JP6364818B2 - 画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、画像形成装置に関するものである。

従来の電子写真方式の画像形成装置においては、帯電、露光、現像、転写のプロセスを通じて電子写真感光体の表面上に形成したトナー像を記録媒体に転写させる。

この電子写真方式の画像形成装置に利用する電子写真感光体の感光層には、電荷輸送能が高められた電荷輸送材料を用いることが知られている。
例えば、特定の分子構造を持たせ、電子輸送性を向上させ、感度を高めた電子輸送材料が知られている（特許文献１〜２参照）。また、特定の分子構造を持たせ、正孔輸送性を向上させた正孔輸送材料も知られている（特許文献３参照）。その他、電荷輸送材料としては、種々の材料が知られている（特許文献４参照）。

一方、電子写真方式の画像形成装置には、電子写真感光体にトナー像を形成した後、そのトナー像を中間転写体の一次転写してから記録紙等の記録媒体に二次転写する中間転写方式を採用するものがある。
例えば、中間転写体の表面層に、フッ素樹脂、シリコーン等を添加した最外層を有する中間転写体（特許文献５、６、及び７参照）、及び曲面の内壁で構成された凹部が表面に点在した樹脂層を最外層として有する中間転写体（特許文献８参照）が提案されている。

特開平６−１２３９８１号公報 特開２００５−２１５６７７号公報 特開平８−２９５６５５号公報 特開２００８−１５２０８号公報 特許第５１６２９１１号公報 特開平０２−２３１１２９号公報 特開平０５−０９４０９６号公報 特開２０１２−２０３１３３号公報

本発明の課題は、転写効率を高め、且つ電子写真感光体の前の画像形成サイクルの履歴が次の画像形成サイクルに画像として顕在化する現象（以下、「ゴースト」と称する）の発生を抑制する画像形成装置を提供することである。

上記課題は、以下の手段により解決される。

請求項１に係る発明は、
導電性基体と前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層とを有し、前記感光層が結着樹脂とヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種であり、電荷発生材料の含有量が、前記感光層の固形分に対して０．５質量％以上１．５質量％以下である電荷発生材料と下記一般式（１）で表される正孔輸送材料と下記一般式（２）で表される電子輸送材料とを含み、且つ前記感光層の体積抵抗率が２×１０^１３Ω・ｃｍ以上１.２×１０^１５Ω・ｃｍ以下である電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像が表面に転写される中間転写体であって、純水に対する表面の接触角が８０°以上である中間転写体と、
前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を前記中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、
前記中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、
を備える画像形成装置。

（一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｍ及びｎは、各々独立に０又は１を示す。）

（一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基を示す。Ｒ^１８は、アラルキル基、又はアルキル基を示す。）

請求項２に係る発明は、
前記中間転写体が、フッ素含有化合物を含む層の単層体、又はフッ素含有化合物を含む層を最外層として有する積層体である請求項１に記載の画像形成装置。

請求項３に係る発明は、
前記感光層の厚みが、２０μｍ超え６０μｍ以下である請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。

請求項１に係る発明によれば、上記組成の単層型の感光層の体積抵抗率が上記範囲外の場合に比べ、転写効率を高め、ゴーストの発生を抑制する画像形成装置が提供される。
請求項２に係る発明によれば、中間転写体の少なくとも表層部がフッ素含有化合物を含まない場合に比べ、転写効率が高い画像形成装置が提供される。
請求項３に係る発明によれば、感光層の厚みが２０μｍ未満の場合に比べ、ゴーストの発生を抑制する画像形成装置が提供される。
請求項１に係る発明によれば、電荷発生材料の含有量が感光層の固形分に対して２．０質量％を越える場合に比べ、ゴーストの発生を抑制する画像形成装置が提供される。

本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。 本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。 他の本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。

以下、本発明の一例である実施形態について説明する。

＜画像形成装置＞
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により、電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。

転写手段は、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像が表面に転写される中間転写体であって、中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を前記中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を備える。そして、中間転写体は、純水に対する表面の接触角が８０°以上である。

一方、電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に単層型の感光層と、を有する正帯電有機感光体（以下、「単層型感光体」と称することがある）である。
そして、単層型の感光層は、結着樹脂と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と、一般式（１）で表される正孔輸送材料と、一般式（２）で表される電子輸送材料と、を含む。そして、感光層の体積抵抗率は、２×１０^１３Ω・ｃｍ以上１．２×１０１５Ω・ｃｍ以下である。
なお、単層型の感光層とは、電荷発生能と共に、正孔輸送性及び電子輸送性を持つ感光層である。

本実施形態に係る画像形成装置では、上記構成により、転写効率が高まり、且つゴースト（電子写真感光体の前の画像形成サイクルの履歴が次の画像形成サイクルに画像として顕在化する現象）の発生が抑制される。この理由は、次のように推測される。

まず、単層型感光体は、その単層型の感光層内に、電荷発生材料と正孔輸送材料と電子輸送材料とを含有する構成のため、積層型の感光層を有する有機感光体ほどの高い帯電電位、及び感度が得られず、更なる高帯電性、高感度化が求められている。この点、上記特定の組み合わせで、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び電子輸送材料を単層型の感光層に含ませることで、高感度化が実現される。

一方、中間転写方式の画像形成装置において、純水に対する表面の接触角が８０°以上の中間転写体を使用すると、二次転写の転写効率が向上する。この高接触角の中間転写体の表面に、電子写真感光体からトナーを一次転写するとき、一次転写効率を高めるには、一次転写電流を上げる必要がある。中間転写体の表面の接触角が高いと、中間転写体の表面に対するトナーの付着力が弱まるためである。

しかし、一次転写電流を上げると、非画像部では中間転写体から電子写真感光体への電荷の注入が起こり、画像部と非画像部とで電位差が生じ、次の画像形成サイクルでゴーストが生じることがある。特に、上記高感度化した単層型の感光層を有する電子写真感光体では、この電荷の注入が起こり易く、ゴーストが顕著に生じることがある。

これに対して、高感度化した単層型の感光層の体積抵抗率を２×１０^１３Ω・ｃｍ以上１．２×１０^１５Ω・ｃｍ以下と高抵抗化する。単層型の感光層を高抵抗化すると、一次転写電流を上げても、中間転写体から電子写真感光体への電荷の注入が抑えられる。

以上から、本実施形態に係る画像形成装置では、転写効率が高まり、且つゴーストが抑制される。

本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。

本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。

なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。

以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主用部を説明し、その他はその説明を省略する。

図１は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図１に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。

図１におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。

なお、図１には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。

以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。

［電子写真感光体］
図２は、本実施形態に係る電子写真感光体１０の一部の断面を概略的に示している。
図２に示した電子写真感光体１０は、例えば、導電性基体４を備え、導電性基体４上に、下引層１、単層型の感光層２、及び保護層３がこの順で設けられて構成されている。
なお、下引層１、及び保護層３は、必要に応じて、設けられる層である。

以下、電子写真感光体１０の各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。

（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ未満であることをいう。

導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。

粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。

粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。

陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。

陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。

導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。

ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。

（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。

無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０^２Ωｃｍ以上１０^１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。

無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ^２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。

無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。

無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。

表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤が好ましい。

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。

表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。

ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。

電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。

電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。

電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着せる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。

乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。

湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。

なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。

電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。

下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。

これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。

下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。

添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。

ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。

チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。

アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。

これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。

下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。

下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。

下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。

下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。

下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。

下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。

（中間層）
図示は省略するが、下引き層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。

これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。

中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。

中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。

（単層型の感光層）
単層型の感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、必要に応じて、その他添加剤と、を含んで構成される。

−単層型の感光層の体積抵抗率−
単層型の感光層の体積抵抗率は、２×１０^１３Ω・ｃｍ以上１．２×１０^１５Ω・ｃｍ以下であり、転写効率を高め、且つゴーストの発生を抑制する点から、４×１０^１３Ω・ｃｍ以上８×１０^１４Ω・ｃｍ以下が好ましく、９×１０^１３Ω・ｃｍ以上６１０^１４Ω・ｃｍ以下がより好ましい。

単層型の感光層の体積抵抗率は、電荷発生材料の含有量、電子輸送材料の含有量等により、調整される。

ここで、単層型の感光層の体積抵抗率は、次のようして求められる。
測定対象となる電子写真感光体の感光層を基材ごと切り出す。採取した測定試料に対して、Ａｌ電極を貼り付け（電極面積１ｃｍ^２）、温度２２℃、湿度５５％の環境下で、周波数応答アナライザ（１２６０型、ソーラトロン社製）を用い、暗条件下で、電場（印加電圧／測定試料厚）が１０Ｖ／μｍになるよう調節した電圧を３０秒印加した後、その流れる電流値（Ａ）を測定する。そして、得られた電流値により、下記式を用いて算出する。
・式：体積抵抗率（Ωｃｍ）＝（１（ｃｍ^２）×印加電圧（Ｖ））／（電流値（Ａ）×測定試料厚（ｃｍ））

−結着樹脂−
結着樹脂としては、特に制限はないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
これらの結着樹脂の中でも、特に、感光層の成膜性の観点から、例えば、粘度平均分子量３００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂がよい。

結着樹脂の感光層の全固形分に対する含有量は、３５質量％以上６０質量％以下であることがよく、好ましくは２０質量％以上３５質量％以下である。

−電荷発生材料−
電荷発生材料としては、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種が適用される。
電荷発生材料としては、これら顔料を単独で用いてもよいが、必要に応じて併用してもよい。そして、電荷発生材料としては、感光体の高感度化、及び画像の点欠陥抑制の観点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から好ましい。電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とが得られ易くなる。

また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが好ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより好ましく、一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ^２／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍ^２／ｇ以上であることがより好ましく、５５ｍ^２／ｇ以上１２０ｍ^２／ｇ以下であることが特に好ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所（株）製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
ここで、平均粒径が０．２０μｍより大きい場合、又は比表面積値が４５ｍ^２／ｇ未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか、又は顔料粒子の凝集体が形成される傾向があり、分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい傾向にあり、それにより画質欠陥を生じ易くなることがある。

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが好ましく、１．０μｍ以下であることがより好ましく、より好ましくは０．３μｍ以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、黒点が発生しやすい傾向にある。

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラを抑制する観点から、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜に回折ピークを有するＶ型であることが好ましい。

一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、 電子写真感光体材料として優れた感度が得られる、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に回折ピークを有するものであることが好ましい。
クロロガリウムフタロシアニン顔料の好適な分光吸収スペクトルの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及び比表面積値は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。

電荷発生材料の感光層の全固形分に対する含有量は、１質量％以上５質量％以下がよく、好ましく１．２質量％以上４．５質量％以下である。
特に、転写効率を高め、且つゴーストの発生を抑制する点からは、電荷発生材料の含有量の感光層の固形分に対する含有量は、０．５質量％以上３．０質量％以下が好ましく、０．５質量％以上１．５質量％以下がより好ましい。

−正孔輸送材料−
正孔輸送材料としては、一般式（１）で表される正孔輸送材料が適用される。

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｍ及びｎは。各々独立に、０又は１を示す。

一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６が示す低級アルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
これらの中でも、低級アルキル基としては、メチル基、エチル基が好ましい。

一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。

一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

一般式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^６が示すフェニル基としては、例えば、未置換のフェニル基；ｐ−トリル基、２，４−ジメチルフェニル基等の低級アルキル基置換のフェニル基；ｐ−メトキシフェニル基等の低級アルコキシ基置換のフェニル基；ｐ−クロロフェニル基等のハロゲン原子置換のフェニル基等が挙げられる。
なお、フェニル基に置換し得る置換基としては、例えば、Ｒ^１〜Ｒ^６が示す低級アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子が挙げられる。

一般式（１）で表される正孔輸送材料として、高感度化、及び画像の点欠陥抑制の観点から、ｍ及びｎが１を示す正孔輸送材料がよく、特に、Ｒ^１〜Ｒ^６が各々独立に、水素原子、低級アルキル基、又はアルコキシ基を示し、ｍ及びｎが１を示す正孔輸送材料が好ましい。

以下、一般式（１）で表される正孔輸送材料の例示化合物を示すがこれに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（１−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（１−１５）」と以下表記する。

なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・４−Ｍｅ：フェニル基の４−位に置換するメチル基
・３−Ｍｅ：フェニル基の３−位に置換するメチル基
・４−Ｃｌ：フェニル基の４−位に置換する塩素原子
・４−ＭｅＯ：フェニル基の４−位に置換するメトキシ基
・４−Ｆ：フェニル基の４−位に置換するフッ素原子
・４−Ｐｒ：フェニル基の４−位に置換するプロピル基
・４−ＰｈＯ：フェニル基の４−位に置換するフェノキシ基

正孔輸送材料の感光層の全固形分に対する含有量は、１０質量％以上４０質量％以下がよく、望ましくは２０質量％以上３５質量％以下である。
なお、この正孔輸送材料の含有量は、一般式（１）で表される正孔輸送材料と他の正孔輸送材料を併用した場合、その正孔輸送材料全体の含有量である。

−電子輸送材料−
電子輸送材料としては、一般式（２）で表される電子輸送材料が適用される。

一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２．Ｒ^１３．Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基を示す。Ｒ^１８は、アラルキル基、又はアルキル基を示す。

一般式（２）中、Ｒ^１１〜Ｒ^１７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１１〜Ｒ^１７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１１〜Ｒ^１７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１１〜Ｒ^１７が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、ベンジル基、トリル基等が挙げられる。
これらの中でも、フェニル基が好ましい。

一般式（２）中、Ｒ^１８が示すアルキル基としては、例えば、炭素数５以上１０以下の直鎖状のアルキル基、炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基が挙げられる。
炭素数５以上１０以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１８が示すアラルキル基としては、−Ｒ^１９−Ａｒで示される基が挙げられる。但し、Ｒ^１９は、アルキレン基を示す、Ａｒは、アリール基を示す。
Ｒ^１９が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１０以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基等が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ^１８が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。

一般式（２）で表される電子輸送材料として、高感度化、及び画像のかすみを抑制する観点から、特に、Ｒ^１８が示すアラルキル基、又は炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基を示す電子輸送材料が好ましく、Ｒ^１１〜Ｒ^１７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、Ｒ^１８がアラルキル基、又は炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。

以下、一般式（２）で表される電子輸送材料の例示化合物を示すがこれに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（２−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（２−１５）」と以下表記する。

なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・Ｐｈ：フェニル基

電子輸送材料の感光層の全固形分に対する含有量は、７質量％以上２２質量％以下がよく、望ましくは１０質量％以上１６質量％以下である。
なお、この電子輸送材料の含有量は、一般式（２）で表される電子輸送材料と他の電子輸送材料を併用した場合、その電子輸送材料全体の含有量である。

−その他電荷輸送材料−
上記特定の正孔輸送材料及び電子輸送材料以外にも、機能を損ねない範囲で、他の電荷輸送材料（他の正孔輸送材料、他の電子輸送材料）を併用してもよい。但し、他の電荷輸送材料は、正孔輸送材料及び電子輸送材料全体に対して５０質量％未満で併用することがよい。

他の電荷輸送材料としては、例えば、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物；トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの他の電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。

他の電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（Ｂ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および下記構造式（Ｂ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。

構造式（Ｂ−１）中、Ｒ^Ｂ１は、水素原子またはメチル基を示す。ｎ１１は１または２を示す。Ａｒ^Ｂ１およびＡｒ^Ｂ２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ（Ｒ^Ｂ３）＝Ｃ（Ｒ^Ｂ４）（Ｒ^Ｂ５）、または−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ６）（Ｒ^Ｂ７）を示し、Ｒ^Ｂ３乃至Ｒ^Ｂ７はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。

（構造式（Ｂ−２）中、Ｒ^Ｂ８およびＲ^Ｂ８’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。Ｒ^Ｂ９、Ｒ^Ｂ９’、Ｒ^Ｂ１０、およびＲ^Ｂ１０’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ^Ｂ１１）＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１２）（Ｒ^Ｂ１３）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１４）（Ｒ^Ｂ１５）を示し、Ｒ^Ｂ１１乃至Ｒ^Ｂ１５は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１２、ｍ１３、ｎ１２およびｎ１３は各々独立に０以上２以下の整数を示す。）

ここで、構造式（Ｂ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および構造式（Ｂ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ６）（Ｒ^Ｂ７）」を有するトリアリールアミン誘導体、および「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｂ１４）（Ｒ^Ｂ１５）」を有するベンジジン誘導体が好ましい。

−正孔輸送材料と電子輸送材料との質量比−
正孔輸送材料と電子輸送材料との比率は、質量比（正孔輸送材料／電子輸送材料）で、５０／５０以上９０／１０以下が望ましく、より望ましくは６０／４０以上８０／２０以下である。
なお、本比率は、他の電荷輸送材料を併用した場合、その合計での比率である。

−その他添加剤−
単層型の感光層には、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤を含んでいてもよい。また、単層型の感光層が表面層となる場合、フッ素樹脂粒子、シリコーンオイル等を含んでいてもよい。

−単層型の感光層の形成−
単層型の感光層は、上記成分を溶剤に加えた感光層形成用塗布液を用いて形成される。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は単独又は２種以上混合して用いる。

感光層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。

感光層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。

単層型の感光層の膜厚（厚み）は、好ましくは５μｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲に設定される。特に、転写効率を高め、且つゴーストの発生を抑制する点からは、単層型の感光層の膜厚（厚み）は、１５μｍ超え６０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以上４０μｍ以下がより好ましい。

（保護層）
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。

１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）

反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ_２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲ^Ｑ１ _３−Ｑｎ（ＯＲ^Ｑ２）_Ｑｎ［但し、Ｒ^Ｑ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、Ｒ^Ｑ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。_Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。

連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。

反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。

これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。

保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。

保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。

保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。

保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。

保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。

［露光装置］
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。

［現像装置］
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。

現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。

［クリーニング装置］
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。

［転写装置］
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。

[中間転写体]
中間転写体５０（以下、「中間転写ベルト」とも称する）は、例えば、ベルト部材であって、無端状に形成されている。なお、中間転写体５０は、中間転写ベルトに限られず、筒状又は柱状の中間転写ドラムであってもよい。

中間転写体５０は、純水に対する表面の接触角が８０°以上であり、転写効率を高め、且つゴーストの発生を抑制する点から、８５°以上が好ましく、９５°以上が好ましい。但し、感光体から中間転写体への一次転写効率とゴースト発生に寄与する一次転写電流値の関係 の点から、中間転写体の純水に対する表面の接触角は、１５０°以下がよい。

中間転写体５０の純水に対する表面の接触角は、次の方法により測定される値である。
接触角計（協和界面科学（株）製：ＣＡ−Ｘ)を用い、２５℃５０％ＲＨの環境下で、純水を中間転写体の表面の測定対象面に３．１μｌ滴下し、滴下してから１５秒後の液滴の接触角を測定する。具体的には、測定対象面に滴下した純水の液滴について光学顕微鏡写真を用いて撮影して、該写真から水の接触角θを求める。そして、中間転写体の表面の全領域に渡って１５点（例えば、周方向に３分割、幅方向に５分割の計１５点）について純水の液滴の接触角を測定し、平均値を求め、求めた平均値を、本実施形態における接触角とする。

中間転写体５０の純水に対する表面の接触角８０°以上とするには、例えば、１）中間転写体５０の少なくとも表層部に、表面エネルギーが低い低表面エネルギー材料（例えば、フッ素含有化合物、珪素含有化合物等）を含ませる方法、２）接触面積を減らすため、中間転写ベルト（中間転写体）の表面を粗面化する方法、３）これらを組み合せる方法等が挙げられる。
これらの中でも、中間転写体５０の少なくとも表層部に、表面エネルギーが低い低表面エネルギー材料（例えば、フッ素含有化合物、珪素含有化合物等）を含ませることがよく、特に、中間転写ベルト（中間転写体）は、少なくとも表層部にフッ素含有化合物を含ませた構成であることがよい。

具体的には、中間転写体５０としては、例えば、１）樹脂材料、導電剤、及びフッ素含有樹脂粒子を含む層の単層体、２）樹脂材料及び導電剤を含む基材層と、樹脂、導電剤及びフッ素含有樹脂粒子を含む最外層とを少なくとも有する積層体で構成された中間転写ベルトが好適に挙げられる。ただし、中間転写体５０は、これら構成に限られるわけではない。

以下、中間転写ベルトの構成材料及び特性について説明する。

−樹脂材料−
樹脂材料は、そのヤング率が、ベルト厚みによっても異なるが、望ましくは、３５００ＭＰａ以上、より望ましくは４０００ＭＰａ以上であればよく、ベルトとしての機械特性が満足される。樹脂材料としては、上記ヤング率を満たせば、制限はないが、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルエーテルエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、補強材を添加してなるポリエステル樹脂等が挙げられる。

なお、ヤング率は、ＪＩＳ Ｋ７１２７（１９９９）に準じて引張試験を行い、得られた応力・歪曲線の初期ひずみ領域の曲線に接線を引き、その傾きにより求める。測定条件としては、短冊状試験片（幅６ｍｍ、長さ１３０ｍｍ）、ダンベル１号、試験速度５００ｍｍ／分、厚さはベルト本体の厚さの各設定で測定するものとする。

樹脂材料の中でも、ポリイミド樹脂が好適である。ポリイミド樹脂は、高ヤング率材料であることから、駆動時（支持ロール、クリーニングブレード等の応力）による変形が他の樹脂に比べ少ないので、色ズレ等の画像欠陥が生じにくい中間転写体（ベルト）が得られる。

ポリイミド樹脂としては、例えば、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との重合体であるポリアミド酸のイミド化物が挙げられる。ポリイミド樹脂として具体的には、例えば、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との等モル量を溶媒中で重合反応させてポリアミド酸の溶液として得て、そのポリアミド酸をイミド化して得られたものである。

テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、下記の一般式（Ｉ）で示されるものが挙げられる。

一般式（Ｉ）中、Ｒは４価の有機基（テトラカルボン酸二無水物より４つのカルボニル基を除いたその残基）である。

テトラカルボン酸二無水物として具体的には、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物、ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

一方、ジアミン化合物の具体例としては、例えば、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジクロロベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノジフェニルスルフォン、１，５−ジアミノナフタレン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、３，３’−ジメチル４，４’−ビフェニルジアミン、ベンジジン、３，３’−ジメチルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフォン、４，４’−ジアミノジフェニルプロパン、２，４−ビス（β−アミノ第三ブチル）トルエン、ビス（ｐ−β−アミノ−第三ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ−β−メチル−δ−アミノフェニル）ベンゼン、ビス−ｐ−（１，１−ジメチル−５−アミノ−ベンチル）ベンゼン、１−イソプロピル−２，４−ｍ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、ジ（ｐ−アミノシクロヘキシル）メタン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ジアミノプロピルテトラメチレン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、４，４−ジメチルヘプタメチレンジアミン、２，１１−ジアミノドデカン、１，２−ビス−３−アミノプロボキシエタン、２，２−ジメチルプロピレンジアミン、３−メトキシヘキサメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘプタメチレンジアミン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、５−メチルノナメチレンジアミン、２，１７−ジアミノエイコサデカン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，１０−ジアミノ−１，１０−ジメチルデカン、１２−ジアミノオクタデカン、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン、ピペラジン、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｏ（ＣＨ_２）_２Ｏ（ＣＨ_２）ＮＨ_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｓ（ＣＨ_２）_３ＮＨ_２、Ｈ_２Ｎ（ＣＨ_２）_３Ｎ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３ＮＨ_２等が挙げられる。

テトラカルボン酸二無水物とジアミンを重合反応させる際の溶媒としては、溶解性等の点より極性溶媒（有機極性溶媒）が好適に挙げられる。極性溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミド類が望ましく、具体的には、例えば、これの低分子量のものであるＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ピリジン、テトラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン等が挙げられる。これらは単数又は複数併用してもよい。

ポリイミド樹脂の含有量は、例えば、層を構成する成分全体に対して１０質量％以上８０質量％以下であることがよく、望ましくは２０質量％以上７５質量％以下より望ましくは４０質量％以上７０質量％以下である。
ポリイミド樹脂は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。

ここで、ポリイミド樹脂以外にも、離型性の維持が損なわれない範囲で、他の樹脂材料を併用してもよい。他の樹脂としては、例えば、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルエーテルエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、補強材を添加してなるポリエステル樹脂などが挙げられる。

−導電剤−
導電剤について説明する。
導電剤としては、導電性（例えば体積抵抗率１０^７Ω・ｃｍ未満、以下同様である）もしくは半導電性（例えば体積抵抗率１０^７Ω・ｃｍ以上１０^１３Ω・ｃｍ以下、以下同様である）の粉末（１次粒径が１０μｍ未満の粒子からなる粉末がよく、望ましくは１次粒径が１μｍ以下の粒子からなる粉末）が挙げられる。
導電剤としては、特に制限はないが、例えば、カーボンブラック（例えばケッチエンブラック、アセチレンブラック、表面が酸化処理されたカーボンブラック等）、金属（例えばアルミニウムやニッケル等）、酸化金属化合物（例えば酸化イットリウム、酸化錫等）、イオン導電性物質（例えばチタン酸カリウム、ＬｉＣｌ等）、導電性高分子（例えばポリアニリン、ポリピロール、ポリサルフォン、ポリアセチレンなど）等が挙げられる。

導電剤は、その使用目的により選択されるが、電気抵抗の経時での安定性や、転写電圧による電界集中を抑制する電界依存性の観点から、ｐＨ５以下（望ましくはｐＨ４．５以下であり、より望ましくはｐＨ４．０以下）の酸化処理カーボンブラック（例えば表面にカルボキシル基、キノン基、ラクトン基、水酸基等を付与して得られたカーボンブラック）がよく、電気的耐久性付与の観点から、導電性高分子（例えばポリアニリン等）がよい。

導電剤の含有量は、例えば、層を構成する成分全体に対して１質量％以上５０質量％以下であることがよく、望ましくは２質量％以上４０質量％以下より望ましくは４質量％以上３０質量％以下である。
導電剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。

−フッ素含有樹脂粒子−
フッ素含有樹脂粒子としては、例えば、４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂及びそれらの共重合体の粒子が挙げられる。
これらの中も、フッ素含有樹脂粒子としては、特に、ポリテトラフルオロエチレン（４フッ化エチレン樹脂「ＰＴＦＥ」）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（「ＦＥＰ」）、テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体（「ＰＦＡ」）が望ましい。

フッ素含有樹脂粒子は、一次粒子、２μｍ以下（望ましくは１μｍ以下、より望ましくは０．５μｍ以下）の二次粒子径を持つ二次粒子、又はこれの混合状態で含まれていることがよい。
これは、フッ素含有樹脂粒子が、一次粒子、二次粒子（一次粒子が２つ以上凝集した凝集状態）、又はこれらの混合状態で分散・含有されており、少なくとも凝集粒子の状態での二次粒子径が上記範囲となっていること、つまり、フッ素含有樹脂粒子が凝集が抑制された状態で分散されていることを意味する。
なお、フッ素含有樹脂粒子の一次粒子（凝集していない状態の粒子径：一次粒径）は、０．１μｍ以上０．３μｍ以下であることがよい。

フッ素含有樹脂粒子の一次粒径及び二次粒径は、最外層から試料片を得て、これをＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）により例えば倍率５０００倍以上で観察し、一次粒子、又は凝集粒子の状態のフッ素含有樹脂粒子のそれぞれの最大径を測定し、これを５０個の粒子について行った平均値とする。なお、ＳＥＭとして日本電子製ＪＳＭ-６７００Ｆを使用し、加速電圧５ｋＶの２次電子画像を観察する。

フッ素含有樹脂粒子の含有量は、例えば、層を構成する成分全体に対して１質量％以上５０質量％以下であることがよく、望ましくは２質量％以上４５質量％以下より望ましくは３質量％以上４０質量％以下である。
フッ素含有樹脂粒子は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。

ここで、フッ素含有樹脂粒子を上記分散状態（含有状態）とするには、例えば、分散剤としてフッ素系グラフトポリマーを併用することがよい。
フッ素系グラフトポリマーとしては、分子鎖の片方の末端に重合性の官能基を有するマクロモノマーと、フッ化アルキル基を有する重合性フッ素系モノマーと、の共重合体が挙げられる。
フッ素系グラフトポリマーとして具体的には、例えば、マクロマーとして、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン化合物等の重合体又はそれらの共重合体と、フッ素系モノマーとして、パーフルオロアルキルエチルメタクリレート、パーフルオロアルキルメタクリレート等との、グラフト共重合体が挙げられる。

マクロモノマーと重合性フッ素系モノマーとの重合比は、例えば、フッ素系グラフトポリマー中のフッ素含有量として１０質量％以上５０質量％以下（望ましくは１０質量％以上４０質量％以下、より望ましくは１０質量％以上３０質量％以下）となる重合比であることがよい。
フッ素系グラフトポリマーの分子量は、例えば、数平均分子量で５０００以上２００００以下であることよく、望ましくは５０００以上１７５００以下、より望ましくは５０００以上１２０００以下である。
フッ素系グラフトポリマーの量は、例えば、フッ素含有樹脂粒子に対して０．１質量％以上１０質量％以下であることがよい。

−中間転写ベルトの特性−
中間転写体５０の表面（外側の面）の表面抵抗率は、常用対数値で９（ＬｏｇΩ／□）以上１３（ＬｏｇΩ／□）以下であることが望ましく、１０（ＬｏｇΩ／□）以上１２（ＬｏｇΩ／□）以下であることがより望ましい。
ここで、表面抵抗率の測定方法は、次の通り行う。円形電極（例えば、三菱油化（株）製ハイレスターＩＰの「ＵＲプローブ」）を用い、ＪＩＳ Ｋ６９１１に従って測定する。

中間転写体５０全体の体積抵抗率は、常用対数値で８（ＬｏｇΩｃｍ）以上１３（ＬｏｇΩｃｍ）以下であることが望ましい。
ここで、体積抵抗率の測定は、円形電極（例えば、三菱油化（株）製ハイレスターＩＰのＵＲプローブ）を用い、ＪＩＳ Ｋ６９１１に従って測定する。

中間転写ベルトの厚みは、例えば、０．０５ｍｍ以上０．５ｍｍ以下が好ましく、０．０６ｍｍ以上０．３０ｍｍ以下がより好ましく、０．０６ｍｍ以上０．１５ｍｍ以下が更に好ましい。

図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。

以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。

＜電子写真感光体１の作製＞
電荷発生材料（表１中「ＣＧＭ」と表記）としてＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料 １．５質量部と、結着樹脂（表１中「ＢＲ」と表記）としてビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万） ５０質量部と、表１に示す電子輸送材料（表１中「ＥＴＭ」と表記） １２質量部と、表１に示す正孔輸送材料（表１中「ＨＴＭ」と表記） ３６．５質量部と、溶剤としてテトラヒドロフラン２５０質量部と、からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散し、感光層形成用塗布液を得た。
この感光層形成用塗布液を浸漬塗布法にて、直径３０ｍｍ、長さ２４４．５ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１４０℃、３０分の乾燥硬化を行い、厚さ３２μｍの単層型の感光層を形成した。
以上の工程を経て、電子写真感光体１（表１中「ＯＰＣ１」と表記）を作製した。

＜電子写真感光体２〜８の作製＞
表１に従って、電子輸送材料（ＥＴＭ）、正孔輸送材料（ＨＴＭ）、電荷発生材料（ＣＧＭ）の種類及び量、結着樹脂（ＢＲ）の量、並びに、感光層の膜厚を変更した以外は、電子写真感光体１と同様にして、電子写真感光体２〜８（表１中「ＯＰＣ２〜８」と表記）を作製した。なお、表１中の「部」は質量部を示している（以下、同様である）。

＜比較電子写真感光体１〜２の作製＞
表１に従って、電子輸送材料（ＥＴＭ）、正孔輸送材料（ＨＴＭ）、電荷発生材料（ＣＧＭ）の種類及び量、結着樹脂（ＢＲ）の量、並びに、感光層の膜厚を変更した以外は、電子写真感光体１と同様にして、比較電子写真感光体１〜２（表１中「ＣＯＰＣ１〜２」と表記）を作製した。

＜中間転写体１の作製＞
（基材層形成用塗布液の調製）
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）とｐ−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）を含むポリアミド酸Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）溶液（ユニチカ（株）製ＵイミドＫＸ／固形分濃度２０質量％）中にカーボンブラック（ＳＰＥＣＩＡＬ Ｂｌａｃｋ ４、エボニックデグサジャパン（株）製）を固形分質量比で８質量％投入し、ジェトミル分散機（ジーナス（株）製：ＧｅａｎｕｓＰＹ）で分散処理（２００Ｎ／ｍｍ２、５パス）を行った。得られたカーボンブラック分散ポリアミド酸溶液を、ステンレス製２０μｍメッシュに通過させて、異物及びカーボンブラック凝集物を取り除いた。更に、攪拌しながら真空脱泡を１５分間行い、最終的な溶液を作製した。これを基材層形成用塗布液とした。

（最外層形成用塗布液の調製）
−カーボンブラック分散ポリアミド酸溶液の調製−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）とｐ−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）を含むポリアミド酸Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）溶液（ユニチカ（株）製ＵイミドＫＸ／固形分濃度２０質量％）中にカーボンブラック（ＳＰＥＣＩＡＬ Ｂｌａｃｋ ４、エボニックデグサジャパン（株）製）を固形分質量比で１５質量％投入し、ジェトミル分散機（ジーナス（株）製：ＧｅａｎｕｓＰＹ）で分散処理（２００Ｎ／ｍｍ２、５パス）を行った。得られたカーボンブラック分散ポリアミド酸溶液を、ステンレス製２０μｍメッシュでろ過後、真空脱泡を行い、最終的な溶液を作製した。

−フッ素樹脂粒子分散ポリアミド酸溶液の調製−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＰＤＡ）とｐ−フェニレンジアミン（ＰＤＡ）を含むポリアミド酸Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）溶液（ユニチカ（株）製ＵイミドＫＸ／固形分濃度２０質量％）を準備した。
次に、この溶液に、一次粒径０．２μｍのＰＴＦＥ粒子を固形分質量比で２０質量％と、フッ素樹脂粒子分散剤（ＡＧＣセイミケミカル（株）製Ｓ−３８６）を固形分質量比で１質量％と、を混合し、ジェトミル分散機（ジーナス（株）製：ＧｅａｎｕｓＰＹ）で分散処理（２００Ｎ／ｍｍ２、５パス）を行った。 得られたフッ素樹脂粒子分散ポリアミド酸溶液を、ステンレス製２０μｍメッシュで濾過後、攪拌しながら真空脱泡を行い、最終的な溶液を作製した。

−混合溶液の調製−
カーボンブラック分散ポリアミド酸溶液５００質量部と、フッ素樹脂粒子分散ポリアミド酸溶液５００質量部と、を回転式攪拌機により混合して、混合溶液を調製した。これを最外層形成用塗布液とした。

（中間転写ベルトの作製）
外径６００ｍｍ、肉厚８ｍｍ、長さ９００ｍｍのＳＵＳ３０４製円筒を用意し、保持板として厚さ８ｍｍ、外径が上記円筒に嵌まる径、１５０ｍｍ径の通風孔を４つ設けた円板を同じＳＵＳ材で作製し、上記円筒の両端に嵌めて溶接し、芯体とした。芯体の外周面は、アルミナ粒子によるブラスト処理によりＲａ０．４μｍに粗面化した。
次に、芯体の外周面には、シリコーン系離型剤（商品名：セパコート、信越化学工業（株）製）を塗布して、３００℃で１時間、焼き付け処理を施した。
次に、基材層形成用塗布液を芯体の外周面に塗布して、第１皮膜形成樹脂溶液の塗膜を形成した。
基材層形成用塗布液の塗布は、らせん塗布方法を適用して行った。
その後、芯体を回転させながら１８０℃の乾燥炉に入れ、基材層形成用塗布液の塗膜を２０分間乾燥させた。これにより、基材層となる膜厚４０μｍの皮膜を形成した。
次に、最外層形成用塗布液を基材層となる皮膜の外周面に塗布して、最外層形成用塗布液の塗膜を形成した。
ここで、最外層形成用塗布液の塗布は、基材層形成用塗布液の塗布と同様にして行った。但し、塗布条件は、ノズルから吐出量を毎分２５ｍｌとし、塗布幅はやはり芯体の軸方向における端部１０ｍｍの位置から、他端部１０ｍｍの位置までとした。
その後、芯体を１０ｒｐｍで回転させながら１８５℃の乾燥炉に入れ、最外層形成用塗布液の塗膜を３０分間乾燥させた。これにより、最外層となる膜厚４０μｍ皮膜を形成した。
次に、芯体を回転台からおろして垂直にして加熱炉に入れ、２００℃で３０分、３００℃で３０分加熱反応させ、基材層及び最外層となる皮膜の残留溶剤の乾燥とイミド化反応を同時に行った。
その後、基材層及び最外層からなる積層体を芯体から抜き取り無端ベルトを得た。

以上の工程を経て得られた無端ベルトを中間転写ベルト（表１中「ＩＴＢ１」と表記）とした。

＜中間転写ベルト２〜３の作製＞
表１に従って、最外層形成用塗布液を調製するときのフッ素樹脂粒子分散ポリアミド酸溶液（表１中「ＦＰＡａｃｉｄ溶液」と表記）の添加量を変更した以外は、中間転写ベルト１と同様にして、中間転写ベルト２〜３（表１中「ＩＴＢ２〜３」と表記）を作製した。

＜比較中間転写ベルト１の作製＞
表１に従って、最外層形成用塗布液を調製するときのフッ素樹脂粒子分散ポリアミド酸溶液（表１中「ＦＰＡａｃｉｄ溶液」と表記）の添加量を変更した以外は、中間転写ベルト１と同様にして、比較中間転写ベルト１（表１中「ＣＩＴＢ１」と表記）を作製した。

＜実施例１〜１０、比較例１〜１０＞
表１に従って電子写真感光体、及び中間転写ベルトを、画像形成装置（商品名ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ Ｃ６５５０Ｉ（富士ゼロックス（株）製、（中間転写方式で一次転写電流を２５μＡに設定した装置）」に搭載した。そして、この画像形成装置を実施例１〜１０、比較例１〜１０とした。

＜評価＞
各例の画像形成装置について次の評価を行った。
＜評価＞
各例で得られた画像形成装置、その電子写真感光体及び中間転写ベルトについて、以下の評価を行った。その結果を表１に示す。

−各種測定電気抵抗測定−
各例で得られた電子写真感光体の感光層の体積抵抗率、中間転写ベルトの純水に対する接触角について、既述の方法により測定した。

−転写効率−
転写効率は、次のようにして評価した。感光体上にトナー乗り量が５ｇ／ｍ^２になるように現像電位を調整する。次に、感光体上の現像されたトナーが中間転写体（中間転写ベルト）へ移行した直後に評価機である画像形成装置を止める。２ヶ所の中間転写体上のトナー重量を上記同様テープ上に転写し、トナー付着テープ重量を測定し、テープ重量を差し引いた後に平均化することにより転写トナー量ａを求め、同様に感光体上に残ったトナー量ｂを求め、下記式により一次転写効率を求めた。
次に、二次転写効率（中間転写体から紙への転写効率）は、紙上の画像濃度／（紙上の画像濃度＋中間転写体上の転写残画像濃度）で求めた。
・式：一次転写効率η１（％）＝ａ×１００／（ａ＋ｂ）
・式：二次転写効率η２（％）＝ｃ×１００／（ｃ＋ｄ）
・式：転写効率ηtotal（％）＝η１×η２
評価基準は以下の通りである。
１： 転写効率が９５％以上
２： 転写効率が９０％以上
３： 転写効率が８５％以上
４： 転写効率が８０％未満

−画質評価−
画質評価は、画像濃度５０％ハーフトーンを印刷し、画像のゴーストの発生について下記基準で評価した。
１：大変良い（ゴースト発生なし）
２：良い（ゴースト発生がほとんどない）
３：普通（ゴースト発生しているが問題のない範囲）
４：悪い（ゴースト発生しており問題になる範囲）

上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、転写効率、及び画質（ゴースト）の評価について共に良好な結果が得られていることがわかる。

以下、表１中の略称の詳細について示す。

−電子輸送材料（ＥＴＭ）−
・（２−４）： 一般式（２）で表される電子輸送材料の例示化合物（２−４）
・（２−１４）： 一般式（２）で表される電子輸送材料の例示化合物（２−１４）

−正孔輸送材料（ＨＴＭ）−
・（１−２１）： 一般式（１）で表される正孔輸送材料の例示化合物（１−２１）
・（１−４５）： 一般式（１）で表される正孔輸送材料の例示化合物（１−４５）

−電荷発生材料（ＣＧＭ）−
・ＣＧＭ１： Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝８２０ｎｍ、平均粒径＝０．１２μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、比表面積値＝６０ｍ^２／ｇ）
・ＣＧＭ２： Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料（好適な分光吸収スペクトルの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及び比表面積値は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。）

１ 下引層、２ 感光層、３ 保護層、４ 導電性基体、 ７，１０ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑材、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、３００ プロセスカートリッジ

Claims (3)

1. 導電性基体と前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層とを有し、前記感光層が結着樹脂とヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種であり、電荷発生材料の含有量が、前記感光層の固形分に対して０．５質量％以上１．５質量％以下である電荷発生材料と下記一般式（１）で表される正孔輸送材料と下記一般式（２）で表される電子輸送材料とを含み、且つ前記感光層の体積抵抗率が２×１０^１３Ω・ｃｍ以上１.２×１０^１５Ω・ｃｍ以下である電子写真感光体と、
   前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
   帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
   トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
   前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像が表面に転写される中間転写体であって、純水に対する表面の接触角が８０°以上である中間転写体と、
   前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を前記中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、
   前記中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、
   を備える画像形成装置。
   
   （一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｍ及びｎは、各々独立に０又は１を示す。）
   
   （一般式（２）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はアリール基を示す。Ｒ^１８は、アラルキル基、又はアルキル基を示す。）
2. 前記中間転写体が、フッ素含有化合物を含む層の単層体、又はフッ素含有化合物を含む層を最外層として有する積層体である請求項１に記載の画像形成装置。
3. 前記感光層の厚みが、３０μｍ超え６０μｍ以下である請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。