JP6287004B2 - 多層プリント配線板の製造方法 - Google Patents
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Description
[1] (I)デガスホールを有するコア基板に、キャリアフィルムと該キャリアフィルム上に設けられた樹脂組成物層とを含むキャリア付接着フィルムを、樹脂組成物層がコア基板と接合するようにラミネートする工程、
(II)樹脂組成物層を熱硬化して絶縁層を形成する工程、及び
(III)キャリアフィルムを絶縁層から除去する工程
を含む多層プリント配線板の製造方法であって、
デガスホールを有するコア基板が、工程(I)の前に、150℃以上の温度で予備加熱されている、方法。
[2] 樹脂組成物層が、エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含む樹脂組成物から形成される、[1]に記載の方法。
[3] 硬化剤が活性エステル系硬化剤を含む、[2]に記載の方法。
[4] 工程(II)において樹脂組成物層を熱硬化させる際の最高到達温度をTcとするとき、予備加熱が、Tc−10(℃)以上の温度で行われる、[1]〜[3]のいずれかに記載の方法。
[5] キャリアフィルムのガラス転移温度(Tg)が150℃以上である、[1]〜[4]のいずれかに記載の方法。
[6] 工程(II)において樹脂組成物層を熱硬化させる際の温度条件にてキャリアフィルムを熱処理するとき、キャリアフィルムのx−y方向の熱収縮率(S)が0.3%以下である、[1]〜[5]のいずれかに記載の方法。
[7] さらに、絶縁層を粗化処理する工程を含む、[1]〜[6]のいずれかに記載の方法。
[8] さらに、メッキにより導体層を形成する工程を含む、[1]〜[7]のいずれかに記載の方法。
[9] [1]〜[8]のいずれかに記載の方法により製造された多層プリント配線板。
[10] [9]に記載の多層プリント配線板を備える半導体装置。
多層プリント配線板の製造に使用される「コア基板」は、基板ベースと、該基板ベースの片面又は両面に設けられた導体層(回路導体)とを有する。
本発明の方法に使用するキャリア付接着フィルムは、キャリアフィルムと、該キャリアフィルム上に設けられた樹脂組成物層とを含む。
(1)初期長さLの測定
200mm角状のキャリアフィルムを用意する。該キャリアフィルムの4角から中心方向に20mm程度の部分に、貫通穴を、パンチングによって4つ形成する。便宜上、形成した4つの穴を時計回りに穴A、穴B、穴C、穴Dと称する。形成した各穴の中央間の長さL(LAB、LBC、LCD、LDA、LAC、LBD)(図1参照)を非接触型画像測定器で測定する。
(2)キャリアフィルムの熱処理
測長の終了したキャリアフィルムを、後述する工程(II)において樹脂組成物層を熱硬化させる際の温度条件にて加熱する。
(3)熱処理後長さL’の測定
熱処理後のキャリアフィルムについて、各穴の中央間の長さL’(L’AB、L’BC、L’CD、L’DA、L’AC及びL’BD)を、非接触型画像測定器で測定する。
(4)熱収縮率の算出
測定したL及びL’の値に基づき、各穴の中央間の長さの収縮率s(sAB、sBC、sCD、sDA、sAC及びsBD)を算出する。sABは、測定したLAB及びL’ABの値に基づき、下記式により算出される。
sAB(%)={(LAB−L’AB)/LAB}×100
同様にして、sBC、sCD、sDA、sAC及びsBDを算出する。
キャリアフィルムのx−y方向の熱収縮率(S)は、得られたsAB、sBC、sCD、sDA、sAC及びsBDの値に基づき、下記式により算出される。
S(%)=(sAB+sBC+sCD+sDA+sAC+sBD)/6
エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂が好ましい。具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂及びビスフェノールAF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、tert-ブチル-カテコール型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリメチロール型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂等が挙げられる。エポキシ樹脂は、1種単独で使用してもよく、2種以上組み合わせて使用してもよい。
なお、本発明において、樹脂組成物中の各成分の含有量は、樹脂組成物中の不揮発成分を100質量%としたときの値である。
硬化剤としては、エポキシ樹脂を硬化する機能を有する限り特に限定されないが、例えば、フェノール系硬化剤、活性エステル系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤、ベンゾオキサジン系硬化剤、及び酸無水物系硬化剤が挙げられる。本発明におけるデガスホール上の課題は、特にエポキシ樹脂の硬化剤として活性エステル系硬化剤を使用した場合に顕著となる傾向が見られるため、特に本発明を好適に使用することができる。硬化剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
無機充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、ガラス、コーディエライト、シリコン酸化物、硫酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化マンガン、ホウ酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、及びリン酸タングステン酸ジルコニウム等が挙げられる。これらの中でも無定形シリカ、溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカ、中空シリカ等のシリカが特に好適である。またシリカとしては球状シリカが好ましい。無機充填材は、1種単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。市販されている球状溶融シリカとして、(株)アドマテックス製「SOC4」、「SOC2」、「SOC1」が挙げられる。
樹脂組成物は、樹脂組成物層を硬化させた後に表面を粗化処理して適度な粗化面を有する絶縁層を形成し得る観点から、熱可塑性樹脂を含んでもよい。熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、及びポリスルホン樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂は、1種単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
樹脂組成物層に用いる樹脂組成物は、樹脂組成物層の熱硬化を円滑に進行させる観点から、硬化促進剤を含んでもよい。硬化促進剤としては、例えば、リン系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤、金属系硬化促進剤が挙げられる。硬化促進剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
樹脂組成物層に用いる樹脂組成物は、難燃性を向上させる観点から、難燃剤を含んでもよい。難燃剤としては、例えば、有機リン系難燃剤、有機系窒素含有リン化合物、窒素化合物、シリコーン系難燃剤、金属水酸化物等が挙げられる。有機リン系難燃剤としては、三光(株)製のHCA、HCA−HQ、HCA−NQ等のフェナントレン型リン化合物、昭和高分子(株)製のHFB−2006M等のリン含有ベンゾオキサジン化合物、味の素ファインテクノ(株)製のレオフォス30、50、65、90、110、TPP、RPD、BAPP、CPD、TCP、TXP、TBP、TOP、KP140、TIBP、北興化学工業(株)製のTPPO、PPQ、クラリアント(株)製のOP930、大八化学(株)製のPX200等のリン酸エステル化合物が挙げられる。有機系窒素含有リン化合物としては、四国化成工業(株)製のSP670、SP703等のリン酸エステルアミド化合物、大塚化学(株)製のSPB100、SPE100、(株)伏見製薬所製FP−series等のホスファゼン化合物等が挙げられる。金属水酸化物としては、宇部マテリアルズ(株)製のUD65、UD650、UD653等の水酸化マグネシウム、巴工業(株)製のB−30、B−325、B−315、B−308、B−303、UFH−20等の水酸化アルミニウム等が挙げられる。難燃剤は1種単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。樹脂組成物中の難燃剤の含有量は特に限定はされないが、0.5質量%〜10質量%が好ましく、1質量%〜9質量%がより好ましい。
樹脂組成物層に用いる樹脂組成物は、樹脂組成物層を硬化させた後に表面を粗化処理して適度な粗化面を有する絶縁層を形成し得る観点から、ゴム粒子を含んでもよい。ゴム粒子としては、例えば、後述する有機溶剤に溶解せず、上述のエポキシ樹脂、硬化剤、及び熱可塑性樹脂などとも相溶しないものが使用される。このようなゴム粒子は、一般には、ゴム成分の分子量を有機溶剤や樹脂に溶解しないレベルまで大きくし、粒子状とすることで調製される。
樹脂組成物層に用いる樹脂組成物は、必要に応じて他の成分を配合することができる。他の成分としては、例えば、ビニルベンジル化合物、アクリル化合物、マレイミド化合物、ブロックイソシアネート化合物のような熱硬化性樹脂、シリコンパウダー、ナイロンパウダー、フッ素パウダー等の有機充填剤、オルベン、ベントン等の増粘剤、シリコーン系、フッ素系、高分子系の消泡剤又はレベリング剤、イミダゾール系カップリング剤、チアゾール系カップリング剤、トリアゾール系カップリング剤、シラン系カップリング剤等の密着性付与剤、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、カーボンブラック等の着色剤等を挙げることができる。
本発明の多層プリント配線板の製造方法は、
(I)デガスホールを有するコア基板に、キャリアフィルムと該キャリアフィルム上に設けられた樹脂組成物層とを含むキャリア付接着フィルムを、樹脂組成物層がコア基板と接合するようにラミネートする工程、
(II)樹脂組成物層を熱硬化して絶縁層を形成する工程、及び
(III)キャリアフィルムを絶縁層から除去する工程
を含み、デガスホールを有するコア基板が、工程(I)の前に、150℃以上の温度で予備加熱されていることを特徴とする。
(i)デガスホールを有するコア基板を150℃以上の温度で予備加熱する工程、
(I)デガスホールを有するコア基板に、キャリアフィルムと該キャリアフィルム上に設けられた樹脂組成物層とを含むキャリア付接着フィルムを、樹脂組成物層がコア基板と接合するようにラミネートする工程、
(II)樹脂組成物層を熱硬化して絶縁層を形成する工程、及び
(III)キャリアフィルムを絶縁層から除去する工程
を含む。
工程(I)において、デガスホールを有するコア基板に、キャリアフィルムと該キャリアフィルム上に設けられた樹脂組成物層とを含むキャリア付接着フィルムを、樹脂組成物層がコア基板と接合するようにラミネートする。
工程(II)において、樹脂組成物層を熱硬化して絶縁層を形成する。
工程(III)において、キャリアフィルムを絶縁層から除去する。
コア基板のデガスホール上における絶縁層の陥没深さは、キャリアフィルムを除去した後の絶縁層の露出表面について、非接触型表面粗さ計を用いて測定することができる。非接触型表面粗さ計の具体例としては、ビーコインスツルメンツ社製の「WYKO NT9300」が挙げられる。
本発明の多層プリント配線板の製造方法は、a)絶縁層にビアホールを形成する工程(ビアホール形成工程)、b)絶縁層を粗化処理する工程(粗化工程)、c)メッキにより導体層を形成する工程(導体層形成工程)をさらに含んでもよい。これらの工程は、多層プリント配線板の製造に用いられる、当業者に公知の各種方法に従って実施してよい。
ビアホール形成工程において、絶縁層にビアホールを形成する。ビアホールは、層間の電気接続のために設けられ、絶縁層の特性を考慮して、ドリル、レーザー、プラズマ等を用いる公知の方法により形成することができる。例えば、キャリアフィルムが存在する場合は、キャリアフィルム上からレーザー光を照射して、絶縁層にビアホールを形成することができる。
粗化工程において、絶縁層を粗化処理する。粗化処理の手順、条件は特に限定されず、多層プリント配線板の絶縁層を形成するに際して通常使用される公知の手順、条件を採用することができる。例えば、膨潤液による膨潤処理、酸化剤による粗化処理、中和液による中和処理をこの順に実施して絶縁層を粗化処理することができる。膨潤液としては特に限定されないが、アルカリ溶液、界面活性剤溶液等が挙げられ、好ましくはアルカリ溶液であり、該アルカリ溶液としては、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液がより好ましい。市販されている膨潤液としては、例えば、アトテックジャパン(株)製のスウェリング・ディップ・セキュリガンスP、スウェリング・ディップ・セキュリガンスSBU等が挙げられる。膨潤液による膨潤処理は、特に限定されないが、例えば、30〜90℃の膨潤液に絶縁層を1分間〜20分間浸漬することにより行うことができる。絶縁層の樹脂の膨潤を適度なレベルに抑える観点から、40〜80℃の膨潤液に絶縁層を5秒間〜15分間浸漬させることが好ましい。酸化剤としては、特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウムの水溶液に過マンガン酸カリウムや過マンガン酸ナトリウムを溶解したアルカリ性過マンガン酸溶液が挙げられる。アルカリ性過マンガン酸溶液等の酸化剤による粗化処理は、60℃〜80℃に加熱した酸化剤溶液に絶縁層を10分間〜30分間浸漬させて行うことが好ましい。また、アルカリ性過マンガン酸溶液における過マンガン酸塩の濃度は5質量%〜10質量%が好ましい。市販されている酸化剤としては、例えば、アトテックジャパン(株)製のコンセントレート・コンパクトP、ドージングソリューション・セキュリガンスP等のアルカリ性過マンガン酸溶液が挙げられる。また、中和液としては、酸性の水溶液が好ましく、市販品としては、例えば、アトテックジャパン(株)製のリダクションショリューシン・セキュリガントPが挙げられる。中和液による処理は、酸化剤溶液による粗化処理がなされた処理面を30〜80℃の中和液に5分間〜30分間浸漬させることにより行うことができる。作業性等の点から、酸化剤溶液による粗化処理がなされた対象物を、40〜70℃の中和液に5分間〜20分間浸漬する方法が好ましい。
導体層形成工程において、絶縁層表面にメッキにより導体層を形成する。
(1)デガスホールを有するコア基板の予備加熱
デガスホールを有するコア基板として、直径200μmの円形デガスホールが2mmピッチで形成された導体層(銅層)を両面に有するガラス布基材エポキシ樹脂両面積層板(導体層の厚さ35μm、基板ベースの厚さ0.8mm、Panasonic(株)製「R1515A」)を用意した。該コア基板の両面を、メック(株)製「CZ8100」に浸漬して導体層表面をエッチングした(エッチング量1μm)。
その後、表2に示す条件にて、デガスホールを有するコア基板を予備加熱した。なお、予備加熱の後、1時間以内に次工程(2)を行った。
下記作製例で作製したキャリア付接着フィルムを、バッチ式真空加圧ラミネーター((株)ニチゴー・モートン製 2ステージビルドアップラミネーター「CVP700」)を用いて、樹脂組成物層がコア基板と接合するように、コア基板の両面にラミネートした。ラミネート処理は、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とした後、100℃、圧力0.74MPaにて30秒間圧着させることにより実施した。次いで、ラミネートされたキャリア付接着フィルムを、大気圧下、100℃、圧力0.5MPaにて60秒間熱プレスして平滑化した。
キャリア付き接着フィルムがラミネートされたコア基板を、100℃にて30分間、次いで180℃にて30分間加熱し、樹脂組成物層を熱硬化して絶縁層を形成した。
熱硬化の後、室温下、手動でキャリアフィルムを剥離し除去した。
キャリアフィルムの除去後、絶縁層を以下の手順で粗化処理した。すなわち、絶縁層表面を、膨潤液(アトテックジャパン(株)製「スエリングディップ・セキュリガンドP」、ジエチレングリコールモノブチルエーテル及び水酸化ナトリウムの水溶液)に60℃で10分間、次いで酸化剤溶液(アトテックジャパン(株)製「コンセントレート・コンパクトP」、過マンガン酸カリウム濃度約6%、水酸化ナトリウム濃度約4%の水溶液)に80℃で20分間浸漬し、水洗処理した。その後、絶縁層表面を、中和液(アトテックジャパン(株)製「リダクションソリューシン・セキュリガントP」)に40℃で5分間浸漬した後、130℃で15分間乾燥した。
得られた評価基板について、デガスホール上における絶縁層の陥没深さを測定した。
デガスホール上における絶縁層の陥没深さは、非接触型表面粗さ計(ビーコインスツルメンツ社製「WYKO NT3300」)を用いて、VSIコンタクトモード、10倍レンズにより測定範囲を1100μm×825μmとして得られる数値により求めた。測定は、デガスホール上の絶縁層部分について10箇所の平均値を求めることにより実施した。なお、表2においては、絶縁層の陥没深さが1.5μm以下の場合を「◎」、1.5μmより大きく2μm以下の場合を「○」、2μmより大きい場合を「×」とした。
(1)初期長さLの測定
下記作製例で作製した離型層付キャリアフィルムを200mm角状に切り出しサンプルフィルムを用意した。該サンプルの4角から中心方向に20mmの部分に、貫通穴(直径約6mm)を、パンチングによって4つ形成した。便宜上、形成した4つの穴を時計回りに穴A、穴B、穴C、穴Dと称する。形成した各穴の中央間の長さL(LAB、LBC、LCD、LDA、LAC、LBD)(図1参照)を、非接触型画像測定器((株)ミツトヨ製、Quick Vision 型式:QVH1X606−PRO III_BHU2G)により測定した。
(2)キャリアフィルムの熱処理
測長の終了したサンプルフィルムを、255mm角状のガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(厚さ0.7mm、松下電工(株)製「R5715ES」)上に配置し、四辺をポリイミド接着テープ(幅10mm)で固定した。固定後、サンプルフィルムを、上記〔測定・評価用基板の調製〕における樹脂組成物層の熱硬化温度条件(すなわち、100℃にて30分間、次いで180℃にて30分間)にて加熱した。
(3)熱処理後長さL’の測定
熱処理後、ポリイミド接着テープを剥がし、サンプルフィルムを積層板から取り外した。取り外したサンプルフィルムについて、各穴の中央間の長さL’(L’AB、L’BC、L’CD、L’DA、L’AC、L’BD)を、非接触型画像測定器で測定した。
(4)熱収縮率の算出
測定したL及びL’の値に基づき、各穴の中央間の長さの収縮率s(sAB、sBC、sCD、sDA、sAC及びsBD)を算出した。sABは、測定したLAB及びL’ABの値に基づき、下記式により算出した。
sAB(%)={(LAB−L’AB)/LAB}×100
同様にして、sBC、sCD、sDA、sAC及びsBDを算出した。
キャリアフィルムのx−y方向の熱収縮率(S)は、得られたsAB、sBC、sCD、sDA、sAC及びsBDの値に基づき、下記式により算出した。
S(%)=(sAB+sBC+sCD+sDA+sAC+sBD)/6
(1)離型層付きキャリアフィルム1の調製
PETフィルム(東レ(株)製「ルミラーR56」、厚さ38μm)の片面に、アルキド樹脂(日立化成ポリマー(株)製「テスファイン303」、固形分48質量%、トルエン/イソプロピルアルコール=4/1混合液)100質量部、及びp−トルエンスルホン酸溶液(日立化成ポリマー(株)製「ドライヤー900」、固形分50質量%、トルエン/イソプロピルアルコール=4/1混合液)2.5質量部を、トルエン/イソプロピルアルコール=4/1混合液により固形分濃度が1.5質量%となるように希釈した溶液を、乾燥後の厚さが0.1μmとなるように塗布し、150℃で1分間乾燥させて離型層を設けた。
(2)樹脂ワニス1の調製
ビスフェノール型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型とビスフェノールF型の1:1混合品、エポキシ当量約169)5部、ビフェニル型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「YX4000HK」、エポキシ当量約185)12部、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「HP7200H」、エポキシ当量約275)9部、及びフェノキシ樹脂(三菱化学(株)製「YL7553BH30」、固形分30質量%のMEK/シクロヘキサノン=1/1溶液)10部を、ソルベントナフサ30部に撹拌しながら加熱溶解させた。室温にまで冷却した後、そこへ、活性エステル系硬化剤(DIC(株)製「HPC8000−65T」、活性基当量約223、不揮発成分65質量%のトルエン溶液)40部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5質量%のMEK溶液)3部、アミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形シリカ(平均粒径0.5μm、(株)アドマテックス製「SOC2」、単位面積当たりのカーボン量0.39mg/m2)150部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニス1を調製した。
(3)キャリア付接着フィルム1の作製
次いで、離型層付きキャリアフィルム1の離型層上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが40μmとなるように樹脂ワニス1を均一に塗布し、80〜120℃(平均100℃)で5分間乾燥させて、キャリア付接着フィルム1を作製した。得られた樹脂組成物層の残留溶剤量(130℃にて15分間加熱した後の質量減少から算出)は、2.1質量%であった。
PETフィルム(東レ(株)製「ルミラーR56」、厚さ38μm)に代えてアニール処理済PETフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製「G2LA」、厚さ50μm)を使用した以外は作製例1(1)と同様の手順で離型層付きキャリアフィルム2を調製した。
得られた離型層付キャリアフィルム2を使用して、作製例1(2)及び(3)と同様の手順でキャリア付接着フィルム2を作製した。得られた樹脂組成物層の残留溶剤量は、2.2重量%であった。
PETフィルム(東レ(株)製「ルミラーR56」、厚さ38μm)に代えてポリイミドフィルム(宇部興産(株)製「ユーピレックス−S」、厚さ25μm)を使用した以外は作製例1(1)と同様の手順で離型層付きキャリアフィルム3を調製した。
得られた離型層付キャリアフィルム3を使用して、作製例1(2)及び(3)と同様の手順でキャリア付接着フィルム3を作製した。得られた樹脂組成物層の残留溶剤量は、2.1重量%であった。
PETフィルム(東レ(株)製「ルミラーR56」、厚さ38μm)に代えてPENフィルム(帝人デュポンフィルム(株)製「テオネックス Q83」、厚さ25μm)を使用した以外は作製例1(1)と同様の手順で離型層付きキャリアフィルム4を調製した。
得られた離型層付キャリアフィルム4を使用して、作製例1(2)及び(3)と同様の手順でキャリア付接着フィルム4を作製した。得られた樹脂組成物層の残留溶剤量は、2.0重量%であった。
(1)樹脂ワニス2の調製
ビスフェノール型エポキシ樹脂(新日鐵化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型とビスフェノールF型の1:1混合品、エポキシ当量約169)5部、ビフェニル型樹脂(三菱化学(株)製「YX4000HK」、エポキシ当量約185)10部、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「HP7200H」、エポキシ当量約275)10部、及びフェノキシ樹脂(三菱化学(株)製「YL7553BH30」、固形分30質量%のMEK溶液)5部を、ソルベントナフサ20部に撹拌しながら加熱溶解させた。室温にまで冷却した後、そこへ、ビスフェノールAジシアネートのプレポリマー(ロンザジャパン(株)製「BA230S75」、シアネート当量約232、不揮発分75質量%のMEK溶液)20部、活性エステル系硬化剤(DIC(株)製「HPC8000−65T」、活性基当量約223の不揮発分65質量%のトルエン溶液)20部、硬化促進剤(4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、固形分5質量%のMEK溶液)0.5部、硬化促進剤(東京化成(株)製、コバルト(III)アセチルアセトナート(Co(III)Act)、固形分1質量%のMEK溶液)2部、アミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形シリカ(平均粒径0.5μm、(株)アドマテックス製「SOC2」、単位表面積当たりのカーボン量0.39mg/m2)110部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニス2を調製した。
(2)キャリア付接着フィルム5の作製
次いで、離型層付きキャリアフィルム1の離型層上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが40μmとなるように樹脂ワニス2を均一に塗布し、80〜120℃(平均100℃)で5分間乾燥させて、キャリア付接着フィルム5を作製した。得られた樹脂組成物層の残留溶剤量は、1.8重量%であった。
キャリア付接着フィルム1を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕の手順に従って、評価基板を調製した。表2に示すとおり、予備加熱は180℃にて30分間行った。評価結果を表2に示す。
キャリア付接着フィルム2を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕の手順に従って、評価基板を調製した。表2に示すとおり、予備加熱は180℃にて30分間行った。評価結果を表2に示す。
キャリア付接着フィルム3を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕の手順に従って、評価基板を調製した。表2に示すとおり、予備加熱は180℃にて30分間行った。評価結果を表2に示す。
キャリア付接着フィルム4を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕の手順に従って、評価基板を調製した。表2に示すとおり、予備加熱は170℃にて30分間行った。評価結果を表2に示す。
キャリア付接着フィルム5を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕の手順に従って、評価基板を調製した。表2に示すとおり、予備加熱は190℃にて30分間行った。評価結果を表2に示す。
キャリア付接着フィルム1を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕の手順に従って、評価基板を調製した。表2に示すとおり、予備加熱は130℃にて30分間行った。評価結果を表2に示す。
キャリア付接着フィルム5を使用して、上記〔測定・評価用基板の調製〕の手順に従って、評価基板を調製した。表2に示すとおり、予備加熱は100℃にて60分間行った。評価結果を表2に示す。
Claims (8)
- (I)デガスホールを有するコア基板に、キャリアフィルムと該キャリアフィルム上に設けられた樹脂組成物層とを含むキャリア付接着フィルムを、樹脂組成物層がコア基板と接合するようにラミネートする工程、
(II)樹脂組成物層を熱硬化して絶縁層を形成する工程、及び
(III)キャリアフィルムを絶縁層から除去する工程
を含む多層プリント配線板の製造方法であって、
デガスホールを有するコア基板が、基板ベースと、該基板ベースに設けられた、デガスホールを有する導体層とを含み、基板ベースが、ガラスエポキシ基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、BTレジン基板及び熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板から選択され、
デガスホールを有するコア基板が、工程(I)の前に、150℃以上の温度で予備加熱されている、方法。 - 樹脂組成物層が、エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填材を含む樹脂組成物から形成される、請求項1に記載の方法。
- 硬化剤が活性エステル系硬化剤を含む、請求項2に記載の方法。
- 工程(II)において樹脂組成物層を熱硬化させる際の最高到達温度をTcとするとき、予備加熱が、Tc−10(℃)以上の温度で行われる、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- キャリアフィルムのガラス転移温度(Tg)が150℃以上である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 工程(II)において樹脂組成物層を熱硬化させる際の温度条件にてキャリアフィルムを熱処理するとき、キャリアフィルムのx−y方向の熱収縮率(S)が0.3%以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- さらに、絶縁層を粗化処理する工程を含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- さらに、メッキにより導体層を形成する工程を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
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