JP6365980B2 - ガラスパネルユニットの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ガラスパネルユニットの製造方法に関し、詳しくは、第一パネル基板と第二パネル基板との間に介在する複数のスペーサーを形成する技術に関する。

特許文献１には、ガラスパネルを製造する方法が記載されている。この方法では、ガラスパネルを構成する一対のガラス板のうち、一方のガラス板の対向面上に、複数の透孔を有するメタルスクリーンを密着させ、複数の透孔にそれぞれペーストを刷り込む。

次いで、ガラス板からメタルスクリーンを剥がしたうえで、ガラス板を加熱炉に入れ、炉内で全体を加熱することで、ペーストを固化させる。そして、固化したペーストに整形処理を施して高さを整えることで、ガラス板の対向面上に複数のスペーサーを形成する。

特開２０００−６３１５７号公報

前記した従来の方法は、加熱炉内でガラス板とペーストを一緒に加熱することで、ガラス板に固定された状態の複数のスペーサーを形成する方法であるから、複数のスペーサーを形成するために大量のエネルギーが消費される。

本発明が解決しようとする課題は、ガラスパネルユニットを構成する複数のスペーサーを、消費エネルギーを抑えながら効率的に形成することのできるガラスパネルユニットの製造方法を提案することにある。

前記課題を解決するために、本発明の一態様に係るガラスパネルユニットの製造方法を、下記構成を具備したものとする。

この製造方法は、第一ガラス基板と、密閉された空間を介して前記第一ガラス基板に対向する第二ガラス基板と、複数のスペーサーとを備えるガラスパネルユニットを製造する方法である。前記複数のスペーサーは、前記第一ガラス基板と前記第二ガラス基板の間の距離を保持するように前記空間に位置する。

この製造方法は、前記複数のスペーサーを前記第一ガラス基板に固定された状態で形成するスペーサー形成工程を含む。

前記スペーサー形成工程は、積層工程と加熱工程を含む。

前記積層工程は、前記第一ガラス基板と重なるようにガラスフリット層を形成する工程である。

前記加熱工程は、前記ガラスフリット層の少なくとも一部を局所的に加熱することで、前記第一ガラス基板に固定された状態の前記複数のスペーサーを形成する工程である。

本発明は、ガラスパネルユニットを構成する複数のスペーサーを、消費エネルギーを抑えながら効率的に形成することができるという効果を奏する。

実施形態１のガラスパネルユニットの模式的な平面図である。 図１のａ−ａ線断面図である。 図３Ａ〜図３Ｅは、実施形態１のガラスパネルユニットの製造方法を順に示す模式的な断面図である。 実施形態１のガラスパネルユニットの製造方法の各工程を示すフロー図である。 図５Ａ〜図５Ｅは、実施形態２のガラスパネルユニットの製造方法を順に示す模式的な断面図である。 図６Ａ〜図６Ｅは、実施形態３のガラスパネルユニットの製造方法を順に示す模式的な断面図である。 図７Ａ〜図７Ｅは、実施形態４のガラスパネルユニットの製造方法を順に示す模式的な断面図である。 図８Ａは、実施形態１で用いるプレートの変形例を示す模式的な断面図であり、図８Ｂは、実施形態２で用いるプレートの変形例を示す模式的な断面図であり、図８Ｃは、実施形態３で用いるプレートの変形例を示す模式的な断面図である。

（実施形態１）
図１、図２には、実施形態１の製造方法で製造するガラスパネルユニットを模式的に示している。

ガラスパネルユニットは、第一ガラス基板１と、第二ガラス基板２と、封止部８と、空間９と、複数のスペーサー３，３…とを備える。空間９は、減圧して密閉した減圧空間である。

第一ガラス基板１と第二ガラス基板２は、ともにソーダガラス製のパネルであり、図２に示すように、距離Ｄ１を隔てて互いに対向する。

第一ガラス基板１は、第二ガラス基板２に対向して位置する平坦な面１１を有する。第二ガラス基板２は、第一ガラス基板１に対向して位置する平坦な面２１を有する。

封止部８は、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２との間に位置する。図１に示すように、封止部８は、平面視において矩形枠状の外形を有する。封止部８は、ペースト状のガラスフリットを用いて形成する。該ガラスフリットは、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２よりも低融点である。封止部８は、低融点の金属や樹脂で形成することも可能である。

空間９は、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２との間において、封止部８によって囲まれる空間である。空間９は、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２と封止部８によって、気密に封止される。

複数のスペーサー３，３…は、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２との間に介在し、且つ、平面視において封止部８の内側に位置する。つまり、複数のスペーサー３，３…は、空間９内に位置する。

複数のスペーサー３，３…は、それぞれが第一ガラス基板１の面１１と第二ガラス基板２の面２１に接触した状態で、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２の間の距離Ｄ１を保持する。

本実施形態では、複数のスペーサー３，３…が位置する空間９を、０．１Ｐａ以下の真空度にまで減圧したうえで密閉することで、空間９を減圧空間（いわゆる真空空間）に設けている。

以下において、本実施形態のガラスパネルユニットの製造方法について、図３Ａ〜図３Ｅや図４に基づいて説明する。

図４に示すように、本実施形態のガラスパネルユニットの製造方法は、スペーサー形成工程（Ｓ１）と、封止工程（Ｓ２）と、減圧工程（Ｓ３）とを備える。

スペーサー形成工程（Ｓ１）は、複数のスペーサー３，３…を、第一ガラス基板１に固着した状態で形成する工程である。スペーサー形成工程（Ｓ１）は、積層工程（Ｓ１１）と加熱工程（Ｓ１２）と除去工程（Ｓ１３）とを備える。積層工程（Ｓ１１）と加熱工程（Ｓ１２）においては、耐熱性の平滑な表面４１を有する金属製のプレート４を用いる。

積層工程（Ｓ１１）では、図３Ａに示すように、表面４１が水平となる姿勢でプレート４をセットし、低融点である微細なガラスフリット５を表面４１上に積層させることで、ガラスフリット５が所定の厚みで積み重なったガラスフリット層６を形成する。ガラスフリット層６の厚みは、均一に保持する。なお、図３Ａ〜図３Ｅには、図２と同様に模式的な断面を示している。

更に積層工程（Ｓ１１）では、図３Ｂに示すように、プレート４上に重ねたガラスフリット層６に対して、第一ガラス基板１を重ねる。即ち、積層工程（Ｓ１１）では、プレート４の表面４１と第一ガラス基板１の面１１との間に、ガラスフリット層６を距離Ｄ１の厚みで挟み込んでセットする。

加熱工程（Ｓ１２）では、図３Ｂに示す状態で外部からレーザーを照射し、ガラスフリット層６の一部を局所的に加熱し、焼成させることで、図３Ｃに示すような複数のスペーサー３，３…を形成する。

ガラスフリット層６へのレーザー照射は、ガラスフリット層６上に重なる透光性の第一ガラス基板１を通じて、局所的に行う。

レーザー照射によって焼成された複数のスペーサー３，３…は、それぞれが距離Ｄ１の高さを有し、第一ガラス基板１の面１１に固着した状態となる。ガラスフリット層６のうち、スペーサー３，３…が形成された部分以外は、粉状又は破片状のガラスフリット５としてプレート４上に残存する。

除去工程（Ｓ１３）では、図３Ｄに示すように、スペーサー３，３…が固着した第一ガラス基板１と、プレート４とを離間させる。

このとき、プレート４は金属製であるため、ガラスフリット５を基にして形成したスペーサー３，３…はプレート４の表面４１に固着しておらず、スペーサー３，３…とプレート４は容易に離間する。離間後のプレート４は、残存したガラスフリット５と共に除去する。

封止工程（Ｓ２）は、複数のスペーサー３，３…が固着した第一ガラス基板１と、第二ガラス基板２とを、両基板１，２間に封止部８が介在した状態となるように重ね合わせ、封止部８を硬化させることで、図３Ｅに示すような空間９を形成する工程である。

本実施形態では、第二ガラス基板２の面２１上にペースト状の封止部８を塗布したうえで第一ガラス基板１を重ね合わせることで、両基板１，２間に封止部８を介在させる。なお、第一ガラス基板１の面１１上にペースト状の封止部８を塗布したうえで第二ガラス基板２と重ね合わせることや、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２を重ね合わせた後で封止部８を塗布することも可能である。

封止工程（Ｓ２）で空間９を形成した後に、減圧工程（Ｓ３）において、第一ガラス基板１又は第二ガラス基板２に設けた図示略の排気口を通じて空間９を減圧し、その後に該排気口を塞いで空間９を密閉することで、ガラスパネルユニットを製造することができる。

ここで、複数のスペーサー３，３…は、スペーサー形成工程（Ｓ１）で形成された時点で、互いの高さが距離Ｄ１に統一される。また、複数のスペーサー３，３…は、スペーサー形成工程（Ｓ１）で形成された時点で、第一ガラス基板１から離れる側を向く端面３１，３１…が、平坦に形成される。

そのため、空間９を所定の真空度にまで減圧させたときに、複数のスペーサー３，３…の寸法形状のばらつきに起因して、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２に応力集中や割れを生じることが、抑制される。

前記各工程を経てガラスパネルユニットを製造することによって、第一ガラス基板１に固着した複数のスペーサー３，３…を効率的に形成することができ、延いては、図１や図２に示すガラスパネルユニットを効率的に製造することができる。

（実施形態２）
図５Ａ〜図５Ｅには、実施形態２のガラスパネルユニットの製造方法を模式的に示している。

以下において、実施形態１と同様の構成については同一符号を付して詳しい説明を省略する。

本実施形態においては、複数の凹部４２，４２…を有する金属製のプレート４を用いて、ガラスパネルユニットを製造する。製造するガラスパネルユニットは、実施形態１で製造するガラスパネルユニットと同様に、第一ガラス基板１と、第二ガラス基板２と、封止部８と、空間９と、複数のスペーサー３，３…とを備える（図１、図２参照）。空間９は、所定の真空度まで減圧され且つ密閉された減圧空間であり、この減圧空間内に複数のスペーサー３，３…が位置する。

本実施形態のガラスパネルユニットの製造方法は、実施形態１と同様に、スペーサー形成工程（Ｓ１）と、封止工程（Ｓ２）と、減圧工程（Ｓ３）とを備える。

スペーサー形成工程（Ｓ１）は、積層工程（Ｓ１１）と加熱工程（Ｓ１２）と除去工程（Ｓ１３）とを備える。

本実施形態の積層工程（Ｓ１１）では、図５Ａに示すように、表面４１が水平となる姿勢でプレート４をセットする。複数の凹部４２，４２…は、平坦な表面４１から距離Ｄ１だけ凹み、平坦な底面を有する。複数の凹部４２，４２…は、水平方向に互いに距離を隔てて位置する。

本実施形態の積層工程（Ｓ１１）では、ガラスフリット５を表面４１上に積層させるのではなく、各凹部４２内にガラスフリット５を充填することで、各凹部４２内にガラスフリット層６を形成する。

更に積層工程（Ｓ１１）では、図５Ｂに示すように、各凹部４２内にガラスフリット層６を形成したプレート４上に、第一ガラス基板１を重ねる。第一ガラス基板１の面１１は、プレート４の平坦な表面４１に重なり、且つ、各凹部４２内のガラスフリット層６に重なる。

本実施形態の加熱工程（Ｓ１２）では、図５Ｂに示す状態で、第一ガラス基板１を通じてレーザーを照射することで、各凹部４２内のガラスフリット層６を局所的に加熱し、焼成させる。これにより、図５Ｃに示すような複数のスペーサー３，３…を、複数の凹部４２，４２…内に一対一で形成する。複数のスペーサー３，３…は、それぞれが距離Ｄ１の高さを有し、第一ガラス基板１の面１１に固着した状態で形成される。

なお、各凹部４２のガラスフリット層６にレーザーを照射する代わりに、プレート４を加熱することで、各凹部４２のガラスフリット層６を加熱することも可能である。この場合、プレート４の材質としては、金属のように耐熱性と熱伝導性を有する材料を用いる。

除去工程（Ｓ１３）では、図５Ｄに示すように、スペーサー３，３…が固着した第一ガラス基板１と、プレート４とを離間させる。スペーサー３，３…は、金属製であるプレート４の凹部４２，４２に固着しておらず、スペーサー３，３…はプレート４から容易に離間する。

除去工程（Ｓ１３）の後は、実施形態１と同様の封止工程（Ｓ２）を経ることで、図５Ｅに示すような空間９を形成し、更に減圧工程（Ｓ３）で空間９を所定の真空度にまで減圧したうえで、空間９を密閉させる。

本実施形態においても、複数のスペーサー３，３…は、スペーサー形成工程（Ｓ１）で形成された時点で、互いの高さは距離Ｄ１に統一され、且つ、端面３１，３１…が平坦に形成される。そのため、空間９を所定の真空度にまで減圧させたときに、複数のスペーサー３，３…の寸法形状のばらつきに起因して第一ガラス基板１と第二ガラス基板２に応力集中や割れを生じることが、抑制される。

加えて、本実施形態では、凹部４２内に充填したガラスフリット層６を溶解させてスペーサー３を形成するので、スペーサー３の形状を、凹部４２の内面で規制することができ、形成後のスペーサー３に、残存した微細なガラスフリットが付着することが抑制される。そのため、本実施形態においては、各スペーサー３を設計通りの寸法形状で奇麗に仕上げることができる。

（実施形態３）
図６Ａ〜図６Ｅには、実施形態３のガラスパネルユニットの製造方法を模式的に示している。

以下において、実施形態１や実施形態２と同様の構成については同一符号を付して詳しい説明を省略する。

本実施形態においては、実施形態２と同様に、複数の凹部４２，４２…を有する金属製のプレート４を用いて、ガラスパネルユニットを製造する。実施形態２と相違する点は、各凹部４２が、その開口部分４２１を他の部分４２２よりも拡張させた形状を有する点にある。本実施形態では、簡略のため、図６Ａ〜図６Ｅの断面中に凹部４２，４２…を三箇所だけ示している。

開口部分４２１は、凹部４２のうち開口縁から所定の深さに至るまでの部分である。他の部分４２２は、凹部４２のうち開口部分４２１よりも深くに位置する部分である。開口部分４２１と他の部分４２２は、全周に亘る段差を介して、階段状に連続する。

開口部分４２１と他の部分４２２は、複数の段差を介して連続する形状でもよいし、或いは、段差を介さずに滑らかに（例えば、開口縁に近づくほど末広がりに拡張する漏斗状に）連続する形状であってもよい。また、他の部分４２２を含めて凹部４２全体に抜き勾配を設けることも好ましい。

プレート４を用いてガラスパネルユニットを製造する工程は、実施形態２と同様であるが、本実施形態では各凹部４２が拡張された開口部分４２１を有するため、更なる利点を有する。

この利点は、即ち、凹部４２内で焼成したスペーサー３の体積が、凹部４２内に充填させたガラスフリット層６の体積よりも小さくなる場合でも、スペーサー３の形状を安定的に得やすくなるという利点である。

ガラスフリット層６は、粉状又は破片状のガラスフリット５を凹部４２内に充填させたものであるから、溶融して液状となったときに全体の体積が縮小しやすい。ガラスフリット層６が液状になって体積が縮小したとき、その体積縮小がスペーサー３の寸法形状に及ぼす影響は、スペーサー３のうち開口部分４２１で形成される根本部分において、特に現れる。

これに対して、開口部分４２１を他の部分４２２よりも拡張させ、開口部分４２１全体に至るまでガラスフリット５を充填させることで、多少の体積縮小を生じてもスペーサー３の太さを全体的に（特に第一ガラス基板１に固着する根本部分で）確保しやすくなる。

更に、本実施形態では、各凹部４２が拡張された開口部分４２１を有することで、スペーサー３に裾広がり部分３２を形成しやすくなり、スペーサー３と第一ガラス基板１の固着強度を向上させることができるという利点がある。

本実施形態では、複数の凹部４２，４２…の全てを、開口部分４２１を拡張させた形状に設けているが、複数の凹部４２，４２…のうち一部だけ（少なくとも一つ）を、開口部分４２１を拡張させた形状にすることも可能である。

（実施形態４）
図７Ａ〜図７Ｅには、実施形態４のガラスパネルユニットの製造方法を模式的に示している。

以下において、実施形態１と同様の構成については同一符号を付して詳しい説明を省略する。

本実施形態のガラスパネルユニットの製造方法は、実施形態１と同様に、スペーサー形成工程（Ｓ１）と封止工程（Ｓ２）と減圧工程（Ｓ３）とを備える。

本実施形態のスペーサー形成工程（Ｓ１）は、複数のスペーサー３，３…を、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２に固着した状態で形成する工程である。スペーサー形成工程（Ｓ１）は、積層工程（Ｓ１１）と加熱工程（Ｓ１２）と除去工程（Ｓ１３）を備える。

本実施形態の積層工程（Ｓ１１）では、図７Ａに示すように、面２１が水平となる姿勢で第二ガラス基板２をセットし、低融点であるガラスフリット５を面２１上に積層させることで、ガラスフリット５が所定の厚みで積み重なったガラスフリット層６を形成する。

更に積層工程（Ｓ１１）では、図７Ｂに示すように、第二ガラス基板２上に重ねたガラスフリット層６に対して、第一ガラス基板１を重ねる。即ち、積層工程（Ｓ１１）では、第二ガラス基板２の面２１と第一ガラス基板１の面１１との間に、ガラスフリット層６を距離Ｄ１の厚みで挟み込む。

本実施形態の加熱工程（Ｓ１２）では、図７Ｂに示す状態を保持しながらレーザーを照射し、ガラスフリット層６の一部を局所的に加熱し、焼成させることで、図７Ｃに示すような複数のスペーサー３，３…を形成する。

ガラスフリット層６へのレーザー照射は、第一ガラス基板１又は第二ガラス基板２を通じて、局所的に行う。レーザー照射は、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２の両方を通じて行うことも可能である。

レーザー照射により焼成された複数のスペーサー３，３…は、それぞれが距離Ｄ１の高さを有し、第一ガラス基板１の面１１と第二ガラス基板２の面２１に固着した状態となる。ガラスフリット層６のうち、スペーサー３，３…が形成された部分以外は、粉状又は破片状のガラスフリット５として残存する。

本実施形態の除去工程（Ｓ１３）では、図７Ｄに示すように、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２の間に残存したガラスフリット５を、エアブローノズル７から風を吹き付けて除去する。

本実施形態の封止工程（Ｓ２）では、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２の間にペースト状の封止部８を介在させ、封止部８を硬化させることで、図７Ｅに示すような空間９を形成する。次いで、減圧工程（Ｓ３）において図示略の排気口を通じて空間９を所定の真空度にまで減圧し、該排気口を塞いで空間９を密閉することで、ガラスパネルユニットを製造する。

本実施形態において、複数のスペーサー３，３…は、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２に固着した状態で形成される。そのため、空間９を所定の真空度に減圧させたときに、複数のスペーサー３，３…の寸法形状のばらつきに起因して第一ガラス基板１と第二ガラス基板２に応力集中や割れを生じることが、抑制される。

前記各工程を経てガラスパネルユニットを製造することによって、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２に固着した複数のスペーサー３，３…を効率的に形成することができ、延いては、ガラスパネルユニットを効率的に製造することができる。

（変形例）
図８Ａ〜図８Ｃには、プレート４の変形例を模式的に示している。

図８Ａに示す変形例は、実施形態１で用いるプレート４の変形例である。このプレート４では、プレート４全体を金属で形成するのではなく、プレート４のうち表面４１を含む部分４３だけを金属で形成している。金属製の部分４３は、即ち、プレート４が有する金属層であり、該金属層の表面が、ガラスフリット層６を重ねる表面４１である。

図８Ｂに示す変形例は、実施形態２で用いるプレート４の変形例である。このプレート４では、プレート４全体を金属で形成するのではなく、プレート４のうち凹部４２，４２，…の内面を含む部分４４，４４…だけを、金属で形成している。

図８Ｃに示す変形例は、実施形態３で用いるプレート４の変形例である。このプレート４では、プレート４全体を金属で形成するのではなく、プレート４のうち表面４１と凹部４２，４２，…の内面を含む部分４５だけを、金属で形成している。

なお、いずれの例のプレート４においても、焼成されたスペーサー３から離れやすい性質を有し且つ耐熱性を有する材料であれば、金属に代えて用いることが可能である。

以上、詳述したように、実施形態１〜４のガラスパネルユニットの製造方法は、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２と複数のスペーサー３，３…とを備えたガラスパネルを製造する方法である。第二ガラス基板２は、密閉された空間９を介して第一ガラス基板１に対向する。複数のスペーサー３，３…は、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２の間の距離Ｄ１を保持するように空間９に位置する。

各実施形態の製造方法は、複数のスペーサー３，３…を第一ガラス基板１に固定された状態で形成するスペーサー形成工程（Ｓ１）を含む。スペーサー形成工程（Ｓ１）は、積層工程（Ｓ１１）と加熱工程（Ｓ１２）を含む。積層工程（Ｓ１１）は、第一ガラス基板１と重なるようにガラスフリット層６を形成する工程である。加熱工程（Ｓ１２）は、ガラスフリット層６の少なくとも一部を局所的に加熱することで、第一ガラス基板１に固定された状態の複数のスペーサー３，３…を形成する工程である。

そのため、実施形態１〜４においては、ガラスフリット層６を局所的に加熱することで、大量のエネルギーを消費せずに、第一ガラス基板１に固定された状態のスペーサー３，３…を形成することができ、効率的にガラスパネルユニットを形成することが可能となる。

更に、実施形態１〜３において、積層工程（Ｓ１１）では、第一ガラス基板１及び第二ガラス基板２とは別のプレート４にガラスフリット５を積層させることでガラスフリット層６を形成する。そして、ガラスフリット層６に対して第一ガラス基板１を重ねる。

そのため、実施形態１〜３においては、プレート４と第一ガラス基板１に挟まれたガラスフリット層６を局所的に加熱することで、大量のエネルギーを消費することなく、第一ガラス基板１に固定されたスペーサー３，３…を形成することができる。また、複数のスペーサー３，３…は、プレート４を除去した時点で、各々の高さが揃ったものとなる。そのため、焼成後のスペーサー３，３…の高さを揃える工程が不要であり、ガラスパネルユニットを効率的に製造することが可能となる。

更に、実施形態２，３において、プレート４は、互いに距離を隔てて位置する複数の凹部４２，４２…を有する。積層工程（Ｓ１１）は、複数の凹部４２，４２…にガラスフリット５を充填することでガラスフリット層６を形成し、プレート４及びガラスフリット層６に対して、第一ガラス基板１を重ねる工程である。

そのため、実施形態２，３においては、各凹部４２内に充填させたガラスフリット層６を加熱してスペーサー３を形成することで、スペーサー３を、設計通りの奇麗な形状で安定的に得やすくなるという利点がある。

更に、実施形態３において、複数の凹部４２，４２…のうち少なくとも一つは、開口部分４２１を他の部分４２２よりも拡張させた形状を有する。

そのため、実施形態３においては、凹部４２が拡張された開口部分４２１を有することで、凹部４２内のガラスフリット層６が溶解して体積を縮小させる場合であっても、スペーサー３を安定した形状で得やすくなる。また、凹部４２が拡張された開口部分４２１を有することで、スペーサー３に裾広がり部分３２を形成しやすくなり、スペーサー３と第一ガラス基板１の固着強度を向上させることが可能となる。

更に、実施形態１〜３において、加熱工程（Ｓ１２）は、第一ガラス基板１を通じてガラスフリット層６の少なくとも一部にレーザーを照射することで、第一ガラス基板１に固定された状態の複数のスペーサー３，３…を形成する工程である。

そのため、実施形態１〜３においては、透光性の第一ガラス基板１を通じて、ガラスフリット層６の狙いの箇所に対して局所的にレーザーを照射し、スペーサー３，３…を効率的に形成することが可能となる。

更に、実施形態４において、積層工程（Ｓ１１）は、第二ガラス基板２上にガラスフリット５を積層させることでガラスフリット層６を形成し、ガラスフリット層６に対して、第一ガラス基板１を重ねる工程である。加熱工程（Ｓ１２）は、ガラスフリット層６を局所的に加熱することで、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２に固定された状態の複数のスペーサー３，３…を形成する工程である。

そのため、実施形態４においては、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２に挟まれたガラスフリット層６を局所的に加熱することで、大量のエネルギーを消費せずに、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２に固着したスペーサー３，３…を形成することができる。これにより、ガラスパネルユニットを効率的に製造することが可能となる。

更に、実施形態４において、加熱工程（Ｓ１２）は、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２の少なくとも一方を通じてガラスフリット層６にレーザーを照射することで、複数のスペーサー３，３…を形成する工程である。複数のスペーサー３，３…は、第一ガラス基板１と第二ガラス基板２に固定された状態で形成される。

そのため、実施形態４においては、透光性の第一ガラス基板１や第二ガラス基板２を通じて、ガラスフリット層６の狙いの箇所に対して局所的にレーザーを照射し、スペーサー３，３…を効率的に形成することが可能となる。

以上、実施形態について説明したが、本発明は前記した各実施形態に限定されない。本発明の意図する範囲内であれば、各実施形態において適宜の設計変更を行うことや、各実施形態の構成を適宜組み合わせて適用することが可能である。

１ 第一ガラス基板
２ 第二ガラス基板
３ スペーサー
４ プレート
４２ 凹部
４２１ 開口部分
４２２ 他の部分
５ ガラスフリット
６ ガラスフリット層
８ 封止部
９ 空間
Ｄ１ 距離
Ｓ１ スペーサー形成工程
Ｓ１１ 積層工程
Ｓ１２ 加熱工程

Claims (7)

1. 第一ガラス基板と、密閉された空間を介して前記第一ガラス基板に対向する第二ガラス基板と、前記第一ガラス基板と前記第二ガラス基板の間の距離を保持するように前記空間に位置する複数のスペーサーと、を備えるガラスパネルユニットを製造する方法であって、
   前記複数のスペーサーを前記第一ガラス基板に固定された状態で形成するスペーサー形成工程を含み、
   前記スペーサー形成工程は、
   前記第一ガラス基板と重なるようにガラスフリット層を形成する積層工程と、
   前記ガラスフリット層の少なくとも一部を局所的に加熱することで、前記第一ガラス基板に固定された状態の前記複数のスペーサーを形成する加熱工程を含むことを特徴とするガラスパネルユニットの製造方法。
2. 前記積層工程は、前記第一ガラス基板及び前記第二ガラス基板とは別のプレートにガラスフリットを積層させることで前記ガラスフリット層を形成し、前記ガラスフリット層に対して前記第一ガラス基板を重ねる工程であることを特徴とする請求項１に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
3. 前記プレートは、互いに距離を隔てて位置する複数の凹部を有し、
   前記積層工程は、前記複数の凹部に前記ガラスフリットを充填することで前記ガラスフリット層を形成し、前記プレート及び前記ガラスフリット層に対して、前記第一ガラス基板を重ねる工程であることを特徴とする請求項２に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
4. 前記複数の凹部のうち少なくとも一つは、開口部分を他の部分よりも拡張させた形状を有することを特徴とする請求項３に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
5. 前記加熱工程は、前記第一ガラス基板を通じて前記ガラスフリット層の少なくとも一部にレーザーを照射することで、前記第一ガラス基板に固定された状態の前記複数のスペーサーを形成する工程であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
6. 前記積層工程は、前記第二ガラス基板上にガラスフリットを積層させることで前記ガラスフリット層を形成し、前記ガラスフリット層に対して、前記第一ガラス基板を重ねる工程であり、
   前記加熱工程は、前記ガラスフリット層を局所的に加熱することで、前記第一ガラス基板と前記第二ガラス基板に固定された状態の前記複数のスペーサーを形成する工程であることを特徴とする請求項１に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
7. 前記加熱工程は、前記第一ガラス基板と前記第二ガラス基板の少なくとも一方を通じて前記ガラスフリット層にレーザーを照射することで、前記第一ガラス基板と前記第二ガラス基板に固定された状態の前記複数のスペーサーを形成する工程であることを特徴とする請求項６に記載のガラスパネルユニットの製造方法。

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