JP6316558B2 - 蓄光表示構造体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、蓄光表示構造体の製造方法に関する。

蓄光表示構造体の製造方法の一つとして、基板（反射層が設けられていてもよい）上に蓄光材料を塗布して蓄光層を形成し、さらにその上に透明保護材料を塗布して透明保護層を形成するという方法が従来から知られている。また、蓄光表示構造体の他の製造方法として、基板（反射層が設けられていてもよい）上に蓄光シート、透明保護シートを接着剤で順次貼り合わせてこれら各層を形成するという方法も知られている。

しかし、これらの製造方法は工程が煩雑であり、前者の方法の場合塗布した蓄光材料を乾燥させてから透明保護材料の塗布を行う必要があったり、後者の方法の場合も接着剤を養生・硬化させるために時間を要したりといったように、作業に手間と時間を要していた。

そこで、より簡便に蓄光表示構造体を製造する方法として、蓄光粉末を透明液材に混合して生成した混合液を基板の凹部に流し込み、蓄光粉末を沈殿させた後に透明液材を硬化させることで蓄光層と透明保護層を生成するという製造方法も知られている。例えば、特許文献１には、白色反射層を備えた基板上の凹部に熱硬化性樹脂と当該熱硬化性樹脂より比重が大きい蓄光剤とを含む混合液を流し込み、熱硬化性樹脂と蓄光剤との比重差により、蓄光剤の殆どが白色反射層側に存在する蓄光層と、蓄光剤の殆どが存在しない透明層とを形成するようにした蓄光式避難誘導標識の製造方法が開示されている（特許文献１参照）。なお、同文献に記載された発明においては、混合液を流し込むための凹部は、基板上に成型金型を配置することにより形成されるようになっている。

特開２０１１−０１７２１０号公報

しかしながら、このような流込み・沈殿による蓄光表示構造体の製造方法の場合、透明層は蓄光材料が自然に沈殿することによって自然に分離されて形成されるものであるため、透明層全体を均質なものとすることが困難であった。このため透明層の透明度を十分なものとすることが困難となり、この結果製造された蓄光表示構造体も十分な発光輝度を有するものとすることが困難であった。

本発明はこのような点に鑑みたものである。即ち、本発明の解決すべき課題は、流込み・沈殿による蓄光表示構造体の製造方法において、高い発光輝度を有する蓄光表示構造体の製造方法を提供することにある。

本発明は、主に蓄光粉末と混合して混合液とするための透明液材として液体のフェニルシリコーン、メチルシリコーン、有機変成シリコーンもしくはフロロシリコーンのいずれか一又は二以上（以下「フェニルシリコーン等」と略す）を用いることで上記の課題を解決することとしている。また、その際に、蓄光粉末として高輝度発光を実現するために最適な蓄光材料として知られているアルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末を用いることで、前記のフェニルシリコーン等を用いた透明液材と相まって十分な発光輝度を実現することを可能にしている。

本発明のうち、第一の発明は、アルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末と、液体のフェニルシリコーン等とを混合して混合液を生成する混合液生成ステップと、混合液生成ステップにて生成された混合液を盆状の蓄光表示凹部に流し込む流込ステップと、流込ステップの後、所定時間、蓄光表示凹部を静置した状態として、前記蓄光粉末が蓄光表示凹部底部に沈殿した状態で蓄光表示凹部内部を硬化する硬化ステップとを有する蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第二の発明は、第一の発明を基礎として、前記沈殿した状態での硬化は、前記蓄光粉末の蓄光表示凹部底部への沈殿による蓄光粉末の深さ方向の密度分布が深くなるほど高密度となるように沈殿させた状態である蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第三の発明は、第一又は第二の発明を基礎として、前記フェニルシリコーン等は、比重が０．９５以上１．４０以下である蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第四の発明は、第一から第三のいずれか一の発明を基礎として、前記フェニルシリコーン等は、酸素指数が２５以上である蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第五の発明は、第一から第四のいずれか一の発明を基礎として、前記硬化後のフェニルシリコーン等の硬度はタイプＡの硬度基準で６０以上である蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第六の発明は、第一から第五のいずれか一の発明を基礎として、前記硬化後のフェニルシリコーン等と、蓄光層の厚みの値が、フェニルシリコーン等が約０．２ミリメートルに対して蓄光層の厚みが約１ミリメートルとなるようにフェニルシリコーン等とアルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末を配合する蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第七の発明は、第一から第六のいずれか一の発明を基礎として、前記硬化ステップの後に硬化後のフェニルシリコーン等の表面に表示ラベルを配置する表示ラベル配置ステップをさらに有する蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第八の発明は、第一から第七のいずれか一の発明を基礎として、前記表示ラベル配置ステップの後に、液体のフェニルシリコーン等を流し込みトップコート層を生成するトップコート層生成ステップをさらに有する蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第九の発明は、第八の発明を基礎として、前記トップコート層は、硬化後の厚みが約０．６ミリメートルとなる量の液体のフェニルシリコーン等を流し込むものである蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第十の発明は、第一から第九のいずれか一の発明を基礎として、流込ステップの前に、酸化チタン粉末と液体のフェニルシリコーン等とを混合する反射材混合ステップと、反射材混合ステップにて混合された混合液を前記盆状の蓄光表示凹部に流し込む反射材流込ステップとを有する蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第十一の発明は、第十の発明を基礎として、前記反射材混合ステップにて混合された混合液の比重は約１．２６である蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第十二の発明は、第十又は第十一の発明を基礎として、前記酸化チタンの平均粒径は約０．２５ミクロンである蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第十三の発明は、第十から第十二のいずれか一の発明を基礎として、前記酸化チタン粉末の比重は約４．２３である蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

また、第十四の発明は、第十から第十三のいずれか一の発明を基礎として、前記反射材流込ステップに代えて酸化チタン粉末を含有した揮発性有機溶剤を塗布する反射層塗布ステップを有する蓄光表示構造体の製造方法を提供する。

本発明により、流込み・沈殿による蓄光表示構造体の製造方法において、高い発光輝度を有する蓄光表示構造体の製造方法を提供することが可能となる。

実施例１の蓄光表示構造体の製造方法における処理の流れの一例を示す図 実施例１の蓄光表示構造体の製造方法において使用する蓄光表示構造体の基板の形状の一例を示す図 沈殿による蓄光粉末の深さ方向の密度分布が深くなるほど高密度となるように沈殿させた状態の一例を示す概念図 実施例２の蓄光表示構造体の製造方法における処理の流れの一例を示す図 実施例２の蓄光表示構造体の製造方法で製造された蓄光表示構造体の構成の一例を断面図で示した概念図 実施例３の蓄光表示構造体の製造方法における処理の流れの一例を示す図

Ｓ０１０１ 混合液生成ステップ
Ｓ０１０２ 流込ステップ
Ｓ０１０３ 硬化ステップ

以下に、本発明の実施例を説明する。実施例と請求項の相互の関係は以下のとおりである。実施例１は主に請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５などに関し、実施例２は主に請求項６、請求項７、請求項８などに関し、実施例３は主に請求項９、請求項１０、請求項１１、請求項１２などに関する。なお、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施しうる。

<概要>

本実施例の蓄光表示構造体の製造方法は、蓄光粉末と透明液材を混合して生成した混合液を盆状の蓄光表示凹部に流し込んだ後、所定時間これを静置し、蓄光粉末が沈殿した状態で蓄光表示凹部内部を硬化する方法である。その際、蓄光粉末としてアルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末を、また透明液材としてフェニルシリコーン等を用いることで、発光輝度が高い蓄光表示構造体を製造することが可能となっている。

<処理の流れ>

（全般）

図１は、本実施例の蓄光表示構造体の製造方法における処理の流れの一例を示す図である。本実施例における処理の流れは、混合液生成ステップＳ０１０１と、流込ステップＳ０１０２と、硬化ステップＳ０１０３とを有する。

（混合液生成ステップ）

混合液生成ステップは、アルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末と、液体のフェニルシリコーン等とを混合して混合液を生成するステップである。

（アルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末）

アルミン酸ストロンチウムは、ＳｒＡｌ_２Ｏ_４、Ｓｒ_４Ａｌ_１４Ｏ_２５などのようなストロンチウム（Ｓｒ）、アルミニウム（Ａｌ）及び酸素（Ｏ）を主要構成元素とする物質をいい、アルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末は、アルミン酸ストロンチウム塩を母結晶として少量のユーロピウム（Ｅｕ）、ディスプロシウム（Ｄｙ）、ホウ素（Ｂ）などを添加したものである。アルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末を用いた蓄光材料は、従来の硫化亜鉛を母結晶とする蓄光材料などに比べて発光輝度が高く、残光時間も長いことが知られている。

（液体のフェニルシリコーン等）

液体のフェニルシリコーンは、フェニル基（−Ｃ_６Ｈ_５）を付加したシリコーンであるフェニルシリコーンからなる液材をいう。当該フェニルシリコーンは、透明性に優れているという特徴を有しており、本発明のような流込み・沈殿による蓄光表示構造体の製造方法に用いた場合に透明度の高い透明保護層を生成することができ、蓄光表示構造体の発光輝度・残光時間の維持に寄与することができるものである。特に、本発明においては、透明性が極めて高いフェニルシリコーン液として、信越化学工業株式会社製のフェニルシリコーン（製品名Ｘ−３２−３３６０ＡＢ）からなる液材が用いられることが望ましい。

このフェニルシリコーン（Ｘ−３２−３３６０ＡＢ）は、難燃性に優れる（酸素指数が２５以上である）とともに、高硬度（ＪＩＳＫ６２５３に規定されるタイプＡの硬度基準で６０以上、より好適には６０以上９０以下、さらに好適にはタイプＤの硬度基準で約７５）であるとの特徴も有していることから、火災時における熱や物がぶつかったりしたときの衝撃から蓄光層を保護するという透明保護層の役割を好適に果たすという観点からも、透明保護層の材料として極めて優れているものである。

上記混合には、液体のフェニルシリコーンに代えて、液体のメチルシリコーン、有機変成シリコーン又はフロロシリコーンを用いてもよい。また、液体のフェニルシリコーン、メチルシリコーン、有機変成シリコーン又はフロロシリコーンのうち二以上を混合したものを用いてもよい。液体のメチルシリコーンは、メチル基（−ＣＨ_３）を付加したシリコーンであるメチルシリコーンからなる液材をいう。有機変成シリコーンは、アミノ基、エポキシ基などの有機基を付加したシリコーンである有機変成シリコーンからなる液材をいう。また、フロロシリコーン（フッ素化シリコーン）は、フロロ基を付加したシリコーンであるフロロシリコーンからなる液材をいう。これらのシリコーンも、フェニルシリコーンと同様に、難燃性に優れ、高硬度であるという特徴を備えるものである。

（混合液生成の具体的手順の一例）

次に、混合液生成ステップにおける混合液生成の具体的手順の一例について説明する。以下ではアルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末との混合に液体のフェニルシリコーン（以下「フェニルシリコーン液」ということがある）を用いる例で説明するが、液体のメチルシリコーン、有機変成シリコーン又はフロロシリコーンを用いる場合やこれらを混合したものを用いる場合であっても同様である。

本ステップにおいては、アルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末とフェニルシリコーン液とを混合することにより混合液が生成されるが、ここでのアルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末とフェニルシリコーン液の配合比は、前記硬化後のフェニルシリコーンと、蓄光層の厚みの値が、フェニルシリコーンが約０．２ミリメートルに対して蓄光層の厚みが約１ミリメートルとなるような配合比であることが望ましい。具体的な量（体積）は、これらを流し込む盆状の蓄光表示凹部（蓄光表示構造体の基板に設けられた凹部をいう）の寸法などに依存するが、例えば後述するような縦約１００ミリメートル×横約３００ミリメートルの長方形状の底面を有する直方体形状の凹部に流し込む場合には、フェニルシリコーン液は硬化後の体積に換算して約６，０００立方ミリメートル（約６ｃｃ）、アルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末は約３０，０００立方ミリメートル（約３０ｃｃ）である（フェニルシリコーン液は硬化に伴い若干体積が減少する）。

（流込ステップ）

流込ステップは、混合液生成ステップにて生成された混合液を盆状の蓄光表示凹部に流し込むステップである。

盆状の蓄光表示凹部とは、蓄光表示構造体の基板の周縁部に設けられた壁に囲まれた平面状の底面を有する凹部をいう。

図２は、本実施例の蓄光表示構造体の製造方法において使用する蓄光表示構造体の基板の形状の一例を示したものであり、上述のように、蓄光表示構造体の基板０２１０の周縁部に設けられた壁（周壁）０２１１に囲まれた平面状の底面を有する凹部０２１２が備えられている例を示したものである。基板の材料に特に限定はないが、例えばアルミニウムなどの金属やセラミックが用いられる。また、基板の形状・寸法にも特に限定はないが、例えば本図に示したような略長方形状の薄い板状のものが考えられ、その寸法の一例は、凹部の寸法が縦１００ミリメートル×横約３００ミリメートル×高さ（凹部底面から周壁頂部０２１１ａまでの高さ）約２ミリメートルである。従って、基板全体の寸法（図中Ｌ１×Ｌ２×Ｈで示される）はこれよりも若干大きいものとなる。

（硬化ステップ）

硬化ステップは、流込ステップの後、所定時間、蓄光表示凹部を静置した状態として、前記蓄光粉末が蓄光表示凹部底部に沈殿した状態で蓄光表示凹部内部を硬化するステップである。

所定時間は、流し込みステップで流し込まれる混合液におけるアルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末と液体のフェニルシリコーン等の配合比などに依存して異なり得る。液体のフェニルシリコーン等として前出のＸ−３２−３３６０ＡＢフェニルシリコーン液を用いる場合、その比重は１．０７以上１．１１以下であり、より好適には約１．０８である。アルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末の比重は３．７程度である。この場合、アルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末とフェニルシリコーン液の配合比が前述の例のように硬化後のフェニルシリコーン約０．２ミリメートルに対して蓄光層の厚みが約１ミリメートルとなるような配合比である場合、蓄光粉末が蓄光表示凹部底部にほぼ完全に沈殿しきるまでの時間は約５分であるので、これを所定時間とすることが考えられる。

このように、所定時間は蓄光粉末が蓄光表示凹部底部にほぼ完全に沈殿しきるまでの時間として設定されてもよいが、あるいはこれと異なり蓄光粉末が蓄光表示凹部底部にほぼ完全に沈殿しきるまでの時間よりも短い時間であってもよい。後者の例については後述する。

蓄光表示凹部を静置した状態で所定時間が経過して、蓄光粉末が蓄光表示凹部底部に沈殿した状態となった後、蓄光表示凹部内部の硬化が行われる。その具体的な手順の一例としては、例えば、蓄光表示構造体の基板及びその凹部の形状・寸法、蓄光粉末と液材の配合比が上で述べたような例の場合において、基板をホットプレートに載置し、１２０℃で約１０分間加熱し、さらにその後乾燥機を用いて１２０℃で約２時間加熱することが考えられる。

なお、別の実施例にて後述するように、本ステップにて形成される透明保護層の上層に、さらにフェニルシリコーン液を流し込んでトップコート層を形成してもよく、この場合には、乾燥機での加熱は、トップコート層を形成するためのフェニルシリコーン液を加熱した後に行われる。

加熱にホットプレートを用いることで、透明保護層の表面にしわが生じたり気泡が発生したりすることを防いで、透明で表面が平らな透明保護層を生成することができ、もって蓄光表示構造体の発光輝度を阻害しないことが可能となる。

（沈殿による蓄光粉末の深さ方向の密度分布が深くなるほど高密度となるように沈殿させた状態とする例）

上記の所定時間は、蓄光粉末が蓄光表示凹部底部にほぼ完全に沈殿しきるまでの時間としてもよい。この場合には、蓄光層と透明保護層はほぼ完全に分離され、蓄光層はほぼアルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末のみから形成され（即ち、蓄光層中にはフェニルシリコーン液はほとんど混在していない状態となり）、かつ蓄光層中にはアルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末がほぼ均一に分布した状態となる。

あるいは、上記の所定時間は、蓄光粉末が蓄光表示凹部底部に完全に沈殿しきるのに要する時間よりも短い時間にとどめてもよい。この場合には、蓄光粉末が、蓄光表示凹部底部に近いほど高密度で、また蓄光表示凹部底部に遠いほど低密度で分布した状態となり、蓄光表示凹部底部に遠いところでは、蓄光層の中にフェニルシリコーン液が混在している状態となる。換言すれば、蓄光粉末が沈殿して上澄みとなったフェニルシリコーン液は、上部に近い側（蓄光層から遠い側）から大部分は、蓄光粉末が全く混在していない状態であるのに対し、蓄光層にごく近い一部分は蓄光粉末が混在したままの状態となる。所定時間経過後にはフェニルシリコーン液の硬化が開始されるため、この場合には、蓄光粉末が完全に沈殿しきらない状態のままフェニルシリコーン液が硬化されて透明保護層が形成されることになる。従って、蓄光粉末が、蓄光表示凹部底部に近いほど高密度で、また蓄光表示凹部底部に遠いほど低密度で分布した状態のまま、透明保護層及び蓄光層が形成されることとなる。即ち、この場合における蓄光粉末が沈殿した状態での硬化は、蓄光粉末の蓄光表示凹部底部への沈殿による蓄光粉末の深さ方向の密度分布が深くなるほど高密度となるように沈殿させた状態での硬化であるということになる。

図３は、沈殿による蓄光粉末の深さ方向の密度分布が深くなるほど高密度となるように沈殿させた状態の一例を断面図で示した概念図である。このうち（ａ）は比較のために、蓄光粉末０３０２が完全に沈殿しきるまで静置した状態を示したものである。（ｂ）が本例の状態を示したものであり、上層に近いほど蓄光粉末の密度分布が疎になっている状態が示されている。なお、本図はあくまで概念図であり、必ずしも実際の蓄光粉末の密度分布を正確に反映したものではない。

このような硬化方法によれば、蓄光層が均一な密度で形成されている場合に比べて、蓄光層の下層部付近からの発光が透明保護層により多く到達するため、蓄光表示構造体全体の発光輝度をより高めることが可能となる。

その余の製造方法は実施例１に述べたところと同様である。

<効果>

本実施例の発明により、流込み・沈殿による蓄光表示構造体の製造方法において、高い発光輝度を有する蓄光表示構造体の製造方法を提供することが可能となる。

<概要>

本実施例の蓄光表示構造体の製造方法は、実施例１で述べた硬化ステップの後に、硬化後のフェニルシリコーン等の表面に表示ラベルを配置するステップを有し、あるいはこれに加えて、さらにその後に液体のフェニルシリコーン等を流し込んでトップコート層を生成するステップを有する点に特徴を有する。

<処理の流れ>

（全般）

本実施例における蓄光表示構造体の製造方法は、実施例１の製造方法と基本的に共通するが、本実施例では、硬化ステップの後に、表示ラベル配置ステップを有し、あるいはこれに加えて、さらにその後にトップコート層生成ステップを有するものである。

図４は、本実施例の蓄光表示構造体の製造方法における処理の流れの一例を示す図である。本実施例の蓄光表示構造体の製造方法における処理の流れは、混合液生成ステップＳ０４０１と、流込ステップＳ０４０２と、硬化ステップＳ０４０３と、表示ラベル配置ステップＳ０４０４とを有する。あるいは、これに加えてトップコート層生成ステップを有していてもよく、本図の例もトップコート層生成ステップＳ０４０５を有する例を示したものである。以下、表示ラベル配置ステップ及びトップコート層生成ステップについて説明する。

（表示ラベル配置ステップ）

本発明における蓄光表示構造体の製造方法は、硬化ステップの後に、さらに表示ラベル配置ステップを有する。表示ラベル配置ステップは、前記硬化ステップの後に硬化後のフェニルシリコーン等の表面に表示ラベルを配置するステップである。

表示ラベルは、文字やピトグラムなどによって蓄光表示構造体が伝えようとするメッセージやサインを表すためのものであり、例えば不透光性のフィルムやシートを透明保護層の上に接着剤等で貼り付けて配置される。あるいは、表示ラベルの上層にトップコート層が形成される場合には、表示ラベルは単に透明保護層の上に載置するだけでよい。

（トップコート層生成ステップ）

本実施例における蓄光表示構造体の製造方法は、表示ラベル配置ステップの後に、さらにトップコート層生成ステップを有していてもよい。トップコート層生成ステップは、液体のフェニルシリコーン等を流し込みトップコート層を生成するステップである。

トップコート層は、表示ラベルを保護するためのものである。従来のような塗布により蓄光層の上層に透明保護層を積層する方法や、蓄光シートの上に透明保護シートを貼り合せる方法であれば、表示ラベルを配置する場合には、蓄光層の上に表示ラベルを配置し、その上層に透明保護層を設けることで、透明保護層が蓄光層のほん保護の役目に加えて表示ラベルを保護する役目も果たすことができるため、トップコート層は不要であった。しかし、本発明のような流込み・沈殿による製造方法の場合には、蓄光層のすぐ上層に表示ラベルを配置することはできないので、表示ラベルを保護するためには透明保護層とは別にトップコート層を設ける必要がある。

トップコート層を形成するための液材にも、前出のフェニルシリコーン（Ｘ−３２−３３６０ＡＢ）フェニルシリコーン（Ｘ−３２−３３６０ＡＢ）が用いられることが望ましい。

トップコート層を形成するための具体的手順の一例を、蓄光表示構造体の基板及びその凹部の形状・寸法を実施例１で説明した例と同様とし、かつ混合に用いるシリコーン液も実施例１と同様にフェニルシリコーン液を用いる例に即して述べれば、硬化後の厚みの値が約０．６ミリメートルとなる量（体積で約１８，０００立方ミリメートル（約１８ｃｃ））のフェニルシリコーン液を蓄光表示凹部に流し込み、基板をホットプレートに載置して１２０℃で約１０分間加熱し、さらにその後乾燥機を用いて１２０℃で約２時間加熱することが考えられる。

図５は、本実施例の蓄光表示構造体の製造方法で製造された蓄光表示構造体の構成の一例を断面図で示した概念図である。本図の例では、蓄光表示凹部の最下層に反射層０５０１が形成されているが、この反射層については次実施例において説明する。そして、本図の例では、反射層の上層に蓄光層０５０２及び透明保護層０５０３が形成され、その上に表示ラベル０５０４が配置され、さらにその上層にトップコート層０５０５が形成されている。

<効果>

本実施例の発明により、表示ラベルを備える蓄光表示構造体についても、簡便で透明性に優れた蓄光表示構造体の製造方法を提供することができる。

<概要>

本実施例の蓄光表示構造体の製造方法は、実施例１で述べた流込ステップの前に、酸化チタン粉末と液体のフェニルシリコーン等とを混合するステップと、反射材混合ステップにて混合された混合液を前記盆状の蓄光表示凹部に流し込むステップとを有する点に特徴を有する。

<処理の流れ>

（全般）

本実施例における蓄光表示構造体の製造方法は、実施例１の製造方法と基本的に共通するが、本実施例では、流込ステップの前に、反射材混合ステップと、反射材流込ステップとを有する。

図６は、本実施例の蓄光表示構造体の製造方法における処理の流れの一例を示す図である。本実施例の蓄光表示構造体の製造方法における処理の流れは、反射材混合ステップＳ０６０１と、反射材流込ステップＳ０６０２と、混合液生成ステップＳ０６０３と、流込ステップＳ０６０４と、硬化ステップＳ０６０５と、表示ラベル配置ステップＳ０６０６とを有する。あるいは、これに加えてトップコート層生成ステップを有していてもよく、本図の例もトップコート層生成ステップＳ０６０７を有する例を示したものである。以下、反射材混合ステップ及び反射材流込ステップについて説明する。

（反射材混合ステップ）

反射材混合ステップは、酸化チタン（ＴｉＯ_２）粉末と液体のフェニルシリコーン等とを混合するステップである。反射材を混合して流し込む目的は、蓄光層の下層に反射層を形成するためである。反射層は、蓄光層から蓄光表示凹部の底面方向に発せられる光を透明保護層の方向に反射させて蓄光表示構造体の発光輝度を高めることを目的として設けられるものである。

本発明では、反射材料として、酸化チタン粉末が用いられる。酸化チタンは代表的な白色顔料の一つであり、反射特性に優れており、反射材の材料としては最も好適なものである。具体的には、例えば比重約４．２３、平均粒径０．２５ミクロン程度のものが用いられる。

また、液体のフェニルシリコーン等としては、信越化学工業株式会社製のフェニルシリコーン（製品名Ｘ−３２−３３７７）からなる液材が用いられることが望ましい。

（混合の具体的手順の一例）

次に、反射材混合ステップにおける混合の具体的手順の一例について説明する。

本ステップにおいては、酸化チタン粉末と液体のフェニルシリコーン等とを混合することにより混合液が生成されるが、ここでの酸化チタン粉末と液体のフェニルシリコーン等の配合比は、前実施例で用いた蓄光表示凹部の寸法等の例に即せば、酸化チタン粉末１５グラムを混合した時に、硬化後のフェニルシリコーンの体積が６，０００立方ミリメートル（６ｃｃ）となるような酸化チタン粉末及びフェニルシリコーン液の量である（ここでもフェニルシリコーン液は硬化に伴い若干体積が減少する）。この場合、反射材混合ステップにて混合された混合液の比重は約１．２６となる。

（反射材流込ステップ）

反射材流込ステップは、反射材混合ステップにて混合された混合液を前記盆状の蓄光表示凹部に流し込むステップである。

この後、反射材を硬化して反射層を形成することとなるが、通例は酸化チタン粉末の沈殿を待つことなく、直ちに硬化のための加熱が行われる。具体的には、例えば、以上で縷々用いている蓄光表示構造体の基板及びその凹部の形状・寸法等の例に即せば、基板をホットプレートに載置し、１２０℃で約１０分間加熱することが考えられる。

あるいは、反射材流込ステップの後、若干の時間（例えば５分間程度）基板を静置し、酸化チタンが沈殿するのを待ってから上記の加熱を行ってもよい。この場合には、反射層と蓄光層との間に透明層が形成されることとなる。

その余の製造方法は実施例１又は２に述べたところと同様である。

（蓄光粉末と反射材料の両者を含む混合液を流し込んで反射層、蓄光層等を形成する方法）

ところで、以上では、反射材混合ステップ及び反射材流込ステップによって反射層を形成した後に混合ステップ、流込ステップ及び硬化ステップによって蓄光層を形成する方法について説明した。即ち、以上の方法では、反射層を形成するための流込みと蓄光層を形成するための流込みは別々の機会に行われることとなる。これに対し、より簡便に蓄光表示構造体を製造する方法として、蓄光粉末と反射材料の両者を液体のフェニルシリコーン等に混合した混合液を一度に蓄光表示凹部に流し込んで、蓄光粉末、反射材料及び液体のフェニルシリコーン等の比重差を利用して一気に反射層、蓄光層及び透明保護層を形成するという方法も考えられる。

具体的には、以上で述べた製造方法の場合と同様に、例えば、蓄光粉末としてアルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末（比重３．７程度）、反射材料として酸化チタン粉末（比重約４．２３）を用い、これをフェニルシリコーン液（比重約１．０７）に混合し、よく撹拌した上で、当該混合液を蓄光表示凹部に流し込む。これら各材料の量の一例としては、以上に述べた例の場合と同様の量、即ち、硬化後の反射層、蓄光層、透明保護層の厚みがこの順に約０．２ミリメートル、約１．０ミリメートル、約０．２ミリメートルとなるような量とすることが考えられる。これにより所定時間放置することで、比重の最も重い酸化チタン粉末が最下層に、次いで比重の順にアルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末、フェニルシリコーン液の順に沈殿・積層するので、この状態でフェニルシリコーン液を加熱処理して硬化すればよい。

また、上記の順序での沈殿・積層をより円滑に行うために、酸化チタン粉末の粒径はアルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末の粒径よりも大きいものとすることが望ましい。具体的には、例えば酸化チタン粉末の平均粒径を２．０ミクロン程度とし、アルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末の平均粒径を０．１〜１．０ミクロン程度とすることが考えられる。

<効果>

本実施例の発明により、反射層を設けた蓄光表示構造体についても、簡便で透明性に優れた蓄光表示構造体の製造方法を提供することができる。

Claims (12)

1. アルミン酸ストロンチウム系蓄光粉末と、液体のフェニルシリコーン、メチルシリコーン、有機変成シリコーンもしくはフロロシリコーンのいずれか一又は二以上とを混合して混合液を生成する混合液生成ステップと、
   混合液生成ステップにて生成された混合液を盆状の蓄光表示凹部に流し込む流込ステップと、
   流込ステップの後、所定時間、蓄光表示凹部を静置した状態として、前記蓄光粉末が蓄光表示凹部底部に沈殿した状態で蓄光表示凹部内部を硬化する硬化ステップと、
   を有する蓄光表示構造体の製造方法。
2. 前記沈殿した状態での硬化は、前記蓄光粉末の蓄光表示凹部底部への沈殿による蓄光粉末の深さ方向の密度分布が深くなるほど高密度となるように沈殿させた状態である請求項１に記載の蓄光表示構造体の製造方法。
3. 前記フェニルシリコーン、メチルシリコーン、有機変成シリコーンもしくはフロロシリコーンのいずれか一又は二以上は、比重が０．９５以上１．４０以下である請求項１又は２に記載の蓄光表示構造体の製造方法。
4. 前記フェニルシリコーン、メチルシリコーン、有機変成シリコーンもしくはフロロシリコーンのいずれか一又は二以上は、酸素指数が２５以上である請求項１から３のいずれか一に記載の蓄光表示構造体の製造方法。
5. 前記硬化後のフェニルシリコーン、メチルシリコーン、有機変成シリコーンもしくはフロロシリコーンのいずれか一又は二以上の硬度はタイプＡの硬度基準で６０以上である請求項１から４のいずれか一に記載の蓄光表示構造体の製造方法。
6. 前記硬化ステップの後に硬化後のフェニルシリコーン、メチルシリコーン、有機変成シリコーンもしくはフロロシリコーンのいずれか一又は二以上の表面に表示ラベルを配置する表示ラベル配置ステップをさらに有する請求項１から５のいずれか一に記載の蓄光表示構造体の製造方法。
7. 前記表示ラベル配置ステップの後に、液体のフェニルシリコーン、メチルシリコーン、有機変成シリコーンもしくはフロロシリコーンのいずれか一又は二以上を流し込みトップコート層を生成するトップコート層生成ステップをさらに有する請求項６に記載の蓄光表示構造体の製造方法。
8. 前記トップコート層は、硬化後の厚みが０．６ミリメートルとなる量の液体のフェニルシリコーン、メチルシリコーン、有機変成シリコーンもしくはフロロシリコーンのいずれか一又は二以上を流し込むものである請求項７に記載の蓄光表示構造体の製造方法。
9. 流込ステップの前に、酸化チタン粉末と液体のフェニルシリコーン、メチルシリコーン、有機変成シリコーンもしくはフロロシリコーンのいずれか一又は二以上とを混合する反射材混合ステップと、
   反射材混合ステップにて混合された混合液を前記盆状の蓄光表示凹部に流し込む反射材流込ステップと、
   を有する請求項１から８のいずれか一に記載の蓄光表示構造体の製造方法。
10. 前記反射材混合ステップにて混合された混合液の比重は１．２６である請求項９に記載の蓄光表示構造体の製造方法。
11. 前記酸化チタン粉末の平均粒径は０．２５ミクロンである請求項９又は請求項１０に記載の蓄光表示構造体の製造方法。
12. 前記酸化チタン粉末の比重は４．２３である請求項９から１１のいずれか一に記載の蓄光表示構造体の製造方法。