JP6372793B2 - 水溶液のpHを変化させる方法および装置 - Google Patents
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Description
水溶液のpHを変化させる本発明の方法は、水溶液を電解槽で電気分解する工程(i)を含む。以下では、工程(i)で用いられる水溶液を「水溶液(S)」という場合がある。水溶液(S)には、酸(典型的には水素イオン)またはアルカリ(典型的には水酸化物イオン)と反応することによって当該酸または当該アルカリを消費してガスを生成するイオンが溶存している。以下では、このイオンを「イオン(L)」という場合がある。
以下に、水溶液のpHを変化させるための本発明の装置について説明する。なお、本発明の方法について説明した事項については本発明の装置に適用できるため、重複する説明を省略する場合がある。また、本発明の装置について説明した事項は、本発明の方法に適用できる。
実施形態1では、バッチ式で水溶液(S)を処理する装置および方法の例について以下に説明する。実施形態1の装置を図1に模式的に示す。
実施形態2では、通液式で水溶液(S)を処理する装置および方法の例について以下に説明する。実施形態2の装置で用いられる電解槽210を図5に模式的に示す。電解槽210は、槽220を備える。槽220は、セパレータ12によって第1の槽221と第2の槽222とに分けられている。第1の槽221には第1の電極31が配置され、第2の槽222には、第2の電極32が配置されている。第1の電極31および第2の電極32は、図1の装置100と同様に電源に接続される。第1の槽221の上部には、第1の槽221で発生したガスを放出するための開口部221aが設けられている。第2の槽222の上部には、第2の槽222で発生したガスを放出するための開口部222aが設けられている。
実施例1では、本発明によって水溶液のpHを上昇させた。実施例1で用いた電解槽を図7に模式的に示す。図7の電解槽は、2つの電解槽10を含み、それら2つの電解槽10が第1の槽21および第1の電極31を共有している。
実施例2では、第1の電極31の形状を変えたことを除いて実施例1と類似の実験を行った。実施例2では、第1の電極31として、図8(b)に示す形状を有する電極81bを用いた。電極81bは、電極を構成する電極線の配置密度が上方で大きくなっている。電極81bを正極に用いた場合、電極81aを正極に用いた場合よりも水溶液のpHが上昇した。
11 直流電源
12 セパレータ
20、220 槽
21、221 第1の槽
22、222 第2の槽
31、231 第1の電極
32、232 第2の電極
100、200a 装置
Claims (6)
- 水溶液のpHを変化させる方法であって、
(i)前記水溶液を電解槽で電気分解する工程を含み、
前記水溶液には、酸またはアルカリと反応することによって前記酸または前記アルカリを消費してガスを生成するイオンが溶存しており、
前記電解槽は、陽イオンおよび陰イオンを透過させるセパレータと、前記セパレータによって仕切られた第1および第2の槽と、前記第1の槽に配置された第1の電極と、前記第2の槽に配置された第2の電極とを含み、
前記(i)の工程において、前記酸または前記アルカリを前記第1の電極で発生させて前記イオンと反応させ、それによって生成したガスを前記第1の槽の外部に放出し、
前記(i)の工程における電気分解は、前記第1の槽および前記第2の槽の両方に前記水溶液を配置した状態でバッチ式で行われ、
前記第2の槽の容積は前記第1の槽の容積よりも大きく、且つ、
前記(i)の工程における電気分解において、前記第2の槽に配置される前記水溶液の量を前記第1の槽に配置される前記水溶液の量よりも大きくする、方法。 - 前記イオンが、炭酸イオンおよび炭酸水素イオンからなる群より選ばれる少なくとも1種であり、
前記(i)の工程において、前記第1の電極がアノードとなり前記第2の電極がカソードとなるように電圧を印加することによって、前記第1の槽で炭酸ガスを発生させるとともに前記第2の槽内の前記水溶液のpHを上昇させる、請求項1に記載の方法。 - 前記イオンがアンモニウムイオンであり、
前記(i)の工程において、前記第1の電極がカソードとなり前記第2の電極がアノードとなるように電圧を印加することによって、前記第1の槽でアンモニアを発生させるとともに前記第2の槽内の前記水溶液のpHを低下させる、請求項1に記載の方法。 - 前記第1の電極の配置密度が前記第1の槽の下方よりも上方で大きくなっている、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法を実施することによって水溶液のpHを変化させる装置であって、
電解槽を含み、
前記電解槽は、陽イオンおよび陰イオンを透過させるセパレータと、前記セパレータによって仕切られた第1および第2の槽と、前記第1の槽に配置された第1の電極と、前記第2の槽に配置された第2の電極とを含み、
ガスを放出するための機構が前記第1の槽に設けられており、
前記第2の槽の容積は前記第1の槽の容積よりも大きい、装置。 - 前記セパレータが親水性のセパレータである、請求項5に記載の装置。
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