JP6279726B2 - メタン化触媒 - Google Patents

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Description

本出願は、シンガポール特許出願SG201305087−7号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
本発明は、触媒分野全般に係る。本発明は、特に、メタン化反応向けの触媒に係る。
1970年代のエネルギー危機の際、代替天然ガス(SNG)の使用が提案された。SNGは、生産にあたって温室効果ガスの排出を低減し、エネルギー及び化学リソースの多様性を増す潜在性を有するため、今日、重要となってきている。ガス化技術と触媒メタン化技術とを組み合わせることにより、石炭、バイオマス、及び廃棄物等の種々の供給原料からSNGを生産することが可能となる。
現在、いくつかの商用SNGプラントが世界的に建設されている。特に、中国における石炭ベースの化学産業において、石炭−SNG技術が新たに注目を集めている。例えば、中国では約15の石炭−SNGプロジェクトが、検討中である。中国は、2015年には約200億Nm/aのSNG容量を保有すると推定される。
SNG生産プロセスを簡単に述べると、以下のとおりである。つまり、石炭及びバイオマス等の原料供給→ガス化→ガス洗浄及び調整→メタン化→燃料アップグレーディングが行われる。
商用SNG生産ステップの1つにメタン化があるが、これは、例えば、石炭、バイオマス、及び廃棄物のガス化に由来する混合ガスからメタンを生成する反応である。従って、メタン化反応向けの触媒として用いるのに十分ロバストであり、高いメタン生成量を確保できる触媒が必要とされている。触媒の硫黄被毒は、触媒分野、より具体的にはメタン化触媒分野における大きな課題であり、硫黄被毒に対する耐性を有す、優れた化学的安定性及び物理的安定性を備えた触媒も必要とされている。さらに、触媒表面での炭素析出(コーキング)は、触媒の活性と選択性の低下をもたらし得るため、耐コーキング性に優れる触媒が必要とされている。
本発明の目的は、少なくとも部分的に上述の要求に応えることである。
本発明者らは、セリア系担体上に担持された、例えば、金属ニッケル等の触媒活性元素を含む触媒が、従来の触媒に比して、供給原料、特に硫黄を含んだ供給原料のメタン化反応向けの触媒に用いられた場合に、触媒性能を非常に改善することを見出した。
そこで第1の態様によると、本発明は、触媒を提供し、担体上に担持された触媒活性元素を備え、担体は、化学式Ce1−xで表され、xは約0〜約0.3であり、好ましくは約0.01〜約0.3であり、Mが存在し、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合にはCe以外の金属元素である。
以下のオプションは、単独で、又は、あらゆる好ましい組み合わせにおいて第1の態様とともに採用されてもよい。
触媒活性元素は、金属であってもよい。この金属は、遷移金属であってもよく、例えば、Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、Ni、及びIrからなる群より選択されてもよい。従って触媒活性元素は、Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、Ni、又はIrであってもよい。特に触媒活性元素は、金属であってもよく、例えば、金属ニッケル、金属コバルト、金属パラジウム、金属白金、金属鉄、金属ロジウム、金属ルテニウム、又は金属イリジウムであってもよい。場合によっては、以上の金属のうちのいずれか2つ以上の混合物又は合金であってもよく、又は以上の金属のうちのいずれか1つとその他の金属との混合物又は合金であってもよい。
担体は、粒子状物質であってもよい。担体の粒子は、約0.5μm未満又は約100nm未満の平均粒径を有してもよい。
化学式Ce1−xで表される担体において、xは、約0.01〜約0.25であってもよく、又は約0.1〜約0.2であってもよい。例えば、化学式Ce1−xで表される担体において、xは、約0.01であってもよく、約0.05であってもよく、約0.1であってもよく、0.15であってもよく、又は約0.2であってもよい。実施形態によっては、x=0である。またx>0であり、選択的に>0.01又は>0.1である実施形態もある。金属元素Mは、ランタノイドであってもよく、遷移金属であってもよく、又はアルカリ土類金属であってもよく、例えば、金属元素は、遷移金属であってもよい。この遷移金属は、Yであってもよい。或いは、金属元素はランタノイドであってもよい。ランタノイドは、Sm及びGdからなる群より選択されてもよい。Smであってもよく、Gdであってもよい。金属元素は、アルカリ土類であってもよく、例えば、Caであってもよい。金属元素は、酸素よりも硫黄に対してより高い親和性を示し、且つ/又は、触媒の硫黄吸着力を向上してもよい。
一実施形態によると、担体は、Ce0.9Sm0.1である。他の実施形態によると、担体は、Ce0.9Gd0.1である。さらに他の実施形態によると、担体は、Ce0.9Ca0.1である。さらに他の実施形態によると、担体は、Ce0.850.15である。さらに他の実施形態によると、担体は、Ce0.85Sm0.15である。
触媒は、担体の表面上に担持された触媒活性元素の領域であり、通常は個別領域すなわち不連続領域を含んでもよい。触媒は、担体の表面に、例えば、均一又は不均一に分散された触媒活性元素を含んでもよい。触媒は、重量で約1〜約40%の触媒活性元素を含んでもよく、例えば、重量で約5〜約20%の触媒活性元素を含んでもよい。担体の比表面積は、約10〜約300m/gであってもよく、例えば、約50〜約300m/gであってもよい。
一実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、Ni、又はIrからなる群より選択され、担体上に担持された触媒活性元素を備え、担体は、化学式Ce1−xで表され、xは約0〜約0.3であり、好ましくは約0.01〜約0.3であり、Mが存在し、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合にはCe以外の金属元素である。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、担体上に担持された金属ニッケルを備え、担体は、化学式Ce1−xで表され、xは約0〜約0.3であり、好ましくは約0.01〜約0.3であり、Mが存在し、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合にはCe以外の金属元素である。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、触媒の重量に対して約1〜約40%であり、金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、Ni、又はIrからなる群より選択され、担体の表面上に担持された触媒活性元素を備え、担体は、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合、化学式CeOで表され、担体は粒子状物質であり、粒子は約0.5μm未満の平均粒径を有する。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、Ni、又はIrからなる群より選択され、担体上に担持された触媒活性元素を備え、担体は、化学式Ce1−xで表され、xは、約0.1〜約0.3であり、Mは、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合、ランタノイド、遷移金属、及びアルカリ土類金属からなる群より選択される金属元素である。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、担体上に担持された触媒活性元素の個別領域を備え、担体は、化学式Ce1−xで表され、xは、約0.1〜約0.3であり、Mは、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合、Y、Sm、Gd、及びCaからなる群より選択される金属元素である。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、担体上に担持された触媒活性元素を備え、担体は、化学式Ce1−xで表され、xは、約0.1〜約0.3mmであり、Mは、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合、触媒の硫黄吸着力を向上させる金属元素であり、担体は、約10〜約300m/gの比表面積を有し、担体は粒子状物質であり、粒子は約0.5μm未満の平均粒径を有する。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、触媒の重量に対して約1〜約40%である触媒活性元素を備え、触媒活性元素は、担体の表面上の個別領域に担持された金属ニッケルであり、担体は、化学式Ce1−xで表され、xは、約0.1〜約0.3であり、Mは、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合、ランタノイド、遷移金属、及びアルカリ土類金属からなる群より選択され、担体は粒子状物質であり、粒子は約0.5μm未満の平均粒径を有する。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、担体上に担持された金属ニッケルを備え、担体は化学式Ce0.90.1(すなわち、xは0.1である)で表され、Mは、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合、Y、Sm、Gd、及びCaからなる群より選択される金属元素である。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、触媒の重量に対して約1〜約40%であり、担体の表面上に担持された金属ニッケルを備え、担体は、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合、化学式Ce0.9Gd0.1(すなわち、xは0.1である)で表され、担体は、約10〜約300m/gの比表面積を有し、担体は粒子状物質であり、粒子は約0.5μm未満の平均粒径を有する。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、担体上に担持された金属ニッケルを備え、担体は、化学式Ce1−xCaで表され、xは、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合、約0.01〜約0.3である。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、担体上に担持された金属ニッケルを備え、担体は、化学式Ce1−xGdで表され、xは、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合、約0.01〜約0.3である。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、触媒の重量に対して約1〜約40%であり、担体の表面上に担持された金属ニッケルを備え、担体は、メタン化反応向けの触媒に用いられる際、化学式Ce0.9Ca0.1(すなわち、xは0.1である)で表され、担体は、約10〜約300m/gの比表面積を有し、担体は粒子状物質であり、粒子は約0.5μm未満の平均粒径を有する。
他の実施形態によると、本発明は、触媒を提供し、触媒の重量に対して約1〜約40%であり、担体の表面上に担持された金属ニッケルを備え、担体は、メタン化反応向けの触媒に用いられる際、化学式Ce0.9Sm0.1(すなわち、xは0.1である)で表され、担体は、約10〜約300m/gの比表面積を有し、担体は粒子状物質であり、粒子は約0.5μm未満の平均粒径を有する。
本発明の第2の態様によると、メタン化反応向けの触媒への、第1の態様に係る触媒の使用を提供する。
一実施形態によると、本発明は、触媒の使用を提供し、触媒は、その重量に対して約1〜約40%であり、金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、Ni、及びIrからなる群より選択され、担体の表面上に担持された触媒活性元素を備え、担体は、化学式Ce1−xで表され、xは、約0.1〜約0.3であり、Mは、ランタノイド、遷移金属、及びアルカリ土類金属からなる群より選択されるメタン化反応向けの触媒のための金属元素である。
他の実施形態によると、本発明は、触媒の使用を提供し、触媒は、担体上に担持された金属ニッケルを備え、担体は、化学式Ce0.90.1(すなわち、xは0.1である)で表され、Mは、Y、Sm、Gd、及びCaからなる群より選択されるメタン化反応向けの触媒のための金属元素である。
本発明の第3の態様によると、第1の態様に係る触媒の使用を提供し、使用は、一酸化炭素及び水素を含む混合ガス内の一酸化炭素含有量を低減することを目的とする。
本発明の第4の態様によると、一酸化炭素及び水素を含む供給原料をメタン化する方法を提供し、供給原料を、第1の態様に係る触媒に接触させるステップを備える。
以下のオプションは、個別に、又は、あらゆる好適な組み合わせにおいて第4の態様とともに採用されてもよい。
供給原料はさらに、二酸化炭素ガスを含んでもよい。供給原料はさらに、蒸気を含んでもよい。供給原料は、石炭ガス化ガス及びバイオマスガス化ガスを含んでもよい。或いは、供給原料は、石炭ガス化ガス又はバイオマスガス化ガスを含んでもよい。
供給原料はさらに、硫黄含有ガス又はガス化ガスを含んでもよい。硫黄含有ガス又はガス化ガスは、約0.1〜約5000ppmの濃度で存在してもよい。硫黄含有ガス又はガス化ガスは、硫化水素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、及び有機チオールのうちのいずれか1つ以上を含んでもよい。
供給原料中の水素対一酸化炭素のモル比は、約4:1〜約1:1であってもよい。
接触させるステップは、供給原料を、触媒を含む充填層反応器に通すステップを備えるか、又は、供給原料を流動床反応器に通すステップを備えてもよい。接触させるステップの際の供給原料の圧力は、約1〜約40バールであってもよい。接触させるステップは、少なくとも約250度の温度で実施されてもよい。接触させるステップは、約250〜約750度の温度で実施されてもよい。接触させるステップの際の温度及び供給原料の流量、例えば、ガス空間速度は、酸化炭素のメタンへの変換平衡を達成するのに十分であってもよい。
供給原料の流量、例えば、ガス空間速度(GHSV)は、約1000〜約100000h−1であってもよい。
一実施形態によると、本発明は、一酸化炭素及び水素を含む供給原料のメタン化方法を提供し、方法は、供給原料を、第1の態様に係る触媒に接触させるステップを備え、供給原料はさらに、約0.1〜5000ppmの濃度で硫黄含有ガス又はガス化ガスを含み、接触させるステップは、少なくとも約250度の温度で実施される。
他の実施形態によると、本発明は、一酸化炭素、水素、及び二酸化炭素を含む供給原料のメタン化方法を提供し、方法は、供給原料を、第1の態様に係る触媒に接触させるステップを備え、供給原料はさらに、約0.1〜5000ppmの濃度で存在する硫黄含有ガス又はガス化ガスを含み、接触させるステップは、約250〜約750度の温度で実施される。
他の実施形態によると、本発明は、一酸化炭素及び水素を含む供給原料のメタン化方法を提供し、供給原料における水素対一酸化炭素のモル比は、約4:1〜約1:1であり、方法は、供給原料を、第1の態様に係る触媒に接触させるステップを備え、供給原料はさらに、約0.1〜約5000ppmの濃度で存在する硫黄含有ガス又はガス化ガスを含み、接触させるステップは、約250〜約750度の温度で実施され、接触させるステップの際の供給原料の圧力は、約1〜約40バールである。
他の実施形態によると、本発明は、一酸化炭素及び水素を含む供給原料のメタン化方法を提供し、方法は、供給原料を、担体上に担持された金属ニッケルを含む触媒に接触させるステップを備え、担体は、化学式Ce1−xで表され、xは約0.1〜約0.3であり、Mはランタノイド、遷移金属、及びアルカリ土類金属からなる群より選択される金属元素であり、供給原料は、石炭ガス化ガス又はバイオマスガス化ガスを含み、さらに約0.1〜約5000ppmの濃度で硫黄含有ガス又はガス化ガスを含む。
他の実施形態によると、本発明は、一酸化炭素及び水素を含む供給原料のメタン化方法を提供し、方法は、供給原料を、担体上に担持された金属ニッケルを含む触媒に接触させるステップを備え、担体は化学式Ce0.90.1(すなわち、xは0.1である)で表され、Mは、Sm、Gd、及びCaからなる群より選択される金属元素であり、担体は、約10〜約300m/gの比表面積を有し、担体は粒子状物質であり、粒子は約0.5μm未満の平均粒径を有し、供給原料は、石炭ガス化ガス又はバイオマスガス化ガスを含み、さらに約0.1〜約5000ppmの濃度で硫黄含有ガス又はガス化ガスを含む。
本発明の第5の態様によると、本発明は、一酸化炭素及び水素を含む混合ガス内の一酸化炭素含有量を低減するための方法を提供し、方法は、供給原料を、第1の態様に係る触媒に接触させるステップを備える。
本発明の第6の態様によると、化学式Ce1−xで表される担体の使用を提供し、xは約0〜約0.3であり、好ましくは約0.01〜約0.3であり、Mが存在する場合、Ce以外の金属元素であり、硫黄含有ガス又はガス化ガスによる触媒活性元素の被毒を低減することを目的とする。
本発明の第7の態様によると、硫黄含有ガス又はガス化ガスによる触媒活性元素の被毒を低減するための方法を提供し、方法は、触媒活性元素を担体に蒸着するステップを備え、担体は、化学式Ce1−xで表され、xは約0〜約0.3であり、好ましくは約0.01〜約0.3であり、Mが存在する場合、Ce以外の金属元素である。
以下のオプションは、個別に、又は、あらゆる好適な組み合わせにおいて第7の態様とともに採用されてもよい。
蒸着するステップは、触媒活性元素の硫黄含有ガス又はガス化ガスへの接触に先立って実施されてもよい。蒸着するステップは、触媒活性元素が担体の個別領域に存在するように実施されてもよい。
本発明の好適な実施形態を、例示のみを目的とし、添付の図面を参照して以下に説明する。
従来既知の触媒(Ni/Al)との比較において、本発明に係る触媒(Ni/Ce0.9Gd0.1、Ni/Ce0.9Ca0.1、Ni/Ce0.850.15、Ni/Ce0.85Sm0.15)の長期安定性試験の結果を示している。メタン濃度の変化が、時間経過の関数としてプロットされている。供給原料の組成として、10%のHO、10%のN、40%のH、20%のCO、16%のCO、4%のCH、20ppmのHSからなり、T=500度、SV=20000h−1である。
使用済みの5%Ni/Al(左側)と5%Ni/Ce0.9Gd0. (右側)との正のSIMSスペクトルを示している。
使用済みの5%Ni/Ce0.9Gd0.1の正のSIMSスペクトルを示している。
Ni/CeO(上側)及びNi/Al(下側)の、HS存在下における合成ガスのメタン化について提案の反応メカニズムを示している。
(a)は、焼成5%Ni/Ce0.9Ca0.1と、(b)は、20ppmのHS内で5時間メタン化した後の、使用済みの5%Ni/Ce0.9Ca0.1と、(c)は、500度で100ppmのHSに16時間接触したCe0.9Ca0.1と、(d)は、還元後、500度で100ppmのHSに16時間接触した5%Ni/Ce0.9Ca0.1とのCa 2p XPSスペクトルを示している。
(a)は、Ce0.9Ca0.1と、(b)は、500度で100ppmのHSに16時間接触した、還元済みの5%Ni/Ce0.9Ca0.1とのS 2p XPSスペクトルである。
本出願での使用において、単数の形態で記した場合でも、文脈上、明記の無い限り、複数表現も含むものとする。例えば、「触媒」という表現は、複数の触媒をも意味するものとする。
本明細書での使用において、用語「備える」は「含む」を意味する。「備えた」等、「備える」という言葉の活用形は、対応の意味を有する。本明細書での使用において、用語「含む」及び「備える」は、非排他的である。従って、例えば、供給原料が一酸化炭素及び水素を「含んだ」供給原料は、排他的に一酸化炭素及び水素からなってもよく、或いは、1つ以上の追加成分(例えば、二酸化炭素)を含有してもよい。同様に、方法が、供給原料を触媒に接触させるステップを「備える」ということは、排他的に供給原料を触媒に接触させるステップからなってもよく、或いは、1つ以上の追加ステップ(例えば、供給原料の分析ステップ)を有してもよい。本明細書での使用において、用語「含む」及び「備える」は、特定の整数が全体の主要部分を表していることを暗示しない。
本明細書での使用において、用語「複数の」は、1を越える数を意味する。特定の態様又は実施形態において、複数とは、2、3、4、5、6、7、8、9、10、15、20、30、40、50、10、10、10、10、10、10、10、10、1010、1011、1012、1013、1014、1015、1016、1017、1018、1019、1020、又はそれ以上を意味し、あらゆる整数及びあらゆる範囲を導き出すことができる。
本明細書での使用において、用語「メタン化」及び「メタン化反応」とは、メタンを生成する反応をいい、特に、これらの用語は、水素と、一種以上の炭素の酸化物との間でメタンを形成する反応をいう。従って、用語「メタン化」及び「メタン化反応」とは、一酸化炭素と水素との間でメタンと水とを形成する反応を意味してもよく、或いは、二酸化炭素と水素との間でメタンと水とを形成する反応を意味してもよく、或いは、これら両反応の組み合わせを意味してもよい。
本明細書での使用において、用語「触媒活性元素」は、触媒能力を有すると認識されるあらゆる要素を意味してもよい。例えば、メタン化反応を触媒することのできる要素を意味してもよい。本明細書での使用において、用語「金属ニッケル」、「金属コバルト」、「金属パラジウム」等は、例えば、元素状態におけるニッケル、コバルト、又はパラジウム等の金属をいう(すなわち、Ni(0)、Co(0)、Pd(0)等)。
本明細書での使用において、x%金属/Ce1−xという呼称、例えば、5%Ni/Ce0.9Ca0.1は、化学式Ce1−xで表される担体の表面上に、重量でx%の金属、例えばNiが担持又は分散されていることを意味すると理解される。
本明細書において、数値を引用する際に用いられる用語「約」は、引用した数値と、引用した数値の±10%の数値とが含まれると理解されるであろう。用語「約0」は、ちょうど「0」〜約0.01の範囲を意味してもよい。
数値範囲をいう際に用いられる用語「〜」は、範囲の各終点の数値を含むものと理解されるであろう。例えば、250〜750度の温度は、250度の温度と750度の温度とを含む。
本明細において言及する文書はすべて、指摘の無い限り、説明を目的とし、参照としてここに援用する。
本発明は、メタン化反応向けの触媒に用いられる場合、担体上に担持された金属Ni、若しくは金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrを含む、触媒活性元素系メタン化触媒を提供するものである。基盤は、化学式Ce1−xで表され、xは約0〜約0.3であり、好ましくは約0.01〜約0.3であり、Mが存在する場合、Ce以外の金属元素である。本発明者らは、これらの触媒がメタン化反応向けの触媒に用いられると、硫黄耐性を向上するため、例えば、硫黄含有供給原料とともに用いる際、有利に適合されることを見出した。
以下の詳細な説明は、当分野で通常の知識を有する者が本発明を実施することができるように、本発明の一例としての実施形態を十分詳細に伝えるものである。記述した種々の実施形態の特徴又は限定は、必ずしも、本発明の他の実施形態又は本発明を全体として限定するものでない。従って、以下の詳細な説明は、本発明の範囲を限定するものでなく、本発明の範囲は請求項のみによって定義される。
[メタン化]
本明細書で言及するメタン化反応には、炭素の酸化物と水素、例えば、一酸化炭素と水素とを含む供給原料からのメタンの生成が含まれる。化学反応式は、式1によって表されてもよい。
CO+3H→CH+HO …式1
式1のメタン化反応は、蒸気でメタンを再形成する逆反応である。
さらに二酸化炭素の存在下では、メタン化反応により、式2のようにメタンを生成してもよい。
CO+4H→CH+2HO …式2
[触媒]
本発明に係る触媒の担体は、粒子状物質であってもよい。担体の粒子は、顕微鏡使用、光散乱、又は、当業者にとって既知のその他の好適な粒径測定方法等の技術を用いて測定した、既知の平均粒径を有してもよい。担体の粒子の形状は、球状、針状、平坦形状、フレーク状、角錐台状、多面体状、繊維状、不規則形状、回転楕円体状、又は粒状であってもよい。本明細書での使用において、用語「平均粒径」は、複数の粒子の平均直径、例えば、複数の粒子の平均流体力学直径を意味してもよく、複数の粒子の最小直径と最大直径との全体平均と理解されてもよく、或いは、用語「平均粒径」は、単一の粒子の最小直径及び最大直径の平均を意味してもよい。例えば、担体の粒子は、約0.5μm未満、約0.4μm未満、約0.3μm、約0.2μm、約0.1μm(すなわち、約100nm)、約90nm、約80nm、約70nm、約60nm、又は約50nm未満の平均粒径を有してもよい。担体の粒子は、約0.5〜約0.1μm、約0.25μm〜75nm、又は約100nm〜約10nmの平均粒径を有してもよい。担体の粒子は、約0.4μm、約0.3μm、約0.2μm、約0.1μm(すなわち、約100nm)、約90nm、約80nm、約70nm、約60nm、又は約50nmの平均粒径を有してもよい。
化学式Ce1−xで表される担体において、xは、約0〜約0.3であってもよい。例えば、xは、約0〜約0.1であってもよく、約0.01〜約0.1であってもよく、約0.05〜約0.25であってもよく、約0.1〜約0.3であってもよく、約0.1〜約0.2であってもよく、又は約0.01〜約0.25であってもよい。例えば、xは、0、約0.01、約0.05、約0.1、約0.15、約0.2、約0.25、又は約0.3であってもよい。xが0であれば、担体は化学式CeOで表される。xが0.1であれば、担体は化学式Ce0.90.1で表され、MはCe以外の金属元素である。化学式Ce1−xで表され、xが約0.01〜約0.3であり、Mが存在する場合、Ce以外の金属元素である担体は、従来既知のいかなる好適な方法を用いて合成されてもよい。化学式Ce1−xで表される材料は、Ce(IV)イオンとMイオンとをいかなる好適な酸化状態で含んでもよく、例えばGd(III)、Ca(II)等が挙げられる。当業者は、購入可能な材料、又は化学式Ce1−xで表されるその他の材料が、CeO−M(Mは、いかなるM3+イオンであってもよく、例えばGd又はSmである)、又はCeO−MO(Mは、いかなるM2+イオンであってもよく、例えばCaである)、又は1つ以上の金属元素Mのセリアへのドーピングを意味するM:CeOとして参照又は販売されることがあることを理解するであろう。また、化学式Ce1−xで表される材料が、荷電平衡を維持するため、例えば、酸素空孔等の空孔を備えてもよいことも理解するであろう。Mが(+IV)未満の酸化状態を有する材料において、(Ce+M):Oの比率は実際のところ1:2から変化し、例えば、(Ce+M):Oの比率は約1:1.95、約1:1.9、又は約1:1.85等となることもあるが、便宜上、本明細書では、このような材料を化学式Ce1−xで表されるものとして記述する。いくつかの実施形態において、化学式Ce1−xで表される担体は、酸素空孔が存在するが故、これらの材料の電荷平衡化学量論を表すため、例えば、Ce1−x2−yであり、0≦y<0.5であるとして表現されてもよい。「y」の値は、約0〜約0.5、約0〜約0.1、約0〜約0.2、約0.1〜約0.3、約0〜0.05、約0.001〜約0.05、約0.001〜約0.01、約0.001〜約0.5、又は約0.3〜約0.5であってもよい。「y」の値は、例えば、約0、0.001、0.002、0.005、0.01、0.02、0.05、0.1、0.15、0.2、0.25、0.3、0.35、0.4、0.45、又は0.5であってもよい。
化学式Ce1−xで表される担体において、Mが存在する場合、金属元素であってもよい。いかなる好適な金属が選択されてもよく、例えば、金属元素は、ランタノイド、遷移金属、又はアルカリ土類金属であってもよい。従って金属元素は、遷移金属であってもよく、例えば、Yであってもよい。金属元素は、ランタノイドであってもよく、例えば、Sm又はGdであってもよく、或いはSmとGdとの混合物であってもよい。金属元素は、アルカリ土類金属であってもよく、例えば、Caであってもよい。金属元素は、2つ以上の金属元素の混合物であってもよく、例えば、化学式Ce1−xは、化学式Ce1−x−n で表されてもよく、xとnの和が約0.01〜約0.3であってもよく、MとMは各々、独立して、ランタノイド、遷移金属、及びアルカリ土類金属からなる群より選択される。この利点として、1つ以上の金属元素が、触媒の硫黄吸着力を向上し、且つ/又はCe1−x材料における酸素移動度を増す。さらにこの1つ以上の金属元素は、酸素より硫黄に対して高い親和性を有していてもよい。
本明細書で説明する触媒は、担体の表面上に担持された触媒活性元素の領域を備えてもよい。例えば、本明細書で説明する触媒は、担体の表面上に担持された金属Ni、又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrの領域を備えてもよい。少なくとも1つに触媒を含む、触媒金属の混合物が用いられてもよい。この触媒は、追加又は代替として、担体の表面に分散された触媒活性元素を備えてもよい。例えば、本明細書で説明する触媒は、担体の表面に分散された金属Ni、又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrの領域を備えてもよい。本明細書において用いる用語「領域」は、担体の表面に担持又は分散された触媒活性元素の個別エリアを意味してもよく、例えば、金属Ni、又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrの不連続、非隣接エリアを意味してもよく、例えば、顕微鏡使用等の従来既知の好適な方法を用いて観察した際の、担体の表面に担持又は分散された触媒活性元素の連続領域を意味してもよく、例えば、金属Ni、又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrの相互接続エリア又は隣接エリアを意味してもよい。
担体の表面に担持又は分散された触媒活性元素は、粒子状物質であってもよい。従って、触媒活性元素の領域は、例えば、金属ニッケル、又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrの粒子を含んでもよく、或いは、例えば、金属ニッケル、又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrの複数の粒子を含んでもよい。触媒活性元素の領域が、金属ニッケル、又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrの複数の粒子を含む場合、金属ニッケル、又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrの粒子は、担体の表面上の領域全体に亘って、均一又は略均一に担持又は分散されてもよく、或いは、担体の表面の領域全体に亘って、不均一に担持又は分散されてもよく、この領域については以上の段落で述べたとおりである。従って、用語「領域」は、担体の表面上に担持された1つ以上の金属ニッケル、又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrの粒子を含んでもよく、或いは、担体の表面に分散された2つ以上の金属ニッケル、又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrの粒子を含んでもよい。
触媒粒子の形状は、球状、針状、平坦形状、フレーク状、角錐台状、多面体状、繊維状、不規則形状、回転楕円体状、又は粒状であってもよい。触媒活性元素の粒子は、約2〜約100nm、約2〜約10nm、約10〜約40nm、約20〜約50nm、約30〜約60nm、約50〜約80nm、又は約70〜約100nmの平均粒径を有してもよく、例えば、約2nm、約5nm、約10nm、約20nm、約40nm、約60nm、約80nm、又は約100nmの平均粒径を有してもよい。触媒活性元素の粒子が球状で無い場合、粒子の直径は、流体力学直径と理解されてもよく、粒子の最小直径(例えば、厚さ)と理解されてもよく、粒子の最大直径(例えば、長さ)と理解されてもよく、或いは、粒子の平均直径と理解されてもよい。触媒活性元素の粒子の粒径は、透過電子顕微鏡法及びX線粉末回折を含む、確立された技術を用いて判定されてもよい。触媒活性元素は、いかなる好適な合成方法を用いて担体に担持又は分散されてもよく、例えば、Ni(NOO等のニッケル塩、又はその他のCo、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIr等の好適な塩を用いた従来の湿式含浸法を行った後、例えば、温度を上昇させた水素雰囲気下において、金属ニッケル又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrをin−situで還元することにより、担持又は分散されてもよい。
他の実施形態によると、担体は、粒子状物質でなく、一体構造であってもよい。このような実施形態によると、担体の表面上に担持された、例えば、金属Ni若しくは金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIr等の触媒活性元素の領域は、一体構造の担体上において、触媒活性元素の1つ以上の層(任意で、不連続層)の形態を採ってもよく、触媒活性元素の1つ以上の筋の形態を採ってもよい。触媒活性元素の層又は筋は、上述のとおり、触媒活性元素の粒子を含んでもよい。
触媒は、重量で約1〜約40%の触媒活性元素、例えば、金属Ni、又は金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrを備えてもよい。例えば、触媒は、重量で、約1〜約10%の金属ニッケルを備えてもよく、若しくは約5〜20%、約10〜30%、又は約30〜40%の金属ニッケルを備えてもよく、例えば、触媒は、重量で、約1%、約5%、約8%、約10%、約12%、約14%、約16%、約18%、約20%、約25%、約30%、約35%、又は約40%の金属ニッケルを備えてもよい。他の実施形態によると、触媒は、重量で、約1〜約40%の金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrを備えてもよく、例えば、重量で、約1〜約10%、約5〜20%、約10〜30%、約30〜40%の金属Co、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、又はIrを備えてもよい。材料中の金属含有量の好適な測定方法は、従来既知である。
触媒は、触媒の1グラム当たりの触媒活性元素をmの単位で測定した際、約0.1〜約3.0m/g、約0.1〜約1.5m/g、約1〜約2m/g、又は約2〜約3m/gの金属表面積を有してもよい。例えば、触媒の1グラム当たりの金属表面積は、約0.1m/g、約0.5m/g、約1.0m/g、約1.5m/g、約2.0m/g、約2.5m/g、又は約3.0m/gであってもよい。触媒は、金属の1グラム当たりの金属触媒活性元素をmの単位で測定した際、約5〜50m/g、約5〜約20m/g、約20〜約35m/g、又は約30〜約50m/gの金属表面積を有してもよい。例えば、金属の1グラム当たりにおいてmの単位で表される金属表面積は、約5m/g、約10m/g、約15m/g、約20m/g、約25m/g、約30m/g、約35m/g、約40m/g、約45m/g、又は約50m/gであってもよい。
担体の比表面積は、例えば、従来既知のBET法を用いて測定した際、約10〜約300m/gであってもよい。例えば、担体の比表面積は、約10〜約100m/g、約50〜約300m/g、約100〜約200m/g、約200〜約300m/g、又は約150〜250m/gであってもよく、例えば、担体の比表面積は、約10m/g、約50m/g、約75m/g、約100m/g、約125m/g、約150m/g、約175m/g、約200m/g、約225m/g、約250m/g、約275m/g、又は約300m/gであってもよい。
[使用]
「触媒」の見出しの欄に上述した本発明に係る触媒は、メタン化反応向けの触媒に用いられてもよい。
「触媒」の見出しの欄に上述した本発明に係る触媒は、一酸化炭素及び水素を含む混合ガスの一酸化炭素含有量を低減するために用いられてもよい。
「触媒」の見出しの欄に上述した、化学式Ce1−xで表され、xは約0〜約0.3であり、好ましくは約0.01〜約0.3であり、Mが存在する場合にはCe以外の金属元素である担体は、硫黄含有ガス又はガス化ガスによる触媒活性元素の被毒を低減するために用いられてもよい。
[方法]
本発明によると、一酸化炭素及び水素を含む供給原料をメタン化する方法を提供し、この方法は、供給原料を、「触媒」の見出しの欄に上述した触媒と接触させるステップを備える。また一酸化炭素及び水素を含む混合ガスの一酸化炭素含有量を低減する方法も提供し、この方法は、供給原料を、「触媒」の見出しの欄に上述した触媒と接触させるステップを備える。
本発明の方法に投入される供給原料は、分子状水素及び一酸化炭素を含んでもよい。供給原料はさらに、他のガス又はガス化ガスを含んでもよく、例えば、二酸化炭素ガス、蒸気(すなわち、水蒸気)、分子状窒素、メタン、又は以上のガス又はガス化ガスのうちのいずれか2つ以上の混合物を含んでもよい。供給原料における分子状水素対一酸化炭素のモル比は、約4:1〜約1:1、約4:1〜約3:1、約4:1〜約2:1、約3:1〜約2:1、又は約3:1〜約1:1であってもよく、例えば、供給原料における分子状水素対一酸化炭素のモル比は、約4:1、約3.5:1、約2.5:1、約2:1、約1.5:1、又は約1:1であってもよい。この比率は、供給原料の種類や製造工程に応じて決まってもよい。混合ガス中の一酸化炭素の濃度は、約10〜約40%、約10〜30%、20〜40%、又は20〜30%であってもよく、例えば、約10%、15%、20%、25%、30%、35%、又は40%であってもよい。このパーセンテージは、質量によって表されるものであってもよい。
本発明の方法に投入される供給原料は、石炭ガス化ガス、バイオマスガス化ガス、又はこれら双方の混合物を含んでもよく、或いは基本的にこれらから構成されてもよい。石炭ガス化ガスは、酸素、蒸気(水蒸気)、及び熱の存在下において、石炭及び/又は褐炭又は石油コークスのガス化を行った生成物であってもよく、任意で、石炭ガス化プロセスの副産物を含んでもよい。バイオマスガス化ガスは、例えば、果実、花、穀物、草、草本作物、麦わら、スイッチグラス、ヤナギ、サトウキ搾りカス、綿実の毛、葉、樹皮、針葉、幹、根、若木、短期輪作木質作物、潅木、スイッチグラス、木及びつるを含む木材植物若しくはそのペレット又はチップの形態の要素、繊維植物又はその要素と、穀物又は穀物加工で発生する廃棄物(例えば、小麦又はオート麦の外皮、とうもろこしの粒等)、木製品、製材及び製紙で排出されるごみ及び切り屑、鋸塵、及び削片板からの廃棄物又は副産物ストリーム、又は木材関連材料、木材廃棄物、例えば、パルプ、紙(例えば、新聞紙)、製紙スラッジ、ボール紙、布地及び生地、デキストラン、及びレーヨン等の工業製品からの廃棄物又は副産物ストリーム、農業作物又は農業作物残渣、下水スラッジ、都市廃棄物、及び/又はプラスチック等の好適なバイオマスを、酸素、蒸気(水蒸気)、及び熱の存在下においてガス化した生産物であってもよく、任意でバイオマスガス化プロセスの副産物を含んでもよい。
以上の段落に述べた供給原料はさらに、硫黄含有ガス又はガス化ガスを含んでもよい。硫黄含有ガスは、少なくとも約0.1ppmの総濃度で存在してもよく、或いは、少なくとも約0.2ppm、0.3ppm、0.4ppm、0.5ppm、1ppm、2ppm、3ppm、4ppm、5ppm、10ppm、15ppm、20ppm、25ppm、30ppm、35ppm、40ppm、45ppm、50ppm、60ppm、70ppm、80ppm、90ppm、100ppm、200ppm、300ppm、400ppm、500ppm、1000ppm、1500ppm、2000ppm、2500ppm、3000ppm、3500ppm、4000ppm、4500ppm、又は5000ppm、或いは、約0.1〜約5000ppm、約1〜約50ppm、約20〜約80ppm、約50〜約100ppm、約100〜約500ppm、約500〜約100ppm、約1000〜約2000ppm、約2000〜約3000ppm、約3000〜約4000ppm、又は約4000〜5000ppm、或いは、約0.1ppm、0.2ppm、0.3ppm、0.4ppm、0.5ppm、1ppm、2ppm、3ppm、4ppm、5ppm、10ppm、15ppm、20ppm、25ppm、30ppm、35ppm、40ppm、45ppm、50ppm、60ppm、70ppm、80ppm、90ppm、100ppm、200ppm、300ppm、400ppm、500ppm、1000ppm、1500ppm、2000ppm、2500ppm、3000ppm、3500ppm、4000ppm、4500ppm、又は5000ppmの総濃度で存在してもよい。硫黄含有ガスは、硫化水素であってもよく、硫化カルボニルであってもよく、有機チオール(例えば、メタンチオール、エタンチオール、チオフェノール等)であってもよく、例えば、二酸化硫黄等の硫黄の酸化物であってもよく、以上のうちのいずれか2つ以上の混合物であってもよい。本発明によると、硫黄含有ガスのppmは質量で表されるものとし、すなわち、空気1リットル当たりのガスのマイクロリットルを意味するものと理解される(μL/L)。
以上の段落に述べた供給原料は、供給原料の組成、特に、例えば、水素ガス、一酸化炭素、二酸化炭素、硫黄含有ガス、蒸気(すなわち、水蒸気)、分子状窒素、メタン等の存在するガスの濃度を判定するために、供給原料を本発明に係る触媒に接触させるステップに先立って分析されてもよい。これらのガスのうちのいずれか1つ以上の濃度は、これら1つ以上のガスから一部又は全部を除去することにより、又はこれら1つ以上のガスの濃度を、好適な製造工程から取得した、又は、好適な製造工程に由来する追加ガスで補完することにより、変化することがある。例えば、バイオマスガス化ガス又は石炭ガス化ガスに由来する供給原料内の水素対一酸化炭素の比率が約2:1であり、本発明に係る方法において、水素対一酸化炭素の比率が3:1であることが望ましい場合、供給原料を触媒に接触させるステップに先立って追加の水素ガスを供給原料に添加してもよい。
本発明に係る方法によると、接触させるステップは、供給原料を、触媒を含んだ充填層反応器に通すステップを備えてもよく、反応器内に担持された触媒の上方又は触媒内を通過させてもよい。反応器には、直列又は並列に担持された1つ以上(例えば、1つ、2つ、3つ、4つ、又は5つの)充填反応床が含まれてもよい。充填層反応器又は反応器は、等温又は断熱の条件下で作動してもよい。触媒は、床、ロッド、又はプレート内に担持されてもよく、反応容器の内面又はその他の面に塗布されてもよい。触媒は、ハニカム触媒構造、多孔質金属触媒構造、又はセラミックマトリクス触媒構造のうちのいずれか1つ以上に塗布されてもよい。接触させる方法は、代替として、触媒を含んだスラリーを通して供給原料を発泡させるステップを含んでもよく、又は触媒を含んだ流動床反応器に供給原料を通すステップを含んでもよい。
接触させるステップの際、供給原料は、約1〜約40バール、約1〜約5バール、約5〜約10バール、約5〜約20バール、約10〜約25バール、約20〜約35バール、又は約25〜40バールの圧力下にあってもよく、例えば、供給原料は、約1バール、2バール、3バール、3.5バール、4バール、5バール、6バール、7バール、8バール、9バール、10バール、15バール、20バール、25バール、30バール、35バール、又は40バールの圧力下にあってもよい。供給原料の流量、例えば、ガス空間速度は、 約1000〜約10000h−1、約10000〜約50000h−1、又は約50000〜約100000h−1であってもよく、例えば、約1000h−1、約5000h−1、約10000h−1、約20000h−1、約30000h−1、約40000h−1、約50000h−1、約60000h−1、約70000h−1、約80000h−1、約90000h−1、又は約100000h−1であってもよい。場合によっては、他の流量が用いられてもよい。これらの流量は、空間速度(SV:容積流量/触媒容積)又はガス空間速度(GHSV:反応ガス流量/触媒容積)であってもよい。接触させるステップは、少なくとも約250度の温度で実施されてもよく、又は少なくとも約300度、350度、400度、450度、500度、550度、又は600度で実施されてもよく、250〜約750度、約250〜約400度、約350〜600度、又は約500〜約750度で実施されてもよく、例えば、約400度、約450度、約500度、約550度、約600度、約650度、約700度、又は約750度で実施されてもよい。接触方法の際の温度及び供給原料の流量は、一酸化炭素のメタンへの変換平衡、若しくは少なくとも約50%、少なくとも60%、少なくとも70%、少なくとも80%、又は少なくとも90%の一酸化炭素のメタンへの変換平衡を達成するのに十分となるよう、選択されてもよい。
本明細書に開示のとおり、一酸化炭素及び水素を含む混合ガスの一酸化炭素含有量を低減する方法を提供し、この方法は、供給原料を、「触媒」の見出しの欄に上述した触媒に接触させるステップを備える。混合ガスは、一酸化炭素及び分子状水素に加えていかなるガスを含んでもよく、例えば、二酸化炭素ガス、蒸気(すなわち、水蒸気)、分子状窒素、メタン、又はこれらのうちの2つ以上の混合物を含んでもよい。一酸化炭素ガスは、特定の触媒プロセス中では被毒物質として作用し、又は動物に対して毒性を有し、有毒であるため、このような混合ガスの一酸化炭素含有量を低減することが望ましいことがある。本明細書に記載したメタン化反応を触媒する方法は、混合ガスの一酸化炭素含有量を低減する方法にも適用可能となるように構想されている。
本発明によると、硫黄含有ガス又はガス化ガスによる触媒活性元素の被毒を低減する方法を提供し、この方法は、「触媒」の見出しの欄に上述した触媒活性元素を担体に蒸着するステップを備え、担体は、化学式Ce1−xで表され、xは約0〜約0.3であり、好ましくは約0.01〜約0.3であり、Mが存在する場合にはCe以外の金属元素である。化学式Ce1−xで表される担体は、「触媒」の見出しの欄に上述したものであってもよい。
硫黄含有ガス又はガス化ガスによる触媒活性元素の被毒を低減する方法によると、蒸着するステップは、触媒活性元素の硫黄含有ガス又はガス化ガスへの接触に先立って実施されてもよい。さらに、蒸着するステップは、触媒活性元素が、担体上の個別領域、例えば、「触媒」の見出しの欄で触媒活性元素との関連で述べた個別領域に存在するように実施されてもよい。「蒸着」は、従来既知のいかなる好適な技術を用いて行なわれてもよく、例えば、触媒活性元素の塩を用いた湿式含浸法を用いてもよい。湿式含浸法の後、例えば温度を上昇させた水素雰囲気下において、触媒活性元素の塩をin−situで金属形態の触媒活性元素に還元してもよい。触媒活性元素の硫黄含有ガス又はガス化ガスへの接触は、「方法」の見出しの欄に述べたとおり、硫黄含有ガス又はガス化ガスを含有する供給原料を、触媒活性元素及び/又は担体に接触させるステップを備えてもよい。
当分野において通常の知識を有する者は、特定の実施例に開示された本発明には、広範に説明された本発明の精神又は範囲を逸脱することなく、多数の変更及び/又は修正が加えられることを理解することができる。従って本実施形態は、あらゆる点で説明を意図し、限定を意図するものでない。
以下、特定の実施例を参照して本発明を説明するが、これらはいかなる意味においても限定を意図するものと理解されてはならない。
[合成]
Ni前駆体としてNi(NO・6HOを用い、市販のCe1−x(Sigma Aldrich社)を用いた従来の湿式含浸法により、xが約0〜約0.3であり、好ましくは約0.01〜約0.3であり、Mが存在する場合、Ce以外の金属元素であるNi/Ce1−xを調製した。
[触媒結果]
酸化セリウムは、その酸素貯蔵特性及び酸化還元特性がよく知られている。Ceを部分的に他の要素、例えばZr、Gd、Sm等で置換することにより、安定性、酸素貯蔵能力、及び還元能力を増すと考えられている。本例では、触媒担体として、Y、Sm、Gd、及びCaのドーパントを有する種々のナノサイズの酸化セリウム、つまり、ナノサイズ及びマイクロサイズのCeOを用いた。図1は、20ppmのHSを含有した、500度、1バールの原料ガスの条件において、Al、Ce0.9Ca0.1、Ce0.9Gd0.1、Ce0.850.15、及びC0.85Sm0.15に担持された5%Niの性能の結果を示している。5%Ni/AlにおけるCHの濃度は、反応開始時の22%(乾燥ベース)から当初の4.4%に低下し、これは約150分で触媒の失活が完了したことを示している。5%Ni/Ce0.9Gd0.1の失活には、約350分掛かっている。しかしながら、470分の時点でも、5%Ni/Ce0.9Gd0.1触媒の活動の一部は維持されている。
使用済み触媒は、XPS、TPH、S分析器、及びTOF−SIMSによって分析した。H吸着(表1)で測定したNi分散を考慮に入れ、使用済み触媒における硫黄原子の総数に対するNi原子の接触数の比率を計算し、表2に一覧表示した。Ni分散とは、触媒中のNi原子の総数に対する、Ni原子の接触数の比率をいう。

Figure 0006279726
Figure 0006279726
以下の反応(式(3))によると、1つのNiが1つのSを吸着すると推定される。実際の反応系では、硫化物イオンのサイズにより、硫黄容量が、ニッケル原子当たり1つの硫黄原子に満たないと考えられる。5%Ni/Alについて、Ni:Sの比率は、1:0.83である。
S(ガス)+Ni→Ni−S+H(ガス) …式3
5%Ni/Ce0.9Gd0.1では、稀なNi:Sの比率である1:1.25が観察されており、これは、HSの他の吸着部位がNi以外に存在するはずであることを示している。セリアは、HSの吸着材となり、CeSを形成することができる。TOF−SIMSから得られた結果は、ある点を明らかにしている。図2のSISMスペクトルは、5%NiAlに比して5%Ni/Ce0.9Gd0.1に、より多くの硫黄活性Ni部位(金属分散が5.9%対1.5%)と硫黄含有量(0.19%対352ppm)が存在するのにも関わらず、5%Ni/Ce0.9Gd0.1に比して5%NiAlにおいてより容易にNiSが検出されることを示している。従って、硫黄が、Ce0.9Gd0.1に比してAlのNiにより強力に結合していると提案することが妥当である。式4によると、セリアは、HSと反応し、CeSを形成すると考えられる。実際に、CeSと考えられるピーク及び各フラグメントが、図3に示す使用済み5%Ni/Ce0.9Gd0.1のSISMスペクトルに観察することができる。
2CeO+HS→CeS+HO+0.5O …式4
以上の実験結果に基づく反応メカニズムが、図4に提案されている。合成ガスのメタン化反応は、Niによって触媒されている。Ni部位はまた、S+Hに分解されるHSによって被毒する傾向にある。残余分の硫黄は、Niに強力に引き付けられる。Alが硫黄に対して不活性であるため、NiがAlに担持される場合、NiSがより安定である。従って、表面のNiが硫黄で被覆されている場合、Ni/Alが速やかに失活すると信じられている。しかしながらNiがセリアに担持されている場合、反応中、いくつかの酸素空孔が生成される。従って、硫黄の一部は反応してセリアへ導入されると考えられており、本発明に係るNi/CeO触媒の硫黄耐性はNi/Alに比して向上する。
[Ce0.9Ca0.1に担持されたNi触媒と硫黄の相互反応]
XPS分析は、(a)焼成した5%Ni/Ce0.9Ca0.1と、(b)20ppmのHS内で5時間メタン化した後の、使用済みの5%Ni/Ce0.9Ca0.1と、(c)500度で100ppmのHSに16時間接触したCe0.9Ca0.1と、(d)還元後、500度で100ppmのHSに16時間接触した5%Ni/Ce0.9Ca0.1との表面特性を調べるために実施した。図(a)は、これらのサンプルのCa(2p1/2、2p3/2)の微細構造を示している。焼成5%Ni/Ce0.9Ca0.1(図(a))と、使用済みの5%Ni/Ce0.9Ca0.1(図(b))のCa 2pスペクトルは、類似しており、345.5eVにおけるCa 2p3/2のピークがCaOの特徴であった。これらの結果は、20ppmのHSにおける5時間の硫黄と触媒担体との相互反応が、XPSでは検出できないことがある旨を示している。従って、硫黄とこれらの触媒との相互反応は、Ce0.9Ca0.1を硫化し、100ppmのHS内で16時間、5%Ni/Ce0.9Ca0.1を還元することによって調べた。Ce0.9Ca0.1(図(c))の解析を通じてスペクトルの2つのCaの種を判定することができ、これらを、各々Ca 2p3/2結合エネルギーが345.5eVと347.9eVであるCaOとCaSOとに割り当てた(B.DEMRI、D.Muster、材料加工技術ジャーナル55(1995)311−314)。Niの存在下において、再びCaO及びCaSOに対応して、2つの明らかなピークが特定された(図(d))。さらに、CaSOのCaOに対する比率は、Niの存在で増加した。これは、NiがCaSOの形成を促進することを示している。図に示すS2p XPSスペクトルから、CeSOの種も見出すことができる。

Claims (30)

  1. メタン化触媒であって、
    担体上に担持されたCo、Fe、Pt、Ru、Rh、Pd、Ni、又はIrからなる群より選択される触媒活性元素を備え、
    前記担体は、化学式Ce1−xで表され、xは約0.01〜約0.3であり、Mが存在し、Ce以外のランタノイド、又はアルカリ土類金属であるメタン化触媒。
  2. 前記触媒活性元素は、遷移金属である請求項1に記載のメタン化触媒。
  3. 前記触媒活性元素は、金属ニッケルである請求項1〜2のいずれか一項に記載のメタン化触媒。
  4. 前記担体は、粒子状物質である請求項1〜3のいずれか一項に記載のメタン化触媒。
  5. xは、約0.01〜約0.25である請求項1〜4のいずれか一項に記載のメタン化触媒。
  6. xは、約0.1〜約0.2である請求項1〜5のいずれか一項に記載のメタン化触媒。
  7. 前記金属元素は、遷移金属である請求項6に記載のメタン化触媒。
  8. 前記遷移金属は、Yである請求項7に記載のメタン化触媒。
  9. 前記金属元素は、ランタノイドである請求項1に記載のメタン化触媒。
  10. 前記ランタノイドは、Sm及びGdからなる群より選択される請求項9に記載のメタン化触媒。
  11. 前記金属元素は、アルカリ土類である請求項1に記載のメタン化触媒。
  12. 前記アルカリ土類は、Caである請求項11に記載のメタン化触媒。
  13. 前記触媒は、前記担体の表面に分散された金属ニッケルの領域を含む請求項1〜12のいずれか一項に記載のメタン化触媒。
  14. 前記触媒は、重量で約1〜約40%の触媒活性元素を含む請求項1〜13のいずれか一項に記載のメタン化触媒。
  15. 前記担体は、約10〜約300m/gの比表面積を有する請求項1〜14のいずれか一項に記載のメタン化触媒。
  16. メタン化反応向けの触媒を目的とする、請求項1〜15のいずれか一項に記載のメタン化触媒の使用。
  17. 請求項1〜15のいずれか一項に記載のメタン化触媒の使用であって、
    前記使用は、一酸化炭素及び水素を含む混合ガス内の一酸化炭素含有量を低減することを目的とする使用。
  18. 一酸化炭素及び水素を含む供給原料をメタン化する方法であって、
    前記供給原料を、請求項1〜15のいずれか一項に記載のメタン化触媒に接触させるステップを備える方法。
  19. 前記供給原料はさらに、二酸化炭素ガスを含む請求項18に記載の方法。
  20. 前記供給原料はさらに、水蒸気を含む請求項18又は19に記載の方法。
  21. 前記供給原料は、石炭ガス化ガス及び/又はバイオマスガス化ガスを含む請求項18〜20のいずれか一項に記載の方法。
  22. 前記供給原料はさらに、硫黄含有ガス又はガス化ガス請求項18〜21のいずれか一項に記載の方法。
  23. 前記硫黄含有ガス又はガス化ガスは、約0.1〜約5000ppmの濃度で存在する請求項22に記載の方法。
  24. 前記硫黄含有ガス又はガス化ガスは、硫化水素、硫化カルボニル、二酸化硫黄、及び有機チオールのいずれか1つ以上を含む請求項22又は23に記載の方法。
  25. 前記供給原料における水素対一酸化炭素のモル比は、約4:1〜約1:1である請求項18〜24のいずれか一項に記載の方法。
  26. 前記接触させるステップは、前記供給原料を、前記触媒を含む充填層反応器に通すステップを含む請求項18〜25のいずれか一項に記載の方法。
  27. 前記供給原料は、前記接触させるステップの際、約1〜約40バールの圧力を有する請求項18〜26のいずれか一項に記載の方法。
  28. 前記接触させるステップは、少なくとも約250度、又は約250〜約750度の温度で実施される請求項18〜27のいずれか一項に記載の方法。
  29. 前記供給材料は、約1000〜約100000h−1のガス空間速度を有する請求項18〜28のいずれか一項に記載の方法。
  30. 前記接触させるステップの際の前記温度及び前記供給原料のガス空間速度は、酸化炭素のメタンへの変換平衡を達成するのに十分である請求項18〜29のいずれか一項に記載の方法。
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