JP6360489B2 - 極端紫外光生成装置 - Google Patents

極端紫外光生成装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6360489B2
JP6360489B2 JP2015544628A JP2015544628A JP6360489B2 JP 6360489 B2 JP6360489 B2 JP 6360489B2 JP 2015544628 A JP2015544628 A JP 2015544628A JP 2015544628 A JP2015544628 A JP 2015544628A JP 6360489 B2 JP6360489 B2 JP 6360489B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
target
unit
ultraviolet light
extreme ultraviolet
receiving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015544628A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2015063825A1 (ja
Inventor
岩本 文男
文男 岩本
白石 裕
裕 白石
司 堀
司 堀
石井 卓也
卓也 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Gigaphoton Inc
Original Assignee
Gigaphoton Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gigaphoton Inc filed Critical Gigaphoton Inc
Publication of JPWO2015063825A1 publication Critical patent/JPWO2015063825A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6360489B2 publication Critical patent/JP6360489B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05GX-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/008X-ray radiation generated from plasma involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05GX-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • H05G2/005X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas containing a metal as principal radiation generating component

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)

Description

本開示は、極端紫外(EUV)光を生成するための装置に関する。
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、70nm〜45nmの微細加工、さらには32nm以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば32nm以下の微細加工の要求に応えるべく、波長13nm程度の極端紫外(EUV)光を生成する極端紫外(EUV)光生成装置と縮小投影反射光学系(Reduced Projection Reflective Optics)とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
EUV光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いたLPP(Laser Produced Plasma:レーザ励起プラズマ)方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたDPP(Discharge Produced Plasma)方式の装置と、軌道放射光を用いたSR(Synchrotron Radiation)方式の装置との3種類の装置が提案されている。
米国特許第7872245号 米国特許第8138487号 米国特許出願公開第2012/0205559号
概要
本開示の1つの観点に係る極端紫外光生成装置は、内部でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、前記チャンバの内部に前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、前記ターゲット供給部によって供給され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを、前記ターゲットとの接触角が90°より大きい受面で受けて回収容器内に回収するターゲット回収部と、を備えてもよい。
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図1は、例示的なLPP方式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。 図2は、ターゲット生成装置を含むEUV光生成装置の構成を示す。 図3は、ターゲット回収部の構成を示す。 図4は、ターゲット生成制御部におけるターゲット供給に係る処理を説明するためのフローチャートを示す。 図5は、第1実施例のターゲット回収部の構成を示す。 図6は、受け部材の受面にターゲットが衝突するときの様子を説明するための図を示す。 図7は、溶融スズに対する各種材料の接触角を示す。 図8は、第2実施例のターゲット回収部の構成を示す。 図9は、第3実施例のターゲット回収部の構成を示す。 図10は、第4実施例のターゲット回収部の構成を示す。 図11は、第5実施例のターゲット回収部の構成を示す。 図12は、ダンパ材で覆われた受け部材の受面にターゲットが衝突するときの様子を説明するための図を示す。 図13は、第6実施例のターゲット回収部の構成を示す。 図14は、第7実施例のターゲット回収部の構成を示す。 図15は、各制御部のハードウェア環境を示すブロック図を示す。
実施形態
〜内容〜
1.概要
2.用語の説明
3.EUV光生成システムの全体説明
3.1 構成
3.2 動作
4.ターゲット回収部を含むEUV光生成装置
4.1 構成
4.2 動作
4.3 課題
5.第1実施形態のEUV光生成装置が備えるターゲット回収部
5.1 ターゲット回収部の第1実施例
5.2 ターゲット回収部の第2実施例
5.3 ターゲット回収部の第3実施例
5.4 ターゲット回収部の第4実施例
6.第2実施形態のEUV光生成装置が備えるターゲット回収部
6.1 ターゲット回収部の第5実施例
6.2 ターゲット回収部の第6実施例
7.第3実施形態のEUV光生成装置が備えるターゲット回収部
7.1 ターゲット回収部の第7実施例
8.その他
8.1 各制御部のハードウェア環境
8.2 その他の変形例
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
[1.概要]
本開示は、以下の実施形態を少なくとも開示し得る。
本開示におけるEUV光生成装置1は、内部でターゲット27にパルスレーザ光33が照射されるとEUV光252が生成されるチャンバ2と、チャンバ2の内部にターゲット27を供給するターゲット供給部26と、ターゲット供給部26によって供給されパルスレーザ光33が照射されなかったターゲット27を、ターゲット27との接触角が90°より大きい受面Sで受けて回収容器281内に回収するターゲット回収部28と、を備えてもよい。
よって、本開示におけるEUV光生成装置1は、パルスレーザ光33が照射されなかったターゲット27を回収するとき、当該ターゲット27の飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを抑止し得る。
[2.用語の説明]
「ターゲット」は、チャンバに導入されたレーザ光の被照射物である。レーザ光が照射されたターゲットは、プラズマ化してEUV光を放射する。
「ドロップレット」は、チャンバ内へ供給されたターゲットの一形態である。
[3.EUV光生成システムの全体説明]
[3.1 構成]
図1に、例示的なLPP方式のEUV光生成システムの構成を概略的に示す。
EUV光生成装置1は、少なくとも1つのレーザ装置3と共に用いられてもよい。本願においては、EUV光生成装置1及びレーザ装置3を含むシステムを、EUV光生成システム11と称する。図1に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、EUV光生成装置1は、チャンバ2、ターゲット供給部26を含んでもよい。チャンバ2は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給部26は、例えば、チャンバ2の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給部26から供給されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか2つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
チャンバ2の壁には、少なくとも1つの貫通孔が設けられていてもよい。その貫通孔には、ウインドウ21が設けられてもよく、ウインドウ21をレーザ装置3から出力されるパルスレーザ光32が透過してもよい。チャンバ2の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するEUV集光ミラー23が配置されてもよい。EUV集光ミラー23は、第1及び第2の焦点を有し得る。EUV集光ミラー23の表面には、例えば、モリブデンと、シリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。EUV集光ミラー23は、例えば、その第1の焦点がプラズマ生成領域25に位置し、その第2の焦点が中間集光点(IF)292に位置するように配置されるのが好ましい。EUV集光ミラー23の中央部には貫通孔24が設けられていてもよく、貫通孔24をパルスレーザ光33が通過してもよい。
EUV光生成装置1は、EUV光生成制御部5、ターゲットセンサ4等を含んでもよい。ターゲットセンサ4は、撮像機能を有してもよく、ターゲット27の存在、軌跡、位置、速度等を検出するよう構成されてもよい。
また、EUV光生成装置1は、チャンバ2の内部と露光装置6の内部とを連通させる接続部29を含んでもよい。接続部29内部には、アパーチャ293が形成された壁291が設けられてもよい。壁291は、そのアパーチャ293がEUV集光ミラー23の第2の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
さらに、EUV光生成装置1は、レーザ光進行方向制御部34、レーザ光集光ミラー22、ターゲット27を回収するためのターゲット回収部28等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部34は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。
[3.2 動作]
図1を参照すると、レーザ装置3から出力されたパルスレーザ光31は、レーザ光進行方向制御部34を経て、パルスレーザ光32としてウインドウ21を透過してチャンバ2内に入射してもよい。パルスレーザ光32は、少なくとも1つのレーザ光経路に沿ってチャンバ2内を進み、レーザ光集光ミラー22で反射されて、パルスレーザ光33として少なくとも1つのターゲット27に照射されてもよい。
ターゲット供給部26は、ターゲット27をチャンバ2内部のプラズマ生成領域25に向けて出力するよう構成されてもよい。ターゲット27には、パルスレーザ光33に含まれる少なくとも1つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光が照射されたターゲット27はプラズマ化し、そのプラズマからEUV光251が、他の波長の光の放射に伴って放射され得る。EUV光251は、EUV集光ミラー23によって選択的に反射されてもよい。EUV集光ミラー23によって反射されたEUV光252は、中間集光点292で集光され、露光装置6に出力されてもよい。なお、1つのターゲット27に、パルスレーザ光33に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
EUV光生成制御部5は、EUV光生成システム11全体の制御を統括するよう構成されてもよい。EUV光生成制御部5は、ターゲットセンサ4によって撮像されたターゲット27のイメージデータ等を処理するよう構成されてもよい。また、EUV光生成制御部5は、例えば、ターゲット27が出力されるタイミング制御及びターゲット27の出力方向等の制御の内の少なくとも1つを行ってもよい。更に、EUV光生成制御部5は、例えば、レーザ装置3の発振タイミングの制御、パルスレーザ光32の進行方向の制御、パルスレーザ光33の集光位置の制御の内の少なくとも1つを行ってもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
[4.ターゲット回収部を含むEUV光生成装置]
[4.1 構成]
図2及び図3を用いて、ターゲット生成装置7及びターゲット回収部28を含むEUV光生成装置1の構成について説明する。
図2では、EUV光生成装置1のチャンバ2から露光装置6に向かってEUV光252を導出する方向をZ軸とする。X軸及びY軸は、Z軸に直交し、且つ、互いに直交する軸とする。以降の図面でも図2の座標軸と同様とする。
EUV光生成装置1のチャンバ2は、例えば、中空の球形状又は筒形状に形成されてもよい。筒形状のチャンバ2の中心軸方向は、EUV光252を露光装置6へ導出する方向であってもよい。
筒形状のチャンバ2の側面部には、チャンバ2外からチャンバ2内へターゲット27を供給するためのターゲット供給孔2aが設けられてもよい。チャンバ2が中空の球形状であれば、ターゲット供給孔2aは、チャンバ2の壁部であってウインドウ21及び接続部29の設置されていない位置に設けられてもよい。
チャンバ2の内部には、レーザ光集光光学系22aと、EUV集光光学系23aと、ターゲット回収部28と、プレート225と、プレート235とを備えてもよい。
プレート235は、チャンバ2の内側面に固定されてもよい。プレート235の中央には、その厚さ方向にパルスレーザ光33が通過可能な孔235aが設けられてもよい。孔235aの開口方向は、図1における貫通孔24及びプラズマ生成領域25を通る軸と同一方向であってもよい。
プレート235の一方の面には、EUV集光光学系23aが設けられてもよい。
プレート235の他方の面には、図示しない3軸ステージを介してプレート225が設けられてもよい。
プレート235の一方の面に設けられたEUV集光光学系23aは、EUV集光ミラー23と、ホルダ231とを含んでもよい。
ホルダ231は、EUV集光ミラー23を保持してもよい。EUV集光ミラー23を保持するホルダ231は、プレート235に固定されてもよい。
プレート235の他方の面に設けられたプレート225は、3軸ステージによって位置及び姿勢を変更可能であってもよい。
プレート225には、レーザ光集光光学系22aが設けられてもよい。
レーザ光集光光学系22aは、レーザ光集光ミラー22と、ホルダ223と、ホルダ224とを含んでもよい。
レーザ光集光ミラー22は、軸外放物面ミラー221及び平面ミラー222を含んでもよい。
ホルダ223は、軸外放物面ミラー221を保持してもよい。軸外放物面ミラー221を保持するホルダ223は、プレート225に固定されてもよい。
ホルダ224は、平面ミラー222を保持してもよい。平面ミラー222を保持するホルダ224は、プレート225に固定されてもよい。
軸外放物面ミラー221は、チャンバ2の底面部に設けられたウインドウ21及び平面ミラー222とそれぞれ対向して配置されてもよい。
平面ミラー222は、孔235a及び軸外放物面ミラー221とそれぞれ対向して配置されてもよい。
軸外放物面ミラー221及び平面ミラー222の位置及び姿勢は、プレート225の位置及び姿勢が変更されることに伴って調整され得る。当該調整は、軸外放物面ミラー221及び平面ミラー222に入射したパルスレーザ光32の反射光であるパルスレーザ光33が、プラズマ生成領域25で集光するように実行され得る。
ターゲット回収部28は、チャンバ2の側面側に設けられていてもよい。
ターゲット回収部28は、チャンバ2内にドロップレット271として出力されたターゲット27の進行経路であるターゲット進行経路272の延長線上に配置されてもよい。
ターゲット回収部28は、図3に示すように、回収容器281と、温度調節機構282とを含んでもよい。
なお、回収容器281及び温度調節機構282の詳細な構成については、図3を用いて後述する。
また、チャンバ2の外部には、レーザ光進行方向制御部34と、EUV光生成制御部5と、ターゲット生成装置7とを備えてもよい。
レーザ光進行方向制御部34は、チャンバ2の底面部に設けられたウインドウ21とレーザ装置3との間に設けられていてもよい。
レーザ光進行方向制御部34は、高反射ミラー341及び高反射ミラー342と、ホルダ343及びホルダ344とを含んでもよい。
ホルダ343は、高反射ミラー341を保持してもよい。ホルダ344は、高反射ミラー342を保持してもよい。
ホルダ343及びホルダ344は、EUV光生成制御部5に接続された図示しないアクチュエータによって位置及び姿勢を変更可能であってもよい。
高反射ミラー341は、パルスレーザ光31が出射されるレーザ装置3の出射口及び高反射ミラー342とそれぞれ対向して配置されてもよい。
高反射ミラー342は、チャンバ2のウインドウ21及び高反射ミラー341とそれぞれ対向して配置されてもよい。
高反射ミラー341及び高反射ミラー342の位置及び姿勢は、EUV光生成制御部5によりホルダ343及びホルダ344の位置及び姿勢が変更されることに伴って調整され得る。当該調整は、高反射ミラー341及び高反射ミラー342に入射したパルスレーザ光31の反射光であるパルスレーザ光32が、チャンバ2の底面部に設けられたウインドウ21を透過するように実行され得る。
EUV光生成制御部5は、レーザ装置3との間で制御信号の送受を行い、レーザ装置3の動作を制御してもよい。
EUV光生成制御部5は、レーザ光進行方向制御部34及びレーザ光集光光学系22aのそれぞれのアクチュエータとの間で各々制御信号の送受を行ってもよい。それにより、EUV光生成制御部5は、パルスレーザ光31〜33の進行方向及び集光位置を調整してもよい。
EUV光生成制御部5は、ターゲット生成装置7の後述するターゲット生成制御部74との間で制御信号の送受を行い、ターゲット生成装置7の動作を制御してもよい。
なお、EUV光生成制御部5のハードウェア構成については、図15を用いて後述する。
ターゲット生成装置7は、チャンバ2の側面側に設けられていてもよい。
ターゲット生成装置7は、ターゲット供給部26と、ヒータ711と、ヒータ電源712と、圧力調節器721、配管722と、ガスボンベ723と、ピエゾ素子731と、ピエゾ電源732と、ターゲット生成制御部74とを備えてもよい。
ターゲット供給部26は、タンク261と、ノズル262とを含んでもよい。
タンク261は、中空の筒形状に形成されてもよい。中空のタンク261の内部には、ターゲット27が収容されてもよい。
ターゲット27を収容するタンク261の少なくとも内面は、ターゲット27と反応し難い材料で構成されてもよい。ターゲット27と反応し難い材料は、例えば、炭化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウム、モリブデン、タングステン、タンタルのいずれかであってもよい。
ノズル262は、筒形状のタンク261の底面部に設けられていてもよい。ノズル262は、チャンバ2のターゲット供給孔2aを通してチャンバ2の内部に配置されてもよい。ターゲット供給孔2aは、ターゲット供給部26が設置されることで塞がれ得る。それにより、チャンバ2の内部は大気と隔絶され得る。
ノズル262の内部は、ターゲット27と反応し難い材料で構成されてもよい。
パイプ状のノズル262の一端は、中空のタンク261に固定されてもよい。パイプ状のノズル262の他端には、図示しないノズル孔が設けられていてもよい。ノズル262の一端側にあるタンク261がチャンバ2の外部に位置し、ノズル262の他端側にあるノズル孔がチャンバ2の内部に位置してもよい。ノズル262の中心軸方向の延長線上には、チャンバ2の内部にあるプラズマ生成領域25及びターゲット回収部28が位置してもよい。タンク261、ノズル262、及びチャンバ2は、その内部が互いに連通してもよい。
ノズル孔は、溶融したターゲット27をチャンバ2内へジェット状に噴出するような形状で形成されてもよい。
ヒータ711は、筒形状のタンク261の外側側面部に固定されてもよい。タンク261に固定されたヒータ711は、タンク261を加熱してもよい。ヒータ711は、ヒータ電源712と接続されてもよい。
ヒータ電源712は、ヒータ711に電力を供給してもよい。ヒータ711に電力を供給するヒータ電源712は、ターゲット生成制御部74と接続されてもよい。ヒータ電源712は、ヒータ711への電力供給をターゲット生成制御部74によって制御されてもよい。
筒形状のタンク261の外側側面部には、図示しない温度センサが固定されてもよい。タンク261に固定された温度センサは、ターゲット生成制御部74と接続されてもよい。温度センサは、タンク261の温度を検出し、検出信号をターゲット生成制御部74に出力してもよい。ターゲット生成制御部74は、温度センサから出力された検出信号に基づいて、タンク261内の温度が目標温度になるようヒータ711へ供給する電力を制御してもよい。それにより、タンク261内の温度は、目標温度に調節され得る。
配管722は、筒形状のタンク261の底面部であってノズル262の反対側と、圧力調節器721とを連結してもよい。配管722は、タンク261を含むターゲット供給部26と圧力調節器721とを連通させ得る。
配管722は、図示しない断熱材等で覆われてもよい。配管722には、図示しないヒータが設置されてもよい。配管722内の温度は、ターゲット供給部26のタンク261内の温度と同じ温度に保たれてもよい。
ガスボンベ723は、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスが充填されていてもよい。
ガスボンベ723は、圧力調節器721を介して、タンク261内に不活性ガスを給気してもよい。
圧力調節器721は、上述のように、筒形状のタンク261の底面部であってノズル262とは反対側に配管722を介して設けられてもよい。
圧力調節器721は、給気及び排気用の電磁弁や圧力センサ等を内部に含んでもよい。圧力調節器721は、圧力センサを用いてタンク261内の圧力を検出してもよい。
圧力調節器721は、ガスボンベ723に連結されてもよい。圧力調節器721は、ガスボンベ723に充填された不活性ガスを、タンク261内に給気してもよい。
圧力調節器721は、図示しない排気ポンプに連結されてもよい。圧力調節器721は、排気ポンプを動作させて、タンク261内のガスを排気してもよい。
圧力調節器721は、タンク261内にガスを給気又はタンク261内のガスを排気することによって、タンク261内の圧力を加圧又は減圧し得る。
圧力調節器721は、ターゲット生成制御部74と接続されてもよい。圧力調節器721は、検出した圧力の検出信号をターゲット生成制御部74に出力してもよい。圧力調節器721には、ターゲット生成制御部74から出力された制御信号が入力されてもよい。
ターゲット生成制御部74から出力される制御信号は、圧力調節器721から出力された検出信号に基づいて、タンク261内の圧力が目標圧力になるよう圧力調節器721の動作を制御するための制御信号であってもよい。
圧力調節器721は、ターゲット生成制御部74の制御信号に基づいてタンク261内にガスを給気又はタンク261内のガスを排気してもよい。それにより、タンク261内の圧力は、目標圧力に調節され得る。
ピエゾ素子731は、パイプ状のノズル262の外側側面部に固定されてもよい。ノズル262に固定されたピエゾ素子731は、ノズル262に振動を与えてもよい。ノズル262に振動を与えるピエゾ素子731は、ピエゾ電源732と接続されてもよい。
ピエゾ電源732は、ピエゾ素子731に電力を供給してもよい。ピエゾ素子731に電力を供給するピエゾ電源732は、ターゲット生成制御部74と接続されてもよい。ピエゾ電源732には、ターゲット生成制御部74から出力された制御信号が入力されてもよい。
ターゲット生成制御部74から出力される制御信号は、ピエゾ電源732が所定波形でピエゾ素子731に電力を供給するための制御信号であってもよい。
ピエゾ電源732は、ターゲット生成制御部74の制御信号に基づいてピエゾ素子731に電力を供給してもよい。ピエゾ素子731は、所定波形に応じてノズル262に振動を与えてもよい。それにより、ノズル262からジェット状に噴出したターゲット27の流れには定在波が与えられ、当該ターゲット27が周期的に分離され得る。分離されたターゲット27は、自己の表面張力によって自由界面を形成してドロップレット271を形成し得る。
ターゲット生成制御部74は、EUV光生成制御部5との間で制御信号の送受を行い、ターゲット生成装置7全体の動作を統括的に制御してもよい。
ターゲット生成制御部74は、ヒータ電源712に制御信号を出力して、ヒータ電源712及びヒータ711の動作を制御してもよい。
ターゲット生成制御部74は、圧力調節器721に制御信号を出力して、圧力調節器721及びガスボンベ723の動作を制御してもよい。
ターゲット生成制御部74は、ピエゾ電源732に制御信号を出力して、ピエゾ電源732及びピエゾ素子731の動作を制御してもよい。
ターゲット生成制御部74は、温度調節機構282に含まれる後述の温度制御部282dに制御信号を出力して、温度調節機構282の動作を制御してもよい。
なお、ターゲット生成制御部74のハードウェア構成については、図15を用いて後述する。
図3を用いて、ターゲット回収部28の構成について説明する。
上述のように、ターゲット回収部28は、回収容器281と、温度調節機構282とを含んでもよい。
回収容器281は、チャンバ2内にドロップレット271として出力されたターゲット27を回収する容器であってもよい。このターゲット27は、ターゲット供給部26によってプラズマ生成領域25に供給されたターゲット27のうち、パルスレーザ光33が照射されなかったターゲット27であってもよい。
すなわち、回収容器281は、ターゲット供給部26によって供給されたターゲット27のうちEUV光251の生成に寄与しなかったターゲット27を回収してもよい。
回収容器281に回収されたターゲット27を「回収ターゲット273」ともいう。
回収容器281は、筒形状に形成されてもよい。筒形状の回収容器281の中心軸は、ターゲット進行経路272と一致してもよい。回収容器281の開口部281aは、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25と対向してもよい。回収容器281の底面部281bは、チャンバ2の壁2bの内面側に位置してもよい。回収容器281の側面部281cは、底面部281bから開口部281aに向って延びるように設けられてもよい。
回収容器281は、ターゲット27を開口部281aから内部に導入し、当該ターゲット27を、底面部281b及び側面部281cで形成される空間に貯留してもよい。回収容器281は、チャンバ2の内部でターゲット27を回収し得る。
温度調節機構282は、回収容器281内の温度を調節してもよい。
温度調節機構282は、ヒータ282aと、ヒータ電源282bと、温度センサ282cと、温度制御部282dとを含んでもよい。
ヒータ282aは、回収容器281の外表面を覆うように設けられてもよい。ヒータ282aは、底面部281b及び側面部281cの外表面に固定されてもよい。回収容器281に固定されたヒータ282aは、回収容器281を加熱してもよい。ヒータ282aは、ヒータ電源282bと接続されてもよい。
ヒータ電源282bは、ヒータ282aに電力を供給してもよい。ヒータ282aに電力を供給するヒータ電源282bは、温度制御部282dと接続されてもよい。ヒータ電源282bは、ヒータ282aへの電力供給を温度制御部282dによって制御されてもよい。
温度センサ282cは、回収容器281の底面部281bや側面部281cに固定されてもよい。温度センサ282cは、底面部281bや側面部281cの内部に埋め込まれて固定されもよい。温度センサ282cは、底面部281bや側面部281cの内側表面に固定され、回収ターゲット273と直接接していてもよい。
温度センサ282cは、温度制御部282dと接続されてもよい。温度センサ282cは、回収容器281の温度を検出し、検出信号を温度制御部282dに出力してもよい。
温度制御部282dには、温度センサ282cから出力された検出信号が入力されてもよい。温度制御部282dは、ターゲット生成制御部74と接続されてもよい。温度制御部282dは、温度センサ282cから出力された検出信号をターゲット生成制御部74に出力してもよい。温度制御部282dには、ターゲット生成制御部74から出力された制御信号が入力されてもよい。
ターゲット生成制御部74から出力される制御信号は、温度センサ282cから出力された検出信号に基づいて、回収容器281内の温度が目標温度になるようヒータ電源282bの動作を制御するための制御信号であってもよい。当該制御信号には、回収容器281内の温度を目標温度にするための温度設定値が含まれてもよい。
温度制御部282dは、ターゲット生成制御部74の制御信号に含まれる温度設定値に応じて、ヒータ電源282bからヒータ282aへ供給する電力を制御してもよい。それにより、回収容器281内の温度は、目標温度に調節され得る。
目標温度は、ターゲット27の融点以上の温度であってもよい。ターゲット27がスズであれば、目標温度は、例えば232℃以上270℃未満の温度であってもよい。或いは、目標温度は、270℃以上の温度であってもよい。目標温度に調節された回収容器281では、回収ターゲット273を溶融させ得る。
[4.2 動作]
図4を用いて、ターゲット生成装置7を含むEUV光生成装置1の動作の概要について説明する。具体的には、図2〜図4を用いて、ターゲット生成制御部74のターゲット供給に係る処理について説明する。
ターゲット生成制御部74は、EUV光生成制御部5から出力されたターゲット生成装置7の起動信号が入力されると、以下の処理を行ってもよい。
ステップS1において、ターゲット生成制御部74は、ターゲット生成装置7の初期設定を行ってもよい。
ターゲット生成制御部74は、ターゲット生成装置7の各構成部を起動し、各構成部の動作チェックを行ってもよい。そして、ターゲット生成制御部74は、各構成部を初期化して初期設定値を設定してもよい。
特に、ターゲット生成制御部74は、タンク261内の圧力が真空状態に近い圧力値となるように、圧力調節器721の初期圧力設定値を設定してもよい。真空状態に近い圧力値は、例えば1hPa程度であってもよい。
タンク261内に存在するターゲット27と反応しやすいガスは、ターゲット27が溶融する前に排気され得る。この際、ガスボンベ723から不活性ガスをタンク261内に数回給気して、タンク261内のパージ動作を行うようにしてもよい。
更に、ターゲット生成制御部74は、ターゲット27の温度がターゲット27の融点以上の値となるよう、ヒータ711の初期温度設定値を設定してもよい。ヒータ711の初期温度設定値は、例えば232℃以上270℃未満の温度であってもよい。
更に、ターゲット生成制御部74は、ターゲット27を回収したときに回収ターゲット273の温度がターゲット27の融点以上の値となるように、温度制御部283dを介してヒータ282aの初期温度設定値を設定してもよい。ヒータ282aの初期温度設定値は、例えば232℃以上270℃未満の温度であってもよい。
ステップS2において、ターゲット生成制御部74は、EUV光生成制御部5よりターゲット生成信号が入力されたか否かを判定してもよい。
ターゲット生成信号は、チャンバ2内のプラズマ生成領域25へのターゲット供給をターゲット生成装置7に実行させるための制御信号であってもよい。
ターゲット生成制御部74は、ターゲット生成信号が入力されるまで待機してもよい。ターゲット生成制御部74は、タンク261内の温度がターゲット27の融点以上の所定範囲内で維持されるように、ヒータ711による加熱を継続して制御してもよい。ターゲット生成制御部74は、回収容器281内の温度がターゲット27の融点以上の所定範囲内で維持されるように、ヒータ282aによる加熱を継続して制御してもよい。
ターゲット生成制御部74は、ターゲット生成信号が入力されたと判定されたならば、ステップS3に移行してもよい。
ステップS3において、ターゲット生成制御部74は、タンク261の温度を確認してもよい。ターゲット生成制御部74は、温度設定値を適宜修正し、ヒータ711による加熱を制御してもよい。タンク261に収容されたターゲット27は、その融点以上に加熱され得る。加熱されたターゲット27は、溶融し得る。
ステップS4において、ターゲット生成制御部74は、回収容器281の温度を確認してもよい。ターゲット生成制御部74は、温度制御部282dを介して温度設定値を適宜修正し、ヒータ282aによる加熱を制御してもよい。回収容器281に回収された回収ターゲット273は、その融点以上に加熱され得る。加熱された回収ターゲット273は、溶融し得る。
ステップS5において、ターゲット生成制御部74は、ピエゾ電源732を介してピエゾ素子731に電力を供給してもよい。
ピエゾ素子731は、ノズル262に振動を与え得る。溶融したターゲット27がノズル孔262aから噴出されていれば、溶融したターゲット27がノズル262の振動によって分離されて、ドロップレット271が形成され得る。
なお、ターゲット生成制御部74は、ピエゾ素子731へ所定波形の電力が供給されるようにピエゾ電源732の動作を制御してもよい。
この所定波形は、ドロップレット271が所定の生成周波数で生成されるような波形であってもよい。所定の生成周波数は、例えば50kHz〜100kHzであってもよい。
ステップS6において、ターゲット生成制御部74は、タンク261内の圧力がターゲット供給可能な圧力となる圧力設定値を圧力調節器721に設定してもよい。圧力調節器721は、設定された圧力設定値となるようにタンク261内の圧力を制御してもよい。
ターゲット供給可能な圧力は、溶融状態のターゲット27が一定量でノズル孔262aから噴出すると共に、プラズマ生成領域25に所定速度で到達するような圧力であってもよい。所定速度は、例えば60m/s〜100m/sであってもよい。
タンク261に収容された溶融状態のターゲット27は加圧され得る。加圧されたターゲット27は、タンク261からノズル262に向かって流れ、ノズル孔262aから一定量で噴出され得る。一定量で噴出されたターゲット27は、ピエゾ素子731から一定周期で振動が与えられ、一定周期で均一なドロップレット271が形成され得る。形成されたドロップレット271は、チャンバ2内に出力され得る。形成されたドロップレット271の直径は、例えば20μm〜30μmであってもよい。
EUV光生成制御部5は、ドロップレット271がプラズマ生成領域25に到達するのに同期してパルスレーザ光33がプラズマ生成領域25を照射するように、レーザ装置3におけるパルスレーザ光31の出力タイミングを制御してもよい。
プラズマ生成領域25に照射されたパルスレーザ光33は、プラズマ生成領域25に到達したドロップレット271を照射し得る。パルスレーザ光33が照射されたドロップレット271は、プラズマ化されEUV光251を生成し得る。
また、パルスレーザ光33が照射されなかったドロップレット271は、プラズマ生成領域25を通過してターゲット進行経路272を進行し、ターゲット回収部28に到達し得る。ターゲット回収部28に到達したドロップレット271は、回収容器281の開口部281aから入射して、回収容器281内に貯留され得る。このとき、回収容器281の温度は、ターゲット27の融点以上の所定範囲内で維持されていてもよい。このため、回収容器281に入射したドロップレット271は、溶融した状態で回収ターゲット273として回収容器281内に貯留され得る。
ステップS7において、ターゲット生成制御部74は、EUV光生成制御部5よりターゲット生成停止信号が入力されたか否かを判定してもよい。
ターゲット生成停止信号は、プラズマ生成領域25へのターゲット供給をターゲット生成装置7に停止させるための制御信号であってもよい。
ターゲット生成制御部74は、ターゲット生成停止信号が入力されたと判定されなければ、ステップS3に移行してもよい。一方、ターゲット生成制御部74は、ターゲット生成停止信号が入力されたと判定されたならば、本処理を終了してもよい。
[4.3 課題]
EUV光生成装置1は、ターゲット27を複数のドロップレット271としてプラズマ生成領域25に供給し得る。EUV光生成装置1は、プラズマ生成領域25に到達したターゲット27にパルスレーザ光33を照射し、当該ターゲット27をプラズマ化してEUV光251を生成し得る。
しかし、EUV光生成装置1は、プラズマ生成領域25に到達したターゲット27に対して一部にはパルスレーザ光33を照射しないことがあり得る。パルスレーザ光33が照射されなかったターゲット27は、ターゲット回収部28によって回収され得る。
パルスレーザ光33が照射されなかったターゲット27がターゲット回収部28に回収されるとき、当該ターゲット27は、回収容器281の開口部281aから回収容器281の内部に入射し得る。
このとき、入射したターゲット27は、図3に示すように、回収容器281に貯留された回収ターゲット273の液面273aに衝突し得る。液面273aを形成する溶融状態の回収ターゲット273は、衝突したターゲット27の衝撃力によって飛沫となり、飛散物274として跳ね上がることがあり得る。
跳ね上がった飛散物274は、開口部281aを通過してターゲット回収部28の外部に向かって飛散し得る。
溶融状態の回収ターゲット273が貯留されていない場合も、回収容器281に入射したターゲット27は、底面部281b又は側面部281cに衝突し得る。底面部281b又は側面部281cに衝突したターゲット27は、底面部281b又は側面部281cの表面で破壊されると共に飛散物274となって跳ね上がることがあり得る。或いは、底面部281b又は側面部281cで破壊されたターゲット27はそのまま固着し得る。固着したターゲット27に対して新たに入射したターゲット27が衝突すると、新たに入射したターゲット27は、固着したターゲット27上で破壊されて更に固着すると共に、更に飛散物274となって跳ね上がることが有り得る。
跳ね上がった飛散物274は、開口部281aを通過してターゲット回収部28の外部に向かって飛散し得る。
飛散物274は、直径が数μm程度の微粒子であり得る。飛散物274は、チャンバ2内に設けられた各種光学系に付着し、その性能を低下させ得る。特に、チャンバ2内に設けられたEUV集光ミラー23に飛散物274が付着すると、EUV集光ミラー23の反射率が低下し得る。EUV集光ミラー23の反射率が低下すると、EUV光251の出力が低下して問題となり得る。
よって、ターゲット回収部28の外部に飛散物274を飛散させることなく、パルスレーザ光33が照射されなかったターゲット27を効率的に回収し得る技術が望まれている。
[5.第1実施形態のEUV光生成装置が備えるターゲット回収部]
図5〜図10を用いて、第1実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28について説明する。
第1実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28は、ターゲット27を回収する際、ターゲット回収部28に入射したターゲット27の軌道を変化させてもよい。同時に、第1実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28は、入射したターゲット27がターゲット回収部28の衝突位置で留まって固着することを防止してもよい。
第1実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28の実施態様を、第1〜第4実施例として説明する。図2及び図3に示したターゲット回収部28と同様の構成については説明を省略する。
[5.1 ターゲット回収部の第1実施例]
図5〜図7を用いて、第1実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第1実施例のターゲット回収部28は、図5に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、抑止部284とを含んでもよい。
図5に示す第1実施例のターゲット回収部28の構成において、図3に示したターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
図5に示す回収容器281の構成は、図3に示した回収容器281の構成と同一であってもよい。
図5に示す温度調節機構282の構成は、図3に示した温度調節機構282の構成と同一であってもよい。
受け部283は、ターゲット回収部28に入射したターゲット27を受けてもよい。受け部283は、回収容器281の内部に設けられてもよい。
受け部283は、受け部材283aと、支持部材283bとを含んでもよい。
受け部材283aは、ターゲット回収部28に入射したターゲット27を、直に衝突させて当該ターゲット27を受けてもよい。受け部材283aは、ターゲット回収部28に入射したターゲット27を受ける面である受面Sを含んでもよい。
受け部材283aの受面Sは、ターゲット進行経路272の延長線上に位置してもよい。受面Sは、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25と対向して配置されてもよい。受面Sは、ターゲット進行経路272に対し、所定の傾斜角度で傾斜して配置されてもよい。受面Sの傾斜角度は、受面Sに入射したターゲット27の受面Sでの衝突により発生する飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散しないような角度であってもよい。受面Sは、所定の傾斜角度で傾斜して配置されることにより、ターゲット回収部28に入射したターゲット27の軌道を変化させ得る。
なお、受け部材283aの受面Sにターゲット27が衝突するときの様子については、図6を用いて後述する。
受け部材283aの受面Sは、コーティング材287aでコートされてもよい。コーティング材287aは、液体であるターゲット27との接触角が90°より大きい材料であってもよい。コーティング材287aがコートされた受面Sは、ターゲット回収部28に入射したターゲット27に対して濡れ難くなり得る。このため、受面Sに入射したターゲット27は、破壊された後、重力によって受面S上を底面部281b側に移動し、回収容器281に到達し得る。それにより、ターゲット回収部28に入射したターゲット27は、受面Sで留まって固着し難くなり得る。
なお、コーティング材287aの詳細については、図7を用いて後述する。
支持部材283bは、受け部材283aを回収容器281に対して着脱可能に固定してもよい。支持部材283bは、受け部材283aと一体成形されてもよい。
抑止部284は、受け部283で受けたターゲット27がターゲット回収部28の外部に飛散することを抑止してもよい。
図5に示す抑止部284は、受面Sに入射したターゲット27の受面Sでの衝突により発生した飛散物274が、ターゲット回収部28の外部に飛散することを抑止してもよい。
抑止部284は、回収容器281と一体成形されてもよい。
抑止部284は、筒形状に形成されてもよい。筒形状の抑止部284の中心軸は、回収容器281の中心軸と一致してもよい。筒形状の抑止部284は、回収容器281の開口部281aの周縁を基端として、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かって先端が延びるように形成されてもよい。筒形状の抑止部284の内径は、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かうに従って縮小するように形成されてもよい。
抑止部284の内周面は、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かうに従って内径が小さくなるテーパ面284bであってもよい。
テーパ面284bは、回収容器281の底面部281b又は側面部281cと対向してもよい。
テーパ面284bは、受け部材283aの受面Sと対向してもよい。ターゲット進行経路272に対するテーパ面284bの傾斜角度は、ターゲット進行経路272に対する受面Sの傾斜角度以上であってもよい。テーパ面284bは、受け部材283aの受面Sと平行であってもよい。
テーパ面284bは、受面Sに入射したターゲット27の飛散物274を、底面部281b側に更に反射し得る。それにより、当該飛散物274は、ターゲット回収部28の外部に飛散されなくなり得る。
ターゲット供給部26側に位置する抑止部284の先端には、開口部284aが設けられてもよい。開口部284aの直径は、ターゲット27の直径よりも十分に大きくてもよい。開口部284aの直径は、例えば30mmであってもよい。
開口部284aは、ターゲット回収部28に入射したターゲット27を、受け部283の受け部材283aに導入し得る。
図6を用いて、受け部材283aの受面Sにターゲット27が衝突するときの様子について説明する。
ターゲット回収部28に入射したターゲット27は、受面Sの法線方向に対して入射角度θで入射すると、受面Sに衝突し得る。
このとき、ターゲット27は、受面Sでの衝突により破壊され得る。破壊されたターゲット27は、受面S上を移動するターゲット27と、受面Sで反射されて飛散する飛散物274とに分かれ得る。この飛散物274は、複数の微粒子からなる。
複数の微粒子からなる飛散物274は、ターゲット27の入射角度θに等しい反射角度θの方向を中心軸とする円錐状の広がりをもって飛散し得る。この飛散物274は、図5に示すように、抑止部284のテーパ面284bにて底面部281b側に更に反射され得る。テーパ面284bにて反射された飛散物274は、回収容器281に到達し得る。
受面Sのターゲット進行経路272に対する傾斜角度は、ターゲット27の入射角度θが0°<θ<90°となるような角度であってもよい。
仮にターゲット27の入射角度θがθ=0°となるよう受面Sの傾斜角度を設定すると、受面Sはターゲット進行経路272に対して直交し得る。このため、ターゲット27の受面Sでの衝突により発生した飛散物274は、開口部284aを通過してターゲット回収部28の外部に飛散し得る。
仮にターゲット27の入射角度θがθ=90°となるよう受面Sの傾斜角度を設定すると、受面Sはターゲット進行経路272に対して平行となり得る。このため、ターゲット回収部28に入射したターゲット27は、受面Sで受けられることなく、回収ターゲット273の液面273aに衝突し得る。液面273aを形成する回収ターゲット273は、衝突したターゲット27の衝撃力によって飛沫となり、飛散物274として跳ね上がり得る。跳ね上がった飛散物274は、開口部284aを通過してターゲット回収部28の外部に飛散し得る。
このように、受面Sのターゲット進行経路272に対する傾斜角度は、ターゲット27の入射角度θが0°<θ<90°となるような角度であってもよい。
更に好適には、受面Sのターゲット進行経路272に対する傾斜角度は、ターゲット27の入射角度θが45°<θ<90°となるような角度であってもよい。このとき、受面Sのターゲット進行経路272に対する傾斜角度は、更に鋭角となり得る。このため、ターゲット27の受面Sでの衝突により発生した飛散物274は、回収容器281の底面部281b側に向かって飛散し易くなり得る。そして、当該飛散物274は、抑止部284が備えるテーパ面284bの底面部281b側で反射され易くなり得る。テーパ面284bの底面部281b側で反射された飛散物274は、回収容器281に到達し易くなり得る。それにより、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを一層抑止し得る。
図7を用いて、コーティング材287aの詳細について説明する。
図7は、溶融スズに対する各種材料の接触角を示す表である。図7の表は、「ぬれ技術ハンドブック〜基礎・測定評価・データ〜」(監修:石井淑夫、小石眞純、角田光雄、発行所:株式会社テクノシステム)に基づいている。
一般に、接触角αが0°<α≦90°の範囲にある状態は浸漬濡れという。このとき、固体は液体に濡れ易い。浸漬濡れでは、固体は液体に浸漬して浸み込み易い。
一方、接触角αが90°<α≦180°の範囲にある状態は付着濡れという。このとき、固体は液体に濡れ難い。付着濡れでは、固体表面に接触した液体は重力方向に移動し易い。
ターゲット27は、スズであってもよい。ターゲット回収部28に入射するターゲット27は、ドロップレット271の形態を成す溶融スズであってもよい。
受け部材283aの受面Sにコートするコーティング材287aは、溶融スズに濡れ難い材料であってもよい。溶融スズに濡れ難い材料とは、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料であってもよい。
ターゲット27との接触角が90°より大きい材料は、例えば図7に示すように、炭化珪素、酸化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭素、真空加熱処理を施さない酸化モリブデンであり得る。炭素には、例えば黒鉛、ダイアモンド、グラシーカーボン、ダイアモンドライクカーボン等が含まれていてもよい。なお、酸化モリブデンは、真空加熱処理を施すと、表面の吸着層や酸化物層が除去され、溶融スズが濡れ易くなり得る。
なお、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料は、受け部材283aの受面Sにコートするコーティング材287aとして用いることに限定されない。ターゲット27との接触角が90°より大きい材料は、受け部材283a自体の構成材料として用いてもよい。
受け部材283a自体の構成材料として黒鉛を用いる場合には、発塵性が少なく、且つ、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料を表面にコートしてもよい。発塵性が少なく、且つ、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料は、例えば、ダイアモンド、グラシーカーボン、ダイアモンドライクカーボン、炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化珪素、炭化珪素、窒化珪素であってもよい。
上記構成により、第1実施例のターゲット回収部28では、ターゲット回収部28に入射したターゲット27が受け部材283aの受面Sに直に衝突し得る。受面Sに衝突したターゲット27は、破壊され得る。破壊されたターゲット27は、受面S上を移動するターゲット27と、受面Sで反射されて飛散する飛散物274とに分かれ得る。
受面S上を移動するターゲット27は、コーティング材287aによって受面Sで留まって固着することなく、受面Sに沿って底面部281b側に移動し得る。受面Sに沿って底面部281b側に移動したターゲット27は、受面Sから落下して回収容器281に到達し得る。このため、新たに入射したターゲット27が受面Sに固着したターゲット27に衝突することを防止し得る。それにより、新たに入射したターゲット27が、固着したターゲット27上に更に固着することを防止し得ると共に飛散物274となって飛散することを防止し得る。
一方、受面Sで反射されて飛散する飛散物274は、抑止部284のテーパ面284bにて底面部281b側に更に反射され得る。テーパ面284bにて反射された飛散物274は、回収容器281に到達し得る。
よって、第1実施例のターゲット回収部28は、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを抑止し得る。
[5.2 ターゲット回収部の第2実施例]
図8を用いて、第2実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第2実施例のターゲット回収部28は、図8に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、抑止部284と、ガイド部285とを含んでもよい。
図8に示す第2実施例のターゲット回収部28の構成において、図5に示した第1実施例のターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
図8に示す温度調節機構282の構成は、図5に示した温度調節機構282の構成と同一であってもよい。
図8に示す受け部283の構成は、図5に示した受け部283の構成と同一であってもよい。
図8に示す回収容器281は、底面部281b及び側面部281cの内面がコーティング材287aでコートされていてもよい。
回収容器281は、チャンバ2の外部に配置されてもよい。
回収容器281のその他の構成は、図5に示した回収容器281の構成と同一であってもよい。
図8に示す抑止部284は、テーパ面284bがコーティング材287aでコートされていてもよい。
抑止部284は、チャンバ2の外部に配置されてもよい。
抑止部284のその他の構成は、図5に示した抑止部284の構成と同一であってもよい。
ガイド部285は、ターゲット進行経路272から外れてターゲット回収部28に入射したターゲット27を、回収容器281の開口部281a又は抑止部284の開口部284aに導いてもよい。
ガイド部285は、チャンバ2の内部に配置されてもよい。ガイド部285は、抑止部284及び回収容器281と一体成形されてもよい。
ガイド部285は、筒形状に形成されてもよい。筒形状のガイド部285の中心軸は、回収容器281の中心軸と一致してもよい。筒形状のガイド部285は、抑止部284の開口部284aの周縁を基端として、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かって先端が延びるように形成されてもよい。筒形状のガイド部285の内径は、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かうに従って拡大するように形成されてもよい。
ガイド部285の内周面は、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かうに従って内径が大きくなるテーパ面285bであってもよい。
テーパ面285bは、コーティング材287aでコートされていてもよい。
テーパ面285bは、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25と対向してもよい。
テーパ面285bは、受け部材283aの受面Sと対向してもよい。ターゲット進行経路272に対するテーパ面285bの傾斜角度は、ターゲット進行経路272に対する受面Sの傾斜角度以下であってもよい。
テーパ面285bは、ターゲット進行経路272から外れてターゲット回収部28に入射したターゲット27を、底面部281b側にある抑止部284の開口部284aに向かって反射し得る。それにより、ターゲット進行経路272から外れてターゲット回収部28に入射したターゲット27は、開口部284aに導かれ得る。
ターゲット供給部26側に位置するガイド部285の先端には、開口部285aが設けられてもよい。開口部285aの直径は、抑止部284の開口部284aの直径よりも大きくてもよい。
開口部285aは、ターゲット進行経路272を通ってターゲット回収部28に入射したターゲット27を、開口部284aに導入し得る。また、開口部285aは、ターゲット進行経路272から外れてターゲット回収部28に入射したターゲット27を、テーパ面285bを介して開口部284aに導入し得る。開口部284aに導入されたターゲット27は、受け部283の受け部材283aに受けられ得る。
上記構成により、第2実施例のターゲット回収部28では、ターゲット進行経路272から外れて入射したターゲット27が、ガイド部285のテーパ面285bに衝突し得る。テーパ面285bに衝突したターゲット27は破壊され得る。破壊されたターゲット27は、コーティング材287aがコートされたテーパ面285bで留まることなく底面部281b側に反射され得る。テーパ面285bで反射されたターゲット27は、抑止部284の開口部284aに導かれ得る。
また、第2実施例のターゲット回収部28では、ターゲット進行経路272を通って入射したターゲット27は、ガイド部285のテーパ面285bを介さずに抑止部284の開口部284aに導かれ得る。
開口部284aに導かれたターゲット27は、受け部283が備える受け部材283aの受面Sに衝突し得る。受面Sに衝突したターゲット27は、第1実施例のターゲット回収部28と同様に、受面Sで固着せずに底面部281b側に移動し、又は、抑止部284のテーパ面284bを介して回収容器281に到達し得る。
よって、第2実施例のターゲット回収部28は、第1実施例のターゲット回収部28と同様に、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを抑止し得る。更に、第2実施例のターゲット回収部28は、ターゲット進行経路272から外れて入射したターゲット27も、外部に飛散させることなく回収し得る。
[5.3 ターゲット回収部の第3実施例]
図9を用いて、第3実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第3実施例のターゲット回収部28は、図9に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、第2受け部288と、第3受け部289と、抑止部284と、ガイド部285とを含んでもよい。
図9に示す第3実施例のターゲット回収部28の構成において、図8に示した第2実施例のターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
図9に示す回収容器281の構成は、図8に示した回収容器281の構成と同一であってもよい。
図9に示す温度調節機構282の構成は、図8に示した温度調節機構282の構成と同一であってもよい。
図9に示す受け部283の構成は、図8に示した受け部283の構成と同一であってもよい。
図9に示す抑止部284の構成は、図8に示した抑止部284の構成と同一であってもよい。
図9に示すガイド部285の構成は、図8に示したガイド部285の構成と同一であってもよい。
図9に示す第2受け部288は、抑止部284のテーパ面284bで反射された飛散物274を受けてもよい。
第2受け部288は、第2受け部材288aと、第2支持部材288bとを含んでもよい。
第2受け部材288aは、テーパ面284bで反射された飛散物274を受ける面を含んでもよい。テーパ面284bで反射された飛散物274を受ける面は、テーパ面284b及び第3受け部289と対向していてもよい。テーパ面284bで反射された飛散物274を受ける面は、ターゲット進行経路272に対し、所定の傾斜角度で傾斜して配置されてもよい。テーパ面284bで反射された飛散物274を受ける面は、コーティング材287aでコートされていてもよい。
第2受け部材288aは、テーパ面284bで反射された飛散物274を、第3受け部289に反射してもよい。
第2支持部材288bは、第2受け部材288aを回収容器281に対して着脱可能に固定してもよい。第2支持部材288bは、第2受け部材288aと一体成形されてもよい。
図9に示す第3受け部289は、第2受け部288の第2受け部材288aで反射された飛散物274を受けてもよい。
第3受け部289は、第3受け部材289aと、第3支持部材289bとを含んでもよい。
第3受け部材289aは、第2受け部材288aで反射された飛散物274を受ける面を含んでもよい。第2受け部材288aで反射された飛散物274を受ける面は、第2受け部材288a及び底面部281bと対向してもよい。第2受け部材288aで反射された飛散物274を受ける面は、ターゲット進行経路272に対し、所定の傾斜角度で傾斜して配置されてもよい。第2受け部材288aで反射された飛散物274を受ける面は、コーティング材287aでコートされていてもよい。
第3受け部材289aは、第2受け部材288aで反射された飛散物274を、底面部281bに反射してもよい。
第3支持部材289bは、第3受け部材289aを回収容器281に対して着脱可能に固定してもよい。第3支持部材289bは、第3受け部材289aと一体成形されてもよい。
第2受け部288及び第3受け部289のその他の構成は、受け部283の構成と同一であってもよい。
上記構成により、第3実施例のターゲット回収部28では、抑止部284のテーパ面284bにて反射された飛散物274が、底面部281b側に向かって更に複数回反射された後、回収容器281に到達し得る。テーパ面284bにて反射された飛散物274が更に複数回反射されると、当該飛散物274は更に細かく破壊されると共に減速され得る。細かく破壊されると共に減速された飛散物274が、回収ターゲット273の液面273aに衝突する際には、当該飛散物274が液面273aに与える衝撃力は弱くなり得る。このため、液面273aを形成する回収ターゲット273の飛散物274は、跳ね上がり難くなり得る。
更に、受け部283、第2受け部288、及び第3受け部289は、回収ターゲット273の飛散物274がターゲット回収部28の外部へ向かうための経路を、遮断し得る。
よって、第3実施例のターゲット回収部28は、第2実施例のターゲット回収部28に比べて、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを更に抑止し得る。
[5.4 ターゲット回収部の第4実施例]
図10を用いて、第4実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第4実施例のターゲット回収部28は、図10に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、抑止部284と、ガイド部285とを含んでもよい。
図10に示す第4実施例のターゲット回収部28の構成において、図8に示した第2実施例のターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
図10に示す回収容器281の構成は、図8に示した回収容器281の構成と同一であってもよい。
図10に示す温度調節機構282の構成は、図8に示した温度調節機構282の構成と同一であってもよい。
図10に示すガイド部285の構成は、図8に示したガイド部285の構成と同一であってもよい。
図10に示す受け部283は、図8に示した受け部283のように、回収容器281とは別体の部材である受け部材283a及び支持部材283bによって構成されていなくてもよい。図10に示す受け部283は、回収容器281と一体成形されていてもよい。
図10に示す受け部283は、その受面Sが、回収容器281の側面部281cの内周面の一部から内側に向かって突出するように形成されていてもよい。
図10に示す受け部283及び抑止部284は、少なくとも当該受け部283の受面S及び当該抑止部284のテーパ面284bを内壁面とする管路を形成していてもよい。当該管路は、ガイド部285と回収容器281とを連通させる管路であってもよい。当該管路は、入射したターゲット27を、その内壁面で複数回反射させた後に、回収容器281へ導入してもよい。
受け部283及び抑止部284のその他の構成は、図8に示した受け部283及び抑止部284の構成と同一であってもよい。
上記構成により、第4実施例のターゲット回収部28では、第3実施例のターゲット回収部28と同様に、第2実施例のターゲット回収部28よりもターゲット27を多数回反射させた後に、回収容器281へ導入し得る。
よって、第4実施例のターゲット回収部28は、第2実施例のターゲット回収部28に比べて、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを更に抑止し得る。
更に、第4実施例のターゲット回収部28は、第3実施例のターゲット回収部28に比べて、部品点数が少なくて済み、且つ、簡易な構造であるため、低コスト化を図り得る。
[6.第2実施形態のEUV光生成装置が備えるターゲット回収部]
図11〜図13を用いて、第2実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28について説明する。
第2実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28は、ターゲット27を回収する際、ターゲット回収部28に入射したターゲット27の軌道を変化させてもよい。同時に、第2実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28は、入射したターゲット27がターゲット回収部28の衝突位置で留まって固着することを防止してもよい。同時に、第2実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28は、入射したターゲット27がターゲット回収部28に衝突する際の衝撃を緩和させてもよい。
第2実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28の実施態様を、第5及び第6実施例として説明する。図2及び図3に示したターゲット回収部28、並びに図5〜図10に示した第1〜第4実施例のターゲット回収部28と同様の構成については説明を省略する。
[6.1 ターゲット回収部の第5実施例]
図11及び図12を用いて、第5実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第5実施例のターゲット回収部28は、図11に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、抑止部284と、ガイド部285とを含んでもよい。
図11に示す第5実施例のターゲット回収部28の構成において、図8に示した第2実施例のターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
図11に示す温度調節機構282の構成は、図8に示した温度調節機構282の構成と同一であってもよい。
図11に示す受け部283は、受け部材283aの受面Sがコーティング材287aではなくダンパ材287bで覆われていてもよい。ダンパ材287bは、衝撃を吸収する材料であってもよい。同時に、ダンパ材287bは、液体であるターゲット27との接触角が90°より大きい材料であってもよい。
ダンパ材287bは、黒鉛化フェルトであってもよい。黒鉛化フェルトは、直径5μm程度の炭素繊維が3次元の網目状に絡まり合って形成されたフェルト材であってもよい。黒鉛化フェルトは、溶融スズとの接触角が149°であり、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料であり得る。
また、ダンパ材287bは、多孔質構造のセラミック材やガラス材であってもよい。ダンパ材287bは、例えば、ダンパ材287bは、炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化珪素等で形成された多孔質構造のセラミック材やガラス材であってもよい。ダンパ材287bは、石英のガラス繊維からなる織布であってもよい。
ダンパ材287bで覆われた受面Sは、図12に示すように、ターゲット回収部28に入射したターゲット27が衝突したときの衝撃を吸収し得る。受面Sに衝突したターゲット27に作用する外力は、ダンパ材287bで覆われていない場合に比べて緩和され得る。このため、受面Sに衝突したターゲット27は、ダンパ材287bで覆われていない場合に比べて、破壊され難くなり得る。受面Sに衝突したターゲット27が破壊される場合でも、ダンパ材287bで覆われていない場合に比べて、受面Sでの衝突により発生する飛散物274の量及び飛散速度が、著しく抑制され得る。
また、ダンパ材287bで覆われた受面Sは、ターゲット回収部28に入射したターゲット27に対して濡れ難くなり得る。このため、受面Sに衝突して破壊されたターゲット27は、受面Sで留まって固着することなく、受面Sに沿って底面部281b側に移動し得る。受面Sに沿って底面部281b側に移動したターゲット27は、受面Sから落下して回収容器281に到達し得る。それにより、新たに入射したターゲット27が、固着したターゲット27上に更に固着することを防止し得ると共に飛散物274となって飛散することを防止し得る。
衝撃を吸収し、且つ、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料は、受け部材283aの受面Sを覆うダンパ材287bとして用いることに限定されない。衝撃を吸収し、且つ、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料は、受け部材283a自体の構成材料として用いてもよい。衝撃を吸収し、且つ、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料は、抑止部284又はガイド部285自体の構成材料として用いてもよい。
図11に示す受け部283のその他の構成は、図8に示す受け部283の構成と同一であってもよい。
図11に示す回収容器281は、底面部281b及び側面部281cの内面がコーティング材287aでコートされていなくてもよい。底面部281b及び側面部281cの内面は、図示していないがダンパ材287bで覆われていてもよい。
回収容器281のその他の構成は、図8に示した回収容器281の構成と同一であってもよい。
図11に示す抑止部284は、テーパ面284bがダンパ材287bで覆われていてもよい。テーパ面284bの受面Sとの対向面が、ダンパ材287bで覆われていてもよい。
ダンパ材287bで覆われたテーパ面284bは、受面Sでの衝突により発生した飛散物274が、テーパ面284bに衝突したときの衝撃を吸収し得る。それにより、テーパ面284bでの衝突により発生する飛散物274の量及び飛散速度を抑制し得る。加えて、受面Sでの衝突により発生した飛散物274が、テーパ面284bで留まって固着することを抑制し得る。
抑止部284のその他の構成は、図8に示した抑止部284の構成と同一であってもよい。
図11に示すガイド部285は、テーパ面285bがダンパ材287bで覆われていてもよい。ダンパ材287bで覆われたテーパ面285bは、ターゲット進行経路272から外れてターゲット回収部28に入射したターゲット27が衝突したときの衝撃を吸収し得る。それにより、テーパ面285bでの衝突により発生する飛散物274の量及び飛散速度を抑制し得る。加えて、ターゲット進行経路272から外れてターゲット回収部28に入射したターゲット27が、テーパ面285bで留まって固着することを抑制し得る。
ガイド部285のその他の構成は、図8に示したガイド部285の構成と同一であってもよい。
上記構成により、第5実施例のターゲット回収部28では、ターゲット回収部28に入射したターゲット27が受け部材283aの受面Sに直に衝突し得る。
このとき、受面Sのダンパ材287bによって、ターゲット27が受面Sに衝突したときの衝撃は吸収され得る。このため、受面Sでの衝突により発生する飛散物274は、第2実施例のターゲット回収部28に比べて、その量及び飛散速度が著しく抑制され得る。
また、このとき、受面Sのダンパ材287bによって、受面Sはターゲット27に対して濡れ難くなり得る。このため、ターゲット回収部28に入射したターゲット27は、第2実施例のターゲット回収部28と同様に、受面Sで留まって固着し難くなり得る。
よって、第5実施例のターゲット回収部28は、第2実施例のターゲット回収部28に比べて、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを更に抑止し得る。
また、第5実施例のターゲット回収部28では、ターゲット進行経路272から外れてターゲット回収部28に入射したターゲット27が、ガイド部285のテーパ面285bを介して、受け部材283aの受面Sに衝突し得る。
このとき、テーパ面285bのダンパ材287bによって、ターゲット27がテーパ面285bに衝突したときの衝撃は吸収され得る。このため、テーパ面285bでの衝突により発生する飛散物274は、第2実施例のターゲット回収部28に比べて、その量及び飛散速度が著しく抑制され得る。
また、このとき、テーパ面285bのダンパ材287bによって、テーパ面285bはターゲット27に対して濡れ難くなり得る。このため、ターゲット回収部28に入射したターゲット27は、第2実施例のターゲット回収部28と同様に、テーパ面285bで留まって固着し難くなり得る。
よって、第5実施例のターゲット回収部28は、第2実施形態のターゲット回収部28に比べて、ターゲット進行経路272から外れて入射したターゲット27を、外部に飛散させることなく回収し易くなり得る。
[6.2 ターゲット回収部の第6実施例]
図13を用いて、第6実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第6実施例のターゲット回収部28は、図13に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、第2受け部288と、第3受け部289と、抑止部284と、ガイド部285とを含んでもよい。
図13に示す第6実施例のターゲット回収部28の構成において、図9に示した第3実施例のターゲット回収部28と同一の構成については説明を省略する。
図13に示す回収容器281の構成は、図9に示した回収容器281の構成と同一であってもよい。
図13に示す温度調節機構282の構成は、図9に示した温度調節機構282の構成と同一であってもよい。
図13に示す受け部283の構成は、図9に示した受け部283の構成と同一であってもよい。
図13に示すガイド部285の構成は、図9に示したガイド部285の構成と同一であってもよい。
図13に示す抑止部284は、テーパ面284bの受面Sとの対向面が、ダンパ材287bで覆われていてもよい。
ダンパ材287bで覆われたテーパ面284bは、受面Sでの衝突により発生した飛散物274が、テーパ面284bに衝突したときの衝撃を吸収し得る。それにより、テーパ面284bへの衝突により発生する飛散物274の量及び飛散速度を抑制し得る。加えて、受面Sでの衝突により発生した飛散物274が、テーパ面284bで留まって固着することを抑制し得る。
抑止部284のその他の構成は、図9に示した抑止部284の構成と同一であってもよい。
図13に示す第2受け部288は、テーパ面284bでの衝突により発生する飛散物274を受ける第2受け部材288aの面が、ダンパ材287bで覆われていてもよい。
図13に示す第3受け部289は、第2受け部材288aでの衝突により発生する飛散物274を受ける第3受け部材289aの面が、ダンパ材287bで覆われていてもよい。
ダンパ材287bで覆われた第2受け部材288a及び第3受け部材289aの各面は、当該各面に飛散物274が衝突したときの衝撃を吸収し得る。それにより、当該各面での衝突により発生する飛散物274の量及び飛散速度を抑制し得る。加えて、当該各面に衝突した飛散物274が、当該各面で留まって固着することを抑制し得る。
第2受け受け部288及び第3受け部289のその他の構成は、図9に示した第2受け受け部288及び第3受け部289の構成と同一であってもよい。
上記構成により、第6実施例のターゲット回収部28では、受面Sでの衝突により発生した飛散物274が、抑止部284、第2受け部288、及び第3受け部289にそれぞれ衝突したときの衝撃力を吸収し得る。それにより、抑止部284、第2受け部288、及び第3受け部289での衝突により発生する飛散物274の量及び飛散速度を、第3実施例のターゲット回収部28に比べて抑制し得る。
よって、第6実施例のターゲット回収部28は、第3実施例のターゲット回収部28に比べて、飛散物274がターゲット回収部28の外部に飛散することを更に抑止し得る。
[7.第3実施形態のEUV光生成装置が備えるターゲット回収部]
図14を用いて、第3実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28について説明する。
第3実施形態のEUV光生成装置1は、EUV光生成装置1のチャンバ2から露光装置6に向かってEUV光252を導出する方向であるZ方向を、水平方向に対して傾斜させてもよい。このため、チャンバ2は、その中心軸方向が水平方向に対して傾斜するように設けられてもよい。チャンバ2の側面部に設けられたターゲット供給部26は、ノズル262の中心軸方向が重力方向に対して傾斜するように設けられてもよい。ターゲット進行経路272は、重力方向に対して傾斜され得る。
第3実施形態のEUV光生成装置1が備えるターゲット回収部28の実施態様を、第7実施例として説明する。図2及び図3に示したターゲット回収部28、図5〜図10に示した第1〜第4実施例のターゲット回収部28、並びに図11〜図13に示した第5及び第6実施例のターゲット回収部28と同様の構成については説明を省略する。
[7.1 ターゲット回収部の第7実施例]
図14を用いて、第7実施例のターゲット回収部28の構成について説明する。
第7実施例のターゲット回収部28は、図14に示すように、回収容器281と、温度調節機構282と、受け部283と、抑止部284と、ガイド部285と、配管286と、を含んでもよい。
図14に示す温度調節機構282の構成は、図11に示した温度調節機構282の構成と同一であってもよい。
図14に示す回収容器281は、その中心軸方向が重力方向に平行となるように配置されていてもよい。
回収容器281は、底面部281b及び側面部281cの内面がダンパ材287bで覆われていてもよい。
回収容器281のその他の構成は、図11に示した回収容器281の構成と同一であってもよい。
図14に示すガイド部285は、その中心軸方向がターゲット進行経路272と一致するように配置されていてもよい。ガイド部285の中心軸方向は、重力方向に対して傾斜し得る。
ガイド部285は、配管286の端部を基端として、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25に向かって先端が延びるように形成されてもよい。
ガイド部285は、ターゲット回収部28に入射したターゲット27を、配管286を介して抑止部284の開口部284aに導いてもよい。ガイド部285は、当該ターゲット27のテーパ面285bでの衝突により発生した飛散物274を、配管286を介して開口部284aに導いてもよい。
ガイド部285のその他の構成は、図11に示したガイド部285の構成と同一であってもよい。
配管286は、回収容器281とガイド部285とを連結してもよい。
配管286は、チャンバ2の外部に配置されてもよい。
配管286の内周面は、ダンパ材287bで覆われていてもよい。
配管286は、ガイド部285の開口部285aとは反対側の端部を基端として、回収容器281と一体成形された抑止部284に向かって先端が延びるように形成されてもよい。ガイド部285を基端として延びる配管286は、ターゲット進行経路272の延長線上で屈曲されて、先端が抑止部284に向かって延びるように形成されていてもよい。配管286は、回収容器281及び抑止部284とガイド部285とを連通させ得る。
配管286の屈曲部は、ターゲット進行経路272の延長線と、回収容器281及び抑止部284の中心軸の延長線との交点に位置してもよい。
配管286の屈曲部は、配管受け部286aを含んでもよい。
配管受け部286aは、ターゲット回収部28に入射したターゲット27又はその飛散物274を受けてもよい。配管受け部286aは、入射したターゲット27又はその飛散物274を、受面Sで衝突させることによって受けてもよい。配管受け部286aの受面Sは、ダンパ材287bで覆われていてもよい。ダンパ材287bで覆われた受面Sは、入射したターゲット27又はその飛散物274が衝突したときの衝撃を吸収し得る。
配管受け部286aの受面Sは、ターゲット供給部26及びプラズマ生成領域25と対向して配置されてもよい。受面Sは、受け部283の後述する受面Pと対向して配置されていてもよい。
配管受け部286aの受面Sは、ターゲット進行経路272の延長線上に位置してもよい。受面Sは、ターゲット進行経路272に対し、所定の傾斜角度で傾斜して配置されてもよい。受面Sの傾斜角度は、受面Sでの衝突により発生する飛散物274が、ターゲット回収部28の外部に飛散しないような角度であってもよい。受面Sのターゲット進行経路272に対する傾斜角度は、ターゲット27の入射角度θが0°<θ<90°となるような角度であってもよい。更に好適には、受面Sのターゲット進行経路272に対する傾斜角度は、ターゲット27の入射角度θが45°<θ<90°となるような角度であってもよい。
配管受け部286aの受面Sは、受面Sに衝突したターゲット27又はその飛散物274を、受け部283の受面Pに向かって反射してもよい。
図14に示す受け部283は、配管受け部286aの受面Sで反射されたターゲット27又はその飛散物274を受けてもよい。
受け部283の受け部材283aは、配管受け部286aの受面Sで反射されたターゲット27又はその飛散物274を、受面Pで衝突させることによって受けてもよい。受け部材283aの受面Pのその他の構成は、図11に示した受け部283の受面Sの構成と同一であってもよい。
受け部283のその他の構成は、図11に示した受け部283の構成と同一であってもよい。
図14に示す抑止部284は、受面Pでの衝突により発生した飛散物274が、ターゲット回収部28の外部に飛散することを抑止してもよい。
抑止部284は、回収容器281の開口部281aの周縁を基端として、回収容器281の中心軸方向である反重力方向に向かって先端が延びるように形成されてもよい。抑止部284の先端は、配管286の端部に接続されてもよい。
抑止部284のテーパ面284bは、受け部283の受面Pとの対向面以外にもダンパ材287bで覆われていてもよい。
抑止部284のその他の構成は、図11に示した抑止部284の構成と同一であってもよい。
上記構成により、第7実施例のターゲット回収部28では、重力方向に対して傾斜したターゲット進行経路272を通って入射したターゲット27や、当該ターゲット進行経路272から外れて入射したターゲット27を、外部に飛散させることなく回収し得る。
[8.その他]
[8.1 各制御部のハードウェア環境]
当業者は、汎用コンピュータまたはプログラマブルコントローラにプログラムモジュールまたはソフトウェアアプリケーションを組み合わせて、ここに述べられる主題が実行されることを理解するだろう。一般的に、プログラムモジュールは、本開示に記載されるプロセスを実行できるルーチン、プログラム、コンポーネント、データストラクチャー等を含む。
図15は、開示される主題の様々な側面が実行され得る例示的なハードウェア環境を示すブロック図である。図15の例示的なハードウェア環境100は、処理ユニット1000と、ストレージユニット1005と、ユーザインターフェイス1010と、パラレルI/Oコントローラ1020と、シリアルI/Oコントローラ1030と、A/D、D/Aコンバータ1040とを含んでもよいが、ハードウェア環境100の構成は、これに限定されない。
処理ユニット1000は、中央処理ユニット(CPU)1001と、メモリ1002と、タイマ1003と、画像処理ユニット(GPU)1004とを含んでもよい。メモリ1002は、ランダムアクセスメモリ(RAM)とリードオンリーメモリ(ROM)とを含んでもよい。CPU1001は、市販のプロセッサのいずれでもよい。デュアルマイクロプロセッサや他のマルチプロセッサアーキテクチャが、CPU1001として使用されてもよい。
図15におけるこれらの構成物は、本開示において記載されるプロセスを実行するために、相互に接続されていてもよい。
動作において、処理ユニット1000は、ストレージユニット1005に保存されたプログラムを読み込んで、実行してもよい、また、処理ユニット1000は、ストレージユニット1005からプログラムと一緒にデータを読み込んでもよい、また、処理ユニット1000は、ストレージユニット1005にデータを書き込んでもよい。CPU1001は、ストレージユニット1005から読み込んだプログラムを実行してもよい。メモリ1002は、CPU1001によって実行されるプログラムおよびCPU1001の動作に使用されるデータを、一時的に保管する作業領域であってもよい。タイマ1003は、時間間隔を計測して、プログラムの実行に従ってCPU1001に計測結果を出力してもよい。GPU1004は、ストレージユニット1005から読み込まれるプログラムに従って、画像データを処理し、処理結果をCPU1001に出力してもよい。
パラレルI/Oコントローラ1020は、EUV光生成制御部5、レーザ光進行方向制御部34、ターゲット生成制御部74、及び温度制御部282d等の、処理ユニット1000と通信可能なパラレルI/Oデバイスに接続されてもよく、処理ユニット1000とそれらパラレルI/Oデバイスとの間の通信を制御してもよい。シリアルI/Oコントローラ1030は、ヒータ電源712、ヒータ電源282b、ピエゾ電源732、及び圧力調節器721等の、処理ユニット1000と通信可能なシリアルI/Oデバイスに接続されてもよく、処理ユニット1000とそれらシリアルI/Oデバイスとの間の通信を制御してもよい。A/D、D/Aコンバータ1040は、アナログポートを介して、温度センサ、圧力センサ、真空計各種センサ、ターゲットセンサ4、及び温度センサ282c等のアナログデバイスに接続されてもよく、処理ユニット1000とそれらアナログデバイスとの間の通信を制御したり、通信内容のA/D、D/A変換を行ってもよい。
ユーザインターフェイス1010は、操作者が処理ユニット1000にプログラムの停止や、割込みルーチンの実行を指示できるように、処理ユニット1000によって実行されるプログラムの進捗を操作者に表示してもよい。
例示的なハードウェア環境100は、本開示におけるEUV光生成制御部5、レーザ光進行方向制御部34、ターゲット生成制御部74、及び温度制御部282dの構成に適用されてもよい。当業者は、それらのコントローラが分散コンピューティング環境、すなわち、通信ネットワークを介して繋がっている処理ユニットによってタスクが実行される環境において実現されてもよいことを理解するだろう。本開示において、EUV光生成制御部5、レーザ光進行方向制御部34、ターゲット生成制御部74、及び温度制御部282dは、イーサネットやインターネットといった通信ネットワークを介して互いに接続されてもよい。分散コンピューティング環境において、プログラムモジュールは、ローカルおよびリモート両方のメモリストレージデバイスに保存されてもよい。
[8.2 その他の変形例]
コーティング材287aは、ターゲット27との接触角が90°より大きい材料であり、且つ、ターゲット27と反応し難い材料であってもよい。ターゲット27が、スズである場合、コーティング材287aは、溶融スズに濡れ難く材料であり、且つ、溶融スズと反応し難い材料であってもよい。溶融スズに濡れ難く材料であり、且つ、溶融スズと反応し難い材料は、例えば、炭化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭素、真空加熱処理を施さない酸化モリブデンであってもよい。ダンパ材287bも同様に、衝撃を吸収すると共にターゲット27との接触角が90°より大きく、且つ、ターゲット27と反応し難い材料であってもよい。
第7実施例のターゲット回収部28は、ダンパ材287bに覆われた配管受け部286aの受面Sを備えるため、受け部283を設けなくてもよい。
第7実施例のターゲット回収部28は、回収容器281、抑止部284、ガイド部285、及び配管286の内周面の必ずしも全てが、ダンパ材287bで覆われていなくてもよい。第7実施例のターゲット回収部28は、ターゲット27又はその飛散物274が衝突する領域だけをダンパ材287bで覆ってもよい。また、ダンパ材287bの代りにコーティング材287aでコートしてもよい。
上記で説明した実施形態は、変形例を含めて各実施形態同士で互いの技術を適用し得ることは、当業者には明らかであろう。
例えば、第5実施例の受け部283を第6実施例の受け部283に適用し、第6実施例の受け部283の受面Sをダンパ材287bで覆ってもよい。
また、第3又は第6実施例の第2受け部288及び第3受け部289を、第7実施例のターゲット回収部28に適用し、第7実施例のターゲット回収部28が第2受け部288及び第3受け部289を含むようにしてもよい。
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される不定冠詞「1つの」は、「少なくとも1つ」又は「1又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
1 …EUV光生成装置
2 …チャンバ
26 …ターゲット供給部
27 …ターゲット
28 …ターゲット回収部
281 …回収容器
284 …抑止部
284a …開口部
285 …ガイド部
287a …コーティング材
287b …ダンパ材
5 …EUV光生成制御部
7 …ターゲット生成装置
74 …ターゲット生成制御部
S …受面

Claims (20)

  1. 内部でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、
    前記チャンバの内部に前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、
    前記ターゲット供給部によって供給され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを、前記ターゲットとの接触角が90°より大きく、入射した前記ターゲットの衝撃を吸収するダンパ材で形成された受面で受けて回収容器内に回収するターゲット回収部と、
    を備える極端紫外光生成装置。
  2. 前記受面に入射した前記ターゲットの入射角度θは、0°<θ<90°である
    請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
  3. 前記受面に入射した前記ターゲットの入射角度θは、45°<θ<90°である
    請求項2に記載の極端紫外光生成装置。
  4. 前記ダンパ材は、炭素繊維又は石英のガラス繊維によって形成される、
    請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
  5. 前記ダンパ材は、炭素繊維又は石英のガラス繊維によって形成される織布である、
    請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
  6. 前記ダンパ材は、多孔質構造である、
    請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
  7. 前記ダンパ材は、炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム又は酸化珪素によって形成されたセラミック材又はガラス材である、
    請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
  8. 前記ターゲット回収部は、
    前記ターゲットを前記回収容器に導入する開口部を含み、前記受面で反射した前記ターゲットが前記ターゲット回収部の外へ飛散することを抑止する抑止部と、
    前記ターゲットを前記抑止部の前記開口部に導くガイド部と、
    を備える請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
  9. 前記ガイド部の上端に形成された開口部の直径は、前記抑止部の開口部の直径より大きい、
    請求項8に記載の極端紫外光生成装置。
  10. 前記ガイド部の内径が前記ターゲット供給部に向かうにしたがって大きくなる、
    請求項8に記載の極端紫外光生成装置。
  11. 内部のプラズマ生成領域に供給されたターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、
    前記プラズマ生成領域に前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、
    前記プラズマ生成領域を通過した前記ターゲットを回収するターゲット回収部であって、
    前記ターゲットとの接触角が90°より大きい材料で形成され、入射した前記ターゲットの衝撃を吸収するよう構成されたダンパ材を含む受け部と、
    前記ダンパ材に衝突した前記ターゲットを回収する回収容器と、を備えたターゲット回収部と、
    を含む極端紫外光生成装置。
  12. 前記ターゲット回収部は、前記回収容器の温度を前記ターゲットの融点以上の温度に調節する温度調節機構を備える
    請求項11に記載の極端紫外光生成装置。
  13. 前記ターゲット回収部は、前記回収容器に接続されるガイド部を含み、
    前記ガイド部は、前記プラズマ生成領域に向かって先端が延びる筒形状に形成される、
    請求項11に記載の極端紫外光生成装置。
  14. 前記受け部は、支持部材を介して前記回収容器に固定される、
    請求項11に記載の極端紫外光生成装置。
  15. 前記支持部材は、前記受け部を前記回収容器に脱着可能に固定する、
    請求項14に記載の極端紫外光生成装置。
  16. 前記受け部は、前記ターゲットの進行経路に対して所定の傾斜角度で傾斜して配置され、
    前記ターゲット回収部は、複数の前記受け部を含む、
    請求項11に記載の極端紫外光生成装置。
  17. 前記ダンパ材は、炭素繊維又は石英のガラス繊維によって形成される、
    請求項11に記載の極端紫外光生成装置。
  18. 前記ダンパ材は、炭素繊維又は石英のガラス繊維によって形成される織布である、
    請求項11に記載の極端紫外光生成装置。
  19. 前記ダンパ材は、多孔質構造である、
    請求項11に記載の極端紫外光生成装置。
  20. 前記ダンパ材は、炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム又は酸化珪素によって形成されたセラミック材又はガラス材である、
    請求項11に記載の極端紫外光生成装置。
JP2015544628A 2013-10-28 2013-10-28 極端紫外光生成装置 Active JP6360489B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2013/079092 WO2015063825A1 (ja) 2013-10-28 2013-10-28 極端紫外光生成装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2015063825A1 JPWO2015063825A1 (ja) 2017-03-09
JP6360489B2 true JP6360489B2 (ja) 2018-07-18

Family

ID=53003477

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015544628A Active JP6360489B2 (ja) 2013-10-28 2013-10-28 極端紫外光生成装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9894744B2 (ja)
JP (1) JP6360489B2 (ja)
WO (1) WO2015063825A1 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6360489B2 (ja) 2013-10-28 2018-07-18 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
WO2015097888A1 (ja) * 2013-12-27 2015-07-02 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
JPWO2016135932A1 (ja) 2015-02-26 2017-12-07 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置及びターゲット回収器
US9826615B2 (en) * 2015-09-22 2017-11-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. EUV collector with orientation to avoid contamination
WO2018042563A1 (ja) * 2016-08-31 2018-03-08 ギガフォトン株式会社 ドロップレット回収装置
WO2018042565A1 (ja) 2016-08-31 2018-03-08 ギガフォトン株式会社 ドロップレット回収装置
US10149374B1 (en) * 2017-08-25 2018-12-04 Asml Netherlands B.V. Receptacle for capturing material that travels on a material path
US11067906B2 (en) * 2019-07-29 2021-07-20 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Droplet catcher system of EUV lithography apparatus and EUV lithography apparatus maintenance method
JP2022544902A (ja) * 2019-08-23 2022-10-24 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. コンテナ内の燃料の量を判定するための装置
JP7359123B2 (ja) * 2020-10-12 2023-10-11 ウシオ電機株式会社 極端紫外光光源装置および受け板部材の保護方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008078031A (ja) * 2006-09-22 2008-04-03 Yumex Inc 液滴回収装置およびその方法
JP5386799B2 (ja) * 2007-07-06 2014-01-15 株式会社ニコン Euv光源、euv露光装置、euv光放射方法、euv露光方法および電子デバイスの製造方法
JP5133740B2 (ja) 2008-03-10 2013-01-30 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置
US7872245B2 (en) 2008-03-17 2011-01-18 Cymer, Inc. Systems and methods for target material delivery in a laser produced plasma EUV light source
JP5580032B2 (ja) 2008-12-26 2014-08-27 ギガフォトン株式会社 極端紫外光光源装置
NL2004085A (en) 2009-03-11 2010-09-14 Asml Netherlands Bv Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method.
WO2010112048A1 (en) * 2009-04-03 2010-10-07 Excillum Ab Supply of a liquid-metal target in x-ray generation
US8138487B2 (en) 2009-04-09 2012-03-20 Cymer, Inc. System, method and apparatus for droplet catcher for prevention of backsplash in a EUV generation chamber
JP2011023712A (ja) 2009-06-19 2011-02-03 Gigaphoton Inc 極端紫外光源装置
JP5511705B2 (ja) 2011-02-10 2014-06-04 ギガフォトン株式会社 ターゲット供給装置及び極端紫外光生成装置
JP5921876B2 (ja) * 2011-02-24 2016-05-24 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
US8748853B2 (en) * 2011-03-24 2014-06-10 Gigaphoton Inc. Chamber apparatus
JP6021422B2 (ja) * 2011-06-20 2016-11-09 ギガフォトン株式会社 チャンバ装置
JP6054067B2 (ja) * 2011-11-24 2016-12-27 ギガフォトン株式会社 Euv光生成装置、ターゲット回収装置、および、ターゲット回収方法
JP6360489B2 (ja) 2013-10-28 2018-07-18 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20160192470A1 (en) 2016-06-30
JPWO2015063825A1 (ja) 2017-03-09
WO2015063825A1 (ja) 2015-05-07
US9894744B2 (en) 2018-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6360489B2 (ja) 極端紫外光生成装置
JP6577871B2 (ja) 極端紫外光生成装置
US9661730B2 (en) Extreme ultraviolet light generation apparatus with a gas supply toward a trajectory of a target
US9538629B2 (en) Chamber for extreme ultraviolet light generation apparatus, and extreme ultraviolet light generation apparatus
WO2016013114A1 (ja) 極端紫外光生成装置
JP5846572B2 (ja) チャンバ装置、極端紫外光生成装置および極端紫外光生成装置の制御方法
JP5856898B2 (ja) 極端紫外光生成装置および極端紫外光生成方法
WO2017077584A1 (ja) 極端紫外光生成装置
JP6600688B2 (ja) ターゲット収容装置
WO2017090167A1 (ja) 極端紫外光生成装置
JP2013069655A (ja) 極端紫外光生成装置
JP6689281B2 (ja) 極端紫外光生成装置
WO2018138918A1 (ja) 極端紫外光生成装置
US20170205713A1 (en) Extreme ultraviolet light generating apparatus and method for generating extreme ultraviolet light
JP6541785B2 (ja) 極端紫外光生成装置
JP6556235B2 (ja) 極端紫外光生成装置
JP6564451B2 (ja) 極端紫外光生成装置及びその設計方法
WO2019092831A1 (ja) 極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法
JP6314257B2 (ja) 極端紫外光生成装置
US11304287B1 (en) Extreme ultraviolet light source systems
JP2022059264A (ja) 極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法
JPWO2014119200A1 (ja) ミラー装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170919

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20170920

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180109

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180605

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180622

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6360489

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250