JP6317574B2 - 磁気共鳴装置 - Google Patents

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Description

本発明は、勾配パルスを発生する磁気共鳴装置に関する。
近年、白質神経線維束の可視化などに、拡散テンソルイメージングが用いられている(特許文献1参照)。
特開2012−157687号公報
拡散テンソルイメージングでは、MPG(Motion Probing Gradient)の印加方向を変更し、MPGの印加方向が異なる複数の拡散強調画像を取得するためのスキャンを実行する。磁気共鳴装置は、一般的に、x軸方向、y軸方向、およびz軸方向に勾配パルスを印加することができるように、x軸用の勾配コイル、y軸用の勾配コイル、およびz軸用の勾配コイルを有している。したがって、各軸方向に印加する勾配パルスの大きさを調整することによって、MPGの印加方向を調整することができる。MPGの印加方向が異なる複数の拡散強調画像を取得した後、これらの拡散強調画像に基づいてテンソル解析を行うことにより、拡散テンソル画像を作成することができる。
しかし、拡散テンソルイメージングでは、y軸方向およびz軸方向には勾配パルスを印加せず、x軸方向にのみ勾配パルスを印加することによって、MPGを発生させるシーケンスを実行することがある。このシーケンスはx軸方向にのみMPG用の勾配パルスが印加されるので、x軸用の勾配コイルに電流を出力するx軸アンプに負荷が集中し、x軸アンプの発熱量が大きくなるという問題がある。そこで、拡散テンソルイメージングを実行する場合、シーケンスとシーケンスとの間に、アンプの負荷を軽減するための休み時間が設けられている。このような休み時間を設けることによって、特定のアンプに負荷が集中する場合であっても、シーケンスを繰り返し実行することができる。
しかし、x軸用の勾配コイル、y軸用の勾配コイル、およびz軸用の勾配コイルは、コイルパターンの違いなどが原因で、磁場発生効率が異なる場合がある。例えば、x軸用の勾配コイルの磁場発生効率が、z軸用の勾配コイルの磁場発生効率よりも低い場合がある。この場合、x軸アンプは、磁場発生効率の差を補うために、x軸用の勾配コイルに、より大きなコイル電流を供給する必要がある。したがて、x軸アンプの発熱量が増大するという問題がある。アンプの発熱量の増大に対処する方法として、シーケンスとシーケンスとの間の休み時間を長くすることが考えられるが、休み時間を長くすると、スキャン時間が延長してしまうという問題がある。
したがって、できるだけスキャン時間を延長せずに、MPGの印加方向が異なる複数の拡散強調画像を取得することが望まれている。
本発明の一観点は、異なる方向に印加される勾配パルスを発生するための複数の勾配パルス発生手段であって、前記複数の勾配パルス発生手段のうちの少なくとも2つの勾配パルス発生手段が発生する勾配パルスを合成することにより、複数の軸それぞれに印加されるMPGを発生する複数の勾配パルス発生手段を有し、
前記複数の軸は、前記複数の勾配パルス発生手段の磁場発生効率に基づいて設定されている、磁気共鳴装置である。
勾配パルス発生手段の磁場発生効率に基づいてMPGの軸が設定されているので、特定の勾配パルス発生手段に負荷を集中させることなく拡散強調を行うことができる。したがって、個々の勾配パルス発生手段の負荷を低減することができるので、シーケンスとシーケンスとの間の休み時間を短くすることができ、スキャン時間を短くすることが可能となる。
本発明の一形態の磁気共鳴装置の概略図である。 MPGの複数の軸を表す行列Dの一例を示す図である。 行列Dの第1行(d11,0,0)の説明図である。 行列Dの第2行(d21,d22,0)の説明図である。 行列Dの第3行(d31,d32,d33)の説明図である。 行列Dの第4行(d41,−d42,−d43)の説明図である。 行列Dの第5行(d51,−d52,d53)の説明図である。 行列Dの第6行(−d61,−d62,d63)の説明図である。 ベクトルV1〜V6の位置関係を示す図である。 シーケンスA〜Fを用いて拡散テンソル画像を取得するためのスキャンの一例を示す図である。 行列D´を概略的に示す図である。 行列Pを概略的に示す図である。 行列P1〜Pwの各々の要素の最大値Mを示す図である。 行列Dj´の第1行(d11,j 12,j −d13,j)の説明図である。 行列Dj´の第2行(d21,j 22,j23,j)の説明図である。 行列Dj´の第3行(d31,j −d32,j33,j)の説明図である。 行列Dj´の第4行(d41,j −d42,j −d43,j)の説明図である。 行列Dj´の第5行(d51,j −d52,j −d53,j)の説明図である。 行列Dj´の第6行(d61,j −d62,j63,j)の説明図である。 ベクトルV1´〜V6´の位置関係を示す図である。
以下、発明を実施するための形態を説明するが、本発明は、以下の形態に限定されることはない。
図1は、本発明の一形態の磁気共鳴装置の概略図である。
磁気共鳴装置(以下、「MR装置」と呼ぶ。MR:Magnetic Resonance)100は、マグネット2、テーブル3、受信コイル4などを有している。
マグネット2は、被検体12が収容されるボア21を有している。また、マグネット2には、勾配パルスを印加するための勾配コイル22x、22y、および22zなどが内蔵されている。勾配コイル22xはX軸方向の勾配パルスを印加し、勾配コイル22yはY軸方向の勾配パルスを印加し、勾配コイル22zはZ軸方向の勾配パルスを印加する。
テーブル3は、被検体12を支持するクレードル3aを有している。クレードル3aは、ボア21内に移動できるように構成されている。クレードル3aによって、被検体12はボア21に搬送される。
受信コイル4は、被検体12に取り付けられている。受信コイル4は、被検体12からの磁気共鳴信号を受信する。
MR装置100は、更に、勾配電源5、送信器7、受信器8、制御部9、操作部10、および表示部11などを有している。
勾配電源5は勾配磁場信号を増幅部6に供給する。増幅部6は、X軸アンプ6x、Y軸アンプ6y、Z軸アンプ6zを有している。各アンプ6x、6y、6zは、それぞれ、勾配電源5からの信号を増幅し、勾配コイル22x、22y、22zにコイル電流を供給する。勾配コイル22x、22y、22zは、供給されたコイル電流に応じた磁場を発生する。尚、x軸アンプ6xと勾配コイル22xとを合わせたもの、y軸アンプ6yと勾配コイル22yとを合わせたもの、およびz軸アンプ6zと勾配コイル22zとを合わせたものが、勾配パルス発生手段に相当する。
送信器7は、RFコイル(図示せず)に電流を供給する。受信器8は、受信コイル4から受け取った信号に対して、検波などの信号処理を実行する。
制御部9は、表示部11に必要な情報を伝送したり、受信器8から受け取ったデータに基づいて画像を再構成するなど、MR装置100の各種の動作を実現するように、MR装置100の各部の動作を制御する。
操作部10は、オペレータにより操作され、種々の情報を制御部9に入力する。表示部11は種々の情報を表示する。
尚、本形態では、勾配コイル22x、22y、22zの磁場発生効率は異なっている。以下の表に、磁場発生効率の一例を示す。
表1に示す磁場発生効率の値は、各勾配コイル22x、22y、および22zに100Aの電流を供給した場合の値である。磁場発生効率を比較すると、x軸方向の磁場発生効率gxおよびy軸方向の磁場発生効率gyが、z軸方向の磁場発生効率gzよりも、5mT/mだけ低いことが分かる。
MR装置100は、上記のように構成されている。
本形態では、MR装置100を用いて拡散テンソルイメージングを実行する例について説明する。
拡散テンソルイメージングを実行する場合、MPGの印加方向を表す複数の軸を設定する必要がある。そこで、先ず、MPGの印加方向を表す複数の軸について説明する。
図2は、MPGの複数の軸を表す行列Dの一例を示す図である。
行列Dの第1行〜第6行の各々は、MPGの印加方向を表す軸に対応している。以下に、行列Dの第1行〜第6行について、図3〜図8を参照しながら順に説明する。
図3は行列Dの第1行(d11,0,0)の説明図である。
図3(a)には、(d11,0,0)のx軸成分を表すベクトルV1を示してある。ベクトルV1はx軸方向に大きさ「d11」を有している。尚、y軸成分およびz軸成分は値がゼロであるので、(d11,0,0)はベクトルV1で表される。ベクトルV1の位置するx軸が、MPGの印加方向を規定している。
図3(b)には、x軸上にMPGを印加するためのシーケンスAが概略的に示されている。シーケンスAでは、x軸方向に振幅k・d11の勾配パルスQx1が印加される(kは係数)。勾配パルスQx1がx軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx1を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx1以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
図4は行列Dの第2行(d21,d22,0)の説明図である。
図4(a)には、(d21,d22,0)を表す2つのベクトルVx2およびVy2が示されている。ベクトルVx2はx軸方向に大きさ「d21」を有しており、ベクトルVy2はy軸方向に大きさ「d22」を有している。尚、z軸成分は値がゼロであるので、(d21,d22,0)はベクトルVx2およびVy2で表される。図4(b)に、ベクトルVx2およびVy2を合成することにより得られたベクトルV2を示す。図4(b)では、ベクトルV2の向きを規定する軸を、符号「r2」で示してある。r2軸がMPGの印加方向を規定している。
図4(c)には、r2軸上にMPGを印加するためのシーケンスBが概略的に示されている。シーケンスBでは、x軸方向に振幅k・d21の勾配パルスQx2が印加され、y軸方向に振幅k・d22の勾配パルスQy2が印加される。これらの勾配パルスQx2およびQy2を合成することにより得られる合成磁場が、r2軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx2およびQy2を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx2およびQy2以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
図5は行列Dの第3行(d31,d32,d33)の説明図である。
図5(a)には、(d31,d32,d33)を表す3つのベクトルVx3、Vy3、Vz3が示されている。ベクトルVx3はx軸方向に大きさ「d31」を有しており、ベクトルVy3はy軸方向に大きさ「d32」を有しており、ベクトルVz3はz軸方向に大きさ「d33」を有している。図5(b)に、ベクトルVx3、Vy3、およびVz3を合成することにより得られたベクトルV3を示す。図5(b)では、ベクトルV3の向きを規定する軸を、符号「r3」で示してある。r3軸がMPGの印加方向を規定している。
図5(c)には、r3軸上にMPGを印加するためのシーケンスCが概略的に示されている。シーケンスCでは、x軸方向に振幅k・d31の勾配パルスQx3が印加され、y軸方向に振幅k・d32の勾配パルスQy3が印加され、z軸方向に振幅k・d33の勾配パルスQz3が印加される。これらの勾配パルスQx3、Qy3、およびQz3を合成することにより得られる合成磁場が、r3軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx3、Qy3、およびQz3を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx3、Qy3、およびQz3以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
図6は行列Dの第4行(d41,−d42,−d43)の説明図である。
図6(a)には、(d41,−d42,−d43)を表す3つのベクトルVx4、Vy4、Vz4が示されている。ベクトルVx4はx軸方向に大きさ「d41」を有しており、ベクトルVy4は−y軸方向に大きさ「d42」を有しており、ベクトルVz4は−z軸方向に大きさ「d43」を有している。図6(b)に、ベクトルVx4、Vy4、およびVz4を合成することにより得られたベクトルV4を示す。図6(b)では、ベクトルV4の向きを規定する軸を、符号「r4」で示してある。r4軸がMPGの印加方向を規定している。
図6(c)には、r4軸上にMPGを印加するためのシーケンスDが概略的に示されている。シーケンスDでは、x軸方向に振幅k・d41の正の勾配パルスQx4が印加され、y軸方向に振幅k・d42の負の勾配パルスQy4が印加され、z軸方向に振幅k・d43の負の勾配パルスQz4が印加される。これらの勾配パルスQx4、Qy4、およびQz4を合成することにより得られる合成磁場が、r4軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx4、Qy4、およびQz4を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx4、Qy4、およびQz4以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
図7は行列Dの第5行(d51,−d52,d53)の説明図である。
図7(a)には、(d51,−d52,d53)を表す3つのベクトルVx5、Vy5、Vz5が示されている。ベクトルVx5はx軸方向に大きさ「d51」を有しており、ベクトルVy4は−y軸方向に大きさ「d52」を有しており、ベクトルVz4はz軸方向に大きさ「d53」を有している。図7(b)に、ベクトルVx5、Vy5、およびVz5を合成することにより得られたベクトルV5を示す。図7(b)では、ベクトルV5の向きを規定する軸を、符号「r5」で示してある。r5軸がMPGの印加方向を規定している。
図7(c)には、r5軸上にMPGを印加するためのシーケンスEが概略的に示されている。シーケンスEでは、x軸方向に振幅k・d51の正の勾配パルスQx5が印加され、y軸方向に振幅k・d52の負の勾配パルスQy5が印加され、z軸方向に振幅k・d53の正の勾配パルスQz5が印加される。これらの勾配パルスQx5、Qy5、およびQz5を合成することにより得られる合成磁場が、r5軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx5、Qy5、およびQz5を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx5、Qy5、およびQz5以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
図8は行列Dの第6行(−d61,−d62,d63)の説明図である。
図8(a)には、(−d61,−d62,d63)を表す3つのベクトルVx6、Vy6、Vz6が示されている。ベクトルVx6は−x軸方向に大きさ「d61」を有しており、ベクトルVy6は−y軸方向に大きさ「d62」を有しており、ベクトルVz6はz軸方向に大きさ「d63」を有している。図8(b)に、ベクトルVx6、Vy6、およびVz6を合成することにより得られたベクトルV6を示す。図8(b)では、ベクトルV6の向きを規定する軸を、符号「r6」で示してある。r6軸がMPGの印加方向を規定している。
図8(c)には、r6軸上にMPGを印加するためのシーケンスFが概略的に示されている。シーケンスFでは、x軸方向に振幅k・d61の負の勾配パルスQx6が印加され、y軸方向に振幅k・d62の負の勾配パルスQy6が印加され、z軸方向に振幅k・d63の正の勾配パルスQz6が印加される。これらの勾配パルスQx6、Qy6、およびQz6を合成することにより得られる合成磁場が、r6軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx6、Qy6、およびQz6を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx6、Qy6、およびQz6以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
したがって、シーケンスA〜Fは、ベクトルV1〜V6で表される軸(x軸、r2軸、r3軸、r4軸、r5軸、r6軸)に拡散強調を行うことがわかる。図9に、ベクトルV1〜V6の位置関係を示す。図9から、ベクトルV1〜V6の向きは、互いに異なっていることがわかる。
図10は、シーケンスA〜Fを用いて拡散テンソル画像を取得するためのスキャンの一例を示す図である。
図10では、頭部に設定された複数枚のスライスに対してシーケンスA〜Fを実行する例が示されている。図10では、説明の便宜上、スライスの枚数は3枚であるとする。
先ず、期間P1において、スライスSL1〜SL3に対して順にシーケンスAを実行する。これにより、x軸方向の拡散強調(図3参照)が行われた拡散強調画像W11、W21、およびW31が得られる。
次に、期間P2において、スライスSL1〜SL3に対して順にシーケンスBを実行する。これにより、r2軸方向の拡散強調(図4参照)が行われた拡散強調画像W12、W22、およびW32が得られる。
以下同様に、各スライスに対してシーケンスC、D、E、およびFを実行する。これにより、図3〜図8に示す6軸(x軸、r2軸、r3軸、r4軸、r5軸、r6軸)の拡散強調画像を得ることができる。これらの拡散強調画像を取得した後、スライスごとにテンソル解析を行うことにより、スライスSL1の拡散テンソル画像TN1、スライスSL2の拡散テンソル画像TN2、スライスSL3の拡散テンソル画像TN3を得ることができる。
ただし、拡散強調を行うためのMPGは、リード勾配パルスなどと比較すると、磁場強度が大きい。したがって、MPGを有するシーケンスA〜Fを実行すると、増幅部6の発熱量も大きくなる。そこで、図10に示すスキャンを実行する場合、シーケンスとシーケンスとの間に、増幅部6の負荷を軽減するための休み時間Δtが設けられている。休み時間Δtを設けることにより、増幅部6の発熱量が大きくても、シーケンスA〜Fを繰り返し実行することができる。
しかし、期間P1では、x軸にのみMPGが印加されるシーケンスA(図3参照)が実行されるので、x軸に負荷が集中する。したがって、x軸アンプ6xの発熱量がかなり大きくなるので、シーケンスとシーケンスとの間の休み時間Δtは長くする必要がある。
一方、期間P2〜P6では、2軸方向又は3軸方向にMPGが印加されるシーケンスB〜F(図4〜図8参照)が実行されるので、増幅部6に掛かる負荷を2つ又は3つのアンプに分散させることができる。したがって、個々のアンプの発熱量を小さくすることができるので、休み時間Δtを短くすることが可能である。しかし、期間ごとに休み時間Δtを変えてしまうと、TRがばらつくので、画質が劣化する。したがって、TRがばらつかないように、シーケンスB〜Fを実行するときの休み時間Δtは、シーケンスAを実行するときの休み時間Δtに一致させる必要があり、スキャン時間が長くなるという問題がある。そこで、本形態では、スキャン時間を短くすることができるように、行列Dを最適化している。以下に、本形態において行列Dをどのようにして最適化しているかについて説明する。
先ず、行列Dを、x、y、z軸に、それぞれ回転角α、β、γ回転させることを考える。
行列Dをx軸、y軸、およびz軸に回転させた後の行列D´は、以下の式で表すことができる。
ここで、回転角(α,β,γ)を、それぞれ、0°≦α、β、γ<360°の範囲で変更し、各(α,β,γ)に応じた行列D´を計算する。図11に、計算された行列D´を概略的に示す。図11では、(α,β,γ)=(α1,β1,γ1)、(αj,βj,γj)、(αw,βw,γw)のときに求められた行列D´=D1´、Dj´、Dw´が代表して示されている。
(α,β,γ)の値ごとに行列D´を計算した後、各行列D´に対して、磁場発生効率を考慮した行列Pを計算する。行列Pは以下の式で計算することができる。
行列Gは、磁場発生効率gx、gy、gzの逆数を表している。したがって、式(2)に、D´の値と、磁場発生効率gx、gy、gzの値とを代入することにより、行列Pを計算することができる。図12に、式(2)を用いて計算された行列Pを概略的に示す。図12では、式(2)のD´に、それぞれ、D1´、Dj´、およびDw´を代入することにより得られた行列P1、Pj、およびPwが示されている。
行列Gの要素1/gx、1/gy、1/gzは磁場発生効率の逆数を表している。したがって、行列DにGを乗算することにより、勾配パルスを発生させるために必要なコイル電流の大きさを反映した行列Pを計算することができる。
行列P=P1〜Pwを求めた後、行列P1〜Pwの各々の要素の絶対値を求め、行列P1〜Pwごとに、要素の絶対値の最大値Mを特定する。図13に特定された要素の絶対値の最大値Mを示す。図13では、要素の絶対値の最大値Mを○で囲って示してある。例えば、行列P1では要素の絶対値の最大値MはM=|d22,1/gy|であり、行列PjではM=|−d53,j/gz|であり、行列PwではM=|d41,w/gx|である。
行列P1〜Pwごとに要素の絶対値の最大値Mを特定した後、行列P1〜Pwの中から、最大値Mが最も小さい行列を選択する。ここでは、行列P1〜Pwの要素の絶対値の最大値M=|d22,1/gy|〜|d41,w/gx|のうち、行列Pjの要素の絶対値の最大値M=|−d53,j/gz|が最も小さいとする。したがって、行列Pjが選択される。
行列Pjは、行列Dj´に対するコイル電流の大きさを反映している。したがって、行列D1´〜Dw´のうちの行列Dj´を用いることにより、増幅部6に掛かる負荷を3つのアンプに最も効率よく分散させることができる。
そこで、本形態では、行列Dj´に基づいてMPGの軸が規定されている。以下に、行列Dj´により規定されるMPGの軸について説明する。
図14〜図19は、行列Dj´により規定されるMPGの軸の説明図である。
以下、図14〜図19について順に説明する。
図14は行列Dj´の第1行(d11,j 12,j −d13,j)の説明図である。
図14(a)には、(d11,j 12,j −d13,j)を表す3つのベクトルVx1´、Vy1´、Vz1´が示されている。ベクトルVx1´はx軸方向に大きさ「d11,j」を有しており、ベクトルVy1´はy軸方向に大きさ「d12,j」を有しており、ベクトルVz1´は−z軸方向に大きさ「d13,j」を有している。図14(b)に、ベクトルVx1´、Vy1´、およびVz1´を合成することにより得られたベクトルV1´を示す。図14(b)では、ベクトルV1´の向きを規定する軸を、符号「r1´」で示してある。r1´軸がMPGの印加方向を規定している。
図14(c)には、r1´軸上にMPGを印加するためのシーケンスA´が概略的に示されている。シーケンスA´では、x軸方向に振幅k・d11,jの正の勾配パルスQx1´が印加され、y軸方向に振幅k・d12,jの正の勾配パルスQy1´が印加され、z軸方向に振幅k・d13,jの負の勾配パルスQz1´が印加される。これらの勾配パルスQx1´、Qy1´、およびQz1´を合成することにより得られる合成磁場が、r1´軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx1´、Qy1´、およびQz1´を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx1´、Qy1´、およびQz1´以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
図15は行列Dj´の第2行(d21,j 22,j23,j)の説明図である。
図15(a)には、(d21,j 22,j23,j)を表す3つのベクトルVx2´、Vy2´、Vz2´が示されている。ベクトルVx2´はx軸方向に大きさ「d21,j」を有しており、ベクトルVy2´はy軸方向に大きさ「d22,j」を有しており、ベクトルVz2´はz軸方向に大きさ「d23,j」を有している。図15(b)に、ベクトルVx2´、Vy2´、およびVz2´を合成することにより得られたベクトルV2´を示す。図15(b)では、ベクトルV2´の向きを規定する軸を、符号「r2´」で示してある。r2´軸がMPGの印加方向を規定している。
図15(c)には、r2´軸上にMPGを印加するためのシーケンスB´が概略的に示されている。シーケンスB´では、x軸方向に振幅k・d21,jの正の勾配パルスQx2´が印加され、y軸方向に振幅k・d22,jの正の勾配パルスQy2´が印加され、z軸方向に振幅k・d23,jの正の勾配パルスQz2´が印加される。これらの勾配パルスQx2´、Qy2´、およびQz2´を合成することにより得られる合成磁場が、r2´軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx2´、Qy2´、およびQz2´を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx2´、Qy2´、およびQz2´以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
図16は行列Dj´の第3行(d31,j −d32,j33,j)の説明図である。
図16(a)には、(d31,j −d32,j33,j)を表す3つのベクトルVx3´、Vy3´、Vz3´が示されている。ベクトルVx3´はx軸方向に大きさ「d31,j」を有しており、ベクトルVy3´は−y軸方向に大きさ「d32,j」を有しており、ベクトルVz3´はz軸方向に大きさ「d33,j」を有している。図16(b)に、ベクトルVx3´、Vy3´、およびVz3´を合成することにより得られたベクトルV3´を示す。図16(b)では、ベクトルV3´の向きを規定する軸を、符号「r3´」で示してある。r3´軸がMPGの印加方向を規定している。
図16(c)には、r3´軸上にMPGを印加するためのシーケンスC´が概略的に示されている。シーケンスC´では、x軸方向に振幅k・d31,jの正の勾配パルスQx3´が印加され、y軸方向に振幅k・d32,jの負の勾配パルスQy3´が印加され、z軸方向に振幅k・d33,jの正の勾配パルスQz3´が印加される。これらの勾配パルスQx3´、Qy3´、およびQz3´を合成することにより得られる合成磁場が、r3´軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx3´、Qy3´、およびQz3´を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx3´、Qy3´、およびQz3´以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
図17は行列Dj´の第4行(d41,j −d42,j −d43,j)の説明図である。
図17(a)には、(d41,j −d42,j −d43,j)を表す3つのベクトルVx4´、Vy4´、Vz4´が示されている。ベクトルVx4´はx軸方向に大きさ「d41,j」を有しており、ベクトルVy4´は−y軸方向に大きさ「d42,j」を有しており、ベクトルVz4´は−z軸方向に大きさ「d43,j」を有している。図17(b)に、ベクトルVx4´、Vy4´、およびVz4´を合成することにより得られたベクトルV4´を示す。図17(b)では、ベクトルV4´の向きを規定する軸を、符号「r4´」で示してある。r4´軸がMPGの印加方向を規定している。
図17(c)には、r4´軸上にMPGを印加するためのシーケンスD´が概略的に示されている。シーケンスD´では、x軸方向に振幅k・d41,jの正の勾配パルスQx4´が印加され、y軸方向に振幅k・d42,jの負の勾配パルスQy4´が印加され、z軸方向に振幅k・d43,jの負の勾配パルスQz4´が印加される。これらの勾配パルスQx4´、Qy4´、およびQz4´を合成することにより得られる合成磁場が、r4´軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx4´、Qy4´、およびQz4´を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx4´、Qy4´、およびQz4´以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
図18は行列Dj´の第5行(d51,j −d52,j −d53,j)の説明図である。
図18(a)には、(d51,j −d52,j −d53,j)を表す3つのベクトルVx5´、Vy5´、Vz5´が示されている。ベクトルVx5´はx軸方向に大きさ「d51,j」を有しており、ベクトルVy5´は−y軸方向に大きさ「d52,j」を有しており、ベクトルVz5´は−z軸方向に大きさ「d53,j」を有している。図18(b)に、ベクトルVx5´、Vy5´、およびVz5´を合成することにより得られたベクトルV5´を示す。図18(b)では、ベクトルV5´の向きを規定する軸を、符号「r5´」で示してある。r5´軸がMPGの印加方向を規定している。
図18(c)には、r5´軸上にMPGを印加するためのシーケンスE´が概略的に示されている。シーケンスE´では、x軸方向に振幅k・d51,jの正の勾配パルスQx5´が印加され、y軸方向に振幅k・d52,jの負の勾配パルスQy5´が印加され、z軸方向に振幅k・d53,jの負の勾配パルスQz5´が印加される。これらの勾配パルスQx5´、Qy5´、およびQz5´を合成することにより得られる合成磁場が、r5´軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx5´、Qy5´、およびQz5´を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx5´、Qy5´、およびQz5´以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
図19は行列Dj´の第6行(d61,j −d62,j63,j)の説明図である。
図19(a)には、(d61,j −d62,j63,j)を表す3つのベクトルVx6´、Vy6´、Vz6´が示されている。ベクトルVx6´はx軸方向に大きさ「d61,j」を有しており、ベクトルVy6´は−y軸方向に大きさ「d62,j」を有しており、ベクトルVz6´はz軸方向に大きさ「d63,j」を有している。図19(b)に、ベクトルVx6´、Vy6´、およびVz6´を合成することにより得られたベクトルV6´を示す。図19(b)では、ベクトルV6´の向きを規定する軸を、符号「r6´」で示してある。r6´軸がMPGの印加方向を規定している。
図19(c)には、r6´軸上にMPGを印加するためのシーケンスF´が概略的に示されている。シーケンスF´では、x軸方向に振幅k・d61,jの正の勾配パルスQx6´が印加され、y軸方向に振幅k・d62,jの負の勾配パルスQy6´が印加され、z軸方向に振幅k・d63,jの正の勾配パルスQz6´が印加される。これらの勾配パルスQx6´、Qy6´、およびQz6´を合成することにより得られる合成磁場が、r6´軸上に印加されるMPGを表している。勾配パルスQx6´、Qy6´、およびQz6´を印加した後、データ収集が行われる。尚、データ収集の前には、勾配パルスQx6´、Qy6´、およびQz6´以外にも様々なパルスが印加されるが、MPGとは無関係の勾配パルスなどは図示省略されている。
したがって、シーケンスA´〜F´は、ベクトルV1´〜V6´で規定される軸(r1´軸、r2´軸、r3´軸、r4´軸、r5´軸、r6´軸)に拡散強調を行うことがわかる。図20に、ベクトルV1´〜V6´の位置関係を示す。図20から、ベクトルV1´〜V6´の向きは、互いに異なっていることがわかる。
本形態では、増幅部6に掛かる負荷を3つのアンプに最も効率よく分散させることができる行列Dj´に基づいて、MPGの印加方向を規定する軸を設定している。したがって、各アンプの発熱を小さくすることができるので、シーケンスとシーケンスとの間の休み時間Δt(図10参照)を短くすることができる。
尚、本形態では、x軸方向およびy軸方向の勾配パルス発生効率が、z軸方向の勾配パルス発生効率より低い場合について説明されている。しかし、本発明は、3軸方向のうちのいずれかの軸方向の勾配パルス発生効率が、他の軸方向の勾配パルス発生効率より低い場合に適用することができる。
また、本形態では、MPGの印加方向として6軸が設定された例について説明されている。しかし、本発明は、6軸に限定されることはなく、MPGの印加方向を複数軸設定する必要がある場合に適用することができる。
2 マグネット
3 テーブル
3a クレードル
4 受信コイル
5 勾配電源
7 送信器
8 受信器
9 制御部
10 操作部
11 表示部
12 被検体
21 ボア
22x、22y、22z 勾配コイル

Claims (12)

  1. 異なる方向に印加される勾配パルスを発生するための複数の勾配パルス発生手段であって、前記複数の勾配パルス発生手段のうちの少なくとも2つの勾配パルス発生手段が発生する勾配パルスを合成することにより、複数の軸それぞれに印加されるMPGを発生する複数の勾配パルス発生手段を有し、
    前記複数の軸は、前記複数の勾配パルス発生手段の磁場発生効率に基づいて設定されている、磁気共鳴装置。
  2. 前記複数の勾配パルス発生手段には、
    第1の方向に印加される勾配パルスを発生するための第1の勾配パルス発生手段と、
    第2の方向に印加される勾配パルスを発生するための第2の勾配パルス発生手段と、
    第3の方向に印加される勾配パルスを発生するための第3の勾配パルス発生手段と、
    を有する、請求項1に記載の磁気共鳴装置。
  3. 前記複数の軸の各々は、
    前記第1の方向を表す第1の軸、前記第2の方向を表す第2の軸、および前記第3の方向を表す第3の軸のうちの少なくとも2軸に対して斜めに設けられている、請求項2に記載の磁気共鳴装置。
  4. 前記複数の軸は、複数の他の軸を、前記第1の軸、前記第2の軸、および前記第3の軸の周りに、第1の回転角、第2の回転角、および第3の回転角だけそれぞれ回転させることにより求められる、請求項3に記載の磁気共鳴装置。
  5. 前記第1の回転角、前記第2の回転角、および前記第3の回転角は、前記磁場発生効率に基づいて決定されている、請求項4に記載の磁気共鳴装置。
  6. 前記複数の軸は、以下のを用いて求められる、請求項4又は5に記載の磁気共鳴装置。
  7. 前記回転角α、β、γの各々の値を変更することにより得られた行列D´=D1´、・・・、Dw´の中から、前記複数の軸を表す第1の行列が選択されている、請求項6に記載の磁気共鳴装置。
  8. 前記行列D´=D1´、・・・、Dw´の各々に対して磁場発生効率が考慮された行列P=P1、・・・Pwに基づいて、前記第1の行列が選択されている、請求項7に記載の磁気共鳴装置。
  9. 前記行列Pは、以下のを用いて求められる、請求項8に記載の磁気共鳴装置。
  10. 前記行列P=P1、・・・Pwの各々の要素の絶対値の最大値に基づいて、前記第1の行列が選択されている、請求項9に記載の磁気共鳴装置。
  11. 前記行列P=P1、・・・Pwのうちの、前記要素の絶対値の最大値が最小となる第2の行列に基づいて、前記第1の行列が選択されている、請求項10に記載の磁気共鳴装置。
  12. 前記複数の他の軸には、前記第1の軸が含まれている、請求項4〜10のうちのいずれか一項に記載の磁気共鳴装置。
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