JP6299760B2 - スイッチング素子のプログラム方法 - Google Patents
スイッチング素子のプログラム方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6299760B2 JP6299760B2 JP2015523854A JP2015523854A JP6299760B2 JP 6299760 B2 JP6299760 B2 JP 6299760B2 JP 2015523854 A JP2015523854 A JP 2015523854A JP 2015523854 A JP2015523854 A JP 2015523854A JP 6299760 B2 JP6299760 B2 JP 6299760B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- switching element
- resistance
- resistance value
- voltage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 45
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 56
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 56
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 52
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 claims description 35
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 33
- 230000008672 reprogramming Effects 0.000 claims description 21
- 238000012795 verification Methods 0.000 claims description 18
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 5
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 50
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 32
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 18
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 17
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 14
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 9
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000003487 electrochemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001521328 Ruta Species 0.000 description 2
- 235000003976 Ruta Nutrition 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000010416 ion conductor Substances 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 235000005806 ruta Nutrition 0.000 description 2
- 238000004335 scaling law Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010038 TiAl Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 chalcogenide compound Chemical class 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N lawrencium atom Chemical compound [Lr] CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0009—RRAM elements whose operation depends upon chemical change
- G11C13/0011—RRAM elements whose operation depends upon chemical change comprising conductive bridging RAM [CBRAM] or programming metallization cells [PMCs]
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0009—RRAM elements whose operation depends upon chemical change
- G11C13/0014—RRAM elements whose operation depends upon chemical change comprising cells based on organic memory material
- G11C13/0016—RRAM elements whose operation depends upon chemical change comprising cells based on organic memory material comprising polymers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0064—Verifying circuits or methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
- G11C2013/0076—Write operation performed depending on read result
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
- G11C2013/0092—Write characterized by the shape, e.g. form, length, amplitude of the write pulse
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
- G11C2213/70—Resistive array aspects
- G11C2213/79—Array wherein the access device being a transistor
Description
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態のプログラムを行うスイッチング素子の構成を示す。本実施形態のスイッチング素子は、第1電極101と、第2電極102と、前記第1電極101と前記第2電極102との間に設けられ、前記第1電極101と前記第2電極102との間の電位差に応じて抵抗値Rが増減する抵抗変化膜103とを有する。このスイッチング素子のプログラム方法は、第1のパルス電圧を前記第1電極101あるいは前記第2電極102に与えることで前記抵抗変化膜103の抵抗値Rを増減させるプログラムをする。さらに、前記抵抗値Rを測定し、前記測定された前記抵抗値Rが所望の値であるか否かを判定するベリファイをする。さらに、前記抵抗値Rが所望の値でない場合に、前記抵抗値Rに基づいて前記第1のパルス電圧と同じ極性の第2のパルス電圧を、前記第1のパルス電圧と同じ電極に与える再プログラムをする。
(第2の実施形態)
図1を用いて、第1の実施形態をより具体的にした本発明の第2の実施形態を説明する。本実施形態のスイッチング素子は、金属架橋型の抵抗変化膜103と、第1電極101と、第2電極102とを備える。第1電極101は活性電極であって、たとえば銅を有する。また、第2電極102は不活性電極であって、たとえばルテニウムを有する。
J=K・I・t=K・Q 式(1)
ここで、Jは供給量(伝導物質量)、Kは定数、Iはプログラム電流、tは電圧パルス幅、Qは電荷量である。銅の供給量(伝導物質量)JとON状態での抵抗RONとは相関があり、
1/J∝RON 式(2)
しかしながら、固体電界質は電解質イオンを含まないかわりに、薄膜の絶縁体(厚さ5nm程度)である固体電解質を介した電子伝導が生じる。そのため、通常の電気分解とは異なり、全ての電荷の移動が銅イオンの輸送によるものではないため、電流Iとパルス幅tに、それぞれ感度指数mとnを導入したところ、t<1msec.の範囲において実験値を良く説明できることがわかった。
RON=A・Im・tn 式(3)
RON=exp(−3.4)・I−1.3・t−0.05∝J−1 式(4)
Jは固体電解質中に供給される伝導物質量であり、本実施形態では主に銅であり、Jが大きいほど抵抗値は低くなる。m値、n値はプロセスおよび材料に依存し、予めプログラム電流と電圧パルス幅の異なる条件でテストすることにより抽出することができる。所望の抵抗値を得るためには、式(4)を元にI値、t値を設定してプログラムを行うことが可能である。
(第3の実施形態)
図1を用いて、第1の実施形態をより具体的にした本発明の第3の実施形態を説明する。本実施形態のスイッチング素子は、金属架橋型の抵抗変化膜103と、第1電極101と、第2電極102とを備える。第1電極101は活性電極であって、たとえば銅を有する。また、第2電極102は不活性電極であって、たとえばルテニウムを有する。本実施形態のスイッチング素子を構成する材料は、第2の実施形態と同様であるので、詳細な説明は省略する。
(第4の実施形態)
本発明の第4の実施形態として、図7に示す、半導体基板上にMOSFETを形成し、さらに、銅配線の内部にスイッチング素子を形成した半導体装置について説明する。
102 第2電極
103 抵抗変化膜
201 第1端子
202 第2端子
701 シリコン基板
702 MOSFET
703 層間絶縁膜
704 バリアメタル層
705 タングステンビア
706 バリア絶縁膜
707 層間絶縁膜
708 バリアメタル層
709 銅層
710 バリア絶縁膜
711 第1イオン伝導層
712 第2イオン伝導層
713 第1上部電極
714 第2上部電極
715 バリア絶縁膜
716 層間絶縁膜
717 バリアメタル層
718 銅層
719 銅配線
720 バリア絶縁膜
800 不揮発性記憶装置
801 メモリ本体部
802 メモリセルアレイ
803 列選択回路
805 データ出力回路
806 書き込み回路
808 行選択回路
809 行ドライバ
810 制御回路
811 書き込み用電源
812 OFF化電源
813 ON化電源
815 データ入力回路
816 アドレス入力回路
Claims (9)
- 第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に設けられ、前記第1電極と前記第2電極との間の電位差に応じて抵抗値Rが増減する抵抗変化膜と、を有するスイッチング素子のプログラム方法において、
第1のパルス電圧を前記第1電極あるいは前記第2電極に与えることで前記抵抗変化膜の抵抗値Rを増減させるプログラムをし、
前記抵抗値Rを測定し、前記測定された前記抵抗値Rが所望の値であるか否かを判定するベリファイをし、
前記抵抗値Rが所望の値でない場合に、前記抵抗値Rに基づいて前記第1のパルス電圧と同じ極性の第2のパルス電圧を、前記第1のパルス電圧と同じ電極に与える再プログラムをし、
前記再プログラムは、前記第2のパルス電圧のパルス幅と、前記第2のパルス電圧を与えたときの電流とを、予め得られたA、m、nから、抵抗値R=A・I m ・t n (Iは電流、tはパルス幅)の式に基づいて決定する、
スイッチング素子のプログラム方法。 - 前記抵抗変化膜は金属架橋型抵抗変化膜である、請求項1記載のスイッチング素子のプログラム方法。
- 前記抵抗値Rは前記抵抗変化膜内の伝導物質の量に対応し、前記R=A・I m ・t n の式に基づいて決定される前記第2のパルス電圧は、前記抵抗変化膜内の、前記伝導物質の不足分を供給する、あるいは前記伝導物質の残留分を回収する、請求項1または2記載のスイッチング素子のプログラム方法。
- 前記第2のパルス電圧は前記第1のパルス電圧と同じである、請求項1または2記載のスイッチング素子のプログラム方法。
- 前記再プログラムの後に、再度、前記ベリファイを行う、請求項1から4の内の1項記載のスイッチング素子のプログラム方法。
- 前記ベリファイは、前記第1のパルス電圧と同じ極性の電圧で前記抵抗値Rを測定する、請求項1から5の内の1項記載のスイッチング素子のプログラム方法。
- 前記抵抗変化膜は固体電解質を有する、請求項1から6の内の1項記載のスイッチング素子のプログラム方法。
- 前記第1電極は銅を有する、請求項1から7の内の1項記載のスイッチング素子のプログラム方法。
- 前記第2電極はルテニウムを有する、請求項1から8の内の1項記載のスイッチング素子のプログラム方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013131263 | 2013-06-24 | ||
JP2013131263 | 2013-06-24 | ||
PCT/JP2014/003246 WO2014208049A1 (ja) | 2013-06-24 | 2014-06-17 | スイッチング素子のプログラム方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2014208049A1 JPWO2014208049A1 (ja) | 2017-02-23 |
JP6299760B2 true JP6299760B2 (ja) | 2018-03-28 |
Family
ID=52141416
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015523854A Active JP6299760B2 (ja) | 2013-06-24 | 2014-06-17 | スイッチング素子のプログラム方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9530496B2 (ja) |
JP (1) | JP6299760B2 (ja) |
WO (1) | WO2014208049A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9922719B2 (en) * | 2015-06-07 | 2018-03-20 | Sandisk Technologies Llc | Multi-VT sensing method by varying bit line voltage |
US10825514B2 (en) * | 2018-04-20 | 2020-11-03 | International Business Machines Corporation | Bipolar switching operation of confined phase change memory for a multi-level cell memory |
US10847221B2 (en) | 2018-10-30 | 2020-11-24 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Memory device and method thereof |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5015420B2 (ja) * | 2003-08-15 | 2012-08-29 | 旺宏電子股▲ふん▼有限公司 | プログラマブル消去不要メモリに対するプログラミング方法 |
JP2010153591A (ja) | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Sharp Corp | 不揮発性可変抵抗素子とその駆動方法 |
US8250293B2 (en) * | 2009-01-19 | 2012-08-21 | Qimonda Ag | Data exchange in resistance changing memory for improved endurance |
JP2013520761A (ja) * | 2010-02-18 | 2013-06-06 | サンディスク スリーディー,エルエルシー | 可逆的抵抗性スイッチング素子のためのステップ・ソフト・プログラム |
US8848430B2 (en) * | 2010-02-23 | 2014-09-30 | Sandisk 3D Llc | Step soft program for reversible resistivity-switching elements |
JP5351863B2 (ja) * | 2010-09-17 | 2013-11-27 | シャープ株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置及び不揮発性半導体記憶装置の制御方法 |
JP5091999B2 (ja) * | 2010-09-24 | 2012-12-05 | シャープ株式会社 | 半導体記憶装置 |
WO2012128017A1 (ja) * | 2011-03-22 | 2012-09-27 | 日本電気株式会社 | 抵抗記憶装置およびその書き込み方法 |
JP5642649B2 (ja) * | 2011-10-07 | 2014-12-17 | シャープ株式会社 | 半導体記憶装置及び半導体装置 |
-
2014
- 2014-06-17 JP JP2015523854A patent/JP6299760B2/ja active Active
- 2014-06-17 WO PCT/JP2014/003246 patent/WO2014208049A1/ja active Application Filing
- 2014-06-17 US US14/895,239 patent/US9530496B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9530496B2 (en) | 2016-12-27 |
US20160111153A1 (en) | 2016-04-21 |
WO2014208049A1 (ja) | 2014-12-31 |
JPWO2014208049A1 (ja) | 2017-02-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5197402B2 (ja) | 抵抗変化型記憶装置 | |
Chen et al. | Balancing SET/RESET Pulse for $>\hbox {10}^{10} $ Endurance in $\hbox {HfO} _ {2}\hbox {/Hf} $ 1T1R Bipolar RRAM | |
Gopalan et al. | Demonstration of conductive bridging random access memory (CBRAM) in logic CMOS process | |
JP4684297B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置の書き込み方法 | |
JP5050813B2 (ja) | メモリセル | |
JP5209151B1 (ja) | 抵抗変化型不揮発性記憶素子の書き込み方法 | |
US8179713B2 (en) | Nonvolatile memory element, nonvolatile memory device, and nonvolatile semiconductor device | |
JP4529654B2 (ja) | 記憶素子及び記憶装置 | |
US8699261B2 (en) | Variable resistance nonvolatile memory device and driving method thereof | |
JP4867297B2 (ja) | 記憶装置のベリファイ方法 | |
US20090224224A1 (en) | Nonvolatile memory element, nonvolatile memory apparatus, nonvolatile semiconductor apparatus, and method of manufacturing nonvolatile memory element | |
TW201921356A (zh) | 用於寫入至電阻式隨機存取記憶體單元陣列及從電阻式隨機存取記憶體單元陣列讀取之電路系統 | |
US20130021838A1 (en) | Method of inspecting variable resistance nonvolatile memory device and variable resistance nonvolatile memory device | |
US8445886B2 (en) | Nonvolatile memory element, nonvolatile memory device, nonvolatile semiconductor device, and method of manufacturing nonvolatile memory element | |
WO2013140754A1 (ja) | 抵抗変化型不揮発性記憶素子の書き込み方法および抵抗変化型不揮発性記憶装置 | |
JP2014211937A (ja) | 抵抗変化型不揮発性記憶素子の書き込み方法および抵抗変化型不揮発性記憶装置 | |
JP6038741B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2012128892A (ja) | 記憶装置 | |
JP2009260052A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置とその製造方法および半導体装置 | |
JPWO2013136798A1 (ja) | 抵抗変化素子、その抵抗変化素子を有する半導体装置、その半導体装置の製造方法およびその抵抗変化素子を用いたプログラミング方法 | |
US20080112207A1 (en) | Solid electrolyte memory device | |
JP6299760B2 (ja) | スイッチング素子のプログラム方法 | |
JP6482959B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2015185771A (ja) | スイッチング素子およびスイッチング素子のプログラム方法 | |
JP2015230736A (ja) | 抵抗変化型不揮発性記憶装置およびその書き込み方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170515 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180130 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6299760 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |