JP6689281B2 - 極端紫外光生成装置 - Google Patents

Description

本開示は、極端紫外光生成装置に関する。

近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、２０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ）光を生成する極端紫外（ＥＵＶ）光生成装置と縮小投影反射光学系（Reduced Projection Reflective Optics）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。

ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いるＬＰＰ（Laser Produced Plasma：レーザ励起プラズマ）方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いるＤＰＰ（Discharge Produced Plasma：放電励起プラズマ）方式の装置と、軌道放射光を用いるＳＲ（Synchrotron Radiation）方式の装置との３種類の装置が提案されている。

特開２０１４−１０２９８１号公報 特開２０１４−０６８８６２号公報

概要

本開示の１つの観点に係る極端紫外光生成装置は、内部でターゲットにレーザ光が照射されて極端紫外光が生成されるチャンバと、ターゲットをチャンバ内へ吐出するターゲット供給部と、を備え、ターゲット供給部は、ターゲットをチャンバ内へ吐出する吐出口が形成された吐出面を備えるノズル部材を備え、吐出面と重力軸との成す角度θ１は、条件「０度＜θ１＜９０度」を満たす、としてよい。

本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、ＥＵＶ光生成システムの例示的な概略構成を示す。 図２は、ターゲット生成装置を含むＥＵＶ光生成装置の例示的な概略構成を示す。 図３は、ノズル部材を用いるターゲット生成装置及びターゲット供給状態を示す。 図４は、比較例のノズル部材及びターゲットの吐出状態を示す。 図５は、第１実施形態のノズル部材及びターゲットの吐出状態を示す。 図６は、第２実施形態のノズル部材及びターゲットの吐出状態を示す。 図７は、第３実施形態のノズル部材及びターゲットの吐出状態を示す。 図８は、第４実施形態のノズル部材及びターゲットの吐出状態を示す。 図９は、第５実施形態のノズル部材及びターゲットの吐出状態を示す。 図１０は、第６実施形態のノズル部材及びノズルカバー並びにターゲットの吐出状態を示す。 図１１は、第７実施形態のノズル部材及び分離受け部材並びにターゲットの吐出状態を示す。 図１２は、第８実施形態のＥＵＶ光生成装置の例示的な設置状態を示す。 図１３は、第９実施形態のノズル部材の材料例を示す。

実施形態

以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。
以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。
なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。

１．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
１．１ 構成
１．２ 動作
２．用語の説明
３．課題
３．１ ターゲット生成装置を含むＥＵＶ光生成装置の基本構成
３．２ ターゲット生成装置を含むＥＵＶ光生成装置の動作
３．３ 比較系の構成
３．４ 比較系の動作
３．５ 課題
４．第１実施形態
４．１ 構成
４．２ 動作
４．３ 作用・効果
５．第２実施形態
５．１ 構成
５．２ 動作
５．３ 作用・効果
６．第３実施形態
６．１ 構成
６．２ 動作
６．３ 作用・効果
７．第４実施形態
７．１ 構成
７．２ 動作
７．３ 作用・効果
８．第５実施形態
８．１ 構成
８．２ 動作
８．３ 作用・効果
９．第６実施形態
９．１ 構成
９．２ 動作
９．３ 作用・効果
１０．第７実施形態
１０．１ 構成
１０．２ 動作
１０．３ 作用・効果
１１．第８実施形態
１１．１ 構成
１１．２ 動作
１１．３ 作用・効果
１２．第９実施形態
１２．１ 構成
１２．２ 動作
１２．３ 作用・効果
１３．第１０実施形態
１３．１ 構成
１３．２ 動作
１３．３ 作用・効果

［１．ＥＵＶ光生成システムの全体説明］
［１．１ 構成］
図１には、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。
ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられてもよい。本願においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。
図１及びに示し、かつ、以下に詳細に説明するように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２、ターゲット供給部２６を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給部２６は、例えば、チャンバ２の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給部２６から供給されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。

チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられていてもよい。その貫通孔には、ウインドウ２１が設けられてもよく、ウインドウ２１をレーザ装置３から出力されるパルスレーザ光３２が透過してもよい。チャンバ２の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を備えるＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を備え得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンと、シリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が中間集光点（ＩＦ）２９２に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には貫通孔２４が設けられていてもよく、貫通孔２４をパルスレーザ光３３が通過してもよい。

ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御部５、ターゲットセンサ４等を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を備えてもよく、ターゲット２７の存在、軌跡、位置、速度等を検出するよう構成されてもよい。

また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２の内部と露光装置６の内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャ２９３が形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャ２９３がＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。

さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光ミラー２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。

［１．２ 動作］
図１を参照すると、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してチャンバ２内に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのターゲット２７に照射されてもよい。

ターゲット供給部２６は、ターゲット２７をチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力するよう構成されてもよい。ターゲット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマからＥＵＶ光２５１が、他の波長の光の放射に伴って放射され得る。ＥＵＶ光２５１は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって選択的に反射されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光２５２は、中間集光点２９２で集光され、露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。

ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括するよう構成されてもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたターゲット２７のイメージデータ等を処理するよう構成されてもよい。また、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、ターゲット２７が出力されるタイミング制御及びターゲット２７の出力方向等の制御の内の少なくとも１つを行ってもよい。更に、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、レーザ装置３の発振タイミングの制御、パルスレーザ光３２の進行方向の制御、パルスレーザ光３３の集光位置の制御の内の少なくとも１つを行ってもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。

［２．用語の説明］
「ターゲット」とは、チャンバに導入されたレーザ光の被照射物をいう。レーザ光が照射されたターゲットは、プラズマ化してＥＵＶ光を放射し得る。
「ドロップレット」は、チャンバ内へ供給されたターゲットの一形態である。

［３．課題］
［３．１ ターゲット生成装置を含むＥＵＶ光生成装置の基本構成］
図２及び図３には、ターゲット生成装置７を含むＥＵＶ光生成装置１の主な構成を示す。
図２では、ＥＵＶ光生成装置１のチャンバ２から露光装置６に向かってＥＵＶ光２５２を導出する方向をＺ軸としてよい。Ｘ軸及びＹ軸は、Ｚ軸に直交し、且つ、互いに直交する軸としてよい。以降の図面でも図２を基準として座標軸を使用してよい。
ＥＵＶ光生成装置１は、主に、チャンバ２、ターゲット生成装置７、ＥＵＶ光生成制御部５、レーザ光進行方向制御部３４、ターゲット回収部２８、を備えてよい。ターゲット生成装置７は、チャンバ２内へターゲット２７をドロップレット２７１として出力することにより、チャンバ２内へターゲット２７を供給してよい。また、図中にはＥＵＶ光生成システム１１の構成としてレーザ装置３が併せて図示されている。

チャンバ２は、ＥＵＶ光を生成するために減圧される内部空間を外界から隔離するものでよい。チャンバ２は、例えば中空の球形状、又は図２のように中空の円筒形状の外形に形成されてよい。中空の円筒形状の外形のチャンバ２の中心軸方向は、ＥＵＶ光２５２を露光装置６へ導出する方向に沿った方向でよい。
中空のチャンバ２の円筒側面部には、ターゲット供給孔２ａが形成されてよい。チャンバ２が中空の球形状である場合、ターゲット供給孔２ａは、チャンバ２の壁部であってウインドウ２１及び接続部２９の設置されていない位置に設けられてよい。ターゲット供給孔２ａには、ターゲット生成装置７の一部であるタンク本体２６１が挿入されてよい。
チャンバ２の内部空間は、プレート２３５により区画分けされてよい。プレート２３５は、チャンバ２の内側面に固定されてよい。プレート２３５の中央には、その厚さ方向にパルスレーザ光３３が通過可能な孔２３５ａが設けられてよい。孔２３５ａの開口方向は、図１における貫通孔２４及びプラズマ生成領域２５を通る軸と同一方向でよい。

プレート２３５により区画分けされるウインドウ２１側の区画には、レーザ光集光光学系２２ａが配置されてよい。レーザ光集光光学系２２ａは、軸外放物面ミラー２２１、平面ミラー２２２、を含んでよい。軸外放物面ミラー２２１は、ホルダ２２３により、ウインドウ２１から透視できる位置に位置決めされてよい。平面ミラー２２２は、ホルダ２２４により、軸外放物面ミラー２２１と対向する位置であって、プレート２３５の孔２３５ａを通じて透視できる位置に位置決めされてよい。ホルダ２２３及びホルダ２２４は、プレート２２５に固定されてよい。プレート２２５は、図示しない３軸ステージを介してプレート２３５の一方の面に設けられてよい。この場合、プレート２２５の位置及び姿勢は、３軸ステージにより調整されてよい。軸外放物面ミラー２２１及び平面ミラー２２２の位置及び姿勢は、プレート２２５の位置及び姿勢が変更されることに伴って調整され得る。当該調整は、軸外放物面ミラー２２１及び平面ミラー２２２に入射したパルスレーザ光３２の反射光であるパルスレーザ光３３が、プラズマ生成領域２５で集光するように実行され得る。

プレート２３５により区画分けされる接続部２９側の区画には、ＥＵＶ集光光学系２３ａが配置されてよい。ＥＵＶ集光光学系２３ａは、ＥＵＶ集光ミラー２３、ホルダ２３１、を含んでよい。ホルダ２３１は、ＥＵＶ集光ミラー２３を保持してよい。ホルダ２３１は、プレート２３５に固定されてよい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部に設けられた貫通孔２４は、プレート２３５の孔２３５ａと重なってよい。

また、接続部２９側の区画には、ターゲット回収部２８が配置されてよい。ターゲット回収部２８は、チャンバ２内へ吐出されたターゲット２７を回収してよい。ターゲット回収部２８は、チャンバ２内でターゲット供給孔２ａと対向する位置に設けられてよい。ターゲット回収部２８は、チャンバ２内にドロップレット２７１として出力されたターゲット２７の進行経路であるターゲット進行経路２７２の延長線上に配置されてよい。

レーザ装置３は、パルスレーザ光３１を生成して出力してよい。

レーザ光進行方向制御部３４は、パルスレーザ光３１をチャンバ２へ導くものでよい。レーザ光進行方向制御部３４は、高反射ミラー３４１、高反射ミラー３４２、を備えてよい。高反射ミラー３４１は、ホルダ３４３により、パルスレーザ光３１が出射されるレーザ装置３の出射口と対向する位置に位置決めされてよい。高反射ミラー３４２は、ホルダ３４４により、高反射ミラー３４１と対向する位置であって、チャンバ２のウインドウ２１から透視できる位置に位置決めされてよい。ホルダ３４３及びホルダ３４４は、ＥＵＶ光生成制御部５に接続された図示しないアクチュエータによって位置及び姿勢を変更可能でもよい。高反射ミラー３４１及び高反射ミラー３４２の位置及び姿勢は、ＥＵＶ光生成制御部５によりホルダ３４３及びホルダ３４４の位置及び姿勢が変更されることに伴って調整され得る。当該調整は、高反射ミラー３４１及び高反射ミラー３４２に入射したパルスレーザ光３１の反射光であるパルスレーザ光３２が、チャンバ２の底面部に設けられたウインドウ２１を透過するように実行され得る。

ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光生成装置１によるＥＵＶ光２５２の生成を制御するものでよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、レーザ装置３とターゲット生成装置７の後述するターゲット生成制御部７４と通信可能に接続され、これらへ制御信号を出力してよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲット２７としてのドロップレット２７１がプラズマ生成領域２５に到達するタイミングと、レーザ装置３が生成したパルスレーザ光３１プラズマ生成領域２５に到達するタイミングとを合せてよい。これにより、ＥＵＶ光生成制御部５は、プラズマ生成領域２５においてドロップレット２７１にパルスレーザ光３１が照射されるように制御し得る。
また、ＥＵＶ光生成制御部５は、レーザ光進行方向制御部３４及びレーザ光集光光学系２２ａと接続され、これらのアクチュエータおよび３軸ステージとの間で各々制御信号を送受してよい。これにより、ＥＵＶ光生成制御部５は、パルスレーザ光３１〜３３の進行方向及び集光位置を調整し得る。

ターゲット生成装置７は、ドロップレット２７１をチャンバ２内へ出力することによりチャンバ２内へターゲット２７を供給してよい。ターゲット生成装置７は、ターゲット供給部２６、圧力調節器７２１、ガスボンベ７２３、ピエゾ電源７３２、ヒータ電源７１２、ターゲット生成制御部７４、を備えてよい。
ターゲット供給部２６は、タンク本体２６１、ピエゾ素子７３１、ヒータ７１１、ノズル部材２６４、配管７２２、を備えてよい。

タンク本体２６１は、中空の円柱形状の外形に形成されてよい。円柱形状の外形のタンク本体２６１の内部には、ターゲット２７が収容されてよい。円柱形状の外形のタンク本体２６１の一方の端面には、ネック部２６２が設けられてよい。ネック部２６２は、例えばタンク本体２６１より細い円柱形状の外形でよい。円柱形状のネック部２６２の先端には、ノズル部材２６４が固定されてよい。ノズル部材２６４は、例えば円板形状の基板部２６５を備えてよい。ノズル部材２６４は、円板形状の基板部２６５の外周に沿って複数個所が、図示外のネジにより、ネック部２６２にねじ止めされてよい。円板形状のノズル部材２６４の中心には、吐出孔２６９が貫通して形成されてよい。タンク本体２６１及びネック部２６２には、ターゲット２７を吐出孔２６９へ導く供給路２６３が形成されてよい。
タンク本体２６１は、ターゲット２７と反応し難い材料で構成されてよい。タンク本体２６１は、少なくともターゲット２７と接触する内面がターゲット２７と反応し難い材料で構成されてもよい。ターゲット２７と反応し難い材料は、例えば炭化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウム、モリブデン、タングステン、タンタルのいずれかでよい。

そして、図３に示すように、タンク本体２６１は、ネック部２６２をターゲット供給孔２ａに挿入した状態で、中空のチャンバ２の円筒側面部２８２ａを貫通するように取り付けられてよい。この状態で、ノズル部材２６４の表面は、チャンバ２内に露出してよい。ターゲット供給孔２ａは、タンク本体２６１が取り付けられることで塞がれ得る。チャンバ２の内部は、外の大気から隔絶され得る。ノズル部材２６４の中心の吐出孔２６９の軸方向の延長線上には、チャンバ２の内部にあるプラズマ生成領域２５及びターゲット回収部２８が位置してよい。吐出孔２６９により、ターゲット２７を収容するタンク本体２６１の内部と、チャンバ２の内部とが、連通してよい。

ヒータ７１１は、タンク本体２６１に収容されたターゲット２７を加熱して溶融してよい。ヒータ７１１は、円柱形状の外形のタンク本体２６１の外周面に沿って、外周面の周りに固定されてよい。この場合、タンク本体２６１及びネック部２６２は、高い熱伝導性を備える金属材料で形成されてよい。ヒータ７１１は、ヒータ電源７１２と接続されてよい。ヒータ７１１は、ヒータ電源７１２から通電されることにより発熱してよい。
ヒータ電源７１２は、ヒータ７１１に電力を供給してよい。ヒータ電源７１２は、ターゲット生成制御部７４と接続されてよい。ヒータ電源７１２は、ターゲット生成制御部７４により、ヒータ７１１への通電を制御されてよい。
なお、タンク本体２６１には、図示しない温度センサが固定されてよい。温度センサは、ターゲット生成制御部７４と接続されてよい。温度センサは、タンク本体２６１の温度又はタンク本体２６１に収容されているターゲット２７の温度を検出してよい。温度センサは、温度の検出値をターゲット生成制御部７４へ出力してよい。ターゲット生成制御部７４は、温度センサの検出値に基づいて、タンク本体２６１の温度又はタンク本体２６１に収容されているターゲット２７の温度が、ターゲット２７が溶融する温度以上の目標温度に維持されるようにヒータ７１１への通電を制御してよい。これにより、タンク本体２６１の温度又はタンク本体２６１に収容されているターゲット２７の温度は、ターゲット２７が溶融している状態を維持する目標温度となるように調整され得る。

ガスボンベ７２３は、タンク本体２６１に収容されたターゲット２７を加圧するための流体が充填されてよい。流体は、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスでよい。タンク本体２６１及びネック部２６２は、高い耐圧性能が得られるように円柱形状に形成されてよい。
ガスボンベ７２３は、圧力調節器７２１と連結されてよい。ガスボンベ７２３の不活性ガスは、圧力調節器７２１へ供給されてよい。
圧力調節器７２１は、配管７２２により、タンク本体２６１と連結されてよい。圧力調節器７２１は、タンク本体２６１のチャンバ２の外側に突出した部分において、タンク本体２６１と連結されてよい。圧力調節器７２１は、ガスボンベ７２３の不活性ガスを、配管７２２を通じて、ターゲット２７を収容するタンク本体２６１の内部へ供給してよい。配管７２２は、図示しない断熱材等で覆われてもよい。配管７２２には、図示しないヒータが設置されてもよい。配管７２２内の温度は、ターゲット供給部２６のタンク本体２６１内の温度と同等の温度に保たれてもよい。
圧力調節器７２１は、給気及び排気用の電磁弁や圧力センサ等を内部に含んでもよい。圧力調節器７２１は、圧力センサを用いてタンク本体２６１内の圧力を検出してもよい。圧力調節器７２１は、図示しない排気ポンプに連結されてもよい。圧力調節器７２１は、排気ポンプを動作させて、タンク本体２６１内のガスを排気してもよい。圧力調節器７２１は、タンク本体２６１内にガスを供給又はタンク本体２６１内のガスを排気することにより、タンク本体２６１内の圧力を加圧又は減圧し得る。
圧力調節器７２１は、ターゲット生成制御部７４と接続されてよい。圧力調節器７２１は、検出した圧力の検出信号をターゲット生成制御部７４に出力してもよい。圧力調節器７２１には、ターゲット生成制御部７４から出力された目標圧力の制御信号が入力されてもよい。圧力調節器７２１は、圧力センサにより検出されるタンク本体２６１内の圧力の検出値が目標圧力になるように、タンク本体２６１のガス供給及び排気を実施してよい。これにより、タンク本体２６１内の圧力は、目標圧力に調節され得る。
また、タンク本体２６１内が加圧されることによりタンク本体２６１に収容されている溶融したターゲット２７は、ノズル部材２６４の吐出孔２６９から吐出してよい。これにより、溶融したターゲット２７は、吐出孔２６９からジェット状に吐出し得る。

ピエゾ素子７３１は、タンク本体２６１のネック部２６２に振動を与えてよい。ピエゾ素子７３１は、チャンバ２の内側に吐出したネック部２６２の外周面に取り付けられてよい。
ピエゾ電源７３２は、ピエゾ素子７３１と電気的に接続されてよい。ピエゾ電源７３２は、ピエゾ素子７３１に電力を供給してよい。また、ピエゾ電源７３２は、ターゲット生成制御部７４と接続されてよい。ピエゾ電源７３２には、ターゲット生成制御部７４から出力された制御信号が入力されてよい。ターゲット生成制御部７４から出力される制御信号は、ピエゾ電源７３２が所定波形でピエゾ素子７３１に電力を供給するための制御信号でよい。
ピエゾ電源７３２は、ターゲット生成制御部７４の制御信号に基づいてピエゾ素子７３１に電力を供給してよい。ピエゾ素子７３１は、所定波形に応じてノズル部材２６４に振動を与えてよい。これにより、ノズル部材２６４からジェット状に噴出するターゲット２７の流れには、定在波状の振動が与えられ得る。該振動により、ターゲット２７が周期的に分離され得る。分離されたターゲット２７は、自己の表面張力によって自由界面を形成してドロップレット２７１を形成し得る。

ターゲット生成制御部７４は、ＥＵＶ光生成制御部５との間で制御信号の送受を行い、ターゲット生成装置７全体の動作を統括的に制御してよい。ターゲット生成制御部７４は、ヒータ電源７１２に制御信号を出力して、ヒータ電源７１２を介してヒータ７１１の動作を制御してよい。ターゲット生成制御部７４は、圧力調節器７２１に制御信号を出力して、圧力調節器７２１動作を制御してよい。ターゲット生成制御部７４は、ピエゾ電源７３２に制御信号を出力して、ピエゾ電源７３２を介してピエゾ素子７３１の動作を制御してよい。

［３．２ ターゲット生成装置を含むＥＵＶ光生成装置の動作］
ＥＵＶ光２５２を生成するために、ターゲット生成制御部７４は、ターゲット生成装置７全体の動作を統括的に制御してよい。
ターゲット生成制御部７４は、ヒータ電源７１２に制御信号を出力して、タンク本体２６１に収容されているターゲット２７を加熱してよい。これにより、ターゲット２７は、溶融され得る。また、ターゲット生成制御部７４は、圧力調節器７２１及びピエゾ電源７３２へ制御信号を出力してよい。これにより、溶融したターゲット２７は、加圧により吐出孔２６９からチャンバ２内へ吐出し得る。また、吐出されたターゲット２７は、振動によりドロップレット２７１となってチャンバ２内を移動し得る。チャンバ２内では、複数のドロップレット２７１が離散的に連続して移動してよい。また、ターゲット生成制御部７４は、必要に応じてターゲットセンサ４によりドロップレット２７１を検出し、例えば圧力調節器７２１による圧力を調整してよい。これにより、ドロップレット２７１は、プラズマ生成領域２５を通過するようになり得る。

一方、ＥＵＶ光生成制御部５は、レーザ装置３を起動し、パルスレーザ光３１を出力させてよい。レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を介して、チャンバ２へ供給されるパルスレーザ光３２となり得る。パルスレーザ光３２は、ウインドウ２１からチャンバ２内へ入射し得る。チャンバ２内へ入射したパルスレーザ光３２は、レーザ光集光光学系２２ａにより、集光されたパルスレーザ光３３となり得る。また、ＥＵＶ光生成制御部５は、必要に応じてレーザ光集光光学系２２ａを調整してよい。これにより、パルスレーザ光３３は、プラズマ生成領域２５にて集光し得る。

そして、ＥＵＶ光生成制御部５は、ドロップレット２７１及びパルスレーザ光３３が同時にプラズマ生成領域２５に至るように、タイミング制御を実施してよい。ターゲット生成制御部７４は、例えばターゲットセンサ４からの出力信号を基準として、レーザ装置３からのパルスレーザ光３３の出力タイミングを調整してよい。これにより、ドロップレット２７１がプラズマ生成領域２５を通過するタイミングに合わせて、パルスレーザ光３３が、プラズマ生成領域２５に到達し得る。
そして、これらが同時にプラズマ生成領域２５に到達した場合、パルスレーザ光３３が照射されたターゲット２７はプラズマ化し得る。プラズマからＥＵＶ光２５１が放射され得る。ＥＵＶ光２５１は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって選択的に反射されてよい。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光２５２は、中間集光点２９２で集光され、露光装置６に出力されてよい。１つのドロップレット２７１に対して、複数のパルスレーザ光３３が続けて照射されてよい。

［３．３ 比較系の構成］
図４は、比較例のノズル部材２６４及びターゲット２７の吐出状態を示す。図４の紙面の上下方向が、重力方向でよい。
ターゲット供給部２６は、ターゲット進行経路２７２が重力軸の下向き方向に対して０度より大きい角度を持つように配置されてよい。
比較例のノズル部材２６４は、基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、を備えてよい。

基板部２６５は、平らな円板形状を備えてよい。円板形状の基板部２６５の中心軸はターゲット進行経路２７２と平行であってよい。基板部２６５は、タンク本体２６１のネック部２６２の先端に交換可能に固定されてよい。そして、基板部２６５は、チャンバ２内に露出する基面２６６を備えてよい。

突出部２６７は、その中心軸に対して対称な円錐台形状を備えてよい。円錐台形状の突出部２６７は、円板形状の基板部２６５の中央に、基板部２６５と同軸に形成されてよい。突出部２６７の中心軸は、ターゲット進行経路２７２と平行であってよい。

吐出孔２６９は、円錐台形状の突出部２６７及び円板形状の基板部２６５の中心軸に沿って延びるように、突出部２６７及び基板部２６５を貫通してよい。
円錐台形状の突出部２６７の先端には、吐出孔２６９の端部である吐出口２６９ａが形成されてよい。吐出口２６９ａは円形であってもよい。吐出口２６９ａの中心を通る中心軸は、ノズル部材２６４の中心軸と同じであってよい。ノズル部材２６４の中心軸は、吐出孔２６９の中心軸と平行であってもよい。吐出口２６９ａと円錐台形状の突出部２６７の周面との間の面は、吐出面２６７ａであってよい。

そして、図４に示すように、ノズル部材２６４の中心軸は、重力方向に対して傾くように設けられてよい。この場合、ターゲット進行経路２７２は、斜め下方向へ向いて重力方向に対して傾くように設けられ得る。
また、図４に示すように、円錐台形状の突出部２６７の周面は、重力方向下側部分が、吐出面２６７ａの下端を基準として、水平面より上へ向かうように斜め上方向へ向かって形成されてよい。すなわち、図４では、突出部２６７の周面についての重力方向下側部分と重力軸下向き方向との成す角度θｃが条件「９０度＜θｃ」を満たすように傾斜してよい。

［３．４ 比較系の動作］
図４に示すノズル部材２６４からターゲット２７を吐出する場合、ヒータ電源７１２は、ヒータ７１１によりタンク本体２６１を加熱してよい。タンク本体２６１内のターゲット２７は、その融点以上に加熱されてよい。
また、圧力調節器７２１は、ガスボンベ７２３内のガスをタンク本体２６１へ供給してよい。タンク本体２６１内のターゲット２７は、ガスの供給量に応じて所定の圧力まで加圧されてよい。溶融したターゲット２７は、ノズル部材２６４の吐出口２６９ａから吐出され始め得る。そして、例えば所定の圧力は、数十ＭＰａであってよい。所定の圧力まで加圧されることで、溶融したターゲット２７は、ターゲット進行経路２７２に沿ってチャンバ２内へ吐出され得る。ターゲット２７は、斜め下方向へ向いて重力方向に対して傾く姿勢に設けられているノズル部材２６４の吐出口２６９ａから吐出され、斜め下方向へ向かって進行し得る。
また、ピエゾ電源７３２は、タンク本体２６１のネック部２６２に対して一定の周期による振動を加えてよい。これにより、ネック部２６２が振動し、ノズル部材２６４の吐出口２６９ａから吐出されるターゲット２７は、その周期に応じて分断され得る。ターゲット進行経路２７２に沿ってチャンバ２内へ吐出されたターゲット２７は、一定間隔で連続的に進行する複数のドロップレット２７１となり得る。

ノズル部材２６４からのターゲット２７の吐出を終了する場合、ピエゾ電源７３２は、タンク本体２６１のネック部２６２に対する加振を止めてよい。また、圧力調節器７２１は、タンク本体２６１からガスを抜いてよい。タンク本体２６１内のターゲット２７の圧力は、徐々に減圧され、最終的には例えばチャンバ２内と同じ圧力へ減圧されてよい。これにより、ノズル部材２６４の吐出口２６９ａからのターゲット２７の吐出が停止される。

［３．５ 課題］
ところで、上述したようにノズル部材２６４の中心軸を重力方向に対して傾くように設けて吐出孔２６９からターゲット２７を吐出させた場合、ターゲット２７が適切に進行しないことがあり得る。すなわち、ターゲット２７が、ターゲット進行経路２７２に沿ってチャンバ２内を進行せずに、吐出口２６９ａの周囲のノズル部材２６４の表面に付着することがあり得る。例えば、タンク本体２６１に収容されているターゲット２７を溶融したのち、加圧を開始してから所定の圧力までの加圧が完了する加圧期間において、ターゲット２７は吐出口２６９ａの周囲のノズル部材２６４の表面に付着し得る。また、減圧を開始してから吐出孔２６９からのターゲット２７の吐出が停止するまでの終了期間においても、ターゲット２７は、吐出口２６９ａの周囲のノズル部材２６４の表面に付着し得る。
このように加圧期間および減圧期間に吐出されたターゲット２７は、所定の圧力で加圧されていないので運動エネルギーが不足するため、吐出孔２６９から吐出された後、吐出口２６９ａの周囲のノズル部材２６４の表面に付着し得る。ノズル部材２６４の表面に付着したターゲット２７は、付着ターゲット２７３となり得る。特に、図４の比較例に示すように突出部２６７の周面の重力方向下側部分が水平面より上へ向かうように傾斜している場合、吐出孔２６９から吐出されたターゲット２７は、吐出口２６９ａの周囲のノズル部材２６４の表面に滞留するように付着し得る。
また、このように吐出口２６９ａの周囲のノズル部材２６４の表面に付着ターゲット２７３が存在する状態で次のターゲット２７が吐出される場合、該次に吐出されるターゲット２７は、付着ターゲット２７３と接触し得る。
その結果、吐出口２６９ａの周囲に付着ターゲット２７３が付着したまま次のターゲット２７を吐出した場合、該次に吐出されるターゲット２７の吐出方向は、ターゲット進行経路２７２からずれた方向へ変化し易くなり得る。また、次のターゲット２７の運動エネルギーは、吐出口２６９ａの周囲の付着ターゲット２７３に接触することで低減され得る。これにより、ドロップレット２７１の軌道は、ターゲット進行経路２７２から外れて悪化し得る。また、該次に吐出されるターゲット２７が、吐出口２６９ａの周囲のノズル部材２６４の表面に付着し易くなり得る。この場合、ドロップレット２７１の生成が困難になり得る。また、吐出口２６９ａの周囲において、ターゲット２７の付着量が増加し得る。付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａの周囲において大きく成長し得る。成長したターゲット２７は、吐出面２６７ａの下端からチャンバ２内へ滴下し得る。吐出面２６７ａの下端からチャンバ２内へ滴下したターゲット２７は、滴下ターゲット２７４となり得る。
また、ターゲット進行経路２７２から外れて吐出されたターゲット２７は、ターゲット回収部２８により回収されず、チャンバ２内を汚染し得る。特に、ノズル部材２６４の下方にＥＵＶ集光ミラー２３が配置されている場合、軌道が悪化したターゲット２７は、ＥＵＶ集光ミラー２３の表面に付着し得る。
そして、このように吐出口２６９ａの周囲にターゲット２７が付着した場合、ターゲット２７を除去するためのメンテナンス作業が、必要となり得る。また、ＥＵＶ集光ミラー２３の表面にターゲット２７が付着した場合、ターゲット２７を除去するためのメンテナンス作業が、必要となり得る。メンテナンス作業により、ＥＵＶ光生成システム１１の稼働率が低下し得る。

［４．第１実施形態］
［４．１ 構成］
図５は、第１実施形態のノズル部材２６４及びターゲット２７の吐出状態を示す。図５の紙面の上下方向が、重力方向でよい。
第１実施形態のノズル部材２６４は、基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ、第二流路２６６ａ、を備えてよい。
吐出孔２６９は、比較例と同様でよい。

吐出面２６７ａは、円錐台形状の突出部２６７の先端に形成されてよい。吐出面２６７ａは、円板形状の基板部２６５の基面２６６と略平行となるように円形状に形成されてよい。吐出面２６７ａの中心には、吐出孔２６９の端部として吐出口２６９ａが形成されてよい。この場合、吐出孔２６９の中心と吐出面２６７ａの中心とが一致してよい。また、吐出口２６９ａの周囲に、吐出面２６７ａが形成されてよい。
そして、吐出面２６７ａは、重力軸との成す角度θ１が条件「０度＜θ１＜９０度」を満たすように傾斜してよい。好ましくは、条件「１０度＜θ１＜８０度」を満たすように傾斜してよい。また、吐出面２６７ａは、円板形状の基板部２６５の外側平面が重力軸の成す角度と同じ角度に傾斜してよい。

第一流路２６７ｂは、突出部２６７の円錐台形状の周面の一部として形成されてよい。第一流路２６７ｂは、円錐台形状の周面における重力方向の下部として形成されてよい。第一流路２６７ｂは、吐出面２６７ａの重力方向における下端から、基板部２６５の基面２６６に至る表面として形成されてよい。
そして、第一流路２６７ｂは、重力軸との成す角度θ２が条件「０度＜θ２＜９０度」を満たすように傾斜してよい。好ましくは、第一流路２６７ｂは、条件「１０度＜θ２＜８０度」を満たすように傾斜してよい。また、第一流路２６７ｂは、条件「θ１＜θ２＜９０度」を満たすように傾斜してよい。

第二流路２６６ａは、基面２６６の一部として形成されてよい。第二流路２６６ａは、基面２６６において突出部２６７より下側の部分である重力方向の下部として形成されてよい。第二流路２６６ａは、突出部２６７の円錐台形状の周面が基面２６６と接続する部分から、基面２６６の重力方向における下端に至る表面として形成されてよい。
そして、第二流路２６６ａは、重力軸との成す角度θ３が条件「０度＜θ３＜９０度」を満たすように傾斜してよい。好ましくは、第二流路２６６ａは、条件「１０度＜θ３＜８０度」を満たすように傾斜してよい。また、第二流路２６６ａは、条件「０度＜θ３＜θ２」を満たすように傾斜してよい。

また、溶融させるターゲット２７がスズである場合、ノズル部材２６４の材料については後述するが、例えばモリブデン、タングステンで形成してよい。
ノズル部材２６４の表面の表面粗さは、たとえば、基準長さの表面部分における最大高さが０．２Ｓ以上０．３Ｓ以下でよく、基準長さの表面部分の十点平均粗さがＲz＝０．２程度でよい。

［４．２ 動作］
図５に示すように、ノズル部材２６４の中心軸が重力方向に対して傾くように設けられている場合、ターゲット２７から形成されるドロップレット２７１は、吐出口２６９ａからターゲット進行経路２７２に沿って斜め下方向へ向かって出力され得る。
また、ターゲット進行経路２７２に沿ってチャンバ２内を進行せずに吐出口２６９ａの周囲のノズル部材２６４の表面に付着した付着ターゲット２７３は、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ及び第二流路２６６ａをその順番で流れ下がり得る。
例えば、ターゲット２７の吐出を終了する場合、タンク本体２６１内は減圧されてよい。これにより、吐出されるターゲット２７は、勢いを失い、表面張力によりノズル部材２６４の表面に付着し得る。付着ターゲット２７３は、ノズル部材２６４の表面で液滴化し得る。付着ターゲット２７３が成長して、液滴の重さが表面張力に打ち勝った時点で、付着ターゲット２７３は、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ及び第二流路２６６ａの傾斜にしたがって流れ下がる。

［４．３ 作用・効果］
本実施形態のように、中心軸が重力方向下向きに対して傾斜して配置されるノズル部材２６４は、吐出口２６９ａの周囲に形成される吐出面２６７ａを備え、該吐出面２６７ａと重力軸との成す角度θ１が条件「０度＜θ１＜９０度」を満たしてよい。好ましくは、角度θ１が条件「１０度＜θ１＜８０度」を満たしてよい。
この場合、吐出面２６７ａは水平面に対して傾斜した面になり得る。よって、付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａへ戻ることなく、該吐出面２６７ａの傾斜にしたがって吐出面２６７ａの上を流れ下がり得る。
その結果、付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａの周囲に滞留し難くなり得る。付着ターゲット２７３に次のターゲット２７が接触し難くなり得るので、ターゲット２７の吐出方向が変化し難くなり得る。よって、吐出方向が変化したターゲット２７により、チャンバ２内の例えばＥＵＶ集光ミラー２３といった部材が汚染されるのを効果的に抑制し得る。また、付着ターゲット２７３はノズル部材２６４の表面への滞留を抑制され得る。したがって、付着ターゲット２７３を除去するためのメンテナンス回数を減らし得る。結果として稼働率を向上させ得る。

また、本実施形態のように、突出部２６７の周面には、吐出面２６７ａの下端から、吐出面２６７ａの傾斜方向に傾斜する第一流路２６７ｂを設けてよい。第一流路２６７ｂは、重力軸との成す角度θ２が条件「０度＜θ２＜９０度」を満たすように傾斜してよい。好ましくは、角度θ２が条件「１０度＜θ２＜８０度」を満たすように傾斜してよい。
この場合、第一流路２６７ｂは水平面に対して傾斜した面にしてよい。しかも、第一流路２６７ｂは、吐出面２６７ａの下端から吐出面２６７ａの傾斜方向に傾斜している。よって、吐出面２６７ａの傾斜にしたがって吐出面２６７ａの上を流れ下がった付着ターゲット２７３は、吐出面２６７ａの下端からさらに第一流路２６７ｂに沿って流れ下がり得る。
その結果、付着ターゲット２７３は、吐出面２６７ａから第一流路２６７ｂへ流れ下がり、吐出面２６７ａから排除され得る。
特に、角度θ２が条件「θ１＜θ２＜９０度」を満たすように傾斜してよい。この場合、吐出面２６７ａを流れ下がる付着ターゲット２７３は、吐出面２６７ａの下端部分に集まり易くなり得る。吐出面２６７ａの下端部分において集まることにより、付着ターゲット２７３が重くなって流れやすくなり得る。吐出面２６７ａにおいて大きく成長する前に、流れ下がる付着ターゲット２７３を吐出面２６７ａから第一流路２６７ｂへ流れ下げ得る。
また、吐出面２６７ａの角度θ１が「１０度＜θ１＜８０度」を満たし、第一流路２６７ｂの角度θ２が条件「１０度＜θ２＜８０度」を満たす場合、吐出面２６７ａと第一流路２６７ｂとの成す角度を１１０度以上の鈍角としてよい。これにより、吐出面２６７ａの下端に到達した付着ターゲット２７３が、吐出面２６７ａの下端から滴下し難くし得る。これに対して仮に例えば、吐出面２６７ａと第一流路２６７ｂとの成す角度が約９０度である場合、ターゲット２７の流れ方向が急激に変化するため、吐出面２６７ａの下端に到達したターゲット２７は、吐出面２６７ａの下端から滴下し難くなり得る。

また、本実施形態のように、基板部２６５の基面２６６には、突出部２６７における第一流路２６７ｂの下端から、第一流路２６７ｂの傾斜方向に傾斜する第二流路２６６ａを設けてよい。第二流路２６６ａは、重力軸との成す角度θ３が条件「０度＜θ３＜９０度」を満たすように傾斜してよい。好ましくは、角度θ３が条件「１０度＜θ３＜８０度」を満たすように傾斜してよい。
この場合、第二流路２６６ａは水平面に対して傾斜した面にし得る。しかも、第二流路２６６ａは、第一流路２６７ｂの下端から第一流路２６７ｂの傾斜方向に傾斜している。よって、第一流路２６７ｂの傾斜にしたがって突出部２６７の周面の上を流れ下がった付着ターゲット２７３は、第一流路２６７ｂの下端からさらに第二流路２６６ａに沿って流れ下がり得る。
その結果、付着ターゲット２７３は、突出部２６７の第一流路２６７ｂから基板部２６５の基面２６６の第二流路２６６ａへ流れ下がり、突出部２６７から排除され得る。
特に、角度θ３が条件「０度＜θ３＜θ２」を満たすように傾斜してよい。この場合、突出部２６７を流れ下がってきた付着ターゲット２７３は、基板部２６５の基面２６６の第二流路２６６ａにおいて加速されて流れ易くなり得る。吐出面２６７ａの下端部分において集まることにより重くなった付着ターゲット２７３は、角度のついた第二流路２６６ａにより効率よく排除され得る。
また、重く速くなった付着ターゲット２７３は、基板部２６５の基面２６６の第二流路２６６ａの下端において、ノズル部材２６４の表面から好適に滴下し得る。
また、第一流路２６７ｂの角度θ２が「１０度＜θ２＜８０度」を満たし、第二流路２６６ａの角度θ３が条件「１０度＜θ３＜８０度」を満たす場合、第一流路２６７ｂと第二流路２６６ａとの成す角度を１１０度以上の鈍角とし得る。これにより、第一流路２６７ｂを流れてきた付着ターゲット２７３が、第二流路２６６ａに当たって滞留することが起き難くし得る。これに対して仮に例えば、第一流路２６７ｂと第二流路２６６ａとの成す角度が約９０度である場合、ターゲット２７の流れ方向が急激に変化するため、第一流路２６７ｂを流れてきたターゲット２７が、第二流路２６６ａに当たって滞留し易くなり得る。

そして、このようにノズル部材２６４についての、ターゲット２７の吐出口２６９ａから、付着ターゲット２７３がノズル部材２６４から滴下する位置までの区間の部位の表面を、重力軸との成す角度θが条件「０度＜θ＜９０度」を満たす面により構成してもよい。好ましくは、角度θが条件「１０度＜θ＜８０度」を満たすように傾斜してよい。
この場合、上述したように、付着ターゲット２７３が、吐出口２６９ａの周囲に付着したままになり難くなり得る。吐出口２６９ａの周囲から、効率よく付着ターゲット２７３を排除し得る。
なお、ノズル部材２６４はヒータ７１１により加熱されるタンク本体２６１のネック部２６２の先端に取り付けられているので、該ヒータ７１１の熱によりノズル部材２６４を加熱し得る。その結果、ノズル部材２６４の表面に付着した付着ターゲット２７３は、溶融した状態に維持され得る。

また、本実施形態のように、タンク本体２６１に収容されているターゲット２７を加圧する加圧装置としての圧力調節器７２１と、ネック部２６２を振動させる加振装置としてのピエゾ素子７３１と、を備えてよい。これにより、タンク本体２６１に収容されているターゲット２７を加圧した状態でネック部２６２を振動させ得る。ターゲット２７は、粒状化してチャンバ２内へ出力され得る。
しかも、ノズル部材２６４は、タンク本体２６１のネック部２６２とともに加振され得る。よって、付着ターゲット２７３は、振動によって流れ下りが促進され得る。

［５．第２実施形態］
［５．１ 構成］
図６は、第２実施形態のノズル部材２６４及びターゲット２７の吐出状態を示す。図６の紙面の上下方向が、重力方向でよい。
第２実施形態のノズル部材２６４は、基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ、第二流路２６６ａ、を備えてよい。
基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ、第二流路２６６ａは、後述する部分以外が第１実施形態と同様でよい。

吐出面２６７ａは、その直径Φ２が１０マイクロメートル以上２０マイクロメートル以下となる円形に形成されてよい。
吐出孔２６９により吐出面２６７ａの中心に形成される吐出口２６９ａは、その直径Φ１が直径２マイクロメートル以上３マイクロメートル以下となる円形に形成されてよい。

［５．２ 動作］
図６に示すように、吐出口２６９ａの直径Φ１が２マイクロメートル以上３マイクロメートル以下の円形である場合、ドロップレット２７１の直径は、数マイクロメートルとなり得る。
また、付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａから吐出された後、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ及び第二流路２６６ａをその順番で流れ下がり得る。

［５．３ 作用・効果］
本実施形態のように、吐出口２６９ａの直径が２マイクロメートル以上３マイクロメートル以下である場合、ドロップレット２７１の直径は、数マイクロメートルとなり得る。また、吐出面２６７ａの直径が１０マイクロメートル以上２０マイクロメートル以下である場合、吐出面２６７ａの吐出口２６９ａから吐出面２６７ａ下端までの長さは、ドロップレット２７１の直径より大きく、ドロップレット２７１数個分の長さになり得る。
その結果、付着ターゲット２７３は、吐出面２６７ａの下端まで流れることにより吐出口２６９ａの周囲から排除され、その吐出口２６９ａの周囲から離れた位置において液滴に成長し得る。よって、吐出口２６９ａから吐出されるターゲット２７に付着ターゲット２７３が接触するのをさらに抑制し得る。

［６．第３実施形態］
［６．１ 構成］
図７は、第３実施形態のノズル部材２６４及びターゲット２７の吐出状態を示す。図７の紙面の上下方向が、重力方向でよい。
第３実施形態のノズル部材２６４は、基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ、第二流路２６６ａ、を備えてよい。
基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ、第二流路２６６ａは、後述する部分以外は第１実施形態と同様でよい。

突出部２６７は、吐出孔２６９の中心軸に対して非対称に形成されてよい。突出部２６７は、例えば中心軸を含む重力方向断面において、中心軸上側の体積が下側の体積に比べて小さい偏芯楕円錐台形状に形成されてよい。また、突出部２６７は、中心軸を含む重力方向断面において、中心軸上側の体積が下側の体積に比べて小さい偏芯多角錘台形状に形成されてもよい。
これにより、図７に示すように、突出部２６７の周面は、ターゲット進行経路２７２に対する上側部分の角度より、ターゲット進行経路２７２に対する下側部分の角度が大きくなり得る。
図７では、下側部分がターゲット進行経路２７２と成す角度θ５は、上側部分がターゲット進行経路２７２と成す角度θ４より大きくてよい。

［６．２ 動作］
図７に示すように、付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａから吐出された後、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ及び第二流路２６６ａをその順番で流れ下がり得る。

［６．３ 作用・効果］
本実施形態のように、突出部２６７が非対称に形成されることで、突出部２６７の周面においてターゲット進行経路２７２に対する上側部分の角度よりターゲット進行経路２７２に対する下側部分の角度が大きくなり得る。このため、吐出面２６７ａが重力軸との成す角度θ１、及び基板部２６５の基面２６６の第二流路２６６ａが重力軸との成す角度θ３を第１実施形態と同じにしながら、突出部２６７の周面の第一流路２６７ｂが重力軸との成す角度θ２は、小さくし得る。
その結果、ノズル部材２６４の角度を変更することなく、吐出面２６７ａと第一流路２６７ｂとの成す角度、及び第一流路２６７ｂと第二流路２６６ａとの成す角度は、大きくなり得る。ノズル部材２６４の角度をターゲット進行経路２７２の要求仕様に維持しつつ、ノズル部材２６４の表面の角度を変えて、ノズル部材２６４の表面でのターゲット２７の流れは、好適に調整され得る。

［７．第４実施形態］
［７．１ 構成］
図８は、第４実施形態のノズル部材２６４及びターゲット２７の吐出状態を示す。図８の紙面の上下方向が、重力方向でよい。
第４実施形態のノズル部材２６４は、基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ、第二流路２６６ａ、を備えてよい。
基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ、第二流路２６６ａは、後述する部分以外は第１実施形態と同様でよい。

突出部２６７は、第１実施形態のもののよりも大径の円錐台形状に形成されてよい。
吐出面２６７ａは、第１実施形態のもののよりも大径の円形状に形成されてよい。

［７．２ 動作］
図８に示すように、付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａから吐出された後、ノズル部材２６４の表面である吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ及び第二流路２６６ａをその順番で流れ下がり得る。

［７．３ 作用・効果］
本実施形態のように、吐出面２６７ａは、大径な円形状に形成され得る。これにより、吐出面２６７ａの吐出口２６９ａから吐出面２６７ａ下端までの長さは、ターゲット２７の液滴よりも非常に大きくなり得る。
その結果、吐出口２６９ａから吐出されるターゲット２７に付着ターゲット２７３が接触する可能性を著しく低減し得る。

［８．第５実施形態］
［８．１ 構成］
図９は、第５実施形態のノズル部材２６４及びターゲット２７の吐出状態を示す。図９の紙面の上下方向が、重力方向でよい。
第５実施形態のノズル部材２６４は、基板部２６５、吐出孔２６９、吐出面、を備えてよい。
吐出面は、傾斜している基板部２６５の基面２６６でよい。
そして、吐出面としての基面２６６が重力軸との成す角度θ１は、条件「０度＜θ１＜９０度」を満たすように傾斜してよい。好ましくは、角度θ１は、「１０度＜θ１＜８０度」を満たすように傾斜してよい。
基板部２６５、吐出孔２６９は、第１実施形態と同様でよい。

［８．２ 動作］
図９に示すように、付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａから吐出された後、吐出面としての基面２６６を流れ下がり得る。

［８．３ 作用・効果］
本実施形態のように、吐出面としての基板部２６５の基面２６６は、重力方向下向きに対して傾斜し、吐出面としての基面２６６と重力軸との成す角度θ１が条件「０度＜θ１＜９０度」を満たしてよい。好ましくは、角度θ１が条件「１０度＜θ１＜８０度」を満たしてよい。
この場合、吐出面としての基面２６６は水平面に対して傾斜した面にし得る。よって、付着ターゲット２７３は、該吐出面としての基面２６６の傾斜にしたがって、基面２６６の上を流れ下がり得る。
その結果、付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａの周囲に付着したままになり難くなり得る。吐出口２６９ａの周囲に付着ターゲット２７３が付着したまま次のターゲット２７を吐出することが起き難くなり得る。ターゲット２７の吐出方向が変化し難くなり得る。また、吐出方向が変化したターゲット２７により、チャンバ２内の例えばＥＵＶ集光ミラー２３といった部材が汚染されてしまうことを効果的に抑制し得る。

［９．第６実施形態］
［９．１ 構成］
図１０は、第６実施形態のノズル部材２６４及びノズルカバー２８１並びにターゲット２７の吐出状態を示す。図１０の紙面の上下方向が、重力方向でよい。
第６実施形態のノズル部材２６４は、第１実施形態のものと同様に、基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ、第二流路２６６ａ、を備えてよい。
基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ、第二流路２６６ａは、第１実施形態と同様でよい。

また、第６実施形態では、ノズル部材２６４の全体を覆う受け部材としてのノズルカバー２８１を備えてよい。
ノズルカバー２８１は、カバー本体２８２、カバー孔２８３、ヒータ２８４、を備えてよい。
カバー本体２８２は、高い伝熱性を備える金属材料で形成されてよい。カバー本体２８２は、円筒側面部２８２ａ、底面部２８２ｂ、を備えてよい。円筒側面部２８２ａは、ネック部２６２に嵌合可能な内径に形成されてよい。底面部２８２ｂは、円筒側面部２８２ａの底面を塞ぐように円筒側面部２８２ａと一体化されてよい。底面部２８２ｂと、ノズル部材２６４の吐出孔２６９の中心軸とが交差する位置に、カバー孔２８３が形成されてよい。カバー孔２８３は、底面部２８２ｂの中心に形成されてもよい。
ヒータ２８４は、カバー本体２８２の外面に設けられてよい。ヒータ２８４は、ヒータ電源７１２に接続されてよい。
そして、ノズルカバー２８１には、ネック部２６２が嵌合されてよい。これにより、ノズル部材２６４は、ノズルカバー２８１により覆われ得る。

［９．２ 動作］
図１０に示すように、ノズル部材２６４の中心軸が重力方向に対して傾く姿勢に設けられている場合、ターゲット２７から形成されるドロップレット２７１は、吐出口２６９ａからターゲット進行経路２７２に沿って斜め下方向へ向かって出力され得る。ドロップレット２７１は、ノズルカバー２８１のカバー孔２８３を通過し、チャンバ２内へ進行してよい。
一方、付着ターゲット２７３が発生した場合、付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａから吐出された後、ノズル部材２６４の表面である吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ及び第二流路２６６ａをその順番で流れ下がり得る。ノズル部材２６４の下端に到達した付着ターゲット２７３は、ノズル部材２６４から滴下し、ノズルカバー２８１のカバー本体２８２の内側に捕集され得る。カバー本体２８２の内側に捕集された付着ターゲット２７３は、ヒータ２８４により加熱されることにより溶融した状態に維持され得る。

［９．３ 作用・効果］
本実施形態のように、ノズル部材２６４をノズルカバー２８１により覆うことによって、付着ターゲット２７３は、傾斜するノズル部材２６４の表面を流れ下がった後、ノズル部材２６４から滴下し、ノズルカバー２８１内に捕集され得る。
その結果、本実施形態では、付着ターゲット２７３が、ノズル部材２６４からチャンバ２内へ滴下してチャンバ２内を汚染することを抑制し得る。捕集された付着ターゲット２７３は、ヒータ２８４により加熱溶融されるので、ノズルカバー２８１内で付着ターゲット２７３が固化して堆積することでターゲット進行経路２７２が塞がれてしまうことが起き難くなり得る。

［１０．第７実施形態］
［１０．１ 構成］
図１１は、第７実施形態のノズル部材２６４及び分離受け部材２８５並びにターゲット２７の吐出状態を示す。図１１の紙面の上下方向が、重力方向でよい。
第７実施形態のノズル部材２６４は、第１実施形態のものと同様に、基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ、第二流路２６６ａ、を備えてよい。
基板部２６５、突出部２６７、吐出孔２６９、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ、第二流路２６６ａは、第１実施形態と同様でよい。

また、第７実施形態では、傾斜して配置されるノズル部材２６４の下端の下方に配置される分離受け部材２８５を備えてよい。
分離受け部材２８５は、受け本体２８６、ヒータ２８４、を備えてよい。
受け本体２８６は、高い伝熱性を備える金属材料で形成されてよい。受け本体２８６は、上面に開口２８６ａを備えた箱状に形成されてよい。開口２８６ａは、受け本体２８６の上面全面にわたって形成されてもよい。受け本体２８６は、開口２８６ａがノズル部材２６４の下端の下方に位置するよう配置されてよい。
ヒータ２８４は、受け本体２８６の外面に設けられてよい。

［１０．２ 動作］
図１１に示すように、付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａから吐出された後、ノズル部材２６４の表面である吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ及び第二流路２６６ａをその順番で流れ下がり得る。ノズル部材２６４の下端に到達したターゲット２７は、ノズル部材２６４から滴下し、分離受け部材２８５の受け本体２８６の内側に捕集され得る。分離受け部材２８５の受け本体２８６の内側に捕集された付着ターゲット２７３は、ヒータ２８４により加熱されることにより溶融した状態に維持され得る。

［１０．３ 作用・効果］
本実施形態のように、傾斜して配置されるノズル部材２６４の下端の下方には、分離受け部材２８５を配置し得る。これにより、付着ターゲット２７３は、所定の傾斜面を備えたノズル部材２６４の表面を流れ下がった後、ノズル部材２６４から滴下し、分離受け部材２８５に回収され得る。
その結果、本実施形態では、付着ターゲット２７３は、分離受け部材２８５により回収され得る。付着ターゲット２７３が、ノズル部材２６４からチャンバ２内へ滴下してチャンバ２内を汚染し難くなり得る。捕集された付着ターゲット２７３は、ヒータ２８４により加熱溶融されるので、受け本体２８６の内で付着ターゲット２７３が固化して堆積することでターゲット進行経路２７２が塞がれてしまうことが起き難くなり得る。

［１１．第８実施形態］
［１１．１ 構成］
図１２は、第８実施形態のＥＵＶ光生成装置１の例示的な設置状態を示す。図１１の紙面の上下方向が、重力方向でよい。
第８実施形態では、チャンバ２は、重力軸に対して傾斜して配置されてよい。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光２５２の光軸が、重力軸の下向きと成す角度θ６は、条件「０度＜θ６＜９０度」を満たしてよい。
また、ターゲット進行経路２７２は、ＥＵＶ光２５２の光軸と略直角となるように設けられてよい。すなわち、ターゲット進行経路２７２が重力軸の下向きと成す角度θ７は、条件「θ７＝９０度−θ６」でよい。角度θ７は、条件「１０度＜θ７＜８０度」を満たしてもよい。
この場合、チャンバ２の側面に取り付けられるタンク本体２６１も重力軸に対して傾斜して配置されてよい。ノズル部材２６４は、中心軸が重力方向に対して傾斜した姿勢で、ネック部２６２の先端に取り付けられてよい。

［１１．２ 動作］
図１２に示すように、ノズル部材２６４が斜め下方向へ向いて、重力方向に対して傾く姿勢に設けられている場合、ターゲット２７から形成されるドロップレット２７１は、吐出口２６９ａからターゲット進行経路２７２に沿って斜め下方向へ向かって出力され得る。
一方、付着ターゲット２７３が発生した場合、付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａから吐出された後、吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ及び第二流路２６６ａをその順番で流れ下がり得る。

［１１．３ 作用・効果］
本実施形態のように、チャンバ２そのものを重力軸に対して傾斜して配置し得る。これにより、タンク本体２６１のネック部の先端に取り付けられるノズル部材２６４は、水平面に対して傾斜した姿勢でチャンバ２取り付けられ得る。吐出面２６７ａ及び第二流路２６６ａがターゲット進行経路２７２に対して垂直な面として形成されている場合、θ１およびθ３はθ６と等しくなり得る。従って、この場合、条件「０度＜θ６＜９０度」であれば、「０度＜θ１＜９０度」、「０度＜θ３＜９０度」も満たされ得る。第一流路２６７ｂに関しては、条件「θ１＜θ２＜９０度」または、条件「０度＜θ３＜θ２」を満たすように形成するとよい。このように、チャンバ２そのものを重力軸に対して傾斜して配置する場合、θ１、θ３に関する条件を満たすように、タンク本体２６１をチャンバ２に対して取り付け得る。
しかも、ノズル部材２６４は、タンク本体２６１のネック部２６２の先端に設けられるので、タンク本体２６１とともにノズル部材２６４は、交換し得る。仮に例えばノズル部材２６４の表面にターゲット２７が付着することがあるとしても、タンク本体２６１とともにノズル部材２６４は交換し得る。その結果、ノズル部材２６４にターゲット２７が付着した状態が長期に渡らないようにし得る。
また、仮に例えばタンク本体２６１をチャンバ２に対して水平に取り付ける場合と比べて、チャンバ２からのタンク本体２６１の水平方向への突出量を抑え得る。ＥＵＶ光生成装置１の小型化に貢献し得る。

［１２．第９実施形態］
［１２．１ 構成］
図１３は、第９実施形態のノズル部材２６４の材料例を示す。図１３には、溶融スズに対する各材料の接触角が示されている。
ターゲット２７は、例えばスズでよい。
第９実施形態のノズル部材２６４は、溶融したターゲット２７との接触角θｔが条件「９０度＜θｔ＜１８０度」を満たす材料により形成されてよい。一般的に、接触角が９０度以下の場合、浸漬濡れとなり、材料は浸漬して沈み込み得る。接触角が９０度を超える場合、付着濡れとなり、材料の濡れが進行しないようにし得る。
図１３に示すように、溶融スズに対して付着濡れとなるノズル部材２６４の材料は、例えば炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、黒鉛、ダイヤモンド、窒化珪素、酸化モリブデンでよい。
なお、ノズル部材２６４は、その全体が上述した材料で形成されるではなく、少なくともノズル部材２６４の表面が上述した材料で形成されてもよい。例えば、ノズル部材２６４の表面が上述した材料によってコーティングされてもよい。

［１２．２ 動作］
付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａから吐出された後、上述した材料により形成された吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ及び第二流路２６６ａをその順番で流れ下がり得る。

［１２．３ 作用・効果］
本実施形態のように、ノズル部材２６４又はノズル部材２６４の表面は、溶融したターゲット２７との接触角θｔが条件「９０度＜θｔ＜１８０度」を満たす材料により形成され得る。これにより、ノズル部材２６４の表面は、溶融したターゲット２７により濡れ難くなり得る。溶融したターゲット２７は、ノズル部材２６４の表面で滴化し易くなり、ノズル部材２６４の表面を流れ下がり易くなり得る。

［１３．第１０実施形態］
［１３．１ 構成］
ターゲット２７は、例えばスズでよい。
第１０実施形態のノズル部材２６４又はノズル部材２６４の表面は、溶融したターゲット２７との反応性が低い材料により形成されてよい。
溶融スズと各種の材料との反応性は、例えば以下の通りでよい。
高融点材料であるタングステン、タンタル、モリブデンは、スズとの反応性は低くなり得る。
炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、ダイヤモンド、窒化珪素、酸化モリブデンは、溶融スズとの反応性は低くなり得る。
酸化タングステン、酸化タンタルは、溶融スズとの反応性が低い可能性があり得る。
したがって、タングステン、タンタル、モリブデン、炭化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、ダイヤモンド、窒化珪素、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化タンタルを、ノズル部材２６４の材料として使用してよい。また、ノズル部材２６４の表面、すなわちノズル部材２６４の吐出孔２６９の出口側の表面に、これらの材料をコーティングしてもよい。また、ノズル部材２６４のすべての表面に、これらの材料をコーティングしてもよい。
また、ノズル部材２６４の材料は、溶融スズとほとんど反応しない非金属材料でもよい。材料は、例えば炭化珪素、窒化珪素、石英ガラスといった酸化珪素、サファイアといった酸化アルミニウム、黒鉛、ダイヤモンドでよい。
プラズマ生成時に発生するイオンのスパッタ率が低いという観点からは、材料はダイヤモンドがよい。
さらに、ノズル部材２６４の吐出孔２６９の溶融スズの接触面は、溶融スズがほとんど反応しない材料によりコーティングされてよい。この材料としては、例えばモリブデン、タンタル、タングステンでよい。また、これらの金属材料は、表面の酸化物層が取り除かれてよい。
なお、ノズル部材２６４は、その全体が上述した材料で形成されるのではなく、少なくともノズル部材２６４の表面が上述した材料で形成されてもよい。

［１３．２ 動作］
付着ターゲット２７３は、吐出口２６９ａから吐出された後、上述した材料により形成された吐出面２６７ａ、第一流路２６７ｂ及び第二流路２６６ａをその順番で流れ下がり得る。

［１３．３ 作用・効果］
本実施形態のように、ノズル部材２６４又はノズル部材２６４の表面は、溶融したターゲット２７との反応性が低い材料により形成されてよい。これにより、ノズル部材２６４の表面は、溶融したターゲット２７と反応し難くなり得る。

上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。したがって、添付の請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
本明細書及び添付の請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の請求の範囲に記載される修飾語「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。

１…ＥＵＶ光生成装置
２…チャンバ
２ａ…ターゲット供給孔
３…レーザ装置
４…ターゲットセンサ
５…ＥＵＶ光生成制御部
６…露光装置
７…ターゲット生成装置
１１…ＥＵＶ光生成システム
２１…ウインドウ
２２…レーザ光集光ミラー
２２ａ…レーザ光集光光学系
２３…ＥＵＶ集光ミラー
２３ａ…ＥＵＶ集光光学系
２４…貫通孔
２５…プラズマ生成領域
２６…ターゲット供給部
２７…ターゲット
２８…ターゲット回収部
２９…接続部
３１…パルスレーザ光
３２…パルスレーザ光
３３…パルスレーザ光
３４…レーザ光進行方向制御部
７４…ターゲット生成制御部
２２１…軸外放物面ミラー
２２２…平面ミラー
２２３…ホルダ
２２４…ホルダ
２２５…プレート
２３１…ホルダ
２３５…プレート
２３５ａ…孔
２５１…ＥＵＶ光
２５２…ＥＵＶ光
２６１…タンク本体
２６２…ネック部
２６３…供給路
２６４…ノズル部材
２６５…基板部
２６６…基面
２６６ａ…第二流路
２６７…突出部
２６７ａ…吐出面
２６７ｂ…第一流路
２６９…吐出孔
２６９ａ…吐出口
２７１…ドロップレット
２７２…ターゲット進行経路
２７３…付着ターゲット
２７４…滴下ターゲット
２８１…ノズルカバー（受け部材）
２８２…カバー本体
２８２ａ…円筒側面部
２８２ｂ…底面部
２８３…カバー孔
２８４…ヒータ
２８５…分離受け部材（受け部材）
２８６…受け本体
２９１…壁
２９２…中間集光点
２９３…アパーチャ
３４１…高反射ミラー
３４２…高反射ミラー
３４３…ホルダ
３４４…ホルダ
７１１…ヒータ
７１２…ヒータ電源
７２１…圧力調節器
７２２…配管
７２３…ガスボンベ
７３１…ピエゾ素子
７３２…ピエゾ電源

Claims (12)

1. 内部でターゲットにレーザ光が照射されて極端紫外光が生成されるチャンバと、
   ターゲットを前記チャンバ内へ吐出するターゲット供給部と、
   を備え、
   前記ターゲット供給部は、前記ターゲットを前記チャンバ内へ吐出する吐出口が形成された吐出面を備えるノズル部材を備え、
   前記吐出面と重力軸との成す角度θ１は、条件「０度＜θ１＜９０度」を満たし、
   前記ノズル部材は、
   前記チャンバ内に露出する基面を備える基板部と、
   先端に前記吐出面を備え前記基面から突出して形成された突出部と、
   を備え、
   前記突出部は、
   前記吐出面の下端から前記吐出面の傾斜方向に傾斜するように前記突出部の周面に形成された第一流路
   を備え、
   前記第一流路は、重力軸との成す角度θ２が条件「０度＜θ２＜９０度」を満たすように傾斜している、
   極端紫外光生成装置。
2. 前記吐出面と重力軸との成す前記角度θ１と、前記第一流路と重力軸との成す前記角度θ２とは、条件「θ１＜θ２＜９０度」を満たす、
   請求項１記載の極端紫外光生成装置。
3. 前記基板部は、
   前記突出部における前記第一流路の下端から前記第一流路の傾斜方向に傾斜するように前記基板部の前記基面に形成された第二流路
   を備え、
   前記第二流路は、重力軸との成す角度θ３が条件「０度＜θ３＜９０度」を満たすように傾斜している、
   請求項１記載の極端紫外光生成装置。
4. 内部でターゲットにレーザ光が照射されて極端紫外光が生成されるチャンバと、
   ターゲットを前記チャンバ内へ吐出するターゲット供給部と、
   を備え、
   前記ターゲット供給部は、前記ターゲットを前記チャンバ内へ吐出する吐出口が形成された吐出面を備えるノズル部材を備え、
   前記吐出面と重力軸との成す角度θ１は、条件「０度＜θ１＜９０度」を満たし、
   前記ノズル部材は、
   前記チャンバ内に露出する基面を備える基板部と、
   先端に前記吐出面を備え前記基面から突出して形成された突出部と、
   を備え、
   前記吐出面に形成される前記ターゲットの吐出口の直径は、２マイクロメートル以上３マイクロメートル以下であり、
   前記吐出面の直径は、１０マイクロメートル以上２０マイクロメートル以下である、
   極端紫外光生成装置。
5. 内部でターゲットにレーザ光が照射されて極端紫外光が生成されるチャンバと、
   ターゲットを前記チャンバ内へ吐出するターゲット供給部と、
   を備え、
   前記ターゲット供給部は、前記ターゲットを前記チャンバ内へ吐出する吐出口が形成された吐出面を備えるノズル部材を備え、
   前記吐出面と重力軸との成す角度θ１は、条件「０度＜θ１＜９０度」を満たし、
   前記ノズル部材は、
   前記チャンバ内に露出する基面を備える基板部と、
   先端に前記吐出面を備え前記基面から突出して形成された突出部と、
   を備え、
   前記突出部は、前記基面上で非対称に形成されている、
   極端紫外光生成装置。
6. 前記吐出面と重力軸との成す前記角度θ１は、条件「１０度＜θ１＜８０度」を満たす、
   請求項１記載の極端紫外光生成装置。
7. 前記第一流路と重力軸との成す前記角度θ２は、条件「１０度＜θ２＜８０度」を満たす、
   請求項１記載の極端紫外光生成装置。
8. 前記第二流路と重力軸との成す前記角度θ３は、条件「１０度＜θ３＜８０度」を満たす、
   請求項３記載の極端紫外光生成装置。
9. 前記ターゲット供給部は、内部に前記ターゲットを収容するタンク本体、を備え、
   前記タンク本体は、前記チャンバ内に突出するネック部を備え、
   前記ノズル部材は、前記ネック部の先端に交換可能に配置され、前記タンク本体が前記チャンバに取り付けられた状態で前記吐出面が水平面に対して傾斜する、
   請求項１から８のいずれか１項記載の極端紫外光生成装置。
10. 前記ターゲット供給部は、前記タンク本体に収容されている前記ターゲットを加圧する加圧装置と、前記ネック部を振動させる加振装置と、を備え、前記タンク本体のターゲットを加圧した状態で前記ネック部を振動させることにより前記ターゲットを粒状化させて前記チャンバ内へ出力する、
    請求項９記載の極端紫外光生成装置。
11. 前記ターゲットは、溶融ターゲットであり、
    前記ノズル部材についての少なくとも前記チャンバに露出する表面は、前記溶融ターゲットとの接触角θｔが条件「９０度＜θｔ＜１８０度」を満たす材料により形成されている、
    請求項１から１０のいずれか１項記載の極端紫外光生成装置。
12. 前記ターゲットは、溶融ターゲットであり、
    前記ノズル部材についての少なくとも前記溶融ターゲットが接触し得る面は、前記溶融ターゲットとの反応性が低い材料により形成されている、
    請求項１から１１のいずれか１項記載の極端紫外光生成装置。

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