。
9. 前記トリエチレングリコールアルキルエーテルが、トリエチレングリコールモノブチル
   エーテルを含む、請求項４〜８のいずれか１項に記載のインク組成物。