JP6349208B2 - 紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法 - Google Patents
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Description
この構成によれば、紫外線を基板に向けて効率良く反射することができる。
この構成によれば、紫外線の反射方向を調整することができる。よって、照明部(光照射面)の大きさに応じて反射板に様々な角度で入射する紫外線を基板に向けて反射することができる。
検出部は、集光部材により集光された紫外線の照度分布を検出する。本発明によれば、検出部の検出結果(照度分布)に基づいて、照度分布を均一化するように反射板の取付角度を調整することができる。
図1は本実施形態に係る基板処理装置SPAを示す平面図である。
基板処理装置SPAは、例えばX方向に一列に配置されたローダ・アンローダLU、塗布現像処理部CD、インターフェース部IF及び制御部CONTを備えている。基板処理装置SPAは、塗布現像処理部CDがローダ・アンローダLUとインターフェース部IFによって挟まれて配置された構成になっている。制御部CONTは、基板処理装置SPAの各部を統括的に処理する。
ローダ・アンローダLUは、複数の基板Gを収容するカセットCの搬入及び搬出を行う部分である。ローダ・アンローダLUは、カセット待機部10及び搬送機構11を有している。
塗布現像処理部CDは、基板Gにレジスト塗布及び現像を含む一連の処理を施す部分である。塗布現像処理部CDは、スクラバユニットSR、脱水ベークユニットDH、塗布ユニットCT、プリベークユニットPR、インターフェース部IF、現像ユニットDV、紫外線処理ユニットUV及びポストベークユニットPBを有している。
図2は、紫外線処理ユニットUVを−Z方向に向かって見たときの構成を示す図である。図3(a)及び図3(b)は、紫外線処理ユニットUVを+Y方向に向かって見たときの構成を示す図である。図4(a)、(b)は紫外線処理ユニットUVを+X方向に向かって見たときの構成を示す図である。図5は紫外線処理ユニットUVの要部である集光部材の構成を示す図である。なお、図2〜図5においては、図を判別しやすくするため、それぞれ一部の構成を省略して示している。
予備装置80は、チャンバ82、減圧機構83及び昇降機構84を有している。予備装置80は、例えば紫外線照射装置81に搬送する基板Gを一時的に収容する予備室として設けられている。勿論、他の用途であっても構わない。予備装置80は、例えば+Y側に基板搬出入口80aを有している。予備装置80では、減圧機構83によってチャンバ82内を減圧させた状態で基板G収容することができるようになっている。減圧機構83としては、例えばポンプ機構などが用いられる。
光照射面86a1は放射状に紫外線を照射する。そのため、図7に示すように、光照射面86a1と基板Gとの間に集光部材86bが配置されない場合、光照射面86a1から射出された紫外線Lは基板幅方向において基板Gの外部に拡散してしまう。
基板保持部材89aは、Z方向視L字型に形成されており、基板Gの角部に対応する位置に1つずつ、計4つ配置されている。基板保持部材89aは、基板Gの角部を保持可能になっている。より具体的には、基板保持部材89aは、基板Gの角部のうちX側及びY側の面(側面)と−Z側の面(底面)とを保持するようになっている。4つの基板保持部材89aは、支持用ワイヤー105に固定されている。支持用ワイヤー105は、X方向に沿って設けられているワイヤーが2本、Y方向に沿って設けられているワイヤーが4本の、計6本のワイヤーによって構成されている。支持用ワイヤー105は、全て張力が加えられた状態になっている。
上記基板処理装置SPAは、紫外線処理ユニットUVを搬送機構TR4の側部に接続させることにより、容易に製造することができる。この場合、チャンバ82の接続部80bを搬送機構TR4側に接続することで、紫外線処理ユニットUVと搬送機構TR4側との間を物理的に、かつ、電気的に接続することが可能となる。
以上のように構成された基板処理装置SPAを用いる基板処理方法を説明する。
まず、基板Gが収容されたカセットCをローダ・アンローダLUのカセット待機部10にロードする。カセットC内の基板Gは、搬送機構11を介してスクラバユニットSRへ搬送される。
続いて、本発明の第二実施形態について説明する。
本実施形態と上記実施形態との違いは、照射ユニットの構造である。そのため、以下では、光照射部の構成を主体に説明し、上記実施形態と同一又は共通の構成については同じ符号を付し、その詳細な説明については省略するものとする。
すなわち、駆動部115は、反射板として機能する右側面板部113および左側面板部114の取付角度を調整する角度調整機構を構成する。
続いて、本発明の第三実施形態について説明する。
本実施形態と上記実施形態との違いは、紫外線処理ユニットの構造である。そのため、以下では、紫外線処理ユニットの構成を主体に説明し、上記実施形態と同一又は共通の構成については同じ符号を付し、その詳細な説明については省略するものとする。
図11乃至図13は紫外線処理ユニットUV1の動作説明図である。以下、紫外線処理ユニットUV1において、基板Gが複数搬入される場合、複数の基板を搬入された順にG1、G2、G3、…と表記する。
また、制御部CONTは、現像ユニットDVから搬送される他の基板G2をチャンバ180に搬入させる。制御部CONTは、搬送機構TR4のロボットアームを基板搬入出口180aまで移動させ、基板G2を基板搬入出口180aからチャンバ180の内部に搬入させる。チャンバ180の内部に搬入された基板G2は、第一ステージ182に載置される。
例えば、上記第一実施形態においては、現像ユニットDV及びポストベークユニットPB間で基板Gの受け渡しを行う搬送機構TR4の側方(すなわち、基板Gの搬送ラインの側方)に紫外線処理ユニットUVが接続された場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限られることは無い。例えば、紫外線処理ユニットUVが第三実施形態のように現像ユニットDVの上面に配置されてもよい。また、第三実施形態の紫外線処理ユニットUV1が第一実施形態のように搬送機構TR4の側方に接続されていても良い。
Claims (5)
- 基板を第一方向に沿って搬送する基板搬送部と、
前記基板搬送部により前記第一方向に移動する基板に紫外線を照射する光照射面を含む照射部と、
前記照射部の前記光照射面側に設けられ、前記基板に前記紫外線を集光する集光部材と、を備え、
前記光照射面の平面形状は、前記第一方向と交差する第二方向に沿う長辺の幅が前記基板の前記第二方向の幅に対応した矩形であり、
前記集光部材は、前記光照射面から前記基板に向かうにつれて開口面積が拡大する筒状からなり、前記第一方向において互いが平行となるように対向配置されて前記紫外線を反射する第1反射板及び第2反射板と、前記第1反射板及び前記第2反射板間に挟持されるように配置されて前記紫外線を反射する第3反射板及び第4反射板と、駆動部と、検出部と、制御部と、を備え、
前記第3反射板及び前記第4反射板は、前記光照射面側の側端部が前記第1反射板及び前記第2反射板にそれぞれ軸支されることで回動可能とされており、
前記駆動部は、前記第1反射板及び前記第2反射板に対して前記第3反射板及び前記第4反射板を回動させ、
前記制御部は、前記集光部材で集光された前記紫外線の前記検出部による検出結果に基づいて、前記駆動部による前記第3反射板及び前記第4反射板の回動動作を制御する
ことを特徴とする紫外線照射装置。 - 前記第1反射板、前記第2反射板、前記第3反射板及び前記第4反射板は、前記紫外線を鏡面反射する
ことを特徴とする請求項1に記載の紫外線照射装置。 - 第一方向に移動する基板に紫外線を照射する紫外線照射ステップを備え、
前記紫外線照射ステップでは、請求項1又は請求項2に記載の紫外線照射装置が用いられる
ことを特徴とする紫外線照射方法。 - 基板に処理膜の塗布処理を行う塗布装置と、
前記基板に塗布された前記処理膜の現像処理を行う現像装置と、
前記塗布処理、前記現像処理及び紫外線照射処理の関連処理を行う関連装置と
を備え、前記塗布装置、前記現像装置及び前記関連装置の間で直列的に前記基板を搬送する基板搬送ラインが形成された基板処理装置であって、
前記現像装置よりも下流側に配置される前記関連装置の一部に前記基板搬送ラインの側方から接続され、現像後の前記処理膜に紫外線照射処理を行う紫外線処理装置と、
前記基板搬送ラインと前記紫外線照射装置との間で前記基板の受け渡しを行う基板搬送装置と
をさらに備え、
前記紫外線処理装置として、請求項1又は請求項2に記載の紫外線照射装置が用いられている
基板処理装置。 - 基板に処理膜の塗布処理を行う塗布装置と、
前記基板に塗布された前記処理膜の現像処理を行う現像装置と、
前記塗布処理、前記現像処理及び紫外線照射処理の関連処理を行う関連装置とを備え、前記塗布装置、前記現像装置及び前記関連装置の間で直列的に前記基板を搬送する基板搬送ラインが形成された基板処理装置の製造方法であって、
現像後の前記処理膜に紫外線照射処理を行う紫外線処理装置を、前記現像装置よりも下流側に配置される前記関連装置の一部に前記基板搬送ラインの側方又は上方から接続する工程を有し、
前記紫外線処理装置として、請求項1又は請求項2に記載の紫外線照射装置を用いる
基板処理装置の製造方法。
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