JP6284488B2 - 合金形成元素でコーティングされた安定化されたリチウム金属形状付与物及びその製造法 - Google Patents
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Description
a)リチウム金属粉末を融点を超えて加熱し、溶融したリチウム金属を製造する工程;
b)溶融したリチウム金属を分散させる工程;及び
c)溶融したリチウム金属を、リンを含有する物質と接触させて、主として連続的なリン酸リチウムの保護層をリチウム金属粉末上に作り出す工程
によって特徴付けられている、リチウム金属を安定化する方法を記載している。酸性、毒性の物質(リン酸)を用いた取り扱いは、一般的に、かつ殊にリチウム金属の存在下では不利である:両物質は接触すると、著しく熱を放出しながら非常に激しく互いに反応する。そのうえまた、リチウム金属とリン酸とが反応すると、爆発の恐れがある水素ガスが発生する。
LiOH+Si(OR)4 → LiOSi(OR)3+ROH
SiOR+ROSi → Si−O−Si+ROR
− ガス状又は酸性の、刺激性又は毒性の不動態化剤を使用せずに済み、
− 混合された無機/有機の難溶性被膜から成る不動態化保護層のリチウム表面上への形成を引き起こし、かつ
− 該リチウム金属形状付与物の表面コーティングは、例えば負極材料用のプレリチウム化剤として用いたときに妨げとならず、かつ
− 該コーティングは、表面層において、通常使用されるバインダーに対して親和性を示す元素を含有する。
[AR1R2R3R4]Lix (I)、
又はR1R2R3A−O−AR4R5R6 (II)
ここで、
− R1、R2、R3、R4、R5及びR6=互いに無関係に、アルキル(C1〜C12)基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基若しくはハロゲン(F、Cl、Br若しくはI);又は2つの基Rは、一緒になって1,2−ジオラート(例えば1,2−エタンジオラート)、1,2−ジカルボキシラート若しくは1,3−ジカルボキシラート(例えばオキサラート若しくはマロナート)若しくは2−ヒドロキシカルボキシラートジアニオン(例えばグリコラート、ラクタート若しくはサリチラート)を意味する;
− R1基〜R6基は、更に別の官能基、例えばアルコキシ基を含有してよい;
− A=ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ又は鉛;
− x=B、Al、Ga、In又はTlについては、0又は1
− x=Si、Ge、Sn又はPbについては、0;
− x=0かつA=B、Al、Ga、In又はTlの場合、R4は存在しない、
又は1種以上の元素B、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn又はPbを含有するポリマーとの接触によって製造される。
特に有利な不動態化剤の例は、
− 一般式B(OR)3のホウ酸エステル、
− ハロゲン化ホウ素及びハロゲン化アルミニウムB(Hal)3若しくはAl(Hal)3、
− 式Li[B(OR)4]若しくはLi[Al(OR)4]のホウ酸リチウム及びアルミン酸リチウム、
− 一般式Al(OR)3のアルミニウムアルコキシド、
− 一般式AlR3-nHaln(n=0、1又は2)のアルキルアルミニウム化合物、
− ハロゲン化ケイ素及びハロゲン化スズSi(Hal)4及びSn(Hal)4、
− ケイ酸エステルSi(OR)4及びスズアルコキシドSn(OR)4、
− ジシロキサン及びジスタノキサンR3Si−O−SiR3及びR3Sn−O−SnR3、
− ケイ素及びスズのアルキル化合物SiR4及びSnR4、
− ケイ素及びスズの混合アルキルハロゲン化合物SiR4-nHaln(n=1、2又は3)若しくはSnR4-nHaln(n=1、2又は3)、
− ケイ素及びスズの混合アルキルアルコキシ化合物SiR4-n(OR)n(n=1、2又は3)若しくはSnR4-n(OR)n(n=1、2又は3)、
− ケイ素をベースとするポリマー、例えばシリコーン(ポリオルガノシロキサン、例えばR3SiO[R2SiO]nSiR3、例えばポリ(ジメチルシロキサン))
であり、ここで、Hal=F、Cl、Br若しくはI;R=アルキル基、アルケニル基若しくはアリール基;又は2つの基Rは、一緒になって1,2−ジオラート(例えば1,2−エタンジオラート)、1,2−ジカルボキシラート若しくは1,3−ジカルボキシラート(例えばオキサラート若しくはマロナート)若しくは2−ヒドロキシカルボキシラートジアニオン(例えばサリチラート、グリコラート若しくはラクタート)である。
有利な不動態化剤の量を用いると、95%超、有利には97%超のリチウム金属生成物が得られる。
Si(OR)4+4Li → 4LiOR+Si
生じた金属ケイ素は、第二の工程において、公知の結晶性Li合金の一つ(たいていは、存在する合金のリチウムが最も富化したものであって、Siの場合、つまりLi21Si5)を形成する。副産物として発生するリチウムアルコキシドは、選択された製造条件に応じてさらに反応して、例えば酸化リチウムとなる可能性がある。このようにして、合金層と塩様のLi含有層とから成るリチウム形状付与物の多成分コーティングが形成される。
アルゴンで不活性化された、分散撹拌装置を備えた乾燥した2Lのステンレス鋼−ジャケット付き反応器中に、405gのShellsol(R)D100及び20.1gのリチウム金属ロッド片を初めに装入した。このリチウムは40ppmのナトリウム含量を有していた。弱い撹拌下に(約50rpm)、ジャケット加熱によって、内部温度を240℃に上げ、分散機を用いて金属エマルジョンを製造する。次いで、10mlのSchellsol(R)D100に溶解された1.5gのTEOSを、約5分以内に噴霧器を用いて加える。添加の間、強いせん断作用により撹拌する。その後、撹拌装置を止めて、懸濁液を室温に冷却する。
懸濁液をガラス製の吸引漏斗(Glasnutsche)で分け、フィルター残渣を数回ヘキサンで洗浄して油を取り除き、次いで真空乾燥する。
収率:19.2g(理論値の95%);
平均粒度:140μm(Mettler−Toledo社FBRM−粒度分析装置);
金属含有率:99.5%(ガス容量で);
NMP中での安定性、含水量167ppm:80℃で15時間安定;90℃では2.5時間後に暴走;
Si含有率:0.40質量%;
XRDによる表面試験:Li21Si5の相割合。
アルゴンで不活性化された、分散撹拌装置を備えた乾燥した2Lのステンレス鋼−ジャケット付き反応器中に、415gのShellsol(R)D100及び98.4gのリチウム金属ロッド片を初めに装入した。このリチウムは40ppmのナトリウム含量を有していた。弱い撹拌下に(約50rpm)、ジャケット加熱によって、内部温度を240℃に上げ、分散機を用いて金属エマルジョンを製造する。次いで、20mlのSchellsol(R)D100に溶解された2.7gのビニルトリエトキシシランを、約5分以内に噴霧器を用いて加える。添加の間、強いせん断作用により撹拌する。その後、撹拌装置を止めて、懸濁液を室温に冷却する。
懸濁液をガラス製の吸引漏斗で分け、フィルター残渣を数回ヘキサンで洗浄して油を取り除き、次いで真空乾燥する。
収率:95.2g(理論値の97%);
平均粒度:101μm(Mettler−Toledo社のFBRM−粒度分析装置);
金属含有率:99.7%(ガス容量で);
NMP中での安定性、含水量167ppm:80℃で15時間安定;90℃では2時間後に弱く発熱(暴走はしない);
Si含有率:0.26質量%;
XRDによる表面試験:Li21Si5の非常に少ない相割合。
アルゴンで不活性化された、分散撹拌装置を備えた乾燥した2Lのステンレス鋼−ジャケット付き反応器中に、405gのShellsol(R)D100及び20.6gのリチウム金属ロッド片を初めに装入した。このリチウムは40ppmのナトリウム含量を有していた。弱い撹拌下に(約50rpm)、ジャケット加熱によって、内部温度を240℃に上げ、分散機を用いて金属エマルジョンを製造する。次いで3.3gのポリ(ジメチルシロキサン)(CAS番号9016−00−6)を、約3分以内に噴霧器を用いて加える。添加の間、強いせん断作用により撹拌する。さらに約210℃で30分間、後撹拌し、次いで撹拌装置を止めて、懸濁液を室温に冷却する。
懸濁液をガラス製の吸引漏斗で分け、フィルター残渣を数回ヘキサンで洗浄して油を取り除き、次いで真空乾燥する。
収率:20.1g(理論値の98%);
平均粒度:51μm(Mettler−Toledo社のFBRM−粒度分析装置);
金属含有率:99%(ガス容量で);
NMP中での安定性、含水量167ppm:80℃で15時間安定;100℃では数分後に暴走;
Si含有率:0.70質量%。
アルゴンで不活性化された、分散撹拌装置を備えた乾燥した2Lのステンレス鋼−ジャケット付き反応器中に、396gのShellsol(R)D100及び19.1gのリチウム金属ロッド片を初めに装入した。このリチウムは40ppmのナトリウム含量を有していた。弱い撹拌下に(約50rpm)、ジャケット加熱によって、内部温度を210℃に上げ、分散機を用いて金属エマルジョンを製造する。次いで、THFに溶解されたLiBOBの30%溶液6.1gを、約4分以内に噴霧器を用いて加える。添加の間、強いせん断作用により撹拌する。その後、撹拌装置を止めて、懸濁液を室温に冷却する。
懸濁液をガラス製の吸引漏斗で分け、フィルター残渣を数回ヘキサンで洗浄して油を取り除き、次いで真空乾燥する。
収率:20.5g(理論値の107%);
平均粒度:43μm(Mettler−Toledo社のFBRM−粒度分析装置);
金属含有率:96%(ガス容量で);
NMP中での安定性、含水量167ppm:80℃で15時間安定;100℃では4時間後に暴走。
アルゴンで不活性化された、分散撹拌装置を備えた乾燥した2Lのステンレス鋼−ジャケット付き反応器中に、435gのShellsol(R)D100及び19.6gのリチウム金属ロッド片を初めに装入した。このリチウムは17ppmのナトリウム含量を有していた。弱い撹拌下に(約50rpm)、ジャケット加熱によって、内部温度を210℃に上げ、分散機を用いて金属エマルジョンを製造する。次いで、20mlのSchellsol(R)D100に溶解された2.7gのトリイソプロピルボレートを、約10分以内に噴霧器を用いて加える。添加の間、強いせん断作用により撹拌する。その後、撹拌装置を止めて、懸濁液を室温に冷却する。
懸濁液をガラス製の吸引漏斗で分け、フィルター残渣を数回ヘキサンで洗浄して油を取り除き、次いで真空乾燥する。
収率:19.4g(理論値の99%);
平均粒度:125μm(Mettler−Toledo社のFBRM−粒度分析装置);
金属含有率:97%(ガス容量で);
NMP中での安定性、含水量167ppm:80℃で15時間安定;100℃で15時間安定;120℃では数分後に暴走;
ホウ素含有率:0.68%。
Claims (9)
- リチウム金属を、元素周期系の第3主族及び第4主族の元素を含有する被膜形成−前駆体と、180.5℃のリチウム溶融温度を超えて、不活性有機溶媒中で接触させることを特徴とする、合金形成元素でコーティングされた安定化されたリチウム金属形状付与物を製造する方法であって、
前記被膜形成−前駆体として、一般式I若しくはIIの1種以上の不動態化剤:
[AR1R2R3R4]Lix (I)、
又はR1R2R3A−O−AR4R5R6 (II)
ここで、
− R1、R2、R3、R4、R5及びR6=互いに無関係に、アルキル(C1〜C12)基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基若しくはハロゲン(F、Cl、Br若しくはI);又は2つの基Rは、一緒になって1,2−ジオラート、1,2−ジカルボキシラート若しくは1,3−ジカルボキシラート又は2−ヒドロキシカルボキシラートジアニオンを意味する;
− R1基〜R6基は、更に別の官能基を含有してよい;
− A=ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ又は鉛;
− x=B、Al、Ga、In又はTlについては、0又は1
− x=Si、Ge、Sn又はPbについては、0;
− x=0かつA=B、Al、Ga、In又はTlの場合、R4は存在しない、を用いる前記方法。 - 1,2−ジオラートが、1,2−エタンジオラートであり、
1,2−ジカルボキシラート若しくは1,3−ジカルボキシラートが、オキサラート若しくはマロナートであり、
2−ヒドロキシカルボキシラートジアニオンが、ラクタート、グリコラート若しくはサリチラートであり、
前記別の官能基が、アルコキシ基であることを特徴とする、請求項1記載の方法。 - リチウム金属と不動態化剤とのモル比が、100:0.01〜100:5であることを特徴とする、請求項1または2記載の方法。
- リチウム金属と不動態化剤とのモル比が、100:0.05〜100:1であることを特徴とする、請求項3記載の方法。
- 不活性有機溶媒として、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トルエン、エチルベンゼン及びクメンから成る群から選択された炭化水素を、純粋な形で又は混合物において用いることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 付加的なコーティングを、180.5℃未満の温度で行うことを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- リチウムバッテリー用の電気化学的に活性な材料を予めリチウム化するために、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法により不動態化されたリチウム金属形状付与物を用いる使用。
- リチウムバッテリー用のグラファイト負極、合金負極又はコンバージョン負極における電気化学的に活性な材料を予めリチウム化するための、請求項7記載の使用。
- リチウムバッテリー用の金属負極を製造するために、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法により不動態化されたリチウム金属形状付与物を用いる使用。
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