WO2018042563A1 - ドロップレット回収装置 - Google Patents

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WO2018042563A1
WO2018042563A1 PCT/JP2016/075529 JP2016075529W WO2018042563A1 WO 2018042563 A1 WO2018042563 A1 WO 2018042563A1 JP 2016075529 W JP2016075529 W JP 2016075529W WO 2018042563 A1 WO2018042563 A1 WO 2018042563A1
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WO
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wire
droplet
wires
plate member
plate
Prior art date
Application number
PCT/JP2016/075529
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English (en)
French (fr)
Inventor
一磨 上鉄穴
岩本　文男
Original Assignee
ギガフォトン株式会社
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Publication date
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    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • H05G2/005—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas containing a metal as principal radiation generating component
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
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    • H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/008—X-ray radiation generated from plasma involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma

Definitions

  • This disclosure relates to a droplet collection device.
  • the extreme ultraviolet light generation system includes an LPP (Laser Produced Plasma) type apparatus that uses plasma generated by irradiating a target material with laser light, and a DPP (Discharge Produced Plasma) that uses plasma generated by discharge. ) Type devices and SR (Synchrotron Radiation) type devices using orbital radiation light have been proposed.
  • LPP Laser Produced Plasma
  • DPP discharge Produced Plasma
  • a droplet collection device includes a collection container that is disposed on an outer wall surface side of a chamber wall and configured to communicate with the inside of the chamber through an opening provided in the chamber wall.
  • a collision plate that is disposed inside the container and collides with the droplet supplied to the collection container from the opening, and a buffer member that is disposed closer to the opening than the collision plate and reduces the impact of the droplet that collides with the collision plate
  • the buffer member has a wire bundle in which a plurality of wires are bundled and fixed to a plate member, each of the plurality of wires is made of carbon, the plate member is made of graphite, and the plurality of wires are unidirectional In this state, the plate member may be fixed with a graphitized adhesive.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration example of the entire extreme ultraviolet light generation system.
  • FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration example of the droplet collection device.
  • FIG. 3 is a perspective view illustrating a schematic configuration example of a wire bundle in a comparative example.
  • FIG. 4 is a side view showing a state in which the wire bundle in FIG. 3 is viewed from the arrangement direction side of the wire.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating a state in which droplets are collected by the droplet collection device.
  • FIG. 6 is a side view showing the wire bundle of FIG. 3 as viewed from one end side of the wire.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration example of the entire extreme ultraviolet light generation system.
  • FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration example of the droplet collection device.
  • FIG. 3 is a perspective view illustrating a schematic configuration example of a wire bundle in a comparative example.
  • FIG. 4 is
  • FIG. 7 is a perspective view illustrating a schematic configuration example of the wire bundle in the first embodiment.
  • FIG. 8 is a side view showing the wire bundle of FIG. 7 as viewed from the arrangement direction side of the wire.
  • FIG. 9 is a side view showing the wire bundle of FIG. 7 as viewed from one end side of the wire.
  • FIG. 10 is a perspective view illustrating a schematic configuration example of a wire rod bundle according to the second embodiment.
  • FIG. 11 is a side view showing a state in which the wire bundle in FIG. 10 is viewed from the wire arranging direction side.
  • FIG. 12 is a side view showing the wire bundle of FIG. 11 as viewed from one end side of the wire.
  • FIG. 13 is a perspective view illustrating a schematic configuration example of a wire rod bundle according to the third embodiment.
  • FIG. 14 is a perspective view illustrating a schematic configuration example of a wire rod bundle according to the fourth embodiment.
  • FIG. 15 is a perspective view illustrating a schematic configuration example of a wire rod bundle according to the fifth embodiment.
  • FIG. 16 is a perspective view illustrating a schematic configuration example of a wire bundle according to the sixth embodiment.
  • FIG. 17 is a perspective view illustrating a schematic configuration example of a wire rod bundle according to the seventh embodiment.
  • EUV light extreme ultraviolet light generation system that generates light having a wavelength called extreme ultraviolet (EUV).
  • extreme ultraviolet light may be referred to as EUV light.
  • an extreme ultraviolet light generation system 1 includes a chamber 2, a droplet supply device 3, a droplet collection device 4, and an etching gas supply device. 5.
  • the exhaust device 6 is included.
  • the chamber 2 is a container that can be sealed and depressurized, and is held by a chamber holder 21.
  • the wall of the chamber 2 is provided with at least one through hole, and the through hole is closed by a window 22.
  • the window 22 transmits the pulsed laser light PL emitted from a laser device (not shown) arranged outside the chamber 2.
  • a predetermined area including a part of the trajectory OT of the droplet DL supplied to the inside of the chamber 2 is set as a plasma generation area AR for converting the droplet DL into plasma.
  • a condensing mirror 23 having a spheroidal reflecting surface 23A is held by a mirror holder 23B fixed to the wall of the chamber 2, for example.
  • the condensing mirror 23 reflects the EUV light EL included in the light generated by the plasma conversion of the droplet DL in the plasma generation area AR by the reflecting surface 23A, condenses it at the focal point, and exposes from the exit port 24 of the chamber 2. Output to a device (not shown).
  • the focus of the condensing mirror 23 may have a 1st focus and a 2nd focus.
  • the first focal point is located in the plasma generation area AR, and the second focal point is located in the intermediate focal point IF which is a condensing position defined according to the specifications of the exposure apparatus (not shown).
  • the condensing mirror 23 may be provided with a through hole 23 ⁇ / b> C through which the pulse laser beam PL propagated from the window 22 into the chamber 2 passes.
  • a laser condensing optical system 25 that condenses the pulsed laser light PL propagating from the window 22 into the chamber 2 to the plasma generation region AR is provided.
  • the laser condensing optical system 25 is fixed to a plate 26 disposed on the side opposite to the reflecting surface 23A side of the condensing mirror 23, and collects the pulsed laser light PL propagated from the window 22 into the chamber 2 The light is condensed on the plasma generation region AR through the 23 through holes 23C.
  • the plate 26 may be configured to move in the three-axis directions, and the condensing position where light is condensed on the plasma generation region AR by the laser condensing optical system 25 may be changed by moving the plate 26. .
  • the droplet supply device 3 supplies a target material, which is a material to be converted into plasma in the plasma generation region AR, into the chamber 2 as a droplet DL.
  • a target material which is a material to be converted into plasma in the plasma generation region AR
  • the droplet supply device 3 penetrates the wall of the chamber 2. Attached to.
  • the material of the target substance supplied from the droplet supply device 3 may include any of tin, terbium, gadolinium, lithium, and xenon, or a combination of any two or more thereof, but is not limited thereto. Not.
  • the droplet collection device 4 collects the droplet DL that has not been converted into plasma in the plasma generation region AR from among the droplets DL supplied into the chamber 2.
  • the droplet collection device 4 is provided outside the chamber 2 on the opposite side of the chamber 2 from the wall to which the droplet supply device 3 is attached.
  • the etching gas supply device 5 supplies a gas that reacts with debris and ions generated by the plasma conversion of the droplet DL into the chamber 2.
  • the etching gas supply device 5 can be configured by a gas generation unit 5B and a gas introduction unit 5A that introduces a gas generated in the gas generation unit 5B into the chamber 2.
  • the gas supplied from the etching gas supply device 5 is hydrogen gas, hydrogen-containing gas, or the like. In this case, tin fine particles and tin ions generated by the plasma conversion of the droplet DL react with hydrogen and become gas stannane at room temperature.
  • the exhaust device 6 exhausts residual gas in the chamber 2.
  • the residual gas exhausted by the exhaust device 6 includes debris and ions, products generated when they react with the etching gas, and unreacted etching gas.
  • the exhaust device 6 may exhaust a residual gas amount that is the same as the etching gas supplied from the etching gas supply device 5 into the chamber 2, and the internal pressure of the chamber 2 is made substantially constant. You may make it keep.
  • Pulsed laser light PL emitted from a laser device passes through the window 22 and propagates to the laser focusing optical system 25 in the chamber 2, and plasma is generated by the laser focusing optical system 25. It is condensed on the generation area AR. Further, the droplet DL supplied from the droplet supply device 3 into the chamber 2 passes through the plasma generation area AR including a part of the trajectory OT of the droplet DL.
  • Part of the droplet DL passing through the plasma generation region AR is irradiated with the pulsed laser light PL condensed by the laser focusing optical system 25, and the other part is recovered without being irradiated with the pulsed laser light PL. It is collected by the device 4.
  • the droplet DL irradiated with the pulse laser beam PL is turned into plasma, and light including EUV light EL is emitted from the plasma.
  • the EUV light EL is selectively reflected by the reflecting surface 23 ⁇ / b> A of the condensing mirror 23 and emitted to an exposure device (not shown) outside the chamber 2.
  • the etching gas, the gas changed by reacting with the etching gas, and the debris and ions that have not reacted with the etching gas are exhausted by the exhaust device 6 and are prevented from remaining in the chamber 2.
  • the target material is diffused by irradiating the droplet DL reaching the plasma generation region AR by diffusing the target material, and then the main target laser light is radiated to the diffusion target material to make the diffusion target material into plasma.
  • the conversion efficiency (CE) from the energy of the laser light to the energy of the EUV light EL can be improved.
  • the droplet collection device of the comparative example includes a collection container 10, a holder frame 20, a collision plate 30, a buffer member 40, a heater 50, and a covering case 60.
  • the recovery container 10 is a container for recovering the droplet DL that has not been converted to plasma in the plasma generation region AR, and is disposed on the outer wall surface side of the wall of the chamber 2.
  • the collection container 10 is a container that can be sealed and depressurized, and the inside thereof communicates with the inside of the chamber 2 through an opening 27 provided in the wall of the chamber 2.
  • the collection container 10 may be formed integrally with the chamber 2, may be separated from the chamber 2, and may be fixed to the chamber 2 with a predetermined fixture.
  • the collection container 10 can be composed of an absorber part 11 and a tank part 12.
  • the absorber portion 11 is a container portion for alleviating the impact caused by the collision of the droplet DL supplied from the opening 27 of the chamber 2.
  • the tank portion 12 is a container portion for storing droplets of the droplet DL that are crushed by the collision of the droplet DL.
  • the absorber part 11 has an opening part 11A on the inlet side and an opening part 11B on the outlet side.
  • the entrance-side opening 11 ⁇ / b> A is provided on the track DL OT of the droplet DL and faces the opening 27 of the chamber 2.
  • the opening 11B on the outlet side is located on the lowermost side opposite to the opening 27 of the chamber 2, and is formed in a tubular shape, for example.
  • the tank portion 12 has an opening 12A at a position on the upper side when the tank portion 12 is installed, and is formed in a tubular shape, for example.
  • the opening portion 11B on the outlet side of the absorber portion 11 is formed so as to be able to be inserted and fitted into the opening portion 12A of the tank portion 12.
  • the opening portion 11B on the outlet side in the absorber portion 11 is fitted into the opening portion 12A of the tank portion 12
  • the internal space of the absorber portion 11 and the internal space of the tank portion 12 are communicated.
  • the fitting part of the opening part 11B and the opening part 12A may be sealed.
  • the absorber portion 11 and the tank portion 12 may be integrally formed so that the internal space of the absorber portion 11 and the internal space of the tank portion 12 communicate with each other.
  • both or one of the inner wall surface and the outer wall surface of the absorber portion 11 and the tank portion 12 may be covered with a coating such as SiC (silicon carbide).
  • the holder frame 20 is a frame member for holding the collision plate 30 and the buffer member 40.
  • the holder frame 20 is configured as a rectangular plate-like member, and is disposed along the track OT at a predetermined distance from the track OT of the droplet DL.
  • the holder frame 20 is fixed to the wall of the absorber portion 11 or the like.
  • the collision plate 30 is provided inside the absorber portion 11 of the collection container 10 and collides with the droplet DL supplied to the collection container 10 from the opening 27 of the chamber 2.
  • the collision plate 30 is disposed obliquely with respect to the trajectory OT of the droplet DL in a direction away from the opening 27 of the chamber 2 and is fixed to the holder frame 20.
  • a collision surface 30 ⁇ / b> A, which is a surface on which the droplet DL collides, of the collision plate 30 is directed toward the opening 11 ⁇ / b> B on the outlet side in the absorber portion 11.
  • Examples of the material of the collision plate 30 include alloys such as SUS.
  • the buffer member 40 is for reducing the impact of the droplet DL that collides with the collision plate 30.
  • the buffer member 40 includes one or a plurality of wire rod bundles 43 that are bundled by fixing a plurality of wire rods 41 to a fixture 42.
  • the wire 41 and the fixture 42 are made of a material having a high thermal conductivity and hardly chemically reacting with the droplet DL.
  • the fixture 42 is made of an alloy such as SUS, and the wire 41 is made of carbon having a higher thermal conductivity than the fixture 42.
  • the plurality of wires 41 are arranged side by side along a direction orthogonal to the longitudinal direction of the wires 41.
  • the fixture 42 includes a pair of plate members 42A and 42B, and bolts and nuts (not shown).
  • a pair of through holes 42H into which bolts can be inserted are provided at the longitudinal ends of the plate members 42A and 42B.
  • Each wire 41 is arranged between the pair of through-holes 42H, and the wire 41 and the pair of plate members 42A and 42B are bolts and the end of the wire 41 are sandwiched between the plate members 42A and 42B.
  • a wire bundle 43 is obtained by tightening with a nut.
  • One end side of the wire rod bundle 43 is disposed on the holder frame 20 and is fixed to the holder frame 20 through a fixture 42 in the wire rod bundle 43.
  • the other end of the wire bundle 43 is not fixed to the holder frame 20 but is a free end, and has a portion located on the track OT of the droplet DL.
  • the wire bundle 43 is inclined with respect to the trajectory OT of the droplet DL, and is arranged so that the free end side of each wire 41 in the wire bundle 43 is away from the opening 27 of the chamber 2.
  • the wire bundles 43 are fixed at different positions on the holder frame 20, and the directions in which the wire members 41 extend in the wire bundles 43 are different.
  • the wire bundles 43 are alternately arranged on one side and the other side with a plane including the trajectory OT of the droplet DL as a boundary.
  • the wire bundle 43 closest to the collision plate 30 is directed to the outlet side opening 11 ⁇ / b> B side in the absorber portion 11, similarly to the collision plate 30.
  • the surface including the track OT is a surface orthogonal to the paper surface, but may not be orthogonal to the paper surface as long as it is a reference indicating a boundary.
  • the heater 50 heats the collection container 10 so that the temperature in the collection container 10 becomes equal to or higher than the melting point of the droplet DL.
  • the heater 50 may be constituted by an absorber heater 51 provided on the outer wall of the absorber portion 11 of the collection container 10 and a tank heater 52 provided on the outer wall of the tank portion 12 of the collection container 10.
  • the covering case 60 is a case that covers the collection container 10 across a space.
  • the covering case 60 may be constituted by an absorber case 61 that covers the absorber portion 11 of the collection container 10 and a tank case 62 that covers the tank portion 12 of the collection container 10.
  • the absorber case 61 and the tank case 62 may be configured to be separable from each other or may be configured integrally.
  • the covering case 60 prevents heat generated by the heater 50 attached to the recovery container 10 from escaping to the atmosphere. Therefore, the heating efficiency by the heater 50 is improved.
  • the tank case 62 may be provided with a tank holder 62A.
  • the wall surface of the recovery container 10 is held by the heater 50 at a temperature equal to or higher than the melting point of the droplet DL.
  • the set temperature in the heater 50 is set in the range of 240 ° C to 400 ° C.
  • this set temperature is set at 370 ° C. and the plurality of wires 41 of the wire bundle 43 are made of carbon fiber
  • the temperature of the wall surface of the collection container 10 is generally maintained at 370 ° C. and is disposed in the collection container 10.
  • the wire 41 is about 290 ° C.
  • the wire 41 disposed in the collection container 10 is heated by heat transfer from the fixture 42 via the holder frame 20 and radiation from the absorber 11.
  • the droplet DL having a speed of, for example, about 30 to 120 m / s is supplied to the collection container 10 maintained at a temperature equal to or higher than the melting point of the droplet DL.
  • the droplet DL that has entered the absorber 11 through the opening 11 ⁇ / b> A on the inlet side of the absorber 11 collides with the wire 41 of the wire bundle 43.
  • the droplet DL is reduced in kinetic energy by colliding with the wire 41. Therefore, the impact of the droplet DL colliding with the collision plate 30 is reduced.
  • the wire bundle 43 is 2 or more, the number of times the droplet DL passes through the wire bundle 43 increases as the droplet DL advances toward the end of the orbit OT of the droplet DL. In this case, the kinetic energy of the droplet DL decreases as it travels toward the end of the orbit OT.
  • the droplet DL that collides with the wire 41 of the wire bundle 43 is crushed into small droplets, and travels while being dispersed around the orbit OT of the droplet DL.
  • the wire bundle 43 is 2 or more, the number of times the droplet DL passes through the wire bundle 43 increases as the droplet DL advances toward the end of the orbit OT of the droplet DL. In this case, the droplet DL is finely crushed as it proceeds toward the end of the orbit OT.
  • the droplet DL supplied to the collection container 10 collides with the collision plate 30 without contacting the wire 41, so that the kinetic energy of the droplets splashing inside the absorber portion 11 is increased. It increases, and the possibility that a part thereof diffuses from the absorber portion 11 into the chamber 2 increases.
  • the droplets When the droplets diffuse into the chamber 2, the droplets react with the etching gas or are exhausted by the exhaust device 6 without being reacted. However, the droplets diffused from the absorber unit 11 into the chamber 2 are not exhausted by the exhaust device 6 and adhere to the condenser mirror 23 and the like, and the output of the EUV light EL is reduced or the EUV light EL is not generated. There is concern.
  • a droplet collection device that can reduce the diffusion of droplets of the droplet DL into the chamber 2 is exemplified.
  • Embodiment 1 4.1 Partial Configuration in the Droplet Collection Device Next, a partial configuration in the droplet collection device will be described as the first embodiment.
  • symbol is attached
  • a wire bundle 63 having a configuration different from that of the wire bundle 43 is employed instead of the wire bundle 43 of the comparative example.
  • the wire bundle 63 is bundled by fixing a plurality of wires 41 made of carbon to a graphite plate 64 with an adhesive 65.
  • the graphite plate 64 is a plate member made of graphite, and has a rectangular parallelepiped shape, for example.
  • a plurality of wire rods 41 are arranged along the longitudinal direction of the graphite plate 64.
  • the wire width W1 which is the distance between the wire rods located at both ends in the direction in which the plurality of wire rods 41 are arranged is 25 mm
  • 12,000 wire rods 41 are arranged within the range of the wire rod width.
  • the width W2 between the adjacent wires is approximately the same.
  • One end of the wires 41 arranged in this way is arranged on one side of the graphite plate 64.
  • at least the surface other than the portion where the adhesive 65 is disposed may be covered with a coating such as SiC (silicon carbide).
  • the adhesive 65 is obtained by graphitizing the phenol resin by bonding the wire 41 and the graphite plate 64 with the phenol resin and then firing.
  • the adhesive 65 bonds the plurality of wires 41 and the graphite plate 64 in a carbon composite state.
  • the plurality of wires 41 are fixed to the graphite plate 64 by the graphitized adhesive 65 in a state of being arranged in one direction. For this reason, as shown in FIG. 9, the plurality of wires 41 made of carbon and the graphite plate 64, which is a plate member made of graphite, are integrally joined by the adhesive 65, so that the wire 41 This eliminates the partial weakening of the fixing force.
  • the droplet DL supplied to the collection container 10 does not contact the wire 41 and collides with the collision plate 30, so that the kinetic energy of the small droplets bouncing inside the absorber portion 11 does not increase. .
  • the droplet DL droplets are prevented from diffusing from the absorber unit 11 into the chamber 2.
  • Embodiment 2 5.1 Partial Configuration of Droplet Collection Device
  • a partial configuration of the droplet collection device will be described as a second embodiment.
  • symbol is attached
  • the graphite plate 64 in the wire bundle 63 of the first embodiment is composed of a first plate member 64A and a second plate member 64B.
  • the first plate member 64A and the second plate member 64B are both made of graphite, and may be the same shape and size, for example. Of the surfaces of the first plate member 64A and the second plate member 64B, at least the surface other than the portion where the adhesive 65 is disposed may be covered with a coating such as SiC (silicon carbide).
  • One end of a plurality of wire rods 41 is disposed between the first plate member 64A and the second plate member 64B, and the wire rod 41 is bonded to the first plate member 64A and the second plate member 64B by an adhesive 65. Fixed.
  • the first plate member 64A and the second plate member 64B are bonded by the adhesive 65 in which the plurality of wire members 41 are graphitized. It is fixed in a state of being sandwiched between. For this reason, the wire bundle 63 of this embodiment is compared with the case of the said Embodiment 1 by the part which has fixed the some wire 41 to both in the state pinched
  • the wire rod bundle 63 of this embodiment can hold
  • Embodiment 3 6.1 Partial Configuration of Droplet Collection Device
  • a partial configuration of the droplet collection device will be described as a third embodiment.
  • symbol is attached
  • a space AR1 having a width larger than the width W3 between the closest wires is disposed between the wires positioned at both ends in the direction in which the plurality of wires 41 are arranged.
  • the plurality of wires 41 are configured by the first wire 41A and the second wire 41B shorter than the first wire 41A, and the second wire 41B is arranged between the first wires 41A. Are lined up.
  • the space between the wire rods of the first wire rods 41A adjacent to each other, the space between the wire rods of the second wire rod 41B, and the wire rods of the first wire rod 41A and the second wire rod 41B are approximately the same.
  • the second wire 41B is obtained, for example, by cutting the first wire 41A.
  • the second wire 41B obtained in advance may be fixed to the graphite plate 64 by the adhesive 65, and the second wire 41B is cut by partially cutting the first wire 41A fixed to the graphite plate 64 by the adhesive 65.
  • Wire rod 41B may be obtained.
  • the space AR1 surrounded by the first wire 41A and the second wire 41B is provided on the free end side opposite to the fixed end side of the first wire 41A and the second wire 41B. Further, the first wire 41A and the second wire 41B may be arranged so that the two spaces AR1 are line-symmetric with respect to the first wire 41A located at the center of the wire width.
  • positioned between 41 A of 1st wires may be one, or may be two or more.
  • the length of the said 2nd wire 41B may be the same, or may differ.
  • the graphite plate 64 in the wire bundle 63 of the present embodiment is configured by the first plate member 64A and the second plate member 64B, as in the second embodiment, and the first plate member 64A and the second plate member 64B.
  • the first wire 41 ⁇ / b> A and the second wire 41 ⁇ / b> B may be fixed by the adhesive 65 with the first wire 41 ⁇ / b> A and the second wire 41 ⁇ / b> B interposed therebetween.
  • the first wire 41A and the first wire 41A shorter than the first wire 41A are arranged between the wire rods positioned at both ends in the direction in which the plurality of wire rods 41 are arranged.
  • a space AR1 surrounded by the two wires 41B is provided.
  • the number of the second wire rods 41B arranged, etc. for example, the degree to which the kinetic energy of the droplet DL becomes small when colliding with the wire rod 41 can be finely adjusted.
  • the density of the wire 41 is too high, the droplet DL or its droplets may adhere to the wire 41 and accumulate.
  • the density of the wire 41 can be realized by adjusting the density of the droplet DL or its droplets.
  • the wire 41 can be firmly fixed to the graphite plate 64 with the adhesive 65, a part of the first wire 41A fixed to the graphite plate 64 with the adhesive 65 can be processed as described above. It is. Therefore, since the shape and size of the space AR1 can be easily changed, it is easy to adjust the density of the wire 41 between the wires positioned at both ends in the direction in which the plurality of wires 41 are arranged.
  • Embodiment 4 7.1 Partial Configuration in Droplet Collection Device Next, a partial configuration in the droplet collection device will be described as a fourth embodiment.
  • symbol is attached
  • a space AR2 having a width larger than the width W4 between the closest wires is provided between the wires located at both ends in the direction in which the plurality of wires 41 are arranged. Provided.
  • a plurality of wire rods 41 are divided into a plurality of sets S1 to S6.
  • the width W5 between adjacent pairs is made larger than the width W4 between adjacent wires in the wire 41 constituting the set.
  • the sets S1 to S6 may be arranged at equal intervals so that the space AR2 surrounded by the sets adjacent to each other has the same size.
  • the gaps between the wires constituting the sets S1, S2, S3, S4, S5 or S6 may be the same or different. Further, for each of the sets S1 to S6, the number of wires constituting the set may be the same or different.
  • the graphite plate 64 in the wire bundle 63 of the present embodiment is configured by the first plate member 64A and the second plate member 64B, as in the second embodiment, and the first plate member 64A and the second plate member 64B. It may be fixed with an adhesive 65 in a state where each wire 41 is sandwiched between them.
  • the plurality of wires 41 are divided into a plurality of sets.
  • the width W5 between adjacent pairs is made larger than the width W4 between adjacent wire rods.
  • a space AR ⁇ b> 2 is provided between pairs adjacent to each other between the wires positioned at both ends in the direction in which the plurality of wires 41 are arranged.
  • the degree to which the kinetic energy of the droplet DL becomes small when colliding with the wire 41 can be finely adjusted.
  • each of the sets S1 to S6 is composed of a set made of the first wire 41A and a set made of the second wire 41B shorter than the first wire 41A, and these are arranged alternately to form the fourth embodiment.
  • a combination with the third embodiment is possible.
  • each of the plurality of wire bundles 43 (FIG. 2) arranged at different positions on the trajectory OT of the droplet DL is changed to the wire bundle 63 of the present embodiment, between the pairs in each wire bundle 63
  • the width W5 may be narrower or wider toward the end side of the track OT.
  • Embodiment 5 8.1 Partial Configuration of Droplet Collection Device
  • a partial configuration of the droplet collection device will be described as a fifth embodiment.
  • symbol is attached
  • the graphite plate 64 in the wire bundle 63 is composed of a first plate member 64A and a second plate member 64B, as in the second embodiment.
  • the end portions on one end side of the plurality of wire rods 41 are fixed to the first plate member 64A and the second plate member 64B, and the end portions on the other end side of the wire rod 41 are the other first plate member 64A and the second plate. It is fixed to the member 64B.
  • One end side of such a wire bundle 63 is arranged on the holder frame 20 (FIG. 2), and is fixed to the holder frame 20 through the first plate member 64A and the second plate member 64B in the wire bundle 63. Further, the other end side of the wire bundle 63 is disposed on the holder frame 20 (FIG. 2) opposite to the holder frame 20 to which one end side of the wire bundle 63 is fixed, and another first plate member in the wire bundle 63. It is fixed to the holder frame 20 through 64A and the second plate member 64B.
  • first plate member 64A and the second plate member 64B at both ends of the plurality of wire members 41 may be omitted.
  • both ends of the plurality of wire rods 41 are fixed by the adhesive 65 with the first plate member 64A and the second plate member 64B sandwiched therebetween. The For this reason, compared with the case where only one end of the plurality of wires 41 is fixed as in the second embodiment, it is avoided that the ends of the wires 41 are scattered due to the collision of the droplet DL.
  • both ends of the wire bundle 63 are fixed to the holder frame 20.
  • the wire bundle 63 is more firmly fixed, and the durability against the collision of the droplet DL can be improved.
  • the degree of freedom of the layout of the wire bundle 63 such as the angle of the droplet DL with respect to the track OT can be easily improved.
  • Embodiment 6 9.1 Partial Configuration in Droplet Recovery Device
  • a partial configuration in the droplet recovery device will be described as a sixth embodiment.
  • symbol is attached
  • the wire width W1 in the wire bundle 63 is made larger than that in the second embodiment. Note that one of the first plate member 64A and the second plate member 64B in the present embodiment may be omitted.
  • the wire rod width W1 in each wire bundle 63 is It may be enlarged as it approaches the end side of the orbit OT.
  • Embodiment 7 10.1 Partial Configuration in the Droplet Collection Device
  • a partial configuration in the droplet collection device will be described as a seventh embodiment.
  • symbol is attached
  • the plurality of wires 41 in the wire bundle 63 of Embodiment 1 are opposite to the one end that is the fixed end of the wire 41. It arrange
  • the graphite plate 64 in the wire bundle 63 of the present embodiment is configured by the first plate member 64A and the second plate member 64B as in the second embodiment, and the first plate member 64A and the second plate member 64B. It may be fixed with an adhesive 65 in a state where a plurality of wire rods 41 are sandwiched therebetween.
  • the wire 41 can be firmly fixed to the graphite plate 64 with the adhesive 65, the degree of freedom of arrangement of the wire 41 is improved like the wire bundle 63 of the present embodiment.
  • DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Extreme ultraviolet light generation system, 2 ... Chamber, 3 ... Droplet supply device, 4 ... Droplet collection

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Abstract

ドロップレット回収装置は、チャンバの壁の外壁面側に配置され、前記チャンバの壁に設けられる開口を介して前記チャンバ内部に連通するよう構成される回収用容器と、回収用容器の内部に配置され、開口から回収用容器に供給されるドロップレットを衝突させる衝突板と、衝突板よりも開口側に配置され、衝突板に衝突するドロップレットの衝撃を緩和する緩衝部材とを備え、緩衝部材は、複数の線材を束ねて板部材に固定した線材束を有し、複数の線材はそれぞれカーボンにより構成され、板部材はグラファイトにより構成され、複数の線材は、一方向に並べられた状態で、グラファイト化された接着剤により板部材に固定されるようにしてもよい。

Description

ドロップレット回収装置
　本開示は、ドロップレット回収装置に関する。
　近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、２０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ：ｅｘｔｒｅｍｅ　ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系（ｒｅｄｕｃｅｄ　ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ　ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ　ｏｐｔｉｃｓ）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。
　極端紫外光生成システムとしては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ　Ｐｒｏｄｕｃｅｄ　Ｐｌａｓｍａ）式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ　Ｐｒｏｄｕｃｅｄ　Ｐｌａｓｍａ）式の装置と、軌道放射光が用いられるＳＲ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ　Ｒａｄｉａｔｉｏｎ）式の装置との３種類の装置が提案されている。
特許昭５６－１７９１４号公報 特開昭５９－２１７９９４号公報 特開２０１５－５０４３６号公報 国際公開第２０１５／０９７８８８号
概要
　本開示の一態様によるドロップレット回収装置は、チャンバの壁の外壁面側に配置され、前記チャンバの壁に設けられる開口を介して前記チャンバ内部に連通するよう構成される回収用容器と、回収用容器の内部に配置され、開口から回収用容器に供給されるドロップレットを衝突させる衝突板と、衝突板よりも開口側に配置され、衝突板に衝突するドロップレットの衝撃を緩和する緩衝部材とを備え、緩衝部材は、複数の線材を束ねて板部材に固定した線材束を有し、複数の線材はそれぞれカーボンにより構成され、板部材はグラファイトにより構成され、複数の線材は、一方向に並べられた状態で、グラファイト化された接着剤により板部材に固定されるようにしてもよい。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、極端紫外光生成システムの全体の概略構成例を示す模式図である。 図２は、ドロップレット回収装置の概略構成例を示す模式図である。 図３は、比較例における線材束の概略構成例を示す斜視図である。 図４は、図３の線材束を線材の並び方向側から見た様子を示す側面図である。 図５は、ドロップレット回収装置でドロップレットが回収される様子を示す図である。 図６は、図３の線材束を線材の一端側から見た様子を示す側面図である。 図７は、実施形態１における線材束の概略構成例を示す斜視図である。 図８は、図７の線材束を線材の並び方向側から見た様子を示す側面図である。 図９は、図７の線材束を線材の一端側から見た様子を示す側面図である。 図１０は、実施形態２における線材束の概略構成例を示す斜視図である。 図１１は、図１０の線材束を線材の並び方向側から見た様子を示す側面図である。 図１２は、図１１の線材束を線材の一端側から見た様子を示す側面図である。 図１３は、実施形態３における線材束の概略構成例を示す斜視図である。 図１４は、実施形態４における線材束の概略構成例を示す斜視図である。 図１５は、実施形態５における線材束の概略構成例を示す斜視図である。 図１６は、実施形態６における線材束の概略構成例を示す斜視図である。 図１７は、実施形態７における線材束の概略構成例を示す斜視図である。
実施形態
１．概要
２．極端紫外光生成システムの説明
　２．１　全体構成
　２．２　動作
３．比較例
　３．１　ドロップレット回収装置の構成
　３．２　動作
　３．３　課題
４．実施形態１
　４．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　４．２　作用・効果
５．実施形態２
　５．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　５．２　作用・効果
６．実施形態３
　６．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　６．２　作用・効果
７．実施形態４
　７．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　７．２　作用・効果
８．実施形態５
　８．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　８．２　作用・効果
９．実施形態６
　９．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　９．２　作用・効果
１０．実施形態１０
　１０．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　１０．２　作用・効果
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。
　以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成および動作の全てが本開示の構成および動作として必須であるとは限らない。
　なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．概要
　本開示の実施形態は、極端紫外線（ＥＵＶ：Extreme UltraViolet）と呼ばれる波長の光を生成する極端紫外光生成システムに関する。なお、以下本明細書では、極端紫外光は、ＥＵＶ光と称される場合がある。
２．極端紫外光生成システムの説明
　２．１　全体構成
　図１に示すように、本実施形態の極端紫外光生成システム１は、チャンバ２、ドロップレット供給装置３、ドロップレット回収装置４、エッチングガス供給装置５、排気装置６を含んでいる。
　チャンバ２は、密閉可能かつ減圧可能な容器であり、チャンバホルダ２１により保持される。このチャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられ、その貫通孔は、ウインドウ２２によって塞がれている。ウインドウ２２は、チャンバ２の外部に配置されるレーザ装置（図示せず）から出射されるパルスレーザ光ＰＬを透過するものとされる。
　チャンバ２の内部では、チャンバ２の内部に供給されるドロップレットＤＬの軌道ＯＴの一部を含む所定の領域が、そのドロップレットＤＬをプラズマ化するプラズマ生成領域ＡＲとされる。
　またチャンバ２の内部では、回転楕円面形状の反射面２３Ａを有する集光ミラー２３が、例えばチャンバ２の壁に固定されるミラーホルダ２３Ｂにより保持されている。この集光ミラー２３は、プラズマ生成領域ＡＲでのドロップレットＤＬのプラズマ化により生じる光に含まれるＥＵＶ光ＥＬを反射面２３Ａで反射させて焦点に集光し、チャンバ２の出射口２４から露光装置（図示せず）に出力する。集光ミラー２３の焦点は、第１焦点と第２焦点とを有していてもよい。例えば、第１焦点はプラズマ生成領域ＡＲに位置され、第２焦点は露光装置（図示せず）の仕様等に応じて規定される集光位置である中間焦点ＩＦに位置される。なお、集光ミラー２３には、ウインドウ２２からチャンバ２内に伝搬したパルスレーザ光ＰＬが通る貫通孔２３Ｃが設けられていてもよい。
　またチャンバ２の内部には、ウインドウ２２からチャンバ２内に伝搬したパルスレーザ光ＰＬをプラズマ生成領域ＡＲに集光するレーザ集光光学系２５が設けられる。例えば、レーザ集光光学系２５は、集光ミラー２３の反射面２３Ａ側とは逆側に配置されるプレート２６に固定され、ウインドウ２２からチャンバ２内に伝搬したパルスレーザ光ＰＬを集光ミラー２３の貫通孔２３Ｃを介してプラズマ生成領域ＡＲに集光する。なお、プレート２６が３軸方向に移動し得るよう構成され、そのプレート２６が移動されることでレーザ集光光学系２５によってプラズマ生成領域ＡＲに集光される集光位置が変更されてもよい。
　ドロップレット供給装置３は、プラズマ生成領域ＡＲでプラズマ化するターゲットとされる物質であるターゲット物質をドロップレットＤＬとしてチャンバ２の内部に供給するものであり、例えば、チャンバ２の壁を貫通するように取り付けられる。ドロップレット供給装置３から供給されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノンのいずれか、または、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
　ドロップレット回収装置４は、チャンバ２の内部に供給されたドロップレットＤＬのうちプラズマ生成領域ＡＲでプラズマ化されなかったドロップレットＤＬを回収するものである。例えば、ドロップレット回収装置４は、チャンバ２のうちドロップレット供給装置３が取り付けられる壁とは反対側のチャンバ２の外側に設けられる。
　エッチングガス供給装置５は、ドロップレットＤＬのプラズマ化などにより生じたデブリおよびイオンに反応するガスをチャンバ２の内部に供給するものである。例えば、エッチングガス供給装置５は、ガス発生部５Ｂと、そのガス発生部５Ｂで発生されるガスをチャンバ２内に導入するガス導入部５Ａとにより構成し得る。ターゲット物質であるドロップレットＤＬの材料がスズである場合、エッチングガス供給装置５から供給されるガスは水素ガスや水素を含有するガス等とされる。この場合、ドロップレットＤＬのプラズマ化により生じるスズ微粒子およびスズイオンは水素と反応し、常温で気体のスタンナンとなる。
　排気装置６は、チャンバ２内の残留ガスを排気するものである。この排気装置６によって排気される残留ガスには、デブリおよびイオンと、それらがエッチングガスと反応することで生成される生成物と、未反応のエッチングガスとが含まれる。なお、排気装置６は、エッチングガス供給装置５からチャンバ２の内部に供給されるエッチングガスのガス量と同量の残留ガス量を排気するようにしてもよく、チャンバ２の内圧を略一定に保つようにしてもよい。
　２．２　動作
　レーザ装置（図示せず）から出射されるパルスレーザ光ＰＬは、ウインドウ２２を透過してチャンバ２内のレーザ集光光学系２５に伝搬し、そのレーザ集光光学系２５によってプラズマ生成領域ＡＲに集光される。また、ドロップレット供給装置３からチャンバ２内に供給されるドロップレットＤＬは、そのドロップレットＤＬの軌道ＯＴの一部を含むプラズマ生成領域ＡＲを通る。
　プラズマ生成領域ＡＲを通るドロップレットＤＬの一部はレーザ集光光学系２５によって集光されるパルスレーザ光ＰＬが照射され、他の一部はパルスレーザ光ＰＬが照射されることなくドロップレット回収装置４により回収される。
　パルスレーザ光ＰＬが照射されたドロップレットＤＬはプラズマ化し、そのプラズマからＥＵＶ光ＥＬを含む光が放射する。ＥＵＶ光ＥＬは集光ミラー２３の反射面２３Ａで選択的に反射し、チャンバ２の外部の露光装置（図示せず）に出射される。
　また、ドロップレットＤＬがプラズマ化した場合、ＥＵＶ光ＥＬを含む光が放射するとともにデブリおよびイオンが拡散する。デブリおよびイオンの一部は、エッチングガス供給装置５からチャンバ２の内部に供給されるエッチングガスと反応することで気体に変化する。このため、ウインドウ２２や集光ミラー２３の反射面２３Ａへのデブリ堆積およびイオン衝突によるスパッタリングが抑制される。
　エッチングガスと、そのエッチングガス反応することで変化した気体と、エッチングガスと未反応であったデブリおよびイオンとは排気装置６により排気され、これらがチャンバ２内に残留することが抑制される。
　なお、プラズマ生成領域ＡＲに達するドロップレットＤＬに対してプリパルスレーザ光を照射してターゲット物質を拡散させた後、その拡散ターゲット物質に対してメインパルスレーザ光を照射して拡散ターゲット物質をプラズマ化する場合がある。この場合、レーザ光のエネルギーからＥＵＶ光ＥＬのエネルギーへの変換効率（ＣＥ）が向上し得る。
３．比較例
　３．１　ドロップレット回収装置の構成
　次に、下記の実施形態の比較例としてドロップレット回収装置の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略される。
　図２に示すように、比較例のドロップレット回収装置は、回収用容器１０、ホルダフレーム２０、衝突板３０、緩衝部材４０、ヒータ５０および被覆ケース６０を備えている。
　回収用容器１０は、プラズマ生成領域ＡＲでプラズマ化されなかったドロップレットＤＬを回収するための容器であり、チャンバ２の壁の外壁面側に配置される。また、回収用容器１０は、密閉可能かつ減圧可能な容器であり、その内部はチャンバ２の壁に設けられる開口２７を介してチャンバ２内部と連通される。この回収用容器１０は、チャンバ２と一体に成形されていてもよく、チャンバ２とは別体にされ、所定の固定具でチャンバ２に固定されていてもよい。
　例えば、回収用容器１０は、アブソーバ部１１とタンク部１２とにより構成し得る。アブソーバ部１１は、チャンバ２の開口２７から供給されるドロップレットＤＬの衝突に起因する衝撃を緩和するための容器部分である。タンク部１２は、ドロップレットＤＬの衝突により破砕するドロップレットＤＬの小滴を貯留するための容器部分である。
　アブソーバ部１１は、入口側の開口部１１Ａおよび出口側の開口部１１Ｂを有する。入口側の開口部１１Ａは、ドロップレットＤＬの軌道ＯＴ上に設けられ、チャンバ２の開口２７に対向される。出口側の開口部１１Ｂは、チャンバ２の開口２７とは逆側であって最も下側に位置しており、例えば管状に形成されている。タンク部１２は、そのタンク部１２を設置した場合に上側となる位置に開口部１２Ａを有しており、例えば管状に形成されている。
　アブソーバ部１１における出口側の開口部１１Ｂは、タンク部１２の開口部１２Ａに挿通して嵌合し得るように形成されている。アブソーバ部１１における出口側の開口部１１Ｂがタンク部１２の開口部１２Ａに嵌合された場合、アブソーバ部１１の内部空間とタンク部１２の内部空間とが連通される。なお、開口部１１Ｂと開口部１２Ａとの嵌合部分は密閉されてもよい。また、アブソーバ部１１とタンク部１２とが一体に形成されることでアブソーバ部１１の内部空間とタンク部１２の内部空間とが連通されていてもよい。また、アブソーバ部１１およびタンク部１２の内壁面と外壁面との双方または一方がＳｉＣ（炭化ケイ素）等の被膜で覆われていてもよい。
　ホルダフレーム２０は、衝突板３０および緩衝部材４０を保持するためのフレーム部材である。例えば、ホルダフレーム２０は、矩形状の板状部材として構成され、ドロップレットＤＬの軌道ＯＴから所定距離を隔ててその軌道ＯＴに沿って配置される。このホルダフレーム２０は、アブソーバ部１１の壁などに固定される。
　衝突板３０は、回収用容器１０におけるアブソーバ部１１の内部に設けられ、チャンバ２の開口２７から回収用容器１０に供給されるドロップレットＤＬを衝突させるものである。この衝突板３０は、チャンバ２の開口２７から遠ざかる方向に向かってドロップレットＤＬの軌道ＯＴに対して斜めに配置され、ホルダフレーム２０に固定される。衝突板３０のうちドロップレットＤＬが衝突する面である衝突面３０Ａは、アブソーバ部１１における出口側の開口部１１Ｂ側に向けられる。衝突板３０の材料としては、ＳＵＳなどの合金が挙げられる。
　緩衝部材４０は、衝突板３０に衝突するドロップレットＤＬの衝撃を緩和するものである。例えば、緩衝部材４０は、複数の線材４１を固定具４２に固定して束ねられる線材束４３を１又は複数有する。
　線材４１および固定具４２は、熱伝導度が高くドロップレットＤＬと化学反応し難い材質とされる。具体的には例えば、固定具４２がＳＵＳなどの合金により構成され、線材４１が固定具４２よりも熱伝導度が高いカーボンにより構成される。
　図３および図４に示すように、複数の線材４１は、線材４１の長手方向とは直交する方向に沿って並べられて配置される。固定具４２は、一対の板部材４２Ａおよび４２Ｂと、ボルトおよびナット（図示せず）とにより構成される。各板部材４２Ａ，４２Ｂにおける長手方向の端部にはボルトを挿通可能な一対の貫通孔４２Ｈが設けられる。これら一対の貫通孔４２Ｈの間に各線材４１が並べられ、当該線材４１の端部が板部材４２Ａおよび４２Ｂで挟み込まれた状態で、当該線材４１と一対の板部材４２Ａ，４２Ｂとがボルトおよびナットにより締め付けられることで線材束４３が得られる。
　線材束４３の一端側はホルダフレーム２０に配置され、その線材束４３における固定具４２を通じてホルダフレーム２０に固定される。線材束４３の他端側はホルダフレーム２０に固定されず自由端にされ、ドロップレットＤＬの軌道ＯＴ上に位置する部分を有している。線材束４３は、ドロップレットＤＬの軌道ＯＴに対して斜めであって、その線材束４３における各線材４１の自由端側がチャンバ２の開口２７から遠ざかるようそれぞれ配置される。
　緩衝部材４０が複数の線材束４３を有する場合、当該線材束４３はホルダフレーム２０のそれぞれ異なる位置に固定され、それら線材束４３における線材４１が延びる方向が異なっている。例えば、図２に示すように、ドロップレットＤＬの軌道ＯＴを含む面を境界として一方側と他方側に交互に線材束４３が配置される。また、複数の線材束４３のうち衝突板３０に最も近い線材束４３は、衝突板３０と同様に、アブソーバ部１１における出口側の開口部１１Ｂ側に向けられる。なお、軌道ＯＴを含む面は、図２に示す例では紙面に対して直交する面であるが、境界を示す基準であれば紙面に対して直交していなくてもよい。
　ヒータ５０は、回収用容器１０内の温度がドロップレットＤＬの融点以上になるよう回収用容器１０を加熱するものである。例えば、ヒータ５０は、回収用容器１０のアブソーバ部１１の外壁に設けられるアブソーバ用ヒータ５１と、回収用容器１０のタンク部１２の外壁に設けられるタンク用ヒータ５２により構成し得る。
　被覆ケース６０は、空間を隔てて回収用容器１０を被覆するケースである。例えば、被覆ケース６０は、回収用容器１０のアブソーバ部１１を被覆するアブソーバケース６１と、回収用容器１０のタンク部１２を被覆するタンクケース６２とにより構成し得る。アブソーバケース６１とタンクケース６２とは、互いに分離可能に構成されていてもよく、一体に構成されていてもよい。この被覆ケース６０は、回収用容器１０に取り付けられるヒータ５０が発生する熱が大気に逃げるのを抑制する。従って、ヒータ５０による加熱効率が向上する。なお、タンクケース６２にはタンクホルダ６２Ａが設けられていてもよい。
　３．２　動作
　ヒータ５０が駆動されると、そのヒータ５０によって回収用容器１０壁面がドロップレットＤＬの融点以上に保持される。例えば、ドロップレットＤＬの材料がスズである場合、ヒータ５０における設定温度が２４０℃から４００℃の範囲で設定される。この設定温度が３７０℃で設定され、線材束４３の複数の線材４１がカーボンファイバーにより構成された場合、回収用容器１０壁面の温度はおおむね３７０℃で保持され、その回収用容器１０内に配置される線材４１は２９０℃程度となる。この時回収用容器１０内に配置される線材４１は、ホルダフレーム２０を介した固定具４２からの伝熱およびアブソーバ部１１からの輻射によって加熱される。
　ドロップレットＤＬの融点以上の温度に保持された回収用容器１０には、例えば３０～１２０ｍ／ｓ程度の速度のドロップレットＤＬが供給される。図５に示すように、アブソーバ部１１の入口側の開口部１１Ａからアブソーバ部１１内に入ったドロップレットＤＬは線材束４３の線材４１に衝突する。ドロップレットＤＬは、線材４１に衝突することで運動エネルギーが小さくなる。従って、衝突板３０にドロップレットＤＬが衝突する衝撃が緩和される。線材束４３が２以上である場合には、ドロップレットＤＬがドロップレットＤＬの軌道ＯＴの末端側に進行するほど、線材束４３を経由する回数が多くなる。この場合、ドロップレットＤＬは、軌道ＯＴの末端側に進行するほどその運動エネルギーが小さくなる。
　また、線材束４３の線材４１に衝突したドロップレットＤＬは破砕して小滴となり、ドロップレットＤＬの軌道ＯＴの周囲に分散しながら進行する。線材束４３が２以上である場合には、ドロップレットＤＬがドロップレットＤＬの軌道ＯＴの末端側に進行するほど、線材束４３を経由する回数が多くなる。この場合、ドロップレットＤＬは、軌道ＯＴの末端側に進行するほど細かく破砕される。
　運動エネルギーが小さくなった小滴は衝突板３０に衝突することでより細かくなり、それらの一部はアブソーバ部１１の出口側の開口部１１Ｂからタンク部１２内に落下する。このタンク部１２に至るまでのドロップレットＤＬの進行経路上にアブソーバ部１１の線材束４３および衝突板３０が配置されることで、タンク部１２に直接的にドロップレットＤＬが進行する場合に比べると、タンク部１２から小滴が飛散することが抑制される。
　３．３　課題
　ところで、線材束４３では、上述したように、一対の板部材４２Ａ，４２Ｂにおける長手方向の両端部が締め付けられることで、当該板部材４２Ａおよび４２Ｂの間に配置される複数の線材４１が固定されている。
　このため、図６に示すように、一対の板部材４２Ａ，４２Ｂの両端部の締め付けによって、当該板部材４２Ａ，４２Ｂの中央部分が互いに離れるように撓んでその撓んだ部分の線材４１を固定する力が弱くなる。したがって、回収用容器１０に供給されたドロップレットＤＬの衝突等に起因して線材４１が分散する、あるいは、板部材４２Ａ，４２Ｂから線材４１が脱落するといった不都合が生じ易い傾向になる。
　このような不都合が生じると、回収用容器１０に供給されたドロップレットＤＬが線材４１に接触することなく衝突板３０に衝突することで、アブソーバ部１１の内部で跳ね回る小滴の運動エネルギーが増大し、その一部がアブソーバ部１１からチャンバ２に拡散する可能性が大きくなる。
　チャンバ２に小滴が拡散した場合、その小滴はエッチングガスと反応するか、もしくは、未反応のまま排気装置６によって排気される。しかしながら、アブソーバ部１１からチャンバ２に拡散した小滴が排気装置６によって排気されることなく集光ミラー２３などに付着し、ＥＵＶ光ＥＬの出力が低下する、あるいは、ＥＵＶ光ＥＬが生成されないといったことが懸念される。
　そこで、以下の実施形態では、ドロップレットＤＬの小滴がチャンバ２に拡散することを低減させ得るドロップレット回収装置が例示される。
４．実施形態１
　４．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　次に、実施形態１としてドロップレット回収装置における一部の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　図７および図８に示すように、本実施形態のドロップレット回収装置では、比較例の線材束４３に代えて、その線材束４３とは異なる構成の線材束６３が採用される。この線材束６３は、カーボンにより構成される複数の線材４１をグラファイト板６４に接着剤６５により固定して束ねられる。
　グラファイト板６４は、グラファイトにより構成される板部材であり、例えば直方体形状とされる。このグラファイト板６４の長手方向に沿って複数の線材４１が並べられる。例えば、複数の線材４１が並べられる方向の両端に位置する線材間の距離である線材幅Ｗ１を２５ｍｍとした場合、その線材幅の範囲内に１２０００本の線材４１が並べられる。また、互いに隣り合う線材間の幅Ｗ２はおおむね同程度とされる。このように並べられる線材４１の一方側の端部がグラファイト板６４の一面側に配置される。なお、グラファイト板６４の表面のうち、少なくとも接着剤６５が配置される部分以外の表面が、ＳｉＣ（炭化ケイ素）等の被膜で覆われていてもよい。
　接着剤６５は、線材４１とグラファイト板６４とをフェノール系樹脂によって結合した後に焼成することで、フェノール系樹脂をグラファイト化したものとして得られる。この接着剤６５は、カーボン・コンポジットの状態で複数の線材４１とグラファイト板６４とを結合している。
　４．２　作用・効果
　以上のとおり、本実施形態の線材束６３では、複数の線材４１が、一方向に並べられた状態で、グラファイト化された接着剤６５によりグラファイト板６４に固定される。このため、図９に示すように、カーボンにより構成される複数の線材４１と、グラファイトにより構成される板部材であるグラファイト板６４とが接着剤６５により一体的に結合されるので、当該線材４１を固定する力が部分的に弱くなることが解消される。
　したがって、回収用容器１０に供給されたドロップレットＤＬの衝突等に起因して線材４１が分散する、あるいは、グラファイト板６４から線材４１が脱落するといった不都合が抑制される。このため、回収用容器１０に供給されたドロップレットＤＬが線材４１に接触することなく衝突板３０に衝突することで、アブソーバ部１１の内部で跳ね回る小滴の運動エネルギーが増大することがなくなる。この結果、本実施形態のドロップレット回収装置では、ドロップレットＤＬの小滴がアブソーバ部１１からチャンバ２に拡散することが低減される。
５．実施形態２
　５．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　次に、実施形態２としてドロップレット回収装置における一部の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　図１０および図１１に示すように、本実施形態のドロップレット回収装置では、実施形態１の線材束６３におけるグラファイト板６４が、第１板部材６４Ａと第２板部材６４Ｂとにより構成される。
　第１板部材６４Ａと第２板部材６４Ｂとはともにグラファイトにより構成されており、例えば互いに同形同大とされてもよい。なお、第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂの表面のうち、少なくとも接着剤６５が配置される部分以外の表面が、ＳｉＣ（炭化ケイ素）等の被膜で覆われていてもよい。
　これら第１板部材６４Ａと第２板部材６４Ｂとの間に複数の線材４１の一方側の端部が配置され、当該線材４１は接着剤６５により第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂに固定される。
　５．２　作用・効果
　以上のとおり、本実施形態の線材束６３では、図１２に示すように、複数の線材４１がグラファイト化された接着剤６５により第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂに挟まれた状態で固定される。このため、本実施形態の線材束６３は、第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂに挟んだ状態で双方に複数の線材４１を固定している分だけ上記実施形態１の場合に比べてより線材４１を安定的に保持し得る。また、本実施形態の線材束６３は、第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂの厚み方向に重ねて線材４１を配置しても、当該線材４１を安定的に保持し得るため、高密度化し易くなる。
６．実施形態３
　６．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　次に、実施形態３としてドロップレット回収装置における一部の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　図１３に示すように、本実施形態のドロップレット回収装置では、複数の線材４１が並べられる方向の両端に位置する線材間に、最も近接する線材間の幅Ｗ３よりも大きい幅の空間ＡＲ１が設けられる。
　本実施形態の場合、複数の線材４１が第１線材４１Ａとその第１線材４１Ａよりも短い第２線材４１Ｂとにより構成され、当該第２線材４１Ｂが第１線材４１Ａの間に配置されるように並べられる。なお本実施形態の場合、互いに隣り合う第１線材４１Ａの線材間と、第２線材４１Ｂの線材間と、第１線材４１Ａおよび第２線材４１Ｂの線材間とはそれぞれ同程度とされる。
　第２線材４１Ｂは、例えば第１線材４１Ａを切断することで得られる。なお、予め得た第２線材４１Ｂが接着剤６５によりグラファイト板６４に固定されていてもよく、グラファイト板６４に接着剤６５により固定された第１線材４１Ａの一部を切断することで第２線材４１Ｂが得られてもよい。
　本実施形態では、第１線材４１Ａと第２線材４１Ｂとで囲まれる空間ＡＲ１は、当該第１線材４１Ａおよび第２線材４１Ｂの固定端側とは逆の自由端側に設けられる。また、線材幅の中心に位置する第１線材４１Ａを境界として２つの空間ＡＲ１が線対称となる位置関係となるよう第１線材４１Ａと第２線材４１Ｂとが配列されてもよい。
　なお、第１線材４１Ａの間に配置される第２線材４１Ｂの数は１本であっても２本以上であってもよい。また、第１線材４１Ａの間に配置される第２線材４１Ｂの数が２本以上である場合、当該第２線材４１Ｂの長さは同じであっても異なっていてもよい。さらに、本実施形態の線材束６３におけるグラファイト板６４は、実施形態２と同様に、第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂにより構成され、当該第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂの間に第１線材４１Ａと第２線材４１Ｂが挟まれた状態で接着剤６５により固定されていてもよい。
　６．２　作用・効果
　以上のとおり、本実施形態の線材束６３では、複数の線材４１が並べられる方向の両端に位置する線材間に、第１線材４１Ａとその第１線材４１Ａよりも短い第２線材４１Ｂとに囲まれる空間ＡＲ１が設けられる。この第２線材４１Ｂの長さや、第２線材４１Ｂを並べる本数等に応じて、例えば、線材４１に衝突するときにドロップレットＤＬの運動エネルギーが小さくなる程度を微調整し得る。また、線材４１の密度が高すぎる場合、ドロップレットＤＬまたはその小滴が線材４１に付着して堆積することある。本実施形態の線材束６３であれば、ドロップレットＤＬまたはその小滴の堆積が抑制できるような線材４１の密度を調整によって実現可能である。
　なお、線材４１は接着剤６５によりグラファイト板６４に強固に固定し得るため、上述したように、グラファイト板６４に接着剤６５により固定された第１線材４１Ａの一部を切断等の加工が可能である。したがって、空間ＡＲ１の形状や大きさが簡単に変更し得るので、複数の線材４１が並べられる方向の両端に位置する線材間における線材４１の密度が調整し易い。
７．実施形態４
　７．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　次に、実施形態４としてドロップレット回収装置における一部の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　図１４に示すように、本実施形態のドロップレット回収装置では、複数の線材４１が並べられる方向の両端に位置する線材間に、最も近接する線材間の幅Ｗ４よりも大きい幅の空間ＡＲ２が設けられる。
　本実施形態の場合、複数の線材４１が複数の組Ｓ１～Ｓ６に分けられる。互いに隣り合う組間の幅Ｗ５は、当該組を構成する線材４１のうち互いに隣り合う線材間の幅Ｗ４よりも大きくされる。例えば、互いに隣り合う組で囲まれる空間ＡＲ２が同程度の大きさとなるよう各組Ｓ１～Ｓ６が等間隔で配列されてもよい。
　なお、組Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４、Ｓ５又はＳ６を構成する線材同士の隙間は同じであっても異なっていてもよい。また組Ｓ１～Ｓ６ごとに、当該組を構成する線材数は同じであっても異なっていてもよい。さらに、本実施形態の線材束６３におけるグラファイト板６４は、実施形態２と同様に、第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂにより構成され、当該第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂの間に各線材４１が挟まれた状態で接着剤６５により固定されていてもよい。
　７．２　作用・効果
　以上のとおり、本実施形態の線材束６３では、複数の線材４１が複数の組に分けられる。このとき、互いに隣り合う組間の幅Ｗ５が、互いに隣り合う線材間の幅Ｗ４よりも大きくされる。そして、複数の線材４１が並べられる方向の両端に位置する線材間であって、互いに隣り合う組間に空間ＡＲ２が設けられる。この組間の幅Ｗ５に応じて、例えば、線材４１に衝突するときにドロップレットＤＬの運動エネルギーが小さくなる程度を微調整し得る。
　なお、本実施形態４が上記実施形態３と組み合わされていてもよい。例えば、各組Ｓ１～Ｓ６を、第１線材４１Ａからなる組と、第１線材４１Ａよりも短い第２線材４１Ｂからなる組とで構成し、これらを交互に配置することで本実施形態４と上記実施形態３との組み合わせが可能である。また、例えば、ドロップレットＤＬの軌道ＯＴ上の互いに異なる位置に配置される複数の線材束４３（図２）それぞれが本実施形態の線材束６３に変更される場合、各線材束６３における組間の幅Ｗ５が、当該軌道ＯＴの末端側に近づくほど狭く又は広くされてもよい。
８．実施形態５
　８．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　次に、実施形態５としてドロップレット回収装置における一部の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　図１５に示すように、本実施形態のドロップレット回収装置では、実施形態２と同様に、線材束６３におけるグラファイト板６４が、第１板部材６４Ａと第２板部材６４Ｂとにより構成される。
　また、複数の線材４１の一端側の端部は第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂに固定され、当該線材４１の他端側の端部は他の第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂに固定される。
　このような線材束６３の一端側はホルダフレーム２０（図２）に配置され、その線材束６３における第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂを通じてホルダフレーム２０に固定される。また、線材束６３の他端側は、線材束６３の一端側が固定されるホルダフレーム２０とは反対側のホルダフレーム２０（図２）に配置され、その線材束６３における他の第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂを通じてホルダフレーム２０に固定される。
　なお、複数の線材４１の両端部における第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂのうちの一方が省略されていてもよい。
　８．２　作用・効果
　以上のとおり、本実施形態の線材束６３では、複数の線材４１の両端部が第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂに挟まれた状態で接着剤６５により固定される。このため、実施形態２のように複数の線材４１の一方側の端部だけが固定される場合に比べると、ドロップレットＤＬの衝突により線材４１の端部がばらけることが回避される。
　また本実施形態の場合、線材束６３の両端部がホルダフレーム２０に固定される。このため、線材束６３の一方側の端部だけがホルダフレーム２０に固定される場合に比べてより強固に線材束６３が固定され、ドロップレットＤＬの衝突に対する耐久性が向上し得る。なお、線材束６３の一方側の端部だけがホルダフレーム２０に固定される場合に比べて、ドロップレットＤＬの軌道ＯＴに対する角度等といった線材束６３のレイアウトの自由度を向上させ易い。
９．実施形態６
　９．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　次に、実施形態６としてドロップレット回収装置における一部の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　図１６に示すように、本実施形態のドロップレット回収装置では、線材束６３における線材幅Ｗ１が実施形態２に比べて大きくされる。なお、本実施形態における第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂのうちの一方が省略されていてもよい。
　９．２　作用・効果
　線材４１は接着剤６５によりグラファイト板６４に強固に固定し得るため、本実施形態の線材束６３のように線材幅Ｗ１を広げても、当該線材４１が不安定になることが解消される。
　なお、ドロップレットＤＬの軌道ＯＴ上の互いに異なる位置に配置される複数の線材束４３（図２）それぞれが本実施形態の線材束６３に変更される場合、各線材束６３における線材幅Ｗ１が、当該軌道ＯＴの末端側に近づくほど大きされてもよい。
１０．実施形態７
　１０．１　ドロップレット回収装置における一部の構成
　次に、実施形態７としてドロップレット回収装置における一部の構成を説明する。なお、上記において説明した構成と同様の構成については同一の符号を付し、特に説明する場合を除き、重複する説明は省略する。
　図１７に示すように、本実施形態のドロップレット回収装置では、実施形態１の線材束６３における複数の線材４１が、当該線材４１の固定端である一方側の端部とは逆側の端部に向かうほど線材間が大きくなるよう扇状に配置される。なお、本実施形態の線材束６３におけるグラファイト板６４は、実施形態２と同様に、第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂにより構成され、当該第１板部材６４Ａおよび第２板部材６４Ｂの間に複数の線材４１が挟まれた状態で接着剤６５により固定されていてもよい。
　１０．２　作用・効果
　線材４１は接着剤６５によりグラファイト板６４に強固に固定し得るため、本実施形態の線材束６３のように線材４１の配置自由度が向上される。
　上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態や変形例に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
　本明細書および添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」または「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、および添付の特許請求の範囲に記載される不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」または「１またはそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
１・・・極端紫外光生成システム、２・・・チャンバ、３・・・ドロップレット供給装置、４・・・ドロップレット回収装置、５・・・エッチングガス供給装置、６・・・排気装置、１０・・・回収用容器、２０・・・ホルダフレーム、３０・・・衝突板、４０・・・緩衝部材、４１・・・線材、５０・・・ヒータ、６０・・・被覆ケース、６３・・・線材束、６４・・・グラファイト板、６５・・・接着剤。

 

Claims (7)

  1. 　チャンバの壁の外壁面側に配置され、前記チャンバの壁に設けられる開口を介して前記チャンバ内部に連通するよう構成される回収用容器と、
    　前記回収用容器の内部に配置され、前記開口から前記回収用容器に供給されるドロップレットを衝突させる衝突板と、
    　前記衝突板よりも前記開口側に配置され、前記衝突板に衝突するドロップレットの衝撃を緩和する緩衝部材と
    を備え、
    　前記緩衝部材は、複数の線材を束ねて板部材に固定した線材束を有し、
    　前記複数の線材はそれぞれカーボンにより構成され、前記板部材はグラファイトにより構成され、
    　前記複数の線材は、一方向に並べられた状態で、グラファイト化された接着剤により前記板部材に固定される
    ドロップレット回収装置。
  2. 　前記板部材は、第１板部材と第２板部材とにより構成され、
    　前記複数の線材は、前記第１板部材と前記第２板部材との間に配置され、前記グラファイト化された接着剤により前記第１板部材および前記第２板部材に固定される
    請求項１に記載のドロップレット回収装置。
  3. 　前記複数の線材の一端側の端部は前記第１板部材および前記第２板部材に固定され、前記複数の線材の他端側の端部は他の前記第１板部材および前記第２板部材に固定される
    請求項２に記載のドロップレット回収装置。
  4. 　前記複数の線材が並べられる方向の両端に位置する線材間には、最も近接する線材間の幅よりも大きい幅の空間が設けられる
    請求項１に記載のドロップレット回収装置。
  5. 　前記複数の線材は、第１線材と、前記第１線材よりも短い第２線材とにより構成され、
    　前記第２線材は、前記第１線材の間に配置され、
    　前記空間は、互いに隣り合う第１線材間である
    請求項４に記載のドロップレット回収装置。
  6. 　前記複数の線材は、複数の組に分けられ、
    　互いに隣り合う組間の幅は、前記組を構成する線材のうち互いに隣り合う線材間の幅よりも大きくされ、
    　前記空間は、互いに隣り合う組間である
    請求項４に記載のドロップレット回収装置。
  7. 　前記複数の線材の一端側の端部が前記板部材に固定され、
    　前記複数の線材は、当該線材の他端側に向かうほど線材間が大きくなるよう配置される
    請求項１に記載のドロップレット回収装置。

     
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012523666A (ja) * 2009-04-09 2012-10-04 サイマー インコーポレイテッド Ｅｕｖ生成チャンバにおけるはね返り防止のための液滴捕集器に関するシステム、方法、及び装置
WO2015063825A1 (ja) * 2013-10-28 2015-05-07 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
WO2015097888A1 (ja) * 2013-12-27 2015-07-02 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5617914A (en) 1979-07-24 1981-02-20 Inoue Japax Res Inc Surface treated graphite material
DE3418224A1 (de) 1983-05-16 1984-11-22 Dresser Industries, Inc., Dallas, Tex. Antistatikbuerste und deren herstellungsverfahren
US8748853B2 (en) * 2011-03-24 2014-06-10 Gigaphoton Inc. Chamber apparatus
JP6021422B2 (ja) * 2011-06-20 2016-11-09 ギガフォトン株式会社 チャンバ装置
US8609002B2 (en) * 2011-03-31 2013-12-17 Corning Incorporated Method of plugging a honeycomb body
JP6226648B2 (ja) 2013-09-04 2017-11-08 昭和電工株式会社 ＳｉＣエピタキシャルウェハの製造方法
EP3234214A1 (en) * 2014-12-19 2017-10-25 Tata Steel Nederland Technology B.V. Filter device to remove particles from a vapour stream
JPWO2016135932A1 (ja) * 2015-02-26 2017-12-07 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置及びターゲット回収器
EP3244705B1 (en) * 2016-05-11 2019-07-03 ETH Zürich Method and light source for providing uv or x-ray light
WO2018042565A1 (ja) * 2016-08-31 2018-03-08 ギガフォトン株式会社 ドロップレット回収装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012523666A (ja) * 2009-04-09 2012-10-04 サイマー インコーポレイテッド Ｅｕｖ生成チャンバにおけるはね返り防止のための液滴捕集器に関するシステム、方法、及び装置
WO2015063825A1 (ja) * 2013-10-28 2015-05-07 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置
WO2015097888A1 (ja) * 2013-12-27 2015-07-02 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置

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