JP6325379B2 - スイッチ回路および半導体集積回路装置 - Google Patents

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Description

本発明は、スイッチ回路に関し、特に高耐圧アナログスイッチ回路、例えば超音波診断装置において用いられる高耐圧アナログスイッチ回路およびそれを具備する半導体集積回路装置に関する。
高耐圧アナログスイッチ回路として、制御コイルに電流を印加し、これによりコイルに磁界を発生させ、物理的に金属板を移動させて、接点間を接続するリレー回路が知られている。また、高耐圧アナログ回路を構成するスイッチおよびその制御回路を半導体素子で構成し、半導体集積回路装置とすることが、例えば特許文献1に示されている。
特開2004−363997号公報
超音波診断装置として、医療用超音波診断装置がある。医療用超音波診断措置は、複数の振動子素子によって構成されたプローブを備えており、このプローブを人体へ当接して、診断を行う。この場合、プローブ内の複数の振動子素子に対して、駆動信号を印加することにより、振動子素子を駆動し、超音波を発生させ、体内から反射された反射波を、プローブ内の振動子素子によって電気信号へ変換する。変換後の電気信号は、増幅され、適切な信号処理を施すことにより、画像化され、表示される。
より正確な診断を行うために、画像精度の向上が求められている。画像精度向上の要求に伴い、プローブに内蔵される振動子素子の数は、近年増加する傾向にある。そのため、医療用超音波診断装置に設けられている送受信回路が同時に駆動可能な振動子数に対して、プローブに内蔵される振動子素子の数が上回る場合がある。この場合には、送受信回路と振動子素子との間の接続を切り替えるための高耐圧アナログスイッチ回路を、送受信回路と複数の振動子素子との間に設け、送受信回路と振動子素子との間の接続を切り替えることが行われる。なお、ここで、送受信回路とは、振動子素子を駆動する駆動信号を送信し、振動子素子によって変換された電気信号を受信する回路を意味している。
また、医療用超音波診断装置に使用するプローブは、診断用途に応じた様々のプローブが供給されている。この場合、例えば、複数のプローブのそれぞれにおける振動子素子と、送受信回路との間の接続を、高耐圧アナログスイッチ回路を用いて、プローブ単位で切り替えることが行われる。
高耐圧アナログスイッチ回路として、リレー回路を用いる場合、制御コイルに磁界を発生させるための電流が大きく、消費電力が大きくなる。また、物理的に金属板を移動させることにより、信号線の導通/遮断を制御する構成であるため、重量が大きく、小型化に適さないと言う課題がある。
特許文献1においては、スイッチおよびそれを制御する制御回路を、半導体素子により構成し、半導体集積回路装置とすることが示されており、消費電力を小さくし、小型化を可能である。
一般に、半導体素子で構成されるスイッチにおいては、伝達可能(導通可能)な電流量は、その半導体素子のサイズに依存している。また、半導体素子の持つ寄生容量も、半導体素子のサイズに依存しており、サイズに対応して増減する。超音波を発生させるとき(送信期間)では、振動素子を駆動するために、送受信回路は、大振幅で、大電流の信号を出力する。そのため、この大振幅で大電流の出力を、振動子素子へ伝達するためには、スイッチを構成する半導体素子には、大振幅で大電流の信号を導通(伝達)することが可能となるようなサイズを有していることが要求される。この場合、大振幅・大電流で振動子素子を駆動するために、送受信回路の出力インピーダンスは小さくなる。そのため、スイッチを構成する半導体素子のサイズを大きくすることにより、当該半導体素子が有する寄生容量が大きくなっても、スイッチを構成する半導体素子の寄生容量の増加による影響は軽微である。
ところが、振動子素子から、反射波に応じた信号を送受信回路へ伝達するとき(受信期間)、反射波に応じた信号は、小振幅の信号である。そのため、送信期間のことを考慮して、スイッチを構成する半導体素子のサイズを大きくしておくと、受信期間においては、反射波に応じた信号が、半導体素子に付随する大きな寄生容量によって劣化することになる。
すなわち、送信期間においては、スイッチを構成する半導体素子を流れる導通電流量を増加させることが望まれ、受信期間においては、当該半導体素子の寄生容量を低減することが望まれる。半導体素子のサイズは、導通電流量の増加と寄生容量の低減とのトレードオフで定めることが要求され、双方の最適化は困難な問題である。
特許文献1には、スイッチを構成する半導体素子は示されているが、半導体素子のサイズに対する要求が、送信期間と受信期間とで異なることも認識されていない。
本発明の目的は、小振幅の信号の伝達の際の劣化を抑制しながら、大振幅で、大電流の信号を伝達することが可能なスイッチ回路を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
すなわち、スイッチ回路は、第1端子と、第2端子と、第1スイッチと、第2スイッチと、第1分離用スイッチと、第2分離用スイッチとを具備している。ここで、第1スイッチは、第1端子に接続された第1ノードと、第2端子に接続された第2ノードとを有し、制御信号に従って、第1ノードと第2ノードとを電気的に接続する。第2スイッチは、第1ノードと、第2ノードとを有し、第1スイッチと同期して、第1ノードと第2ノードとを電気的に接続する。また、第1分離用スイッチは、第1端子に接続された第1ノードと、第2スイッチの第2ノードに接続された第2ノードとを有し、第2ノードにおける電位に対して第1ノードにおける電位が、所定の電位より高いとき、第1ノードにおける信号を第2ノードへ伝達する。さらに、第2分離用スイッチは、第1ノードと、第2ノードとを有し、第2ノードは、第2端子に接続され、第1ノードは、第2スイッチの第1ノードに接続され、第2ノードにおける電位に対して第1ノードにおける電位が、所定の電位より高いとき、第1ノードにおける信号を第2ノードへ伝達する。
第1スイッチおよび第2スイッチが導通状態にされている期間において、第1端子に供給された高電位の信号は、第1スイッチを介して第1端子から第2端子へ伝達される。また、この期間においては、第1分離用スイッチおよび第2分離用スイッチのそれぞれの第1ノードにおける電位が、第2ノードにおける電位よりも所定の電位より高くなるため、第1端子に供給された信号は、第1分離用スイッチ、第2スイッチおよび第2分離用スイッチを介して、第2端子へ伝達される。これにより、第1端子と第2端子との間に、並列に接続された2つの信号経路が形成され、高電位で、大電流の信号を第1端子から第2端子へ伝達することが可能となる。
また、第1スイッチおよび第2スイッチが導通状態にされている期間において、第2端子に供給された低電位の信号は、第1分離用スイッチおよび第2分離用スイッチを非導通状態にする。そのため、第2スイッチは、第1端子および第2端子から電気的に分離され、第2端子に供給された低電位の信号は、第1スイッチを介して、第1端子へ伝達される。第2スイッチが、第1端子および第2端子から分離されるため、第1端子および第2端子に付随する寄生容量を低減することが可能となり、低電位の信号が劣化するのを抑制することが可能となる。
一実施の形態においては、第1分離用スイッチは、その第1ノードとその第2ノードとの間に接続された第1ダイオードを有し、第2分離用スイッチは、その第1ノードとその第2ノードとの間に接続された第2ダイオードとを有し、第1分離用スイッチにおける所定の電位は、第1ダイオードの電位障壁とされ、第2分離用スイッチにおける所定の電位は、第2ダイオードの電位障壁とされる。
また、この一実施の形態においては、第1分離用スイッチは、さらに、その第1ノードとその第2ノードとの間に接続された第3ダイオードを有し、第1分離用スイッチの第2ノードにおける電位が、第1分離用スイッチの第1ノードにおける電位に対して、第3ダイオードの電位障壁よりも高いとき、第1分離用スイッチの第2ノードにおける信号を、第1分離用スイッチの第1ノードへ伝達する。また、第2分離用スイッチは、その第1ノードとその第2ノードとの間に接続された第4ダイオードを有し、第2分離用スイッチの第2ノードにおける電位が、第2分離用スイッチの第1ノードにおける電位に対して、第4ダイオードの電位障壁よりも高いとき、第2分離用スイッチの第2ノードにおける信号を、第2分離用スイッチの前記第1ノードへ伝達する。
さらに、この実施の形態においては、第1端子に、第2端子に供給される信号よりも振幅の大きい第1入力信号が供給されたとき、第1分離用スイッチおよび第2分離用スイッチが導通状態とされ、第1入力信号は、第1スイッチおよび第2スイッチを介して、第2端子へ伝達され、第2端子に、第1入力信号よりも振幅の小さい第2入力信号が供給されたとき、第1分離用スイッチおよび第2分離用スイッチのそれぞれは非導通状態とされ、第2スイッチは、第1端子および第2端子から電気的に分離される。
第1ダイオードと第3ダイオードにより、第1双方向ダイオードが構成され、第2ダイオードと第4ダイオードにより、第2双方向ダイオードが構成される。第1入力信号および第2入力信号のそれぞれは、所定の電圧を中心として、その上下に電位が変化する。
第1スイッチおよび第2スイッチが導通状態にされている期間において、2個のダイオードの電位障壁を越える大きさの振幅を持つ第1入力信号が、第1端子に供給されると、第1双方向ダイオードおよび第2双方向ダイオードが導通状態となる。その結果、第1入力端子と第2入力端子との間には、並列的に2個の伝達経路が形成されるため、大振幅で、大電流の信号を、第1端子から第2端子へ伝達することが可能となる。
一方、その振幅が小さい第2入力信号が、第2端子に供給されると、第1分離用スイッチおよび第2分離用スイッチのそれぞれは、非導通状態となる。その結果、第2スイッチは、第1端子および第2端子から電気的に分離される。これにより、第1端子および第2端子に付随する寄生容量を低減することが可能となり、第1スイッチを介して第2端子から第1端子へ伝達する第2入力信号が劣化するのを抑制することが可能となる。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
小振幅の信号の伝達の際の劣化を抑制しながら、大振幅で、大電流の信号を伝達することが可能なスイッチ回路を提供することができる。
実施の形態1に係るスイッチ回路の構成を示すブロック図である。 実施の形態2に係るスイッチ回路の構成を示す回路図である。 実施の形態2の変形例に係るスイッチ回路の構成を示す回路図である。 実施の形態3に係るスイッチ回路の構成を示す回路図である。 実施の形態4に係わる医療用超音波診断装置の構成を示すブロック図である。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一部分には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は、原則として省略する。
以下で説明する複数の実施の形態では、医療用超音波診断装置に用いられるスイッチ回路を例として説明するが、スイッチ回路は種々の電子装置に用いることが可能であるため、これに限定されるものではない。また、スイッチ回路としては、医療用超音波診断装置において、振動子素子と送受信回路との間に設けられるスイッチ回路を例として説明する。この場合、送受信回路は、送信期間において、振動子素子を駆動するための大振幅で、大電流の駆動信号を送信する。一方、受信期間においては、送受信回路は振動子素子からの小振幅の信号を受信することになる。一例を述べるならば、送受信回路は、送信期間において、接地電圧を基準として上下(正負)に数Vから数十Vの振幅を有する駆動信号を出力する。また、振動子素子を駆動するために、送受信回路は、例えば2A程度の電流を供給する。一方、受信期間においては、振動子素子から送受信回路へ供給される信号の振幅は、例えば数十uVから数百mV程度である。
受信期間において、送受信回路へ供給される信号はアナログ信号である。そのため、振動子素子と送受信回路との間に設けられるスイッチ回路は、高耐圧アナログスイッチ回路である。以下の説明においては、高耐圧アナログスイッチ回路は、単に高耐圧スイッチ回路あるいはスイッチ回路とも称する。
(実施の形態1)
図1は、実施の形態1に係わる高耐圧スイッチ回路の構成を示すブロック図である。同図において、100は高耐圧スイッチ回路、1および2のそれぞれは、スイッチ、3aおよび3bのそれぞれは、分離用スイッチを示している。高耐圧スイッチ回路100は、さらに入出力端子aおよびb(第1端子および第2端子)を具備している。
スイッチ1およびスイッチ2(第1スイッチおよび第2スイッチ)は、互いに同じ構成にされており、スイッチ1および2のそれぞれは、ノードn1とノードn2(第1ノードと第2ノード)とを有している。スイッチ1は、制御端子に供給される制御信号(第1制御信号)に従って、ノードn1とノードn2との間を電気的に接続する。例えば、制御信号の電圧がハイレベルになることによって、スイッチ1は、ノードn1とノードn2との間を導通し、制御信号の電圧がロウレベルになることによって、スイッチ1は、ノードn1とノードn2との間を非導通にする。スイッチ1と同様にスイッチ2も、制御端子に供給される制御信号(第2制御信号)に従って、ノードn1とノードn2との間を電気的に接続あるいは非導通とする。この実施の形態1においては、スイッチ2は、スイッチ1と同期して、動作する。すなわち、スイッチ1が、制御信号によって、ノードn1とノードn2との間を導通させるとき、スイッチ2も、ノードn1とノードn2との間を導通させ、スイッチ1が、ノードn1とノードn2との間を非導通にするとき、スイッチ2も、ノードn1とノードn2との間を非導通にする。
スイッチ1のノードn1は、高耐圧スイッチ回路100の入出力端子aに接続され、ノードn2は、高耐圧スイッチ回路100の入出力端子bに接続されている。
分離用スイッチ3aおよび3b(第1分離用スイッチおよび第2分離用スイッチ)は、互いに同じ構成を有し、それぞれは、ノードn1とノードn2(第1ノードと第2ノード)とを有している。分離用スイッチ3aは、ノードn1に、そのアノードが接続され、ノードn2に、そのカソードが接続されたダイオードD11(第1ダイオード)と、ノードn1に、そのカソードが接続され、ノードn2に、そのアノードが接続されたダイオードD22(第3ダイオード)とを有している。また、分離用スイッチ3bは、ノードn1に、そのアノードが接続され、ノードn2に、そのカソードが接続されたダイオードD12(第2ダイオード)と、ノードn1に、そのカソードが接続され、ノードn2に、そのアノードが接続されたダイオードD21(第4ダイオード)とを有している。
分離用スイッチ3aのノードn1は、入出力端子aに接続され、そのノードn2は、スイッチ2のノードn2に接続されている。また、分離用スイッチ3bのノードn2は、入出力端子bに接続され、そのノードn1は、スイッチ2のノードn1に接続されている。
分離用スイッチ3aにおいては、ダイオードD11のアノードとダイオードD22のカソードが、ノードn1に接続され、ダイオードD11のカソードとダイオードD22のアノードとが、ノードn2に接続されていることになる。ノードn2における電位に対して、ノードn1における電位が、ダイオードD11の電位障壁(例えば、約0.6V)の電位よりも高い電位となると、ダイオードD11が導通状態となる。一方、ノードn1における電位に対して、ノードn2における電位が、ダイオードD22の電位障壁の電位よりも高い電位となることにより、ダイオードD22が導通状態となる。言い換えるならば、分離用スイッチ3aは、互いに異なる電位方向の電位障壁を2個有する双方向ダイオードと見なすことができる。
同様に、分離用スイッチ3bも、そのノードn2における電位に対して、ノードn1における電位が、ダイオードD12の電位障壁の電位よりも高い電位となることにより、ダイオードD12が導通状態となる。また、ノードn1における電位に対して、ノードn2における電位が、ダイオードD21の電位障壁の電位よりも高い電位となることにより、ダイオードD21が導通状態となる。従って、分離用スイッチ3bも、互いに異なる電位方向の電位障壁を2個有する双方向ダイオードと見なすことができる。
このように、分離用スイッチ3aおよび3bのそれぞれは、ノードn1における電位に対して、ノードn2における電位が、所定の電位(電位障壁の電位)よりも高い電位となることにより、導通状態となり、ノードn2における電位に対し、ノードn1における電位が、所定の電位(電位障壁の電位)よりも高い電位となることにより、導通状態となる。
一方、分離用スイッチ3a、3bにおいて、ノードn1における電位と、ノードn2における電位との間の電位差が、所定の電位よりも小さい場合には、ダイオードD11およびD22(D12およびD21)の両方が非導通状態となる。すなわち、分離用スイッチ3aおよび3bは、非導通状態となる。言い換えるならば、分離用スイッチ3aおよび3bは、所定の電位を閾値とした双方向スイッチと見なすこともできる。
スイッチ2が導通状態にされると、スイッチ2を介して、分離用スイッチ3aのノードn2と分離用スイッチ3bのノードn1とが電気的に接続されることになる。このとき、入出力端子aと入出力端子bとの間の電位差が、分離用スイッチ3aの所定の電位(閾値)と分離用スイッチ3bの所定の電位(閾値)との和の電位よりも大きくなることにより、分離用スイッチ3aおよび3bのそれぞれは、導通状態となる。その結果として、入出力端子aと入出力端子bとの間に、分離用スイッチ3a、スイッチ2および分離用スイッチ3bを直列接続した信号経路が形成されることになる。このとき、スイッチ1も導通状態であるため、入出力端子aと入出力端子bとの間には、スイッチ1による信号経路が形成されることになる。従って、入出力端子aと入出力端子bとの間に、互いに並列接続された2個の信号経路が形成されることになる。
例えば、入出力端子aには、送受信回路(図示しない)から、振動子素子を駆動するための大振幅の駆動信号が供給される。大振幅であるため、分離用スイッチ3aおよび3bのそれぞれの閾値(電位障壁の電位)の和の電位よりも高い電位を有することになる。これにより、分離用スイッチ3aおよび3bのそれぞれが導通状態となる。送受信回路から、振動子素子を駆動する駆動信号が、スイッチ回路100の入出力端子aに供給され、このスイッチ回路100が、オン状態にされた場合、入出力端子aと入出力端子bとの間に2個の信号経路が並列に接続されることになるため、大電流を入出力端子a、b間で流すことが可能となる。すなわち、送受信回路から振動子素子へ供給することが要求される送信信号の大電流は、第1及び第2スイッチ1、2が、通電可能な電流量の総和で満足できれば良いことになる。
一方、例えば、振動子素子からの信号は、スイッチ回路100の入出力端子bに供給される。この場合、振動子素子からの信号は、反射波に基づいた小振幅な信号である。そのため、振動子素子から、入出力端子bに供給される振動子素子からの信号は、第2スイッチ2が導通状態にされていても、分離用スイッチ3aおよび3bの閾値(電位障壁の電位)の和を超えない。これにより、分離用スイッチ3aおよび3bのそれぞれは、遮断状態となる。その結果、スイッチ2は、入出力端子a、bに電気的に接続されず、分離された状態となる。すなわち、ダイオードD21、D22の電位障壁以下の小信号となる受信信号の場合には、第1及び第2の双方向ダイオード(分離用スイッチ3a、3b)が、電位障壁となり、第2のスイッチ2は、入出力端子aおよびbから遮断され、分離される。これにより、振動子素子からの受信信号は、スイッチ1のみ通過する。
スイッチ2に付随する寄生容量は、分離用スイッチ3a、3bに付随する寄生容量よりも、その容量値が大きい。例えば、スイッチ2のノードn1に付随する寄生容量は、分離用スイッチ3bのノードn2に付随する寄生容量よりも大きい。小振幅の信号を、入出力端子bから入出力端子aへ伝達する受信期間においては、分離用スイッチ3bが、入出力端子bとスイッチ2とを電気的に分離する。そのため、入出力端子bからスイッチ回路100を見た場合、スイッチ回路100の寄生容量は、スイッチ1のノードn2に付随する寄生容量と分離用スイッチ3bのノードn2に付随する寄生容量とになるため、容量値の低減を図ることが可能となる。
また、このとき、分離用スイッチ3aが、入出力端子aとスイッチ2とを電気的に分離するため、スイッチ1を介して入出力端子bに接続される入出力端子aに付随する寄生容量も、スイッチ1のノードn1に付随する寄生容量と分離用スイッチ3aのノードn1に付随する寄生容量との和になる。これにより、入出力端子bに供給される小振幅の信号が、寄生容量によって劣化するのを抑制することが可能となる。なお、この場合には、入出力端子bに供給された小振幅の信号(振動子素子からの信号)は、スイッチ1のみを介して入出力端子aへ伝達されることになる。
入出力端子aに大振幅の信号が供給され、入出力端子bに小振幅の信号が供給される場合を説明したが、入出力端子bに大振幅の信号が供給され、入出力端子aに小振幅の信号が供給された場合も同様である。すなわち、この場合も、大振幅の信号は、互いに並列接続された2個の信号経路を介して入出力端子bから入出力端子aへ伝達される。一方、小振幅の信号の場合には、スイッチ1の信号経路のみを介して、入出力端子aから入出力端子bへ伝達される。また、この場合には、入出力端子aから見たスイッチ回路100の寄生容量は、スイッチ1のノードn1に付随する寄生容量と、分離用スイッチ3aのノードn1に付随する寄生容量となり、小振幅の信号が劣化するのを抑制することが可能となる。
すなわち、小振幅の信号を伝達する場合、入出力端子a、bから見たスイッチ回路100の寄生容量は、スイッチ1が持つ寄生容量が主体となり、スイッチ2の寄生容量の分が低減される。
図1において、スイッチ2のノードn1と接地電圧Vsとの間、およびスイッチ2のノードn2と接地電圧Vsとの間には、それぞれ抵抗Rが、直列に接続されている。この抵抗Rは、比較的大きな抵抗値を有する。そのため、寄生抵抗を、抵抗Rとしてもよい。この抵抗Rは、スイッチ2が例えばオフ状態にされているとき、スイッチ2のノードn1およびn2(すなわち、分離用スイッチ3aのノードn2および分離用スイッチ3bのノードn1)のそれぞれに蓄積されている電荷を放電し、これらのノードの電位を接地電圧Vsにするために設けられている。
制御信号(第1制御信号、第2制御信号)によって、スイッチ1および2のそれぞれが、オフ状態にされている期間においても、抵抗Rによって、分離用スイッチ3aのノードn2および分離用スイッチ3bのノードn1には、接地電圧Vsが供給されていることになる。これにより、スイッチ1、2を遮断(オフ)した場合も、分離用スイッチ(双方向ダイオード)3a、3bが電位障壁として動作する。すなわち、入出力端子a、bに接地電圧Vsに対してダイオードの電位障壁を越える電位を有する信号が供給されない限り、スイッチ2は、入出力端子a,bから、電気的に分離(遮断)される。
このように、実施の形態1においては、分離用スイッチ(双方向ダイオード)3a、3bの電位障壁を利用して、大振幅で、大電流の信号を伝達する際(送信期間)には、スイッチのサイズとして、スイッチ1のサイズと、スイッチ2のサイズとの和として適宜設計し、小振幅の信号を伝達する際(受信期間)には、スイッチのサイズとして、スイッチ1のサイズとして適宜設計し、最適化することが可能となる。また、小振幅の信号を伝達する期間においては、スイッチ回路100の寄生容量を低減し、信号が劣化するのを抑制することが可能となる。ここで述べた、スイッチ1、2および分離用スイッチ3a、3bのそれぞれは、半導体素子で構成し、1つの半導体基板に形成されているが、これに限定されない。
また、図1に示した例では、入出力端子a、bにそれぞれ供給される信号が、所定の電圧を中心として、電圧値が上下(正負)に振れる場合を説明したが、入出力端子a、bにそれぞれ供給される信号は、所定の電位に対して、その電圧が上側(正)あるいは下側(負)にのみ変化するような信号であってもよい。この場合には、分離用スイッチ3aおよび3bのそれぞれは、双方向ダイオードではなく、1方向ダイオードでよい。例えば、所定の電圧が、接地電圧Vsで、信号は接地電圧Vsに対して上側(正)にのみ変化するとした場合、分離用スイッチ3aは、ダイオードD11(第1ダイオード)のみでよいし、分離用スイッチ3bは、ダイオードD12(第2ダイオード)のみでよい。このようにすることにより、入出力端子aに、大振幅の信号が供給された送信期間においては、2個の信号経路が、入出力端子a、b間で並列に形成されることになる。また、入出力端子bに小振幅の信号が供給されるときには、ダイオードD12によって、スイッチ2のノードn1と入出力端子bとは電気的に分離されるため、信号が劣化するのを抑制することが可能となる。
(実施の形態2)
図2は、実施の形態2に係わるスイッチ回路の構成を示す回路図である。図2に示したスイッチ回路100は、図1に示したスイッチ回路と類似しているので、ここでは、主に相違点のみを説明する。なお、図2には、図1に示した抵抗Rは省略されているが、図1と同様に、スイッチ2のノードn1とn2のそれぞれに接続されているものと理解して頂きたい。
実施の形態1に対して、実施の形態2においては、スイッチ1およびスイッチ2のそれぞれが、双方向スイッチと制御回路とによって構成されている。スイッチ1に含まれる双方向スイッチ(第1双方向スイッチ)とスイッチ2に含まれる双方向スイッチ(第2双方向スイッチ)とは、互いに同じ構成を有している。同様に、スイッチ1に含まれる制御回路(第1制御回路)と、スイッチ2に含まれる制御回路(第2制御回路)とは、互いに同じ構成を有している。
図2において、スイッチ1は、双方向スイッチ11と、制御回路12とを備えている。双方向スイッチ11は、第1および第2電界効果型トランジスタ(以下、MOSFETと称する)M1、M2を有している。この実施の形態2においては、第1および第2MOSFETM1、M2のそれぞれは、高耐圧のnチャンネル型MOSFET(以下、高耐圧n型MOSFETと称する)とされている。本願明細書において述べる高耐圧n型MOSFETは、ゲート端子、ソース端子、ドレイン端子およびボディ端子(バックゲート端子)を有している。
第1および第2高耐圧n型MOSFETM1、M2のそれぞれのソース端子およびボディ端子は、共通に接続され、制御回路12の制御端子VSに接続されている。また、第1および第2高耐圧n型MOSFETM1、M2のそれぞれのゲート端子は、制御回路12の制御端子VGに接続されている。さらに、第1高耐圧n型MOSFETM1のドレイン端子は、スイッチ1のノードn1を介して、入出力端子aに接続され、第2高耐圧n型MOSFETM2のドレイン端子は、スイッチ1のノードn2を介して、入出力端子bに接続されている。
同様に、スイッチ2は、双方向スイッチ21と、制御回路22とを備えており、双方向スイッチ21は、第3及び第4高耐圧n型MOSFETM3、M4を有している。第3及び第4高耐圧n型MOSFETM3、M4のそれぞれのソース端子およびボディ端子は、互いに共通に接続され、制御回路22の制御端子VSに接続されており、第3及び第4高耐圧n型MOSFETM3、M4のそれぞれのゲート端子は、制御回路22の制御端子VGに接続されている。第3高耐圧n型MOSFETM3のドレイン端子は、スイッチ2のノードn2を介して、分離用スイッチ(双方向ダイオード)3aのノードn2に接続され、第4高耐圧n型MOSFETM4のドレイン端子は、スイッチ2のノードn1を介して、分離用スイッチ(双方向ダイオード)3bのノードn1に接続されている。
制御回路12、22のそれぞれは、制御端子に供給される制御信号に基づいて、制御端子VSにおける電位を基準に、高耐圧n型MOSFETM1〜M4のそれぞれをオン/オフするのに必要な電圧を、制御信号として生成し、制御端子VGに供給する。例えば、入出力端子aに大振幅の信号が供給されたときと、入出力端子bに小振幅の信号が供給されたときとで、高耐圧n型MOSFETM1〜M4のソースにおける電位が、異なる。そのため、この実施の形態2における制御回路12、22は、そのときの制御端子VSにおける電位を基準として、高耐圧n型MOSFETをオン/オフする電圧を生成し、制御端子VGから出力する。例えば、制御回路12、22のそれぞれは、制御端子VSに接続された容量素子を具備し、容量素子に蓄積された電荷によって、ソース端子における電位を把握し、そのときのソース端子における電位に応じた制御信号を生成して、制御端子VGへ供給する。なお、高耐圧n型MOSFETのソース端子とドレイン端子は、相互に入れ替え可能であるが、本願明細書においては、ボディ端子に接続されたMOSFETの端子をソース端子としている。
制御回路12、22が、制御端子に供給された制御信号に基づいて、制御端子VSに対して高い電圧を有する制御信号を生成し、制御端子VGへ供給すると、双方向スイッチ11を構成する高耐圧n型MOSFETM1およびM2のそれぞれが、オン状態となり、双方向スイッチ21を構成する高耐圧n型MOSFETM3およびM4のそれぞれも、オン状態となる。このとき、入出力端子aまたはbに、大振幅の信号が供給されると、実施の形態1で述べたのと同様に、2個のスイッチ1および2を介して、大振幅の信号は、入出力端子bまたはaへ伝達される。すなわち、オン状態の高耐圧n型MOSFETM1、M2(M3、M4)を介して、大振幅の信号が伝達される。一方、高耐圧n型MOSFETM1〜M4がオン状態となっているときに、入出力端子bまたはaに、小振幅の信号が供給されると、実施の形態1と同様に、スイッチを構成する高耐圧n型MOSFETM1、M2を介してのみ、信号の伝達が行われる。高耐圧n型MOSFETM1〜M4がオフ状態となっているときにも、実施の形態1においてスイッチ2がオフ状態となっているときと同じであり、寄生容量が低減され、信号の劣化が抑制される。
実施の形態2では、スイッチ1、2として、高耐圧n型MOSFETを用いた例を説明したが、高耐圧n型MOSFETは、例えば高耐圧p(pチャンネル)型MOSFETであってもよいし、高耐圧バイポーラトランジスタ等、同様の機能を有するデバイスと置き換えることが可能である。
高耐圧n型MOSFETM1〜M4、ダイオードD11、D12、D21、D22等の半導体素子は、1つの半導体基板に形成された半導体素子を用いることで、実施の形態2で説明したスイッチ回路100は、半導体集積回路装置に形成されている。しかしながら、これに限定されるものではない。
<変形例>
図3は、実施の形態2の変形例に係わるスイッチ回路の構成を示す回路図である。図3に示す変形例は、図2に示したスイッチ回路と類似している。ここでは、相違点を主に説明する。
図2に示したスイッチ回路と異なる点は、スイッチ1に備えられている制御回路12に供給される制御信号と、スイッチ2に備えられている制御回路22に供給される制御信号とが異なることである。すなわち、スイッチ1とスイッチ2とは、別々の制御信号によって、オン/オフの制御が行われる。互いに異なる制御信号が供給されるようにするために、スイッチ回路100は、制御端子として、制御端子1と制御端子2とを備えており、制御端子1に供給された制御信号が、制御回路12に、制御信号として供給され、制御端子2に供給された制御信号が、制御回路22に、制御信号として供給される。
図1および図2に示したスイッチ回路100においては、スイッチ2は、スイッチ1と同期してオン/オフの動作を行うが、この変形例においては、スイッチ1とスイッチ2とを、それぞれ個別にオン/オフの制御を行うことが可能となる。
(実施の形態3)
図4は、実施の形態3に係わるスイッチ回路の構成を示す回路図である。図4に示したスイッチ回路100は、図2に示したスイッチ回路と類似している。ここでも、図2に示したスイッチ回路との相違点を主に説明する。
図2に示したスイッチ回路と相違する点は、実施の形態3に係わるスイッチ回路100は、入出力端子bと接地電圧Vsとの間に接続されたスイッチ4と、スイッチ4を制御するインバータ回路IVとが設けられていることである。インバータ回路IVは、制御端子からの制御信号を位相反転し、位相反転によって得られた制御信号を、スイッチ4をオン/オフする制御信号として供給する。
この実施の形態3において、スイッチ4は、スイッチ1および2と相補的にオン/オフ(導通/遮断)するように、インバータ回路IVからの制御信号によって制御される。すなわち、制御端子から制御信号によって、スイッチ1内の双方向スイッチ11を構成する高耐圧n型MOSFETM1、M2がオン状態にされ、スイッチ2内の双方向スイッチ21を構成する高耐圧n型MOSFETM3、M4がオン状態にされると、スイッチ4は、オフ状態にされる。反対に、制御端子からの制御信号によって、高耐圧n型MOSFETM1〜M4のそれぞれがオフ状態にされると、スイッチ4がオン状態にされる。スイッチ4がオン状態にされることにより、入出力端子bには、スイッチ4を介して接地電圧Vsが供給されることになる。
この実施の形態3においては、入出力端子aに、送受信回路(図示しない)から、振動子素子を駆動するための駆動信号が供給される。一方、入出力端子bには、振動子素子(図示せず)が接続される。なお、医療用超音波診断装置における送受信回路および振動子素子については、後で図5を用いて、一例を示す。
制御端子からの制御信号によって、スイッチ1および2をオフ(遮断)状態にする場合、入出力端子aに接続された送受信回路からの駆動信号は、入出力端子bに伝達されない(遮断されている)ことが望ましい。すなわち、オフアイソレーションが優れていることが望ましい。しかしながら、スイッチ1および2内の双方向スイッチ11および21のそれぞれを、高耐圧n型MOSFETで構成した場合、高耐圧n型MOSFETのそれぞれの端子間には、寄生容量が存在する。高耐圧n型MOSFETがオフ状態にされていても、入出力端子aに供給されている信号が、この寄生容量を介して、入出力端子bへ漏れる。例えば、高耐圧n型MOSFETに存在する寄生容量としては、そのソース端子とそのゲート端子間に存在する寄生容量、そのドレイン端子とゲート端子間に存在する寄生容量、ドレイン端子とボディ端子との間に存在する寄生容量などがある。
双方向スイッチ11を構成する高耐圧n型MOSFETM1、M2が、ともにオフ状態にされていても、高耐圧n型MOSFETM1に存在する寄生容量と高耐圧n型MOSFETM2に存在する寄生容量とが、入出力端子a、b間に直列に接続され、入出力端子aにおける信号が、これらの寄生容量を介して漏れ信号として、入出力端子bへ伝達することになる。
また、双方向スイッチ21を構成する高耐圧n型MOSFETM3、M4が、ともにオフ状態にされていても、高耐圧n型MOSFETM3に存在する寄生容量と高耐圧n型MOSFETM4に存在する寄生容量とが、スイッチ2のノードn2,n1間に直列に接続され、ノードn2における信号が、これらの寄生容量を介して漏れ信号として、ノードn1へ伝達することになる。ダイオードD11、D12、D21およびD22においても、アノードとカソードとの間に寄生容量が存在するため、入出力端子aに供給された駆動信号は、スイッチ2のノードn2に漏れ、さらにスイッチ2のノードn1における漏れ信号は、入出力端子bへ、漏れ信号として伝播することになる。
この実施の形態3においては、スイッチ1および2がオフ(遮断)状態にされているとき、スイッチ4がオン(導通)状態にされる。これにより、入出力端子bへ伝播した漏れ信号は、接地電圧Vsへ吸収されることになり、オフアイソレーションを向上させることが可能となる。
なお、ここでは、高耐圧n型MOSFETを例にして説明したが、高耐圧p型MOSFETを用いたスイッチ回路にも適用することができる。また、図3および図4においても、図1に示した抵抗Rは省略されているが、図2と同様に設けられているものと理解して頂きたい。
(実施の形態4)
図5は、実施の形態4に係わる超音波診断装置の構成を示すブロック図である。ここでは、実施の形態1〜3において説明したスイッチ回路100を用いた超音波診断装置を説明する。
図5には、超音波診断装置9と超音波診断装置9にケーブルを介して接続された複数のプローブ10a〜10nが示されている。同図において、プローブ10a〜10nは、プローブ側として示されているが、人体に当接させられる。それぞれのプローブ10a〜10nは、複数の振動子素子a1〜an、b1〜bn、c1〜cn、n1〜nnを具備している。プローブ10a〜10nの構成は互いに同じであるが、例えば振動子素子が発振する超音波の周波数は、プローブ毎に異なっている。構成が同じであるため、プローブ10aを代表として、その構成を説明すると、プローブ10aは、それぞれ1対の端子を有する振動子素子a1〜anを備えており、振動子素子a1〜anのそれぞれの一方の端子は、ケーブルを介して、超音波診断装置9の入出力端子8a−1〜8a−nに接続され、それぞれの他方の端子は、接地電圧Vsに接続されている。超音波診断装置9の入出力端子8a−1〜8a−nから、大振幅で、大電流の駆動信号が振動子素子a1〜anの一方の端子に供給される。この場合、駆動信号は、接地電圧Vsを基準にして、その振幅が上下(正負)に変化する。
供給された駆動信号に基づいて、振動子素子a1〜anは、超音波を発生する。また、発生した超音波に対して体内から反射された反射波を、振動子素子a1〜anは、電気信号に変換し、超音波診断装置9の入出力端子8a−1〜8a−nへ供給する。残りのプローブ10b、10c、10nのそれぞれも、プローブ10aと同様に、対応する超音波診断装置9の入出力端子8b−1〜8b−n、8c−1〜8c−n、8n−1〜8n−nからの駆動信号に基づいて、超音波を発生する。また、発生した超音波に応答する反射波を、それぞれの振動子素子は、電気信号に変換して、対応する入出力端子8b−1〜8b−n、8c−1〜8c−n、8n−1〜8n−nへ供給する。
超音波診断装置9は、複数の半導体集積回路装置などを有しているが、図5には、入出力端子8a−1〜8a−n、8b−1〜8b−n、8c−1〜8c−n,8n−1〜8n−nに関連する部分のみが示されている。同図に示した超音波診断装置9において、8a〜8nのそれぞれは、高耐圧スイッチ用の半導体集積回路装置を示しており、7は、アナログフロントエンド回路を示しており、CNTは、高耐圧スイッチ用の半導体集積回路装置8a〜8nを制御する制御回路を示している。
高耐圧スイッチ用の半導体集積回路装置8a〜8nのそれぞれは、特に制限されないが、互いに同じ構成を有しており、それぞれは、実施の形態1〜3において説明した高耐圧スイッチ回路100を複数個備えている。半導体集積回路装置8aを代表として説明すると、半導体集積回路装置8aは、高耐圧スイッチ回路SWa1〜SWanを有しており、これらの高耐圧スイッチ回路SWa1〜SWanのそれぞれは、実施の形態1〜3において説明したスイッチ回路100の構成を有している。また、これらの高耐圧スイッチ回路SWa1〜SWanは、1個の半導体基板に形成され、1個の半導体集積回路装置とされている。残りの半導体集積回路装置8b〜8nのそれぞれも、半導体集積回路装置8aと同様に、高耐圧スイッチ回路SWb1〜SWbn、SWc1〜SWcn、SWn1〜SWnnを有し、それぞれの高耐圧スイッチ回路は、実施の形態1〜3において述べたスイッチ回路100と同じ構成を有している。
半導体集積回路装置8a〜8nにそれぞれ含まれている高耐圧スイッチ回路のオン/オフ制御は、制御回路CNTによって行われる。特に制限されないが、この実施の形態4においては、制御回路CNTは、ユーザの指示に従って、制御信号SW−A〜SW−Nを生成し、半導体集積回路装置8a〜8nへ供給する。この実施の形態4においては、制御信号SW−Aが、半導体集積回路装置8aに供給され、高耐圧スイッチ回路SWa1〜SWa−nをオン/オフする制御信号として用いられる。すなわち、制御信号SW−Aによって、高耐圧スイッチ回路SWa1〜SWanのオン/オフが制御される。この実施の形態4においては、制御信号SW−Aによって、高耐圧スイッチ回路SWa1〜SWa−nの全てが、実質的に同時にオン/オフするように制御される。
残りの半導体集積回路装置8b〜8nのそれぞれについても、半導体集積回路装置8aと同様に、制御信号SW−B〜SW−Nがそれぞれ供給される。これにより、半導体集積回路装置8bにおける高耐圧スイッチ回路SWb1〜SWbnは、制御信号SW−Bによって実質的に同時に、オン/オフ制御され、半導体集積回路装置8cにおける高耐圧スイッチ回路SWc1〜SWcnは、制御信号SW−Cによって実質的に同時に、オン/オフ制御され、半導体集積回路装置8nにおける高耐圧スイッチ回路SWn1〜SWnnは、制御信号SW−Nによって実質的に同時に、オン/オフ制御される。
アナログフロントエンド回路7は、図5に示されているように、複数個設けられている。この実施の形態4においては、半導体集積回路装置8a〜8nのそれぞれに含まれている高耐圧アナログスイッチ回路(例えば、SWa1〜SWan)の個数に対応した個数のアナログフロントエンド回路7(AFE1〜AFEn)が、超音波診断装置9に設けられている。複数のアナログフロントエンド回路7(AFE1〜AFEn)のそれぞれは、半導体集積回路装置8a〜8nのそれぞれに含まれている高耐圧アナログスイッチ回路に1対1に対応しており、対応する高耐圧アナログスイッチ回路に対して、送信期間においては、駆動信号を供給し、受信期間においては、対応する高耐圧アナログスイッチ回路からの小振幅の信号を受信する。
複数のアナログフロントエンド回路7(AFE1〜AFEn)のうち、アナログフロントエンド回路7(AFE1)を代表として説明すると、このアナログフロントエンド回路7(AFE1)は、高耐圧アナログスイッチ回路SWa1、SWb1、SWc1およびSWn1に対応しており、送信期間においては、駆動信号をこれらの高耐圧アナログスイッチ回路へ供給し、受信期間においては、これらの高耐圧アナログスイッチ回路からの小振幅の信号を受信する。実施の形態1〜3との関係を述べると、アナログフロントエンド回路7が、実施の形態1〜3において説明した送受信回路に相当する。
アナログフロントエンド回路7(AFE1〜AFEn)は、互いに同じ構成を有しているので、図5においては、アナログフロントエンド回路7(AFE1)の構成のみが詳しく示されている。アナログフロントエンド回路7(AFE1)を代表として、アナログフロントエンド回路7の構成を説明する。アナログフロントエンド回路7(送受信回路)は、送信駆動回路5(Tx)と受信処理回路6(Rx)とを備えている。送信駆動回路5は、超音波診断装置9内の回路ブロック(図示しない)から、プローブ10a〜10nのいずれかで超音波を発生させるとき、駆動信号TD1を受信し、大振幅の駆動信号を半導体集積回路装置8a〜8nのそれぞれに供給する。また、受信処理回路6は、半導体集積回路装置8a〜8nのいずれかから供給される小振幅の信号を、例えば増幅し、受信信号RD1として、超音波診断装置9内の回路ブロック(図示しない)へ供給する。すなわち、アナログフロントエンド回路7は、送信期間においては、駆動信号TD1に対応した大振幅の駆動信号を、各半導体集積回路装置へ供給し、受信期間においては、半導体集積回路装置からの小振幅の信号を受け、この小振幅の信号に対応した受信信号RD1を出力する。
残りのアナログフロントエンド回路7(AFE2〜AFEn)のそれぞれも、同様に、送信期間においては、駆動信号TD2〜TDnに対応した大振幅の駆動信号を、それぞれの半導体集積回路装置8a〜8nへ供給し、受信期間においては、半導体集積回路装置からの小振幅の信号に対応した受信信号RD2〜RDnを出力する。超音波診断装置においては、受信信号RD1〜RDnを、振動子素子が発生した超音波に対する反射波に応じた信号として、図示しない回路ブロックが処理を行い、画像等のデータを生成し、診断用の画像として表示する。
なお、特に制限されないが、図5において、送信駆動回路5は、送信期間において動作するように制御され、受信処理回路6は、受信期間において動作するように制御される。
アナログフロントエンド回路7(AFE1)から半導体集積回路装置8a〜8nに供給された駆動信号は、それぞれの半導体集積回路装置おける対応する高耐圧アナログスイッチ回路SWa1、SWb1、SWc1、SWn1の一方の入出力端子に供給される。例えば、実施の形態1〜3において説明した入出力端子aが、一方の入出力端子とされ、この入出力端子aへアナログフロントエンド回路7(AFE1)からの駆動信号が供給される。また、この高耐圧アナログスイッチ回路SWa1、SWb1、SWc1、SWn1の一方の入出力端子からの小振幅の信号が、アナログフロントエンド回路7(AFE1)へ、供給される。実施の形態1〜3において説明した入出力端子aにおける小振幅の信号が、アナログフロントエンド回路7(AFE1)へ供給されることになる。すなわち、アナログフロントエンド回路7(AFE1)の入出力端子と、このアナログフロントエンド回路に対応する高耐圧アナログスイッチ回路SWa1、SWb1、SWc1、SWn1のそれぞれの一方の入出力端子aとが電気的に接続されている。
同様に、アナログフロントエンド回路7(AFE2)の入出力端子は、それぞれの半導体集積回路装置8a〜8nにおける対応する高耐圧アナログスイッチ回路SWa2、SWb2、SWc2、SWn2の一方の入出力端子aに接続されている。また、アナログフロントエンド回路7(AFEn)の入出力端子は、それぞれの半導体集積回路装置8a〜8nにおける対応する高耐圧アナログスイッチ回路SWan、SWbn、SWcn、SWnnの一方の入出力端子aに接続されている。
この実施の形態4においては、半導体集積回路装置8a〜8nのそれぞれが、プローブ10a〜10nのそれぞれに、1対1で対応している。すなわち、半導体集積回路装置8aを例にすると、半導体集積回路装置8aは、プローブ10aに1対1で対応しており、半導体集積回路装置8aから、プローブ10aに設けられた振動子素子a1〜anに対して、駆動信号が供給され、プローブ10aからの小振幅の信号が、半導体集積回路装置8aへ供給される。残りの半導体集積回路装置8b〜8cのそれぞれも、1対1でプローブ10b〜10nに対応しており、対応するプローブに対して駆動信号を供給し(送信期間)、対応するプローブからの小振幅の信号を受ける(受信期間)。
半導体集積回路装置10a〜10nのそれぞれにおける高耐圧アナログスイッチの他方の入出力端子は、超音波診断装置9の入出力端子を介して、対応するプローブに接続されている。半導体集積回路装置8aを例にして説明すると、高耐圧アナログスイッチ回路SWa1〜SWanのそれぞれの他方の入出力端子は、超音波診断装置9の入出力端子8a−1〜8a−nを介して、対応するプローブ10aにおける振動子素子a1〜anに接続されている。
残りの半導体集積回路装置8b〜8nのそれぞれにおいても、高耐圧アナログスイッチ回路SWb1〜SWbn、SWc1〜SWcn、SWn1〜SWnnのそれぞれの他方の入出力端子は、それぞれ対応するプローブにおける振動子素子b1〜bn、c1〜cn、n1〜nnに接続されている。
ここで、高耐圧アナログスイッチ回路SWa1〜SWan、SWb1〜SWbn、SWc1〜SWcn、SWn1〜SWnnのそれぞれは、実施の形態1〜3において説明したスイッチ回路100の構成を有している。そのため、高耐圧アナログスイッチ回路SWa1〜SWan、SWb1〜SWbn、SWc1〜SWcn、SWn1〜SWnnのそれぞれの他方の入出力端子は、実施の形態1〜3において説明したスイッチ回路100の入出力端子bに該当する。
この実施の形態4においては、特に制限されないが、プローブ10a〜10nは、診断に際して、適切なものが選択されて、用いられる。そのために、複数のプローブ10a〜10nのそれぞれにおける複数の振動子素子a1〜an、b1〜bn、c1〜cn、n1〜nnは、プローブに対応する半導体集積回路装置8a〜8nにおける高耐圧アナログスイッチ回路を介して、共通のアナログフロントエンド回路に接続されている。例えば、プローブ10aにおける振動子素子a1、プローブ10bにおける振動子素子b1、プローブ10cにおける振動子素子c1およびプローブ10nにおける振動子素子n1は、高耐圧アナログスイッチ回路SWa1、SWb1、SWc1およびSWn1を介して、共通のアナログフロントエンド回路7(AFE1)の入出力端子に接続されている。残りの振動子素子も同様に、共通のアナログフロントエンド回路7(AFE2〜AFEn)の入出力端子に接続されている。
超音波診断装置のユーザによる操作に応じて、制御回路CNTから制御信号SW−A〜SW−Nが出力される。すなわち、ユーザが、プローブ10a〜10nの内から適切なプローブを指定することにより、制御回路CNTは、指定されたプローブに対応する半導体集積回路装置(8a〜8nのうちのいずれか1個)における複数の高耐圧アナログスイッチ回路をオン(導通)状態にするような制御信号SW−A〜SW−Nが出力される。例えば、ユーザがプローブ10aを指定した場合、制御回路CNTは、制御信号SW−Aをハイレベルとし、残りの制御信号SW−B〜SW−Nをロウレベルにする。
これにより、半導体集積回路装置10aにおける高耐圧アナログスイッチ回路SWa1〜SWanは、オン状態とされ、残りの全ての高耐圧アナログスイッチ回路は、オフ(遮断)状態にされる。
高耐圧アナログスイッチ回路は、実施の形態1〜3において説明したスイッチ回路の構成を有しているため、送信期間において、アナログフロントエンド回路7(AFE1)が出力した大振幅の駆動信号は、高耐圧アナログスイッチ回路SWa1を構成する2個の信号経路を介して、振動子素子a1に供給される。これにより、送信期間において、振動子素子a1には、接地電圧Vsに対して大振幅の駆動信号が印加されるとともに、大電流の供給も可能となる。このとき、同じ半導体集積回路装置8aに含められている残りの高耐圧アナログスイッチ回路SWa2〜SWanのそれぞれも、2個の信号経路で、アナログフロントエンド回路7(AFE2〜AFEn)から出力される大振幅の駆動信号を、振動子素子a2〜anへ供給することになる。その結果として、超音波を発生させるとき(送信期間)、振動子素子に大振幅の駆動信号を伝達することが可能となるとともに、大電流の供給も可能となる。
一方、体内からの反射波を受信する受信期間においては、振動子素子a1〜anから高耐圧アナログスイッチ回路SWa1〜SWanへ供給される信号が、小振幅となるため、高耐圧アナログスイッチ回路SWa1〜SWanのそれぞれに含まれる分離用スイッチ3a、3b(図1〜図4)が遮断状態となる。これにより、高耐圧アナログスイッチ回路SWa1〜SWanの一方の入出力端子a(図1〜図4)および他方の入出力端子b(図1〜図4)に付随する寄生容量を抑制することが可能となり、振動子素子a1〜anから半導体集積回路装置8aを介してアナログフロントエンド回路7へ供給される信号が劣化するのを抑制することが可能となり、劣化の少ない信号を受信処理回路6へ伝達することが可能となる。
半導体集積回路装置8aにおける高耐圧アナログスイッチ回路がオン状態にされているとき、半導体集積回路装置8b〜8nにおけるそれぞれの高耐圧アナログスイッチ回路は、オフ状態にされている。高耐圧アナログスイッチ回路がオフ状態にされている場合も、オフ状態にされている高耐圧アナログスイッチ回路における分離用スイッチ3a、3bは、遮断状態となる。一方、この実施の形態4においては、アナログフロントエンド回路の入出力端子に、複数の半導体集積回路装置が接続されている。
例えば、アナログフロントエンド回路7(AFE1)に注目した場合、その入出力端子には、n個の高耐圧アナログスイッチ回路SWa1、SWb1、SWc1、SWn1の一方の入出力端子が接続されている。そのため、アナログフロントエンド回路7(AFE1)の入出力端子には、n個の高耐圧アナログスイッチ回路の寄生容量が付加される。しかしながら、n個の高耐圧アナログスイッチ回路のうち、導通状態となるのは1個であり、n−1個の高耐圧アナログスイッチ回路は、遮断状態である。遮断状態にある高耐圧アナログスイッチ回路においては、分離用スイッチ3a、3bが遮断状態となり、スイッチ2(図1〜図4)が、入出力端子a、b(図1〜図4)から分離される。
そのため、n個の高耐圧アナログスイッチ回路が、接続されていても、アナログフロントエンド回路7(AFE1)の入出力端子に付加される寄生容量が大きく増加するのを抑制することが可能となる。その結果、アナログフロントエンド回路7(AFE1)の入出力端子において、受信信号の波形が劣化するのを低減することが可能となる。また、送信期間においても、その入出力端子に付加される寄生容量の増加が抑制されるため、入出力端子での駆動信号の劣化を抑制することが可能となる。アナログフロントエンド回路7(AFE1)を例にして説明したが、他のアナログフロントエンド回路についても同様である。
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、実施の形態4においては、1個の高耐圧スイッチ用の半導体集積回路装置における複数の高耐圧アナログスイッチ回路が、実質的に同時にオン/オフするように制御されていたが、それぞれの高耐圧アナログスイッチ回路が、個々にオン/オフするように制御されるようにしてもよい。すなわち、プローブ単位で切り換えるのではなく、高耐圧アナログスイッチ回路単位で、オン/オフを制御するようにしてもよい。
1、2、4 スイッチ
3a、3b 分離用スイッチ
5 送信駆動回路
6 受信処理回路
7 アナログフロントエンド回路
8a〜8n 半導体集積回路装置
9 超音波診断装置
10a〜10n プローブ
11、21 双方向スイッチ
12、22 制御回路
100 スイッチ回路

Claims (6)

  1. 第1端子と、
    第2端子と、
    前記第1端子に接続された第1ノードと、前記第2端子に接続された第2ノードとを有し、制御信号に従って、前記第1ノードと前記第2ノードとを電気的に接続する第1スイッチと、
    第1ノードと、第2ノードとを有し、前記第1スイッチと同期して、前記第1ノードと前記第2ノードとを電気的に接続する第2スイッチと、
    前記第1端子に接続された第1ノードと、前記第2スイッチの前記第2ノードに接続された第2ノードとを有し、前記第2ノードにおける電位に対して前記第1ノードにおける電位が、所定の電位より高いとき、前記第1ノードにおける信号を前記第2ノードへ伝達する第1分離用スイッチと、
    第1ノードと、第2ノードとを有し、前記第2ノードは、前記第2端子に接続され、前記第1ノードは、前記第2スイッチの第1ノードに接続され、前記第2ノードにおける電位に対して前記第1ノードにおける電位が、所定の電位より高いとき、前記第1ノードにおける信号を前記第2ノードへ伝達する第2分離用スイッチと、
    を具備する、スイッチ回路。
  2. 請求項1に記載のスイッチ回路において、
    前記第1分離用スイッチは、その第1ノードとその第2ノードとの間に接続された第1ダイオードを有し、前記第1分離用スイッチにおける前記所定の電位は、前記第1ダイオードの電位障壁であり、
    前記第2分離用スイッチは、その第1ノードとその第2ノードとの間に接続された第2ダイオードを有し、前記第2分離用スイッチにおける前記所定の電位は、前記第2ダイオードの電位障壁である、スイッチ回路。
  3. 請求項2に記載のスイッチ回路において、
    前記第1分離用スイッチは、その第1ノードとその第2ノードとの間に接続された第3ダイオードを有し、前記第1分離用スイッチの前記第2ノードにおける電位が、前記第1分離用スイッチの前記第1ノードにおける電位に対して、前記第3ダイオードの電位障壁よりも高いとき、前記第1分離用スイッチの前記第2ノードにおける信号を、前記第1分離用スイッチの前記第1ノードへ伝達し、
    前記第2分離用スイッチは、その第1ノードとその第2ノードとの間に接続された第4ダイオードを有し、前記第2分離用スイッチの前記第2ノードにおける電位が、前記第2分離用スイッチの前記第1ノードにおける電位に対して、前記第4ダイオードの電位障壁よりも高いとき、前記第2分離用スイッチの前記第2ノードにおける信号を、前記第2分離用スイッチの前記第1ノードへ伝達し、
    前記第1端子と前記第2端子との間の電位差が所定の電位差より大きいとき、前記第1分離用スイッチおよび前記第2分離用スイッチが導通状態とされ、前記第1入力信号は、前記第1スイッチおよび前記第2スイッチを介して、前記第2端子へ伝達され、
    前記第1端子と前記第2端子との間の電位差が所定の電位差より小さいとき、前記第1分離用スイッチおよび前記第2分離用スイッチのそれぞれは非導通状態とされ、前記第2スイッチは、前記第1端子および前記第2端子から電気的に分離される、スイッチ回路。
  4. 請求項3に記載のスイッチ回路において、
    前記第1スイッチは、第1双方向スイッチと、前記第1双方向スイッチを、前記制御信号により制御する第1制御回路とを有し、
    前記第1双方向スイッチは、それぞれ、ゲート端子、ソース端子、ドレイン端子およびボディ端子を有する第1MOSFETおよび第2MOSFETを含み、前記第1MOSFETの前記ドレイン端子は、前記第1端子に接続され、前記第2MOSFETのドレイン端子は、前記第2端子に接続され、前記第1MOSFETおよび前記第2MOSFETのそれぞれの前記ソース端子および前記ボディ端子は、共通に接続され、
    前記第1制御回路は、共通に接続された前記第1MOSFETおよび前記第2MOSFETのそれぞれの前記ソース端子と、前記第1MOSFETおよび前記第2MOSFETのそれぞれの前記ゲート端子に接続され、前記制御信号に従って、前記第1MOSFETおよび前記第2MOSFETをスイッチングし、
    前記第2スイッチは、第2双方向スイッチと、第2制御回路とを有し、
    前記第2双方向スイッチは、それぞれ、ゲート端子、ソース端子、ドレイン端子およびボディ端子を有する第3MOSFETおよび第4MOSFETを含み、前記第3MOSFETの前記ドレイン端子は、前記第1分離用スイッチの前記第2ノードに接続され、前記第4MOSFETのドレイン端子は、前記第2分離用スイッチの前記第2ノードに接続され、前記第3MOSFETおよび前記第4MOSFETのそれぞれの前記ソース端子および前記ボディ端子は、共通に接続され、
    前記第2制御回路は、共通に接続された前記第3MOSFETおよび前記第4MOSFETのそれぞれの前記ソース端子と、前記第3MOSFETおよび前記第4MOSFETのそれぞれの前記ゲート端子に接続され、前記第1双方向スイッチにおける前記第1MOSFETおよび前記第2MOSFETと同期して、前記第3MOSFETおよび前記第4MOSFETをスイッチングする、スイッチ回路。
  5. 請求項3に記載のスイッチ回路において、
    前記スイッチ回路は、前記第2端子と、接地電位との間に接続された第3スイッチを有し、
    前記第3スイッチは、前記第1スイッチおよび前記第2スイッチに対して、相補的に導通するように制御され、導通により前記第2端子に接地電位を供給する、スイッチ回路。
  6. 請求項3または5に記載のスイッチ回路が、半導体基板に形成されている、半導体集積回路装置。
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