JP6314604B2

JP6314604B2 - 照射装置

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Publication number: JP6314604B2
Application number: JP2014071951A
Authority: JP
Inventors: 裕和石飛; 山本　勝; 勝山本; 浩亮村本
Original assignee: Iwasaki Denki KK
Current assignee: Iwasaki Denki KK
Priority date: 2014-03-31
Filing date: 2014-03-31
Publication date: 2018-04-25
Anticipated expiration: 2034-03-31
Also published as: CN104948946B; KR20150113874A; JP2015194582A; TW201539478A; CN104948946A; TWI645419B

Description

本発明は、遮光マスクを保持するマスク保持部材を備えた照射装置に関する。

従来、照射装置として、２枚の光透過性基板間に紫外線硬化性樹脂からなるシール材を設け、シール材内に液晶を封止した液晶パネルに、紫外線を照射してシール材を硬化させて２枚の基板を貼り合わせる照射装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。シール材に紫外線を照射する際に、液晶に紫外線が照射されると、液晶の特性が変化してしまうため、この紫外線硬化装置では、液晶に対応する位置に、光源の光を遮光する遮光マスクを配置し、この遮光マスクを保持バー（マスク保持部材）に保持している。保持バーは、光透過性の素材（石英）を用いて形成されており、光出射開口に亘って設けられている。

特開２００４−７７５８３号公報

照射装置は、遮光マスクを用いずに照射する場合があり、その場合に、光出射開口に保持バーがあると、保持バーで反射又は屈折した光の影響によって被照射面の照度分布が悪化してしまう。しかし、遮光マスクを使用しない度に保持バーを着脱するのでは着脱作業が煩雑である上、着脱する際に比較的高価な保持バーを破損するおそれがあり、また、保持バーの安全な保管スペースを必要とする。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、遮光マスクを用いない場合にマスク保持部材での反射又は屈折の影響を抑制可能な照射装置を提供することを目的とする。

上述した目的を達成するために、本発明は、光源の光を出射する光出射開口内にマスク保持部材を配置し、このマスク保持部材に前記光源の光を遮光する遮光マスクを保持した照射装置において、前記マスク保持部材を昇降自在に支持し、前記遮光マスクを用いずに照射する際に、前記マスク保持部材を、前記遮光マスクを用いて照射する位置から２０ｍｍ以上上昇させることを特徴とする。

上述の構成において、前記マスク保持部材は、光透過性素材からなる保持部と、当該保持部の縁部を支持する枠体とを備え、前記枠体を昇降自在に支持してもよい。
上述の構成において、前記マスク保持部材を自動で昇降する駆動手段を備えてもよい。
上述の構成において、前記光源を線状光源とし、前記線状光源の周囲に向かう光を被照射体に反射する主反射鏡を備えるとともに、前記マスク保持部材と前記線状光源との間に前記被照射体を囲む補助反射鏡を設け、前記補助反射鏡と前記被照射体との間に、前記マスク保持部材を昇降させるスペースを設けてもよい。

本発明によれば、マスク保持部材を昇降自在に支持したため、遮光マスクを使用しない際には、マスク保持部材を被照射面から離間させることで、マスク保持部材での反射又は屈折の影響を抑制できる。

本発明の実施形態の照射装置を模式的に示す図である。紫外線ランプ、及び主反射板のみの照射によるワークの照度分布を模式的に示す図である。ワーク及び遮光マスクを示す図であり、（Ａ）はワークの断面図、（Ｂ）はワーク及び遮光マスクを示す斜視図である。マスク保持部材を示す斜視図である。保持バーを示し斜視図である。保持バーを示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）のＡ−Ａ断面図である。図６のＢ−Ｂ断面図である。マスク保持部材を上昇した照射装置を模式的に示す図である。マスク保持部材のリフトアップ位置と照度との関係を示す図であり、（Ａ）は計測箇所を示す図、（Ｂ）は計測箇所Ｂにおける最大照度Ｍａｘ及び最小照度Ｍｉｎを示すグラフ、（Ｃ）は計測箇所Ｃにおける最大照度Ｍａｘ及び最小照度を示すグラフ、（Ｄ）は計測箇所Ｄにおける最大照度Ｍａｘ及び最小照度Ｍｉｎを示すグラフである。

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図１は、本実施形態の照射装置を模式的に示す図である。図２は、紫外線ランプ、及び主反射板のみの照射によるワークの照度分布を模式的に示す図である。
照射装置１は、図１に示すように、紫外線ランプ１０を内蔵し、照射領域たるワーク２の全域を均一な照度（すなわち良好な均斉度）で照射可能な装置である。また、照射装置１は、液晶パネル等の基板をワーク２とし、当該ワーク２に光を照射することでワーク２に用いる光硬化性樹脂を硬化する光硬化装置としても使用される。照射装置１は、複数（本実施形態では、５本）の線状光源によりワーク２を照射するものであり、この照射装置１では、紫外線光源として直管型の高出力な上記紫外線ランプ１０が用いられている。

照射装置１は、下面に光出射開口３Ａを有する筐体３内に、複数（本実施形態では、５つの）の照射器１Ａ〜１Ｅを備えている。各照射器１Ａ〜１Ｅは、ケース１１内に、１本の紫外線ランプ１０と、紫外線ランプ１０の放射光を制御する主反射板（主反射鏡）１２とを有し、紫外線ランプ１０の軸線方向に直交するランプ幅方向（光源並列方向）Ｗに並列に配列されている。また、照射装置１は、照射器１Ａ〜１Ｅの下方に、四角筒状の補助反射板（補助反射鏡）１４を備えている。これら主反射板１２及び補助反射板１４は、照射装置１の反射鏡を構成している。さらに、照射装置１は、補助反射板１４の下方にマスク保持部材４０を備え、このマスク保持部材４０に、紫外線ランプ１０の紫外線を遮光する遮光マスク５０が保持されている。

ワーク２は、昇降可能に構成された照射ステージ４に載置され、照射ステージ４が照射位置まで上昇された際に、筐体３の光出射開口３Ａの直下に、隙間δ（本実施形態では、２ｍｍ）をあけた位置に配置され、光出射開口３Ａと略同じ大きさの領域である。この照射装置１では光出射開口３Ａから比較的近接した位置にワーク２が設定される。
紫外線ランプ１０は、ワーク２の真上に並列に延在しており、両端の紫外線ランプ１０はワーク２の縁部の真上に配置されている。なお、紫外線ランプ１０の管長と略同じ長さ、或いは管長以下の長さにワーク２の長辺Ｌａが設定されており、管長が長いロングアークのランプを紫外線ランプ１０に用いることでワーク２の大面積化が図られている。

照射装置１は、上述の通り、主反射板１２と補助反射板１４とを備え、紫外線ランプ１０の直射光と、主反射板１２、及び補助反射板１４の反射光とでワーク２を均一な照度で照射可能としている。
ここで紫外線ランプ１０の直射光のみによってワーク２を照射した場合、ワーク２の長軸Ｋ（図２）を含む近傍の照度分布には、紫外線ランプ１０のランプ管軸方向（長手方向）の輝度分布が略直接的に反映される。
そこで、紫外線ランプ１０から放射されワーク２を外れる光を主反射板１２、及び補助反射板１４で反射し、ワーク２における直射光の照度分布を補うように照らすことで、ワーク２の均斉度が高められている。

主反射板１２は、紫外線ランプ１０の周囲（より正確には上、及び水平方向）に放射する光をワーク２に向けて反射して、被照射面２Ａの照度を向上するとともに、照度の均一化を図るものである。主反射板１２は、紫外線ランプ１０の管軸に沿って延びる樋状に形成され、紫外線ランプ１０と対向する面が反射面に形成されている。この主反射板１２の反射によって、図２に示すように、ワーク２には、紫外線ランプ１０の直下に延在する領域Ｘａの両側に、この領域Ｘａと共に延在し、かつ同等の照度を有する領域Ｘｂが出現する。これにより、ワーク２の短辺Ｌｂの方向に、紫外線ランプ１０の直下の照度が振り分けられて照らされることとなる。

ケース１１には、図１に示すように、紫外線ランプ１０の直下に、平面視で矩形状の照射開口１１Ａが形成されており、長手方向が紫外線ランプ１０の長手方向（軸方向）に一致するように設けられている。照射開口１１Ａの内側には、透過する光の波長を選択する波長選択フィルタ１３が設けられ、この波長選択フィルタ１３によって照射装置１は所望の波長の光を照射するようになっている。なお、本実施形態では、波長選択フィルタ１３を設けたが、紫外線ランプ１０自体で所望の波長の光を出射できる場合には、波長選択フィルタ１３を省略してもよい。また、一枚の波長選択フィルタを紫外線ランプ１０から光出射開口３Ａまでの間に配置してもよい。また、ケース１１は省略してもよい。

補助反射板１４は、主反射板１２とワーク２の間に設けられ、ワーク２の外に漏れる光をワーク２に向けて反射することで、紫外線ランプ１０、及び主反射板１２の照射による照度分布を補うものである。
詳述すると、この照射装置１では、紫外線ランプ１０、及び主反射板１２のみで照射した場合、図２に示すように、紫外線ランプ１０の両端部に対応する領域Ｘｃ、及び、紫外線ランプ１０のランプ幅方向Ｗにおける領域Ｘａの両側の領域Ｘｄで照度が不足する。この照射装置１では、これら領域Ｘｃ、領域Ｘｄの照度不足を反射光によって補うように補助反射板１４が構成されている。

具体的には、補助反射板１４は、図１に示すように、紫外線ランプ１０の両端に対面する一対の補助端板２０と、紫外線ランプ１０の両側に対面する一対の補助側板２１とを有している。これら補助端板２０及び補助側板２１がワーク２の四方を囲む四角筒状に組まれ、その内壁面が反射面として構成されている。補助反射板１４の基端部１４Ａの側には所定距離（約５０ｍｍ）のスペースＳ１を空けて照射器１Ａ〜１Ｅが設けられている。補助反射板１４の先端部１４Ｂの側は平面視矩形に開口し、この開口の直下に所定距離（約５０〜７０ｍｍ）のスペースＳ２を空けてマスク保持部材４０が設けられている。
係る構成の下、一対の補助端板２０は、上記領域Ｘｃに向けて光を反射し、また一対の補助側板２１は上記領域Ｘｄに向けて光を反射し、これらの反射光によって領域Ｘｃ、Ｘｄの照度が補われる。

図３は、ワーク２及び遮光マスク５０を示す図であり、図３（Ａ）はワーク２の断面図、図３（Ｂ）はワーク２及び遮光マスク５０を示す斜視図である。
ワーク２は、図３に示すように、２枚の基板２Ｂ間に、紫外線硬化性樹脂からなるシール材（液晶封止材）２Ｃを設け、シール材２Ｃ内に液晶２Ｄを封止した液晶パネルである。ワーク２は、シール材２Ｃに紫外線が照射されることで、シール材２Ｃが硬化して２枚の基板２Ｂを貼り合わせられて形成される。一方の基板２Ｂは液晶２Ｄに対応する位置にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）回路（不図示）を有するアレイ基板であり、他方の基板２Ｂは液晶２Ｄに対応する位置にカラーフィルタ（不図示）を有するカラーフィルタ基板である。図３は、ＴＦＴ回路を有する基板２Ｂが被照射面２Ａとなるように配置されたワーク２を示す。ここで、シール材２Ｃに紫外線を照射する際に、液晶２Ｄに紫外線が照射されると、液晶２Ｄの特性が変化してしまう。そこで、照射装置１には、液晶２Ｄに向かう光を遮光する遮光マスク５０が設けられている。

遮光マスク５０は、液晶２Ｄに対応する位置に形成される遮光部５１と、シール材２Ｃに対応する位置に形成される透光部５２とを備えて構成されている。遮光マスク５０は、一枚の遮光素材（例えば、金属板）に１つ以上（本実施形態では、４つ）の開口５０Ａを形成することで、開口５０Ａを形成する縁部が遮光部５１を、開口５０Ａの内部が透光部５２を構成している。この遮光マスク５０は、図１に示すように、マスク保持部材４０の下面に吸着されて保持される。

図４は、マスク保持部材４０を示す斜視図である。図５は、保持バーを示し斜視図である。図６は、保持バーを示す図であり、図６（Ａ）は平面図、図６（Ｂ）は図６（Ａ）のＡ−Ａ断面図である。図７は、図６のＢ−Ｂ断面図である。図８は、マスク保持部材４０を上昇した照射装置１を模式的に示す図である。
マスク保持部材４０は、図４に示すように、平面視略矩形に形成された枠状のマスクホルダ（枠体）４１を備え、このマスクホルダ４１に、棒状の複数（本実施形態では、８つ）の保持バー（保持部）４２を支持して構成されている。マスクホルダ４１は、保持バー４２を支持可能な剛性を有する材料（例えば、アルミニウム、ステンレス鋼、鉄等の金属、本実施形態では、アルミニウム）を用いて、内面４１Ａが光出射開口３Ａの大きさ以上の大きさになるように形成されている。

複数の保持バー４２は、光透過性の素材（好ましくは透明部材、本実施形態では石英）を用いて光出射開口３Ａに亘る長さに形成され、ランプ幅方向Ｗに配列されて、縁部４２Ａがマスクホルダ４１に支持されている。
このように、マスク保持部材４０を複数の保持バー４２を用いて構成することで、１枚の加工精度の高い大きな石英板を用いる必要がないので、マスク保持部材４０を構成する部材を小型化でき、その結果、軽量化とコスト低減を実現できる。なお、複数の保持バー４２を１枚の石英板で構成してもよい。また、本実施形態では、保持バー４２を等間隔に配置しているが、配列間隔は、等間隔に限定されるものではなく、ワーク２のサイズ及びワーク２内部の液晶セルの配置によって適宜設定される。

保持バー４２は、図５及び図６に示すように、略角筒状に形成され、下面（被照射面２Ａ側の面）に吸着溝４３Ａを備えている。本実施形態の吸着溝４３Ａは、図５に示すように、保持バー４２の長手方向に沿って２列設けられるとともに、各列が保持バー４２の長手方向略中央で２つに分割されているが、吸着溝４３Ａの数及び配列に限定されるものではない。保持バー４２の長手方向の両端部には、吸着溝４３Ａに連通する通路４３Ｂが形成されている。

保持バー４２の長手方向の両端部は、図６及び図７に示すように、支持体４４によってマスクホルダ４１に支持されている。支持体４４は、保持バー４２を挿入する挿入溝４４Ａを備えた支持ブロック４４Ｂと、挿入溝４４Ａに挿入した保持バー４２の上面（紫外線ランプ１０側の面）を押さえる押さえ部材４４Ｃとを備えている。押さえ部材４４Ｃは、保持バー４２の上面との間に弾性材料（例えば、シリコンゴム）からなるシート４４Ｄが配置され、支持ブロック４４Ｂの上面に固定具４４Ｅ（例えば、ボルト）で固定され、これにより、保持バー４２が支持体４４に固定される。支持体４４は、マスクホルダ４１に対して垂直方向（上下方向）に支持するリニアベアリング４４Ｆ（例えば、リニアブッシュ）を介してマスクホルダ４１に固定されている。図７中、符号４４Ｇは支持体４４を位置決めして固定する固定具（例えば、ボルト）であり、符号４４Ｈはリニアベアリング４４Ｆの抜け止め具（例えば、ボルト）である。保持バー４２の長手方向の一端側の支持体４４では、リニアベアリング４４Ｆが平面視円形の孔４４Ｊに支持され、保持バー４２の長手方向の他端側の支持体４４では、リニアベアリング４４Ｆを支持する孔４４Ｊが長穴状に形成されている。また、他端側の支持体４４では、リニアベアリング４４Ｆの端面が支持体４４に当接しているため、抜け止め具４４Ｈを省略している。

支持体４４には、図６に示すように、保持バー４２の通路４３Ｂに対応する位置に、エアチューブ４５を接続する接続部４４Ｋが取り付けられている。エアチューブ４５は、減圧器（不図示）に連結されており、減圧器を駆動すると、保持バー４２の通路４３Ｂが減圧され、吸着溝４３Ａからの吸引によって遮光マスク５０が保持バー４２に吸着されて保持される。

図１に示す照射装置１においては、例えば、カラーフィルタを有する基板２Ｂが被照射面２Ａとなるようにワーク２が配置される際等には、遮光マスク５０を使用しないで紫外線を照射する場合がある。その場合に、光出射開口３Ａに保持バー４２があると、保持バー４２で反射又は屈折した光の影響によって被照射面２Ａの照度分布が悪化してしまう。特に、保持バー４２で反射又は屈折した紫外線が液晶２Ｄに集光する場合には、液晶２Ｄの特性が変化してしまうため、問題となる。

そこで、本実施形態では、マスク保持部材４０を昇降自在に支持している。より具体的には、マスクホルダ４１が例えばエアシリンダ等の昇降機構（駆動手段）４６に支持されており、図８に示すように、マスク保持部材４０は、保持バー４２を支持しているマスクホルダ４１ごと昇降される。
紫外線ランプ１０、昇降機構４６、照射ステージ４を昇降する直動機構（不図示）、及び減圧器は照射装置１の制御装置６０に接続されている。この制御装置６０の制御の下、紫外線ランプ１０の点灯や、昇降機構４６、直動機構、及び減圧器の駆動が制御されるようになっている。

遮光マスク５０の着脱は、照射ステージ４が降下されて行われる。遮光マスク５０を外す際には、減圧器が停止されて減圧が解除され、遮光マスク５０がマスク保持部材４０から取り外される。そして、昇降機構４６が駆動されてマスク保持部材４０が所定の高さＨまで上昇される。これにより、マスク保持部材４０が被照射面２Ａから離間されるので、保持バー４２での反射や屈折によって不均一な強度となった光が、マスク保持部材４０と被照射面２Ａとの間で他の光と混合され、保持バー４２による被照射面２Ａでの照度むらを抑制できる。
なお、遮光マスク５０の着脱の際に、紫外線ランプ１０は点灯したままでもよいし、また、消灯してもよい。

被照射面２Ａ上の所定の計測箇所における照度を、マスク保持部材４０のリフトアップ位置を変えてシミュレーションした結果を図９に示す。
図９は、マスク保持部材４０のリフトアップ位置（上昇高さ）と照度との関係を示す図であり、図９（Ａ）は計測箇所を示す図、図９（Ｂ）は計測箇所Ｂにおける最大照度Ｍａｘ及び最小照度Ｍｉｎを示すグラフ、図９（Ｃ）は計測箇所Ｃにおける最大照度Ｍａｘ及び最小照度を示すグラフ、図９（Ｄ）は計測箇所Ｄにおける最大照度Ｍａｘ及び最小照度Ｍｉｎを示すグラフである。図９（Ｂ）〜図９（Ｄ）では、横軸にリフトアップ位置を、縦軸に照度（ｍＷ/ｃｍ²）を示す。なお、リフトアップ位置の基準位置（０ｍｍ）は、遮光マスク５０を用いて照射する際のマスク保持部材４０の位置とし、図１に示す補助反射板１４との間に所定距離のスペースＳ２を空けた位置とする。

図９（Ａ）に示すように、有効照射面積が幅１５００ｍｍ×長さ１２８０ｍｍである被照射面２Ａにおいて、ランプ幅方向Ｗのランプ長さ方向Ｌの中央位置を０ｍｍとした場合に、ランプ幅方向Ｗについては、計測箇所Ｂ〜Ｄを０〜７５０ｍｍの位置にある。また、ランプ長さ方向Ｌについては、計測箇所Ｂは０ｍｍ、計測箇所Ｃは３００ｍｍ、計測箇所Ｄは６４０ｍｍの位置にある。

図９（Ｂ）〜図９（Ｄ）に示すように、マスク保持部材４０を基準位置（０ｍｍ）よりも２０ｍｍ上昇させるだけでも最小照度Ｍｉｎが上昇し、均斉度が向上する。リフトアップ位置が２０〜４０ｍｍではあまり変わらないが、マスク保持部材４０を６０ｍｍリフトアップすると最小照度Ｍｉｎが上昇し、最大照度Ｍａｘが減少するため、均斉度が向上する。リフトアップ位置が６０〜１２０ｍｍでは徐々に均斉度が向上するが、１４０ｍｍ以降ではほぼ変わらない。

したがって、マスク保持部材４０を基準位置から２０ｍｍ上昇させただけでも、均斉度を大幅に改善できる。マスク保持部材４０を基準位置から６０ｍｍ上昇させると、均斉度をさらに改善できる。本実施形態では、遮光マスク５０を用いずに照射する際には、ワーク２の種類に応じて、２０ｍｍ以上、補助反射板１４の先端部１４Ｂとマスク保持部材４０の上面との間のスペースＳ２の距離以下の範囲でマスク保持部材４０を上昇させるようにしている。

以上説明したように、本実施形態によれば、マスク保持部材４０を昇降自在に支持したため、遮光マスク５０を使用しない際には、マスク保持部材４０を被照射面２Ａから離間させることで、マスク保持部材４０の保持バー４２での反射又は屈折の影響を抑制できる。

また、本実施形態によれば、マスク保持部材４０は、光透過性素材からなる保持バー４２と、当該保持バー４２の縁部４２Ａを支持するマスクホルダ４１とを備え、マスクホルダ４１を昇降自在に支持する構成とした。この構成により、保持バー４２に比べて頑丈に形成可能なマスクホルダ４１を支持でき、比較的破損しやすく高価な保持バー４２を昇降機構４６に支持する必要がなくなるので、マスク保持部材４０の昇降による保持バー４２の破損を抑制できる。

また、本実施形態によれば、マスク保持部材４０を自動で昇降する昇降機構４６を備えたため、マスク保持部材４０を容易に昇降できる。また、紫外線ランプ１０を消灯しなくても、マスク保持部材４０を昇降できるので、製造工程を短縮できる。

また、本実施形態によれば、紫外線ランプ１０を線状光源とし、紫外線ランプ１０の周囲に向かう光をワーク２に反射する主反射板１２を備えるとともに、マスク保持部材４０と紫外線ランプ１０との間にワーク２を囲む補助反射板１４を設け、補助反射板１４とワーク２との間に、マスク保持部材４０を昇降させるスペースＳ２を設ける構成とした。この構成により、補助反射板１４の内側でなく、補助反射板１４の下方でマスク保持部材４０を上昇させることができるので、補助反射板１４の内側でマスク保持部材４０を上昇させる場合に比べ、ワーク２での照度むらをより低減できる。

また、本実施形態によれば、遮光マスク５０を用いずに照射する際に、マスク保持部材４０を、遮光マスク５０を用いて照射する位置から２０ｍｍ以上上昇させるため、均斉度を大幅に改善できる。

但し、上述の実施形態は本発明の一態様であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能であるのは勿論である。
例えば、上述した実施形態では、保持バー４２を被照射面２Ａから離間させていたが、これに加え、例えば保持バー４２の上面又は下面に光干渉膜を形成することにより、光の反射を低減し、照度むらの発生を抑制してもよい。

また、上述した実施形態では、昇降機構４６をエアシリンダとして説明したが、昇降機構４６はこれに限定されるものではない。
また、上述した実施形態では、マスク保持部材４０を自動で昇降する昇降機構４６を設けたが、マスク保持部材４０は手動で昇降されるように構成されてもよい。

また、上述した実施形態では、補助反射板１４を設けたが、補助反射板１４は省略してもよい。
また、上述した実施形態では、線状光源に５本の紫外線ランプ１０を用いていたが、線状光源の本数はこれに限定されない。また紫外線ランプ１０に代えて、紫外線ＬＥＤ等の発光素子を直線状に配列した線状光源を用いることもできる。また、線状光源が照射する光は紫外線に限定されるものではない。

また、上述した実施形態では、照射装置１を光硬化装置として説明したが、本発明は、種々の照射装置に適用可能である。

１照射装置
３Ａ光出射開口
１０紫外線ランプ（光源）
１２主反射鏡
１４補助反射板（補助反射鏡）
４０マスク保持部材
４１マスクホルダ（枠体）
４２保持バー（保持部）
４２Ａ縁部
４４昇降機構（駆動手段）
５０遮光マスク
６０制御装置
Ｓ２スペース

Claims

光源の光を出射する光出射開口内にマスク保持部材を配置し、このマスク保持部材に前記光源の光を遮光する遮光マスクを保持した照射装置において、
前記マスク保持部材を昇降自在に支持し、
前記遮光マスクを用いずに照射する際に、前記マスク保持部材を、前記遮光マスクを用いて照射する位置から２０ｍｍ以上上昇させることを特徴とする照射装置。
前記マスク保持部材は、光透過性素材からなる保持部と、当該保持部の縁部を支持する枠体とを備え、
前記枠体を昇降自在に支持したことを特徴とする請求項１に記載の照射装置。
前記マスク保持部材を自動で昇降する駆動手段を備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の照射装置。
前記光源を線状光源とし、前記線状光源の周囲に向かう光を被照射体に反射する主反射鏡を備えるとともに、前記マスク保持部材と前記線状光源との間に前記被照射体を囲む補助反射鏡を設け、
前記補助反射鏡と前記被照射体との間に、前記マスク保持部材を昇降させるスペースを設けたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の照射装置。