JP6309491B2 - 光電ガラス基板を高精度に即時識別する装置及びその方法 - Google Patents
光電ガラス基板を高精度に即時識別する装置及びその方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6309491B2 JP6309491B2 JP2015150883A JP2015150883A JP6309491B2 JP 6309491 B2 JP6309491 B2 JP 6309491B2 JP 2015150883 A JP2015150883 A JP 2015150883A JP 2015150883 A JP2015150883 A JP 2015150883A JP 6309491 B2 JP6309491 B2 JP 6309491B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- point
- laser beam
- glass substrate
- point area
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
- G06T7/0006—Industrial image inspection using a design-rule based approach
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/70—Determining position or orientation of objects or cameras
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30121—CRT, LCD or plasma display
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
- G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
- G06T2207/30108—Industrial image inspection
- G06T2207/30148—Semiconductor; IC; Wafer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Geometry (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Description
第1工程:レーザ装置によりレーザ光をガラス基板に発射し;
第2工程:該ガラス基板は、該レーザ光を受け、且つ該ガラス基板の第1表面に第1レーザビーム点を発生し、該ガラス基板の第2表面に第2レーザビーム点を発生し、該レーザ光は、該第1レーザビーム点に第1反射ビームを発生し、該第2レーザビーム点に第2反射ビームを発生し;
第3工程:電荷結合素子カメラ検出装置により該第1反射ビーム及び該第2反射ビームを受け、そのうち、該第1レーザビーム点は、第1点面積及び該第2レーザビーム点は、第2点面積を有し;
第4工程:該電荷結合素子カメラ検出装置は、該第1反射ビーム及び該第2反射ビームにより該第1点面積及び該第2点面積の位置が相対しているかを判断し;
第5工程:該第1点面積及び該第2点面積の位置が相対してない場合、該第1点面積及び該第2点面積が相対した後にガラス距離数を発生し、該電荷結合素子カメラ検出装置は、解析度値及び該ガラス距離数により、該ガラス基板の厚さ値を獲得する。
2 ガラス基板
3 電荷結合素子カメラ検出装置
41〜45 工程
A1 第1点面積
A2 第2点面積
D1 ガラス距離数
L1 レーザ光
P1 第1レーザビーム点
P2 第2レーザビーム点
R1 第1反射ビーム
R2 第2反射ビーム
S1 第1表面
S2 第2表面
T 厚さ値
Claims (10)
- レーザ光を発射するレーザ装置と、
第1表面及び第2表面を有し、該レーザ光を受け、且つ該第1表面に第1レーザビーム点を発生し、該第2表面に第2レーザビーム点を発生し、そのうち、該レーザ光は、該第1レーザビーム点に第1反射ビーム及び該第2レーザビーム点に第2反射ビームを発生するガラス基板と、
該第1反射ビーム及び該第2反射ビームを受ける電荷結合素子カメラ検出装置と、
を含み、
そのうち、該第1レーザビーム点に第1点面積を有し、該第2レーザビーム点に第2点面積を有し、該電荷結合素子カメラ検出装置は、前記第1レーザビーム点を前記第2レーザビーム点に向けて移動させて該第1反射ビーム及び該第2反射ビームにより該第1点面積及び該第2点面積の位置が相対しているかを判断し、該第1点面積及び該第2点面積の位置が相対していない場合、前記第1レーザビーム点を前記第2レーザビーム点に向けて移動させた結果として該第1点面積及び該第2点面積が相対した後に前記第1レーザビーム点が移動した移動距離であるガラス距離数を発生し、該電荷結合素子カメラ検出装置は、解析度値及び該ガラス距離数により該ガラス基板の厚さ値を獲得する光電ガラス基板を高精度に即時識別する装置。 - 前記解析度値は、2.5〜2.7μmである請求項1に記載の光電ガラス基板を高精度に即時識別する装置。
- 前記電荷結合素子カメラ検出装置は、デジタル信号処理方法によって該解析度値及び該ガラス距離数の乗算を計算する請求項1に記載の光電ガラス基板を高精度に即時識別する装置。
- 前記レーザ光は、高単色性、高方向性、高強度及び高干渉性の特性を有する請求項1に記載の光電ガラス基板を高精度に即時識別する装置。
- 前記第1点面積、該第2点面積及び該ガラス距離数の単位がピクセルである請求項1に記載の光電ガラス基板を高精度に即時識別する装置。
- 以下の工程を含む光電ガラス基板を高精度に即時識別する方法:
第1工程:レーザ装置によりレーザ光をガラス基板に発射し;
第2工程:該ガラス基板は、該レーザ光を受け、且つ該ガラス基板の第1表面に第1レーザビーム点を発生し、該ガラス基板の第2表面に第2レーザビーム点を発生し、該レーザ光は、該第1レーザビーム点に第1反射ビームを発生し、該第2レーザビーム点に第2反射ビームを発生し;
第3工程:電荷結合素子カメラ検出装置により該第1反射ビーム及び該第2反射ビームを受け、そのうち、該第1レーザビーム点は、第1点面積及び該第2レーザビーム点は、第2点面積を有し;
第4工程:該電荷結合素子カメラ検出装置は、前記第1レーザビーム点を前記第2レーザビーム点に向けて移動させて該第1反射ビーム及び該第2反射ビームにより該第1点面積及び該第2点面積の位置が相対しているかを判断し;
第5工程:該第1点面積及び該第2点面積の位置が相対してない場合、前記第1レーザビーム点を前記第2レーザビーム点に向けて移動させた結果として該第1点面積及び該第2点面積が相対した後に前記第1レーザビーム点が移動した移動距離であるガラス距離数を発生し、該電荷結合素子カメラ検出装置は、解析度値及び該ガラス距離数により、該ガラス基板の厚さ値を獲得する。 - 前記第5工程において、該解析度値は、2.5〜2.7μmである請求項6に記載の光電ガラス基板を高精度に即時識別する方法。
- 前記第4工程において、該電荷結合素子カメラ検出装置は、デジタル信号処理方法によって該解析度値及び該ガラス距離数の乗算を計算する請求項6に記載の光電ガラス基板を高精度に即時識別する方法。
- 前記第1工程において、該レーザ光は、高単色性、高方向性、高強度及び高干渉性の特性を有する請求項6に記載の光電ガラス基板を高精度に即時識別する方法。
- 前記第4工程及び前記第5工程において、該第1点面積、該第2点面積及び該ガラス距離数の単位がピクセルである請求項6に記載の光電ガラス基板を高精度に即時識別する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW104121499 | 2015-07-02 | ||
TW104121499A TWI509215B (zh) | 2015-07-02 | 2015-07-02 | 高準確度即時鑑別光電玻璃基板的裝置及其方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017015675A JP2017015675A (ja) | 2017-01-19 |
JP6309491B2 true JP6309491B2 (ja) | 2018-04-11 |
Family
ID=55220144
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015150883A Active JP6309491B2 (ja) | 2015-07-02 | 2015-07-30 | 光電ガラス基板を高精度に即時識別する装置及びその方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9760985B2 (ja) |
JP (1) | JP6309491B2 (ja) |
KR (1) | KR101745117B1 (ja) |
CN (1) | CN106323177B (ja) |
TW (1) | TWI509215B (ja) |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52104256A (en) * | 1976-02-27 | 1977-09-01 | Iwatsu Electric Co Ltd | Thickness measuring device |
JP3144143B2 (ja) * | 1993-04-13 | 2001-03-12 | ソニー・プレシジョン・テクノロジー株式会社 | 光学式変位測定装置 |
US6902616B1 (en) * | 1995-07-19 | 2005-06-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method and apparatus for producing semiconductor device |
US6133999A (en) * | 1998-04-10 | 2000-10-17 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Measuring sidewall thickness of glass containers |
JP2000221009A (ja) * | 1999-01-28 | 2000-08-11 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ガラス材の厚み測定装置及び測定方法 |
JP2002022417A (ja) * | 2000-07-13 | 2002-01-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | 厚さ測定装置 |
WO2002018980A2 (en) | 2000-09-01 | 2002-03-07 | Applied Process Technologies | Optical system for imaging distortions in moving reflective sheets |
DE102004010311A1 (de) * | 2004-03-03 | 2005-09-22 | Isra Glass Vision Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Messung der Dicke einer transparenten Probe |
US7516628B2 (en) * | 2005-01-11 | 2009-04-14 | Corning Incorporated | On-line thickness gauge and method for measuring the thickness of a moving glass substrate |
TWI290614B (en) * | 2006-04-21 | 2007-12-01 | Advance Design Technology Inc | A measuring apparatus for the thin film thickness using interference technology of laser |
CN201281587Y (zh) * | 2008-10-31 | 2009-07-29 | 徐熙平 | 石英管壁厚光电在线检测系统 |
JP2010156603A (ja) * | 2008-12-26 | 2010-07-15 | Sunx Ltd | 厚さ測定装置及び厚さ測定方法 |
KR101209857B1 (ko) * | 2009-02-20 | 2012-12-10 | 삼성코닝정밀소재 주식회사 | 유리 표면 이물 검사 장치 및 방법 |
KR101033855B1 (ko) * | 2010-09-02 | 2011-05-16 | 노바테크 (주) | 유리기판의 두께 측정 및 이차원 코드 검출 시스템과 그 방법 |
CN101995221A (zh) * | 2010-11-03 | 2011-03-30 | 济南德佳玻璃机器有限公司 | 中空玻璃厚度和铝框宽度检测装置及其方法 |
US8836698B2 (en) * | 2011-12-26 | 2014-09-16 | TrackThings LLC | Method and apparatus for identifying a 3-D object from a 2-D display of a portable unit |
JP2013152153A (ja) * | 2012-01-25 | 2013-08-08 | Toray Eng Co Ltd | 膜厚むら検出装置及び方法、並びに膜厚むら検出装置付塗布装置及び基板上に形成された塗布膜の膜厚むら検出方法 |
US20140230577A1 (en) * | 2013-02-21 | 2014-08-21 | The University Of Akron | Real-time measurement system for monitoring and/or controlling properties of a composition transitioning from liquid state to solid state |
TWI486550B (zh) * | 2014-01-20 | 2015-06-01 | Nat Univ Tsing Hua | 厚度線上即時檢測之光學干涉裝置及其方法 |
-
2015
- 2015-07-02 TW TW104121499A patent/TWI509215B/zh active
- 2015-07-28 KR KR1020150106220A patent/KR101745117B1/ko active IP Right Grant
- 2015-07-30 JP JP2015150883A patent/JP6309491B2/ja active Active
- 2015-07-30 CN CN201510458710.3A patent/CN106323177B/zh active Active
- 2015-08-21 US US14/831,929 patent/US9760985B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106323177B (zh) | 2019-08-06 |
TW201702551A (zh) | 2017-01-16 |
KR20170004789A (ko) | 2017-01-11 |
KR101745117B1 (ko) | 2017-06-09 |
US9760985B2 (en) | 2017-09-12 |
US20170004611A1 (en) | 2017-01-05 |
JP2017015675A (ja) | 2017-01-19 |
CN106323177A (zh) | 2017-01-11 |
TWI509215B (zh) | 2015-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6068593B2 (ja) | タッチプローブに対してビジョンシステムを校正するためのシステム及び方法 | |
US9964403B2 (en) | Device and method for detecting flatness of surface of display panel | |
US7301133B2 (en) | Tracking auto focus system | |
JP6522344B2 (ja) | 高さ検出装置、塗布装置および高さ検出方法 | |
KR102177005B1 (ko) | 기판 정렬을 위한 머신 비전 시스템 및 정렬 장치 | |
JP6481843B1 (ja) | レーザ加工装置及びその制御方法 | |
CN106441152B (zh) | 非对称式光学干涉测量方法及装置 | |
CN102385261A (zh) | 一种光刻机共轴对焦装置及对焦方法 | |
EP3021073A2 (en) | Surface inspection apparatus and method, and manufacturing method for oled displays | |
KR101474969B1 (ko) | 기판 처리 장치, 투광 부재 및 뷰포트를 갖는 챔버 | |
TWI568989B (zh) | 全域式影像檢測系統及其檢測方法 | |
TWI580930B (zh) | Tilt angle and distance measurement method | |
CN106289065B (zh) | 侦测方法以及应用该侦测方法的光学装置 | |
JP6309491B2 (ja) | 光電ガラス基板を高精度に即時識別する装置及びその方法 | |
JP6704813B2 (ja) | 計測装置、露光装置、および物品の製造方法 | |
JP6415948B2 (ja) | 形状等測定装置 | |
US20120243573A1 (en) | Plasma processing apparatus and temperature measuring method | |
TWI685639B (zh) | 形狀測量裝置及搭載該裝置之塗佈裝置 | |
JP2013053923A (ja) | 厚さ測定装置 | |
TWI286197B (en) | 2/3-dimensional synchronous image capturing system and method | |
KR101458890B1 (ko) | 3차원 형상 측정장치 | |
KR102030685B1 (ko) | 전자회로기판 검사에서 처짐량 예측을 이용한 초점높이 결정방법 | |
JP2007292683A (ja) | 試料測定装置および試料測定装置の試料台調節方法 | |
JP2005069942A (ja) | 位相シフト法による計測方法と装置 | |
JP2022024683A (ja) | 形状測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170704 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171002 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180213 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180314 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6309491 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |