JP6273984B2 - 環状アジン化合物、その製造方法、及びそれを含む有機電界発光素子用材料 - Google Patents
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Description
Ar1は、同一の置換基を表し、炭素数6〜10の芳香族炭化水素基(フッ素原子、メチル基、フェニル基又はピリジル基で置換されていてもよい)、又はピリジル基(フェニル基又はメチル基で置換されていてもよい)を表す。
Ar2は、炭素数10〜18からなる縮環芳香族炭化水素基(フッ素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はピリジル基で置換されていてもよい)を表す。
Xは、各々独立して、フェニレン基、ナフチレン基、ピリジレン基、ピリミジレン基、又はピラジレン基を表す。
Aは、下記の(A−1)又は(A−2)で示される置換基のいずれかを表す。
pは、0、1又は2を表す。
Zは、N又はC−Hを表す。)
で示される環状アジン化合物、その製造方法、及びそれを用いた有機電界発光素子に関するものである。
前記Ar3としては、特に限定するものではないが、例えば、水素原子、フェニル基、2−ピリジル基、3−ピリジル基、又は4−ピリジル基が挙げられる。
反応式(2)
反応式(3)
又は反応式(4)
で示される方法により製造することができる。
(1)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
(2)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
(3)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔ブロック層/電子輸送層/電子注入層/陰極
本発明において、上記の各層に用いられる材料としては、一般公知の材料であればよく、特に限定されるものではない。
合成例−1
合成例−2
1H?NMR(CDCl3):δ(ppm):1.43(s,12H),7.51−7.75(m,10H),7.82(s,1H),7.89−7.98(m,2H),8.23(brs,1H),8.75−8.81(m,5H),8.83(brd,J=8.2Hz,1H),9.01(brs,1H),9.24(brs,1H).
合成例−3
1H−NMR(CDCl3):7.47(d,J=8.7Hz,2H),7.95(d,8.9Hz,2H),8.50(d,J=2.5Hz,1H),8.61(dd,J=2.5Hz,1.6Hz,1H),8.99(d,J=1.5Hz,1H).
実施例−1
1H−NMR(CDCl3):7.53−7.62(m,7H),7.66(brt,J=7.1Hz,1H),7.72(brt,J=7.7Hz,2H),7.88(s,1H),7.96−7.99(m,2H),7.98(d,J=8.7Hz,1H),8.01(dd,J=8.2Hz,1.0Hz,1H),8.07(t,J=1.7Hz,1H),8.20(d,J=8.5Hz,2H),8.53(d,J=2.4Hz,1H),8.66(brs,1H),8.77(dd,J=8.3Hz,1.7Hz,4H),8.77−8.79(m,1H),8.84(d,J=8.3Hz,1H),8.94(t,J=1.6Hz,1H),9.12(brs,1H),9.16(t,J=1.7Hz,1H).
得られた化合物 B−3のTgは134℃だった。
実施例−2
1H−NMR(CDCl3):7.53−7.62(m,7H),7.65(ddd,J=7.5Hz,6.8Hz,1.3Hz,1H),7.69−7.74(m,2H),7.87(s,1H),7.96(brd,J=8.1Hz,2H),7.95(t,J=1.7Hz,1H),8.60(d,J=2.4Hz,1H),8.72(dd,J=2.6Hz,1.6Hz,1H),8.77(dd,J=8.2Hz,1.6Hz,4H),8.77−8.79(m,1H),8.83(brd,J=8.3Hz,1H),9.34(t,J=1.8Hz,1H),9.31(d,J=1.4Hz,1H),9.49(t,J=1.8Hz,1H).
得られた化合物 B−21のTgは115℃だった。
合成例−4
実施例−3
1H−NMR(CDCl3);7.54−7.76(m,10H),7.90−8.28(m,6H),8.58(s,1H),8.78−9.02(m,9H),9.26(s,1H) 13C−NMR(CDCl3);122.92,123.37,127.02,127.18,127.22,127.32,127.71,128.24,128.97,129.09,129.33,130.25,130.42,130.49,130.60,131.01,131.31,131.74,132.94,133.45,136.30,137.85,138.18,140.48,142.55,142.58,142.91,143.60,145.29,145.84,171.65,172.13
参考例−1
基板には、2mm幅の酸化インジウム−スズ(ITO)膜(膜厚110nm)がストライプ状にパターンされたITO透明電極付きガラス基板を用いた。この基板をイソプロピルアルコールで洗浄した後、オゾン紫外線洗浄にて表面処理を行った。洗浄後の基板に、真空蒸着法で各層の真空蒸着を行い、断面図を図1に示すような発光面積4mm2有機電界発光素子を作製した。なお、各有機材料は抵抗加熱方式により成膜した。
素子実施例−1
素子参考例−1において、ETL−1の代わりに実施例−1で合成した4,6−ジフェニル−2−[5−(9−フェナントリル)−4’−(2−ピラジル)ビフェニル−3−イル]−1,3,5−トリアジン(化合物B−3)を用いた以外は、素子参考例−1と同じ方法で有機電界発光素子を作製し、評価した。結果を下表に示す。なお、素子寿命については、素子寿命(h)を測定したうえで、素子参考例−1の素子寿命を100とした相対値で表した。
素子実施例−2
素子参考例−1において、ETL−1の代わりに実施例−2で合成した4,6−ジフェニル−2−[5−(9−フェナントリル)−3−(2−ピラジル)フェニル]−1,3,5−トリアジン(化合物B−21)を用いた以外は、素子参考例−1と同じ方法で有機電界発光素子を作製し、評価した。結果を下表に示す。なお、素子寿命については、素子寿命(h)を測定したうえで、素子参考例−1の素子寿命を100とした相対値で表した。
2.正孔注入層
3.電荷発生層
4.正孔輸送層
5.発光層
6.電子輸送層
7.陰極層
Claims (15)
- 一般式(1)で示される環状アジン化合物。
Ar1は、同一の置換基を表し、炭素数6〜10の芳香族炭化水素基(フッ素原子、メチル基、フェニル基又はピリジル基で置換されていてもよい)、又はピリジル基(フェニル基又はメチル基で置換されていてもよい)を表す。
Ar2は、炭素数10〜18からなる縮環芳香族炭化水素基(フッ素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はピリジル基で置換されていてもよい)を表す。
Xは、各々独立して、フェニレン基、ナフチレン基、ピリジレン基、ピリミジレン基、又はピラジレン基を表す。
Aは、下記の(A−1)で示される置換基を表す。
pは、0、1又は2を表す。
Zは、N又はC−Hを表す。) - Ar1が、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基又はピリジル基(これらの置換基はメチル基で置換されていてもよい)である請求項1又は2に記載の環状アジン化合物。
- Ar1が、フェニル基、ビフェニル基又はナフチル基である請求項1、2又は3に記載の環状アジン化合物。
- Ar1が、フェニル基である請求項1、2、3又は4に記載の環状アジン化合物。
- Ar2が、ナフチル基、フェナントリル基、アントリル基、ピレニル基、フルオランテニル基、トリフェニレニル基、又はクリセニル基(これらの置換基は、フェニル基又はピリジル基で置換されていてもよい)である請求項1、2、3、4又は5に記載の環状アジン化合物。
- Xが、フェニレン基である請求項1、2、3、4、5又は6に記載の環状アジン化合物。
- pが、0又は1であるである請求項1、2、3、4、5、6又は7に記載の環状アジン化合物。
- 一般式(2)で示される化合物と、一般式(3)及び一般式(4)で示される化合物を、塩基の存在下又は塩基の非存在下に、パラジウム触媒の存在下で、順次又は同時にカップリング反応させることを特徴とする一般式(1)で示される環状アジン化合物の製造方法。
Zは、N又はC−Hを表す。
Ar2は、炭素数10〜18からなる縮環芳香族炭化水素基(フッ素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はピリジル基で置換されていてもよい)を表す。
Xは、各々独立して、フェニレン基、ナフチレン基、ピリジレン基、ピリミジレン基、又はピラジレン基を表す。
Aは、下記の(A−1)で示される置換基を表す。
Ar3は、水素原子、フェニル基又はピリジル基を表す。*は結合位置を表す。)
pは、0、1又は2を表す。
Y 1 及びY 2 は、各々独立に脱離基を表す。
M1は、ZnR1、MgR2、Sn(R3)3又はB(OR4)2を表す。但し、R1及びR2は、各々独立に塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、R3は、炭素数1から4のアルキル基又はフェニル基を表し、R4は水素原子、炭素数1から4のアルキル基又はフェニル基を表し、B(OR4)2の2つのR4は同一又は異なっていてもよい。また、2つのR4は一体となって酸素原子及びホウ素原子を含んで環を形成することもできる。
M2は、ZnR1、MgR2、Sn(R3)3又はB(OR4)2を表す。但し、R1及びR2は、各々独立に塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、R3は、炭素数1から4のアルキル基又はフェニル基を表し、R4は水素原子、炭素数1から4のアルキル基又はフェニル基を表し、B(OR4)2の2つのR4は同一又は異なっていてもよい。また、2つのR4は一体となって酸素原子及びホウ素原子を含んで環を形成することもできる。) - 一般式(5)で示される化合物と、一般式(6)で示される化合物を、塩基の存在下又は塩基の非存在下に、パラジウム触媒の存在下で、カップリング反応させることを特徴とする一般式(1)で示される環状アジン化合物の製造方法。
Zは、N又はC−Hを表す。
Ar2は、炭素数10〜18からなる縮環芳香族炭化水素基(フッ素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はピリジル基で置換されていてもよい)を表す。
Xは、各々独立して、フェニレン基、ナフチレン基、ピリジレン基、ピリミジレン基、又はピラジレン基を表す。
Aは、下記の(A−1)で示される置換基を表す。
pは、0、1又は2を表す。
Y3は、各々独立に脱離基を表す。M3は、ZnR1、MgR2、Sn(R3)3又はB(OR4)2を表す。但し、R1及びR2は、各々独立に塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、R3は、炭素数1から4のアルキル基又はフェニル基を表し、R4は水素原子、炭素数1から4のアルキル基又はフェニル基を表し、B(OR4)2の2つのR4は同一又は異なっていてもよい。また、2つのR4は一体となって酸素原子及びホウ素原子を含んで環を形成することもできる。) - 一般式(7)で示される化合物と、一般式(8)で示される化合物を、塩基の存在下又は塩基の非存在下に、パラジウム触媒の存在下で、カップリング反応させることを特徴とする一般式(1)で示される環状アジン化合物の製造方法。
Zは、N又はC−Hを表す。
Ar2は、炭素数10〜18からなる縮環芳香族炭化水素基(フッ素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はピリジル基で置換されていてもよい)を表す。
Xは、各々独立して、フェニレン基、ナフチレン基、ピリジレン基、ピリミジレン基、又はピラジレン基を表す。
Aは、下記の(A−1)で示される置換基を表す。
pは、0、1又は2を表す。
M4は、ZnR1、MgR2、Sn(R3)3又はB(OR4)2を表す。但し、R1及びR2は、各々独立に塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、R3は、炭素数1から4のアルキル基又はフェニル基を表し、R4は水素原子、炭素数1から4のアルキル基又はフェニル基を表し、B(OR4)2の2つのR4は同一又は異なっていてもよい。また、2つのR4は一体となって酸素原子及びホウ素原子を含んで環を形成することもできる。但し、分子内の全ての窒素原子は炭素原子との2重結合を1つ有しているものとする。
Y4は、各々独立に脱離基を表す。但し、分子内の全ての窒素原子は、縮環又は非縮環の6員環複素芳香族基の形成のみに使用されるものとする。) - パラジウム触媒が、第三級ホスフィンを配位子として有するパラジウム触媒である請求項9、10又は11に記載の製造方法。
- パラジウム触媒が、トリフェニルホスフィン又は2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’,4’,6’−トリイソプロピルビフェニルを配位子として有するパラジウム触媒であることを特徴とする請求項9、10、11又は12に記載の製造方法。
- 一般式(1)で示される環状アジン化合物を含有することを特徴とする有機電界発光素子。
Ar1は、同一の置換基を表し、炭素数6〜10の芳香族炭化水素基(フッ素原子、メチル基、フェニル基又はピリジル基で置換されていてもよい)、又はピリジル基(フェニル基又はメチル基で置換されていてもよい)を表す。
Zは、N又はC−Hを表す。
Ar2は、炭素数10〜18からなる縮環芳香族炭化水素基(フッ素原子、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はピリジル基で置換されていてもよい)を表す。
Xは、各々独立して、フェニレン基、ナフチレン基、ピリジレン基、ピリミジレン基、又はピラジレン基を表す。
Aは、下記の(A−1)で示される置換基を表す。
pは、0、1又は2を表す。) - 請求項1に記載の一般式(1)で示される環状アジン化合物を含んでなる有機電界発光素子用材料。
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