JP6360489B2 - 極端紫外光生成装置 - Google Patents
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Description
1.概要
2.用語の説明
3.EUV光生成システムの全体説明
3.1 構成
3.2 動作
4.ターゲット回収部を含むEUV光生成装置
4.1 構成
4.2 動作
4.3 課題
5.第1実施形態のEUV光生成装置が備えるターゲット回収部
5.1 ターゲット回収部の第1実施例
5.2 ターゲット回収部の第2実施例
5.3 ターゲット回収部の第3実施例
5.4 ターゲット回収部の第4実施例
6.第2実施形態のEUV光生成装置が備えるターゲット回収部
6.1 ターゲット回収部の第5実施例
6.2 ターゲット回収部の第6実施例
7.第3実施形態のEUV光生成装置が備えるターゲット回収部
7.1 ターゲット回収部の第7実施例
8.その他
8.1 各制御部のハードウェア環境
8.2 その他の変形例
本開示は、以下の実施形態を少なくとも開示し得る。
よって、本開示におけるEUV光生成装置1は、パルスレーザ光33が照射されなかったターゲット27を回収するとき、当該ターゲット27の飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを抑止し得る。
「ターゲット」は、チャンバに導入されたレーザ光の被照射物である。レーザ光が照射されたターゲットは、プラズマ化してEUV光を放射する。
「ドロップレット」は、チャンバ内へ供給されたターゲットの一形態である。
[3.1 構成]
図1に、例示的なLPP方式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。
EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザ装置3と共に用いられてもよい。本願においては、EUV光生成装置1及びレーザ装置3を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2、ターゲット供給部26を含んでもよい。チャンバ2は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給部26は、例えば、チャンバ2の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給部26から供給されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか2つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
図1を参照すると、レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経て、パルスレーザ光32としてウインドウ21を透過してチャンバ2内に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内を進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも1つのターゲット27に照射されてもよい。
[4.1 構成]
図2及び図3を用いて、ターゲット生成装置7及びターゲット回収部28を含むEUV光生成装置1の構成について説明する。
図2では、EUV光生成装置1のチャンバ2から露光装置6に向かってEUV光252を導出する方向をZ軸とする。X軸及びY軸は、Z軸に直交し、且つ、互いに直交する軸とする。以降の図面でも図2の座標軸と同様とする。
プレート235の一方の面には、EUV集光光学系23aが設けられてもよい。
プレート235の他方の面には、図示しない3軸ステージを介してプレート225が設けられてもよい。
ホルダ231は、EUV集光ミラー23を保持してもよい。EUV集光ミラー23を保持するホルダ231は、プレート235に固定されてもよい。
プレート225には、レーザ光集光光学系22aが設けられてもよい。
レーザ光集光ミラー22は、軸外放物面ミラー221及び平面ミラー222を含んでもよい。
ホルダ224は、平面ミラー222を保持してもよい。平面ミラー222を保持するホルダ224は、プレート225に固定されてもよい。
平面ミラー222は、孔235a及び軸外放物面ミラー221とそれぞれ対向して配置されてもよい。
軸外放物面ミラー221及び平面ミラー222の位置及び姿勢は、プレート225の位置及び姿勢が変更されることに伴って調整され得る。当該調整は、軸外放物面ミラー221及び平面ミラー222に入射したパルスレーザ光32の反射光であるパルスレーザ光33が、プラズマ生成領域25で集光するように実行され得る。
ターゲット回収部28は、チャンバ2内にドロップレット271として出力されたターゲット27の進行経路であるターゲット進行経路272の延長線上に配置されてもよい。
ターゲット回収部28は、図3に示すように、回収容器281と、温度調節機構282とを含んでもよい。
なお、回収容器281及び温度調節機構282の詳細な構成については、図3を用いて後述する。
レーザ光進行方向制御部34は、高反射ミラー341及び高反射ミラー342と、ホルダ343及びホルダ344とを含んでもよい。
ホルダ343及びホルダ344は、EUV光生成制御部5に接続された図示しないアクチュエータによって位置及び姿勢を変更可能であってもよい。
高反射ミラー342は、チャンバ2のウインドウ21及び高反射ミラー341とそれぞれ対向して配置されてもよい。
高反射ミラー341及び高反射ミラー342の位置及び姿勢は、EUV光生成制御部5によりホルダ343及びホルダ344の位置及び姿勢が変更されることに伴って調整され得る。当該調整は、高反射ミラー341及び高反射ミラー342に入射したパルスレーザ光31の反射光であるパルスレーザ光32が、チャンバ2の底面部に設けられたウインドウ21を透過するように実行され得る。
EUV光生成制御部5は、レーザ光進行方向制御部34及びレーザ光集光光学系22aのそれぞれのアクチュエータとの間で各々制御信号の送受を行ってもよい。それにより、EUV光生成制御部5は、パルスレーザ光31〜33の進行方向及び集光位置を調整してもよい。
EUV光生成制御部5は、ターゲット生成装置7の後述するターゲット生成制御部74との間で制御信号の送受を行い、ターゲット生成装置7の動作を制御してもよい。
なお、EUV光生成制御部5のハードウェア構成については、図15を用いて後述する。
ターゲット生成装置7は、ターゲット供給部26と、ヒータ711と、ヒータ電源712と、圧力調節器721、配管722と、ガスボンベ723と、ピエゾ素子731と、ピエゾ電源732と、ターゲット生成制御部74とを備えてもよい。
タンク261は、中空の筒形状に形成されてもよい。中空のタンク261の内部には、ターゲット27が収容されてもよい。
ターゲット27を収容するタンク261の少なくとも内面は、ターゲット27と反応し難い材料で構成されてもよい。ターゲット27と反応し難い材料は、例えば、炭化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウム、モリブデン、タングステン、タンタルのいずれかであってもよい。
ノズル262の内部は、ターゲット27と反応し難い材料で構成されてもよい。
ノズル孔は、溶融したターゲット27をチャンバ2内へジェット状に噴出するような形状で形成されてもよい。
ヒータ電源712は、ヒータ711に電力を供給してもよい。ヒータ711に電力を供給するヒータ電源712は、ターゲット生成制御部74と接続されてもよい。ヒータ電源712は、ヒータ711への電力供給をターゲット生成制御部74によって制御されてもよい。
配管722は、図示しない断熱材等で覆われてもよい。配管722には、図示しないヒータが設置されてもよい。配管722内の温度は、ターゲット供給部26のタンク261内の温度と同じ温度に保たれてもよい。
ガスボンベ723は、圧力調節器721を介して、タンク261内に不活性ガスを給気してもよい。
圧力調節器721は、給気及び排気用の電磁弁や圧力センサ等を内部に含んでもよい。圧力調節器721は、圧力センサを用いてタンク261内の圧力を検出してもよい。
圧力調節器721は、ガスボンベ723に連結されてもよい。圧力調節器721は、ガスボンベ723に充填された不活性ガスを、タンク261内に給気してもよい。
圧力調節器721は、図示しない排気ポンプに連結されてもよい。圧力調節器721は、排気ポンプを動作させて、タンク261内のガスを排気してもよい。
圧力調節器721は、タンク261内にガスを給気又はタンク261内のガスを排気することによって、タンク261内の圧力を加圧又は減圧し得る。
ターゲット生成制御部74から出力される制御信号は、圧力調節器721から出力された検出信号に基づいて、タンク261内の圧力が目標圧力になるよう圧力調節器721の動作を制御するための制御信号であってもよい。
圧力調節器721は、ターゲット生成制御部74の制御信号に基づいてタンク261内にガスを給気又はタンク261内のガスを排気してもよい。それにより、タンク261内の圧力は、目標圧力に調節され得る。
ピエゾ電源732は、ピエゾ素子731に電力を供給してもよい。ピエゾ素子731に電力を供給するピエゾ電源732は、ターゲット生成制御部74と接続されてもよい。ピエゾ電源732には、ターゲット生成制御部74から出力された制御信号が入力されてもよい。
ターゲット生成制御部74から出力される制御信号は、ピエゾ電源732が所定波形でピエゾ素子731に電力を供給するための制御信号であってもよい。
ピエゾ電源732は、ターゲット生成制御部74の制御信号に基づいてピエゾ素子731に電力を供給してもよい。ピエゾ素子731は、所定波形に応じてノズル262に振動を与えてもよい。それにより、ノズル262からジェット状に噴出したターゲット27の流れには定在波が与えられ、当該ターゲット27が周期的に分離され得る。分離されたターゲット27は、自己の表面張力によって自由界面を形成してドロップレット271を形成し得る。
ターゲット生成制御部74は、ヒータ電源712に制御信号を出力して、ヒータ電源712及びヒータ711の動作を制御してもよい。
ターゲット生成制御部74は、圧力調節器721に制御信号を出力して、圧力調節器721及びガスボンベ723の動作を制御してもよい。
ターゲット生成制御部74は、ピエゾ電源732に制御信号を出力して、ピエゾ電源732及びピエゾ素子731の動作を制御してもよい。
ターゲット生成制御部74は、温度調節機構282に含まれる後述の温度制御部282dに制御信号を出力して、温度調節機構282の動作を制御してもよい。
なお、ターゲット生成制御部74のハードウェア構成については、図15を用いて後述する。
上述のように、ターゲット回収部28は、回収容器281と、温度調節機構282とを含んでもよい。
すなわち、回収容器281は、ターゲット供給部26によって供給されたターゲット27のうちEUV光251の生成に寄与しなかったターゲット27を回収してもよい。
回収容器281に回収されたターゲット27を「回収ターゲット273」ともいう。
回収容器281は、ターゲット27を開口部281aから内部に導入し、当該ターゲット27を、底面部281b及び側面部281cで形成される空間に貯留してもよい。回収容器281は、チャンバ2の内部でターゲット27を回収し得る。
温度調節機構282は、ヒータ282aと、ヒータ電源282bと、温度センサ282cと、温度制御部282dとを含んでもよい。
ヒータ電源282bは、ヒータ282aに電力を供給してもよい。ヒータ282aに電力を供給するヒータ電源282bは、温度制御部282dと接続されてもよい。ヒータ電源282bは、ヒータ282aへの電力供給を温度制御部282dによって制御されてもよい。
温度センサ282cは、温度制御部282dと接続されてもよい。温度センサ282cは、回収容器281の温度を検出し、検出信号を温度制御部282dに出力してもよい。
ターゲット生成制御部74から出力される制御信号は、温度センサ282cから出力された検出信号に基づいて、回収容器281内の温度が目標温度になるようヒータ電源282bの動作を制御するための制御信号であってもよい。当該制御信号には、回収容器281内の温度を目標温度にするための温度設定値が含まれてもよい。
温度制御部282dは、ターゲット生成制御部74の制御信号に含まれる温度設定値に応じて、ヒータ電源282bからヒータ282aへ供給する電力を制御してもよい。それにより、回収容器281内の温度は、目標温度に調節され得る。
図4を用いて、ターゲット生成装置7を含むEUV光生成装置1の動作の概要について説明する。具体的には、図2〜図4を用いて、ターゲット生成制御部74のターゲット供給に係る処理について説明する。
ターゲット生成制御部74は、EUV光生成制御部5から出力されたターゲット生成装置7の起動信号が入力されると、以下の処理を行ってもよい。
ターゲット生成制御部74は、ターゲット生成装置7の各構成部を起動し、各構成部の動作チェックを行ってもよい。そして、ターゲット生成制御部74は、各構成部を初期化して初期設定値を設定してもよい。
タンク261内に存在するターゲット27と反応しやすいガスは、ターゲット27が溶融する前に排気され得る。この際、ガスボンベ723から不活性ガスをタンク261内に数回給気して、タンク261内のパージ動作を行うようにしてもよい。
ターゲット生成信号は、チャンバ2内のプラズマ生成領域25へのターゲット供給をターゲット生成装置7に実行させるための制御信号であってもよい。
ターゲット生成制御部74は、ターゲット生成信号が入力されるまで待機してもよい。ターゲット生成制御部74は、タンク261内の温度がターゲット27の融点以上の所定範囲内で維持されるように、ヒータ711による加熱を継続して制御してもよい。ターゲット生成制御部74は、回収容器281内の温度がターゲット27の融点以上の所定範囲内で維持されるように、ヒータ282aによる加熱を継続して制御してもよい。
ターゲット生成制御部74は、ターゲット生成信号が入力されたと判定されたならば、ステップS3に移行してもよい。
ピエゾ素子731は、ノズル262に振動を与え得る。溶融したターゲット27がノズル孔262aから噴出されていれば、溶融したターゲット27がノズル262の振動によって分離されて、ドロップレット271が形成され得る。
なお、ターゲット生成制御部74は、ピエゾ素子731へ所定波形の電力が供給されるようにピエゾ電源732の動作を制御してもよい。
この所定波形は、ドロップレット271が所定の生成周波数で生成されるような波形であってもよい。所定の生成周波数は、例えば50kHz〜100kHzであってもよい。
ターゲット供給可能な圧力は、溶融状態のターゲット27が一定量でノズル孔262aから噴出すると共に、プラズマ生成領域25に所定速度で到達するような圧力であってもよい。所定速度は、例えば60m/s〜100m/sであってもよい。
タンク261に収容された溶融状態のターゲット27は加圧され得る。加圧されたターゲット27は、タンク261からノズル262に向かって流れ、ノズル孔262aから一定量で噴出され得る。一定量で噴出されたターゲット27は、ピエゾ素子731から一定周期で振動が与えられ、一定周期で均一なドロップレット271が形成され得る。形成されたドロップレット271は、チャンバ2内に出力され得る。形成されたドロップレット271の直径は、例えば20μm〜30μmであってもよい。
プラズマ生成領域25に照射されたパルスレーザ光33は、プラズマ生成領域25に到達したドロップレット271を照射し得る。パルスレーザ光33が照射されたドロップレット271は、プラズマ化されEUV光251を生成し得る。
ターゲット生成停止信号は、プラズマ生成領域25へのターゲット供給をターゲット生成装置7に停止させるための制御信号であってもよい。
ターゲット生成制御部74は、ターゲット生成停止信号が入力されたと判定されなければ、ステップS3に移行してもよい。一方、ターゲット生成制御部74は、ターゲット生成停止信号が入力されたと判定されたならば、本処理を終了してもよい。
EUV光生成装置1は、ターゲット27を複数のドロップレット271としてプラズマ生成領域25に供給し得る。EUV光生成装置1は、プラズマ生成領域25に到達したターゲット27にパルスレーザ光33を照射し、当該ターゲット27をプラズマ化してEUV光251を生成し得る。
しかし、EUV光生成装置1は、プラズマ生成領域25に到達したターゲット27に対して一部にはパルスレーザ光33を照射しないことがあり得る。パルスレーザ光33が照射されなかったターゲット27は、ターゲット回収部28によって回収され得る。
パルスレーザ光33が照射されなかったターゲット27がターゲット回収部28に回収されるとき、当該ターゲット27は、回収容器281の開口部281aから回収容器281の内部に入射し得る。
跳ね上がった飛散物274は、開口部281aを通過してターゲット回収部28の外部に向かって飛散し得る。
跳ね上がった飛散物274は、開口部281aを通過してターゲット回収部28の外部に向かって飛散し得る。
よって、ターゲット回収部28の外部に飛散物274を飛散させることなく、パルスレーザ光33が照射されなかったターゲット27を効率的に回収し得る技術が望まれている。
第1実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28の実施態様を、第1〜第4実施例として説明する。図2及び図3に示したターゲット回収部28と同様の構成については説明を省略する。
図5〜図7を用いて、第1実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第1実施例のターゲット回収部28は、図5に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、抑止部284とを含んでもよい。
図5に示す第1実施例のターゲット回収部28の構成において、図3に示したターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
図5に示す温度調節機構282の構成は、図3に示した温度調節機構282の構成と同一であってもよい。
受け部283は、受け部材283aと、支持部材283bとを含んでもよい。
受け部材283aは、ターゲット回収部28に入射したターゲット27を、直に衝突させて当該ターゲット27を受けてもよい。受け部材283aは、ターゲット回収部28に入射したターゲット27を受ける面である受面Sを含んでもよい。
なお、受け部材283aの受面Sにターゲット27が衝突するときの様子については、図6を用いて後述する。
なお、コーティング材287aの詳細については、図7を用いて後述する。
図5に示す抑止部284は、受面Sに入射したターゲット27の受面Sでの衝突により発生した飛散物274が、ターゲット回収部28の外部に飛散することを抑止してもよい。
抑止部284は、回収容器281と一体成形されてもよい。
抑止部284は、筒形状に形成されてもよい。筒形状の抑止部284の中心軸は、回収容器281の中心軸と一致してもよい。筒形状の抑止部284は、回収容器281の開口部281aの周縁を基端として、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かって先端が延びるように形成されてもよい。筒形状の抑止部284の内径は、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かうに従って縮小するように形成されてもよい。
テーパ面284bは、回収容器281の底面部281b又は側面部281cと対向してもよい。
テーパ面284bは、受け部材283aの受面Sと対向してもよい。ターゲット進行経路272に対するテーパ面284bの傾斜角度は、ターゲット進行経路272に対する受面Sの傾斜角度以上であってもよい。テーパ面284bは、受け部材283aの受面Sと平行であってもよい。
テーパ面284bは、受面Sに入射したターゲット27の飛散物274を、底面部281b側に更に反射し得る。それにより、当該飛散物274は、ターゲット回収部28の外部に飛散されなくなり得る。
開口部284aは、ターゲット回収部28に入射したターゲット27を、受け部283の受け部材283aに導入し得る。
このとき、ターゲット27は、受面Sでの衝突により破壊され得る。破壊されたターゲット27は、受面S上を移動するターゲット27と、受面Sで反射されて飛散する飛散物274とに分かれ得る。この飛散物274は、複数の微粒子からなる。
複数の微粒子からなる飛散物274は、ターゲット27の入射角度θに等しい反射角度θの方向を中心軸とする円錐状の広がりをもって飛散し得る。この飛散物274は、図5に示すように、抑止部284のテーパ面284bにて底面部281b側に更に反射され得る。テーパ面284bにて反射された飛散物274は、回収容器281に到達し得る。
仮にターゲット27の入射角度θがθ=0°となるよう受面Sの傾斜角度を設定すると、受面Sはターゲット進行経路272に対して直交し得る。このため、ターゲット27の受面Sでの衝突により発生した飛散物274は、開口部284aを通過してターゲット回収部28の外部に飛散し得る。
更に好適には、受面Sのターゲット進行経路272に対する傾斜角度は、ターゲット27の入射角度θが45°<θ<90°となるような角度であってもよい。このとき、受面Sのターゲット進行経路272に対する傾斜角度は、更に鋭角となり得る。このため、ターゲット27の受面Sでの衝突により発生した飛散物274は、回収容器281の底面部281b側に向かって飛散し易くなり得る。そして、当該飛散物274は、抑止部284が備えるテーパ面284bの底面部281b側で反射され易くなり得る。テーパ面284bの底面部281b側で反射された飛散物274は、回収容器281に到達し易くなり得る。それにより、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを一層抑止し得る。
図7は、溶融スズに対する各種材料の接触角を示す表である。図7の表は、「ぬれ技術ハンドブック〜基礎・測定評価・データ〜」(監修:石井淑夫、小石眞純、角田光雄、発行所:株式会社テクノシステム)に基づいている。
一般に、接触角αが0°<α≦90°の範囲にある状態は浸漬濡れという。このとき、固体は液体に濡れ易い。浸漬濡れでは、固体は液体に浸漬して浸み込み易い。
一方、接触角αが90°<α≦180°の範囲にある状態は付着濡れという。このとき、固体は液体に濡れ難い。付着濡れでは、固体表面に接触した液体は重力方向に移動し易い。
受け部材283aの受面Sにコートするコーティング材287aは、溶融スズに濡れ難い材料であってもよい。溶融スズに濡れ難い材料とは、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料であってもよい。
受け部材283a自体の構成材料として黒鉛を用いる場合には、発塵性が少なく、且つ、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料を表面にコートしてもよい。発塵性が少なく、且つ、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料は、例えば、ダイアモンド、グラシーカーボン、ダイアモンドライクカーボン、炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化珪素、炭化珪素、窒化珪素であってもよい。
受面S上を移動するターゲット27は、コーティング材287aによって受面Sで留まって固着することなく、受面Sに沿って底面部281b側に移動し得る。受面Sに沿って底面部281b側に移動したターゲット27は、受面Sから落下して回収容器281に到達し得る。このため、新たに入射したターゲット27が受面Sに固着したターゲット27に衝突することを防止し得る。それにより、新たに入射したターゲット27が、固着したターゲット27上に更に固着することを防止し得ると共に飛散物274となって飛散することを防止し得る。
一方、受面Sで反射されて飛散する飛散物274は、抑止部284のテーパ面284bにて底面部281b側に更に反射され得る。テーパ面284bにて反射された飛散物274は、回収容器281に到達し得る。
よって、第1実施例のターゲット回収部28は、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを抑止し得る。
図8を用いて、第2実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第2実施例のターゲット回収部28は、図8に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、抑止部284と、ガイド部285とを含んでもよい。
図8に示す第2実施例のターゲット回収部28の構成において、図5に示した第1実施例のターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
図8に示す受け部283の構成は、図5に示した受け部283の構成と同一であってもよい。
回収容器281は、チャンバ2の外部に配置されてもよい。
回収容器281のその他の構成は、図5に示した回収容器281の構成と同一であってもよい。
抑止部284は、チャンバ2の外部に配置されてもよい。
抑止部284のその他の構成は、図5に示した抑止部284の構成と同一であってもよい。
ガイド部285は、チャンバ2の内部に配置されてもよい。ガイド部285は、抑止部284及び回収容器281と一体成形されてもよい。
ガイド部285は、筒形状に形成されてもよい。筒形状のガイド部285の中心軸は、回収容器281の中心軸と一致してもよい。筒形状のガイド部285は、抑止部284の開口部284aの周縁を基端として、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かって先端が延びるように形成されてもよい。筒形状のガイド部285の内径は、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かうに従って拡大するように形成されてもよい。
テーパ面285bは、コーティング材287aでコートされていてもよい。
テーパ面285bは、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25と対向してもよい。
テーパ面285bは、受け部材283aの受面Sと対向してもよい。ターゲット進行経路272に対するテーパ面285bの傾斜角度は、ターゲット進行経路272に対する受面Sの傾斜角度以下であってもよい。
テーパ面285bは、ターゲット進行経路272から外れてターゲット回収部28に入射したターゲット27を、底面部281b側にある抑止部284の開口部284aに向かって反射し得る。それにより、ターゲット進行経路272から外れてターゲット回収部28に入射したターゲット27は、開口部284aに導かれ得る。
開口部285aは、ターゲット進行経路272を通ってターゲット回収部28に入射したターゲット27を、開口部284aに導入し得る。また、開口部285aは、ターゲット進行経路272から外れてターゲット回収部28に入射したターゲット27を、テーパ面285bを介して開口部284aに導入し得る。開口部284aに導入されたターゲット27は、受け部283の受け部材283aに受けられ得る。
また、第2実施例のターゲット回収部28では、ターゲット進行経路272を通って入射したターゲット27は、ガイド部285のテーパ面285bを介さずに抑止部284の開口部284aに導かれ得る。
開口部284aに導かれたターゲット27は、受け部283が備える受け部材283aの受面Sに衝突し得る。受面Sに衝突したターゲット27は、第1実施例のターゲット回収部28と同様に、受面Sで固着せずに底面部281b側に移動し、又は、抑止部284のテーパ面284bを介して回収容器281に到達し得る。
よって、第2実施例のターゲット回収部28は、第1実施例のターゲット回収部28と同様に、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを抑止し得る。更に、第2実施例のターゲット回収部28は、ターゲット進行経路272から外れて入射したターゲット27も、外部に飛散させることなく回収し得る。
図9を用いて、第3実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第3実施例のターゲット回収部28は、図9に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、第2受け部288と、第3受け部289と、抑止部284と、ガイド部285とを含んでもよい。
図9に示す第3実施例のターゲット回収部28の構成において、図8に示した第2実施例のターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
図9に示す温度調節機構282の構成は、図8に示した温度調節機構282の構成と同一であってもよい。
図9に示す受け部283の構成は、図8に示した受け部283の構成と同一であってもよい。
図9に示す抑止部284の構成は、図8に示した抑止部284の構成と同一であってもよい。
図9に示すガイド部285の構成は、図8に示したガイド部285の構成と同一であってもよい。
第2受け部288は、第2受け部材288aと、第2支持部材288bとを含んでもよい。
第2受け部材288aは、テーパ面284bで反射された飛散物274を、第3受け部289に反射してもよい。
第3受け部289は、第3受け部材289aと、第3支持部材289bとを含んでもよい。
第3受け部材289aは、第2受け部材288aで反射された飛散物274を、底面部281bに反射してもよい。
更に、受け部283、第2受け部288、及び第3受け部289は、回収ターゲット273の飛散物274がターゲット回収部28の外部へ向かうための経路を、遮断し得る。
よって、第3実施例のターゲット回収部28は、第2実施例のターゲット回収部28に比べて、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを更に抑止し得る。
図10を用いて、第4実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第4実施例のターゲット回収部28は、図10に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、抑止部284と、ガイド部285とを含んでもよい。
図10に示す第4実施例のターゲット回収部28の構成において、図8に示した第2実施例のターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
図10に示す温度調節機構282の構成は、図8に示した温度調節機構282の構成と同一であってもよい。
図10に示すガイド部285の構成は、図8に示したガイド部285の構成と同一であってもよい。
図10に示す受け部283及び抑止部284は、少なくとも当該受け部283の受面S及び当該抑止部284のテーパ面284bを内壁面とする管路を形成していてもよい。当該管路は、ガイド部285と回収容器281とを連通させる管路であってもよい。当該管路は、入射したターゲット27を、その内壁面で複数回反射させた後に、回収容器281へ導入してもよい。
よって、第4実施例のターゲット回収部28は、第2実施例のターゲット回収部28に比べて、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを更に抑止し得る。
更に、第4実施例のターゲット回収部28は、第3実施例のターゲット回収部28に比べて、部品点数が少なくて済み、且つ、簡易な構造であるため、低コスト化を図り得る。
第2実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28の実施態様を、第5及び第6実施例として説明する。図2及び図3に示したターゲット回収部28、並びに図5〜図10に示した第1〜第4実施例のターゲット回収部28と同様の構成については説明を省略する。
図11及び図12を用いて、第5実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第5実施例のターゲット回収部28は、図11に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、抑止部284と、ガイド部285とを含んでもよい。
図11に示す第5実施例のターゲット回収部28の構成において、図8に示した第2実施例のターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
また、ダンパ材287bは、多孔質構造のセラミック材やガラス材であってもよい。ダンパ材287bは、例えば、ダンパ材287bは、炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化珪素等で形成された多孔質構造のセラミック材やガラス材であってもよい。ダンパ材287bは、石英のガラス繊維からなる織布であってもよい。
回収容器281のその他の構成は、図8に示した回収容器281の構成と同一であってもよい。
ダンパ材287bで覆われたテーパ面284bは、受面Sでの衝突により発生した飛散物274が、テーパ面284bに衝突したときの衝撃を吸収し得る。それにより、テーパ面284bでの衝突により発生する飛散物274の量及び飛散速度を抑制し得る。加えて、受面Sでの衝突により発生した飛散物274が、テーパ面284bで留まって固着することを抑制し得る。
抑止部284のその他の構成は、図8に示した抑止部284の構成と同一であってもよい。
ガイド部285のその他の構成は、図8に示したガイド部285の構成と同一であってもよい。
このとき、受面Sのダンパ材287bによって、ターゲット27が受面Sに衝突したときの衝撃は吸収され得る。このため、受面Sでの衝突により発生する飛散物274は、第2実施例のターゲット回収部28に比べて、その量及び飛散速度が著しく抑制され得る。
また、このとき、受面Sのダンパ材287bによって、受面Sはターゲット27に対して濡れ難くなり得る。このため、ターゲット回収部28に入射したターゲット27は、第2実施例のターゲット回収部28と同様に、受面Sで留まって固着し難くなり得る。
よって、第5実施例のターゲット回収部28は、第2実施例のターゲット回収部28に比べて、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを更に抑止し得る。
このとき、テーパ面285bのダンパ材287bによって、ターゲット27がテーパ面285bに衝突したときの衝撃は吸収され得る。このため、テーパ面285bでの衝突により発生する飛散物274は、第2実施例のターゲット回収部28に比べて、その量及び飛散速度が著しく抑制され得る。
また、このとき、テーパ面285bのダンパ材287bによって、テーパ面285bはターゲット27に対して濡れ難くなり得る。このため、ターゲット回収部28に入射したターゲット27は、第2実施例のターゲット回収部28と同様に、テーパ面285bで留まって固着し難くなり得る。
よって、第5実施例のターゲット回収部28は、第2実施形態のターゲット回収部28に比べて、ターゲット進行経路272から外れて入射したターゲット27を、外部に飛散させることなく回収し易くなり得る。
図13を用いて、第6実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第6実施例のターゲット回収部28は、図13に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、第2受け部288と、第3受け部289と、抑止部284と、ガイド部285とを含んでもよい。
図13に示す第6実施例のターゲット回収部28の構成において、図9に示した第3実施例のターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
図13に示す温度調節機構282の構成は、図9に示した温度調節機構282の構成と同一であってもよい。
図13に示す受け部283の構成は、図9に示した受け部283の構成と同一であってもよい。
図13に示すガイド部285の構成は、図9に示したガイド部285の構成と同一であってもよい。
ダンパ材287bで覆われたテーパ面284bは、受面Sでの衝突により発生した飛散物274が、テーパ面284bに衝突したときの衝撃を吸収し得る。それにより、テーパ面284bへの衝突により発生する飛散物274の量及び飛散速度を抑制し得る。加えて、受面Sでの衝突により発生した飛散物274が、テーパ面284bで留まって固着することを抑制し得る。
抑止部284のその他の構成は、図9に示した抑止部284の構成と同一であってもよい。
図13に示す第3受け部289は、第2受け部材288aでの衝突により発生する飛散物274を受ける第3受け部材289aの面が、ダンパ材287bで覆われていてもよい。
ダンパ材287bで覆われた第2受け部材288a及び第3受け部材289aの各面は、当該各面に飛散物274が衝突したときの衝撃を吸収し得る。それにより、当該各面での衝突により発生する飛散物274の量及び飛散速度を抑制し得る。加えて、当該各面に衝突した飛散物274が、当該各面で留まって固着することを抑制し得る。
第2受け受け部288及び第3受け部289のその他の構成は、図9に示した第2受け受け部288及び第3受け部289の構成と同一であってもよい。
よって、第6実施例のターゲット回収部28は、第3実施例のターゲット回収部28に比べて、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを更に抑止し得る。
図14を用いて、第7実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第7実施例のターゲット回収部28は、図14に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、抑止部284と、ガイド部285と、配管286と、を含んでもよい。
回収容器281は、底面部281b及び側面部281cの内面がダンパ材287bで覆われていてもよい。
回収容器281のその他の構成は、図11に示した回収容器281の構成と同一であってもよい。
ガイド部285は、配管286の端部を基端として、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かって先端が延びるように形成されてもよい。
ガイド部285は、ターゲット回収部28に入射したターゲット27を、配管286を介して抑止部284の開口部284aに導いてもよい。ガイド部285は、当該ターゲット27のテーパ面285bでの衝突により発生した飛散物274を、配管286を介して開口部284aに導いてもよい。
ガイド部285のその他の構成は、図11に示したガイド部285の構成と同一であってもよい。
配管286は、チャンバ2の外部に配置されてもよい。
配管286の内周面は、ダンパ材287bで覆われていてもよい。
配管286は、ガイド部285の開口部285aとは反対側の端部を基端として、回収容器281と一体成形された抑止部284に向かって先端が延びるように形成されてもよい。ガイド部285を基端として延びる配管286は、ターゲット進行経路272の延長線上で屈曲されて、先端が抑止部284に向かって延びるように形成されていてもよい。配管286は、回収容器281及び抑止部284とガイド部285とを連通させ得る。
配管286の屈曲部は、ターゲット進行経路272の延長線と、回収容器281及び抑止部284の中心軸の延長線との交点に位置してもよい。
配管286の屈曲部は、配管受け部286aを含んでもよい。
配管受け部286aの受面Sは、ターゲット進行経路272の延長線上に位置してもよい。受面Sは、ターゲット進行経路272に対し、所定の傾斜角度で傾斜して配置されてもよい。受面Sの傾斜角度は、受面Sでの衝突により発生する飛散物274が、ターゲット回収部28の外部に飛散しないような角度であってもよい。受面Sのターゲット進行経路272に対する傾斜角度は、ターゲット27の入射角度θが0°<θ<90°となるような角度であってもよい。更に好適には、受面Sのターゲット進行経路272に対する傾斜角度は、ターゲット27の入射角度θが45°<θ<90°となるような角度であってもよい。
配管受け部286aの受面Sは、受面Sに衝突したターゲット27又はその飛散物274を、受け部283の受面Pに向かって反射してもよい。
受け部283の受け部材283aは、配管受け部286aの受面Sで反射されたターゲット27又はその飛散物274を、受面Pで衝突させることによって受けてもよい。受け部材283aの受面Pのその他の構成は、図11に示した受け部283の受面Sの構成と同一であってもよい。
受け部283のその他の構成は、図11に示した受け部283の構成と同一であってもよい。
抑止部284は、回収容器281の開口部281aの周縁を基端として、回収容器281の中心軸方向である反重力方向に向かって先端が延びるように形成されてもよい。抑止部284の先端は、配管286の端部に接続されてもよい。
抑止部284のテーパ面284bは、受け部283の受面Pとの対向面以外にもダンパ材287bで覆われていてもよい。
抑止部284のその他の構成は、図11に示した抑止部284の構成と同一であってもよい。
[8.1 各制御部のハードウェア環境]
当業者は、汎用コンピュータまたはプログラマブルコントローラにプログラムモジュールまたはソフトウェアアプリケーションを組み合わせて、ここに述べられる主題が実行されることを理解するだろう。一般的に、プログラムモジュールは、本開示に記載されるプロセスを実行できるルーチン、プログラム、コンポーネント、データストラクチャー等を含む。
コーティング材287aは、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料であり、且つ、ターゲット27と反応し難い材料であってもよい。ターゲット27が、スズである場合、コーティング材287aは、溶融スズに濡れ難く材料であり、且つ、溶融スズと反応し難い材料であってもよい。溶融スズに濡れ難く材料であり、且つ、溶融スズと反応し難い材料は、例えば、炭化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭素、真空加熱処理を施さない酸化モリブデンであってもよい。ダンパ材287bも同様に、衝撃を吸収すると共にターゲット27との接触角が90°より大きく、且つ、ターゲット27と反応し難い材料であってもよい。
第7実施例のターゲット回収部28は、回収容器281、抑止部284、ガイド部285、及び配管286の内周面の必ずしも全てが、ダンパ材287bで覆われていなくてもよい。第7実施例のターゲット回収部28は、ターゲット27又はその飛散物274が衝突する領域だけをダンパ材287bで覆ってもよい。また、ダンパ材287bの代りにコーティング材287aでコートしてもよい。
また、第3又は第6実施例の第2受け部288及び第3受け部289を、第7実施例のターゲット回収部28に適用し、第7実施例のターゲット回収部28が第2受け部288及び第3受け部289を含むようにしてもよい。
2 …チャンバ
26 …ターゲット供給部
27 …ターゲット
28 …ターゲット回収部
281 …回収容器
284 …抑止部
284a …開口部
285 …ガイド部
287a …コーティング材
287b …ダンパ材
5 …EUV光生成制御部
7 …ターゲット生成装置
74 …ターゲット生成制御部
S …受面
Claims (20)
- 内部でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、
前記チャンバの内部に前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、
前記ターゲット供給部によって供給され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを、前記ターゲットとの接触角が90°より大きく、入射した前記ターゲットの衝撃を吸収するダンパ材で形成された受面で受けて回収容器内に回収するターゲット回収部と、
を備える極端紫外光生成装置。 - 前記受面に入射した前記ターゲットの入射角度θは、0°<θ<90°である
請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記受面に入射した前記ターゲットの入射角度θは、45°<θ<90°である
請求項2に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ダンパ材は、炭素繊維又は石英のガラス繊維によって形成される、
請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ダンパ材は、炭素繊維又は石英のガラス繊維によって形成される織布である、
請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ダンパ材は、多孔質構造である、
請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ダンパ材は、炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム又は酸化珪素によって形成されたセラミック材又はガラス材である、
請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ターゲット回収部は、
前記ターゲットを前記回収容器に導入する開口部を含み、前記受面で反射した前記ターゲットが前記ターゲット回収部の外へ飛散することを抑止する抑止部と、
前記ターゲットを前記抑止部の前記開口部に導くガイド部と、
を備える請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ガイド部の上端に形成された開口部の直径は、前記抑止部の開口部の直径より大きい、
請求項8に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ガイド部の内径が前記ターゲット供給部に向かうにしたがって大きくなる、
請求項8に記載の極端紫外光生成装置。 - 内部のプラズマ生成領域に供給されたターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、
前記プラズマ生成領域に前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、
前記プラズマ生成領域を通過した前記ターゲットを回収するターゲット回収部であって、
前記ターゲットとの接触角が90°より大きい材料で形成され、入射した前記ターゲットの衝撃を吸収するよう構成されたダンパ材を含む受け部と、
前記ダンパ材に衝突した前記ターゲットを回収する回収容器と、を備えたターゲット回収部と、
を含む極端紫外光生成装置。 - 前記ターゲット回収部は、前記回収容器の温度を前記ターゲットの融点以上の温度に調節する温度調節機構を備える
請求項11に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ターゲット回収部は、前記回収容器に接続されるガイド部を含み、
前記ガイド部は、前記プラズマ生成領域に向かって先端が延びる筒形状に形成される、
請求項11に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記受け部は、支持部材を介して前記回収容器に固定される、
請求項11に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記支持部材は、前記受け部を前記回収容器に脱着可能に固定する、
請求項14に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記受け部は、前記ターゲットの進行経路に対して所定の傾斜角度で傾斜して配置され、
前記ターゲット回収部は、複数の前記受け部を含む、
請求項11に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ダンパ材は、炭素繊維又は石英のガラス繊維によって形成される、
請求項11に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ダンパ材は、炭素繊維又は石英のガラス繊維によって形成される織布である、
請求項11に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ダンパ材は、多孔質構造である、
請求項11に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ダンパ材は、炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム又は酸化珪素によって形成されたセラミック材又はガラス材である、
請求項11に記載の極端紫外光生成装置。
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