JP6259524B2 - X線装置及び該x線装置を有するctデバイス - Google Patents
X線装置及び該x線装置を有するctデバイス Download PDFInfo
- Publication number
- JP6259524B2 JP6259524B2 JP2016543300A JP2016543300A JP6259524B2 JP 6259524 B2 JP6259524 B2 JP 6259524B2 JP 2016543300 A JP2016543300 A JP 2016543300A JP 2016543300 A JP2016543300 A JP 2016543300A JP 6259524 B2 JP6259524 B2 JP 6259524B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grid
- filament
- electron emission
- cathode
- ray apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 9
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims description 6
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 6
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 16
- 238000002591 computed tomography Methods 0.000 description 13
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 10
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 5
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical group [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 2
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710176296 Switch 2 Proteins 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- -1 scandate Chemical compound 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/08—Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/025—X-ray tubes with structurally associated circuit elements
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/08—Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means
- G21K1/087—Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means by electrical means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/045—Electrodes for controlling the current of the cathode ray, e.g. control grids
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/06—Cathodes
- H01J35/064—Details of the emitter, e.g. material or structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/06—Cathodes
- H01J35/066—Details of electron optical components, e.g. cathode cups
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
- H01J35/147—Spot size control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
- H01J35/153—Spot position control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2235/00—X-ray tubes
- H01J2235/06—Cathode assembly
- H01J2235/062—Cold cathodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2235/00—X-ray tubes
- H01J2235/06—Cathode assembly
- H01J2235/068—Multi-cathode assembly
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2235/00—X-ray tubes
- H01J2235/08—Targets (anodes) and X-ray converters
- H01J2235/086—Target geometry
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/112—Non-rotating anodes
- H01J35/116—Transmissive anodes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
図1〜図6に示すように、二次元分散型X線装置は複数の電子放出ユニット1、陽極2、真空ボックス3、高圧電源接続装置4、フィラメント電源接続装置5、グリッド制御装置接続装置6、真空装置8および電源及び制御システム7から構成される。複数の電子放出ユニット1は二次元配列の方式で1つの平面に配置され、且つ、真空ボックス3のボックス壁に取り付けられ、各電子放出ユニット1は互いに独立して、長尺形の陽極2は電子放出ユニット1の上方に位置し、真空ボックス3内の上端に取り付けられ、電子放出ユニット1が位置する平面と互いに平行している。電子放出ユニット1はフィラメント101、陰極102、グリッド103、絶縁支持部材104、フィラメントリード線105及び接続固定部材109を含み、グリッド103がグリッドフレーム106、グリッドメッシュ107及びグリッドリード線108から構成される。また、陽極2は陽極板201とターゲット202から構成される。ターゲット202は陽極板201に取り付けられ、その位置が電子放出ユニット1の位置にそれぞれ対応するように配置され、すべてのターゲット202の頂面の傾斜方向が一致し、かつ有用なX線の出射方向である。高圧電源接続装置4は真空ボックス3の陽極2に近い一端に取り付けられ、内部が陽極2と接続し、外部が高圧電源702と接続し、フィラメント電源接続装置5は各電子放出ユニット1のフィラメントリード線105をフィラメント電源704に接続している。フィラメント電源接続装置5は数本の両端にコネクタ付き二芯ケーブルである。グリッド制御装置接続装置6は各電子放出ユニット1のグリッドリード線108をグリッド制御装置703に接続する。グリッド制御装置接続装置6は数本の両端にコネクタ付き高圧同軸ケーブルである。真空装置8は真空ボックス3の側壁に取り付けられている。電源及び制御システム7は、制御システム701、高圧電源702、グリッド制御装置703、フィラメント電源704、真空電源705などの複数のモジュールを含み、電力ケーブルと制御ケーブルを介してシステムの複数の電子放出ユニット1のフィラメント101、グリッド103、陽極2、及び真空装置8などの部材に接続している。
本発明の二次元分散型X線装置において、電源及び制御システム7はフィラメント電源704、グリッド制御装置703および高圧電源702を制御する。フィラメント電源704の作用で、フィラメント101は陰極102を1000〜2000℃に加熱して、陰極102は表面に大量の電子を発生して、グリッド制御装置703は各グリッド103を負電圧、例えば−500Vにして、各電子放出ユニット1のグリッド103と陰極102との間に負電場を形成して、電子が陰極102の表面に制限されて、高圧電源702は陽極2を非常に高い正高圧、例えば+180kVにして、電子放出ユニット1と陽極2との間に正の加速電場を形成する。X線を発生する必要がある場合、電源及び制御システム7は指令又は所定のプログラムに従って、グリッド制御装置703のある経路の出力を負電圧から正電圧に切り替えて、且つ、シーケンスに従って各経路の出力信号を変えて、例えば、時刻1に、グリッド制御装置703の出力チャンネルchannel1aが−500Vから+2000Vに変わり、対応する電子放出ユニット11a内で、グリッド103と陰極102との間の電場が正電場に変わり、電子が陰極102の表面からグリッド103に向って運動して、グリッドメッシュ107を通して電子放出ユニット11aと陽極2との間の正方向電場に入って、加速されて、高エネルギーになって、最終的にターゲット21aに衝撃して、ターゲット21aの位置でX線を発生して放射する。時刻2に、グリッド制御装置703の出力チャンネルchannel1bが−500Vから+2000Vに変わり、対応する電子放出ユニット11bが電子を放射して、ターゲットの21bに衝撃して、そしてターゲット21bの位置でX線を発生して放射する。時刻3に、グリッド制御装置703の出力チャンネルchannel2aが−500Vから+2000Vに変わり、対応する電子放出ユニット12aが電子を放射して、ターゲットの22aに衝撃して、そしてターゲット22aの位置でX線を発生して放射する。時刻4に、グリッドの制御装置703の出力チャンネルchannel2bが−500Vから+2000Vに変わり、対応する電子放出ユニット12bが電子を放射して、ターゲット22bに衝撃して、そしてターゲット22bの位置でX線を発生して放射する。このように類推して、その後ターゲット23aでX線を発生して、そしてターゲット23bでX線を発生して……、循環して繰り返す。そのため、電源及び制御システム7はグリッド制御装置703を利用して各電子放出ユニット1を所定のシーケンスに従って交替で作動させて、電子ビームを放射して、且つ、異なるターゲットの位置において交替でX線を発生して、分散型X線源になる。
本発明は、主に二次元アレイ分散型X線装置を提供し、一つの光源デバイスにおいて、ある順番に従って周期的に焦点位置を変えるX線を発生する。本発明における電子放出ユニットは熱陰極を利用するので、放射電流が大きく、寿命が長いという利点を有する。グリッド制御又は陰極制御によって各電子放出ユニットの作動状態を制御して、便利で柔軟である。大きい陽極板とターゲットの設計を利用して、陽極の過熱問題を緩和して、ターゲットスポット集束効果を形成して、且つコストが低減された。電子放出ユニットと対応ターゲットが二次元アレイ配列を採用するので、X線がアレイ平面に平行して引き出されて、X線の出射方向から見ると、ターゲットスポットの分布間隔を縮小して、ターゲットスポットの密度を向上させた。電子放出ユニットは平面二次元で配列されてもよく、弧面二次元で配列されてもよく、全体が直線型分散型X線装置又は環型分散型X線装置になり、応用が柔軟である。
104:絶縁支持部材、 105:フィラメントリード線、
106:グリッドフレーム、 107:グリッドメッシュ、
108:グリッドリード線、 109:接続固定部材、 201:陽極板、
202:ターゲット、 E:電子ビーム流、 X:X線、 1:電子放出ユニット、
2:陽極、 3:真空ボックス、 4:高圧電源接続装置、
5:フィラメント電源接続装置、 6:グリッド制御装置接続装置、
7:電源及び制御システム、 8:真空装置、 9:平板グリッド、
901:絶縁骨組み板、 902:グリッド板、 903:グリッドメッシュ、
904:グリッドリード線、 10:陰極アレイ、 1001:フィラメント、
1002:陰極、 1004:絶縁支持部材、 1005:フィラメントリード線、
1006:フィラメントリード線移行端子、 1007:グリッドリード線移行端子。
Claims (15)
- 周りがシールされ、内部が高真空である真空ボックスと、
前記真空ボックスのボックス壁において、二次元配列で1つの平面に配置された複数の電子放出ユニットと、
前記真空ボックス内に、前記複数の電子放出ユニットが位置する平面と平行するように配置された陽極と、
を備え、
前記陽極は、金属材料から作られ、前記電子放出ユニットの上表面と平行する陽極板と、前記陽極板に取り付けられ、それぞれが前記電子放出ユニットの位置に対応するように配置された複数のターゲットと、を含み、
前記ターゲットの底面が前記陽極板と接続し、かつ前記ターゲットの頂面と前記陽極板とは所定の角度を形成することを特徴とするX線装置。 - 前記X線装置は、前記陽極と接続する高圧電源と、前記複数の電子放出ユニットのそれぞれと接続するフィラメント電源と、前記複数の電子放出ユニットのそれぞれと接続するグリッド制御装置と、各電源を制御するための制御システムと、を有する電源及び制御システムをさらに有することを特徴とする請求項1に記載のX線装置。
- 前記ターゲットは円錐台構造、四角錐台構造、多角錐台構造又は他の多角形の突起、或いは他の不規則な突起であることを特徴とする請求項1又は2に記載のX線装置。
- 前記ターゲットは円柱構造、四角柱構造、あるいは他の多角柱構造であることを特徴とする請求項1又は2に記載のX線装置。
- 前記ターゲットは球面構造であることを特徴とする請求項1又は2に記載のX線装置。
- 前記ターゲットの頂面は平面、斜面、球面或いは他の不規則な表面であることを特徴とする請求項1又は2に記載のX線装置。
- 前記電子放出ユニットが、フィラメントと、前記フィラメントと接続した陰極と、開口を有し、前記フィラメントと前記陰極を囲んだ絶縁支持部材と、前記フィラメントの両端から引き出されたフィラメントリード線と、前記陰極に対向するように前記陰極の上方に配置されたグリッドと、前記絶縁支持部材と接続して、前記電子放出ユニットを前記真空ボックスの壁に取り付けて、真空なシール接続を形成する接続固定部材とを有し、
前記グリッドが、金属から作られ、中央に開孔が形成されたグリッドフレームと、金属から作られ、前記グリッドフレームの前記開孔の位置に固定されたグリッドメッシュと、前記グリッドフレームから引き出されたグリッドリード線とを有し、
前記フィラメントリード線と前記グリッドリード線は前記絶縁支持部材を貫通して、電子放出ユニットの外部に引き出され、前記フィラメントリード線が前記フィラメント電源と接続して、前記グリッドリード線が前記グリッド制御装置と接続していることを特徴とする請求項2に記載のX線装置。 - 前記接続固定部材が前記絶縁支持部材の下端の外縁に接続し、前記電子放出ユニットの陰極端が前記真空ボックスの内部に位置し、前記電子放出ユニットのリード線端が前記真空ボックスの外部に位置することを特徴とする請求項7に記載のX線装置。
- 前記接続固定部材が前記絶縁支持部材の上端に接続し、前記電子放出ユニット全体が前記真空ボックスの外部に位置することを特徴とする請求項7に記載のX線装置。
- 前記電子放出ユニットが、絶縁骨組み板、グリッド板、グリッドメッシュ、グリッドリード線から構成された平板グリッドと、それぞれがフィラメント、前記フィラメントと接続した陰極、前記フィラメントの両端から引き出されたフィラメントリード線、前記フィラメントと前記陰極を囲んだ絶縁支持部材から構成された複数の陰極構造が緊密に配列されるように構成された陰極アレイと、を含み、
前記グリッド板が前記絶縁骨組み板に設けられ、かつ前記グリッドメッシュが前記グリッド板に形成された開孔の位置に設けられ、前記グリッドリード線が前記グリッド板から引き出され、
前記平板グリッドが前記陰極アレイの上方に位置し、垂直方向において、前記グリッドメッシュの中心が前記陰極の中心と二つがひと組になって重なり合い、
前記平板グリッドと前記陰極アレイとが前記真空ボックス内に位置し、前記フィラメントリード線と前記グリッドリード線が、それぞれ前記真空ボックスのボックス壁に設けられたフィラメントリード線移行端子とグリッドリード線移行端子を介して、前記真空ボックスの外部に引き出されることを特徴とする請求項1に記載のX線装置。 - 前記陽極と前記高圧電源のケーブルを接続して、前記真空ボックスの前記陽極に近い一端の側壁に取り付けられた高圧電源接続装置と、フィラメントと前記フィラメント電源を接続するためのフィラメント電源接続装置と、前記電子放出ユニットのグリッドと前記グリッド制御装置を接続するためのグリッド制御装置接続装置と、前記電源及び制御システム内に含まれた真空電源と、前記真空ボックスの側壁に取り付けられて、前記真空電源で作動して、前記真空ボックスにおける高真空を維持する真空装置と、をさらに有することを特徴とする請求項2から請求項10の何れか一項に記載のX線装置。
- 前記複数の電子放出ユニットが配列されたアレイは、二つの方向においていずれも直線であり、或いは一方の方向には直線であり、他方の方向には区分的直線であることを特徴とする請求項1から請求項10の何れか一項に記載のX線装置。
- 前記複数の電子放出ユニットが配列されたアレイは、一方の方向において直線であり、他方の方向において弧線又は区分的弧線であることを特徴とする請求項1から請求項10の何れか一項に記載のX線装置。
- 前記グリッド制御装置が制御器、負高圧モジュール、正高圧モジュール及び複数の高圧スイッチ素子を含み、
前記複数の高圧スイッチ素子のそれぞれが少なくとも一つの制御端、二つの入力端、一つの出力端を含み、各端点の間の耐電圧が少なくとも前記負高圧モジュールと前記正高圧モジュールから構成された最大電圧より大きく、
前記負高圧モジュールが前記複数の高圧スイッチ素子のそれぞれの一方の入力端に安定な負高圧を提供し、
前記正高圧モジュールが前記複数の高圧スイッチ素子のそれぞれの他方の入力端に安定な正高圧を提供し、
前記制御器が前記複数の高圧スイッチ素子を独立して制御し、
前記グリッド制御装置が複数の制御信号出力チャンネルをさらに有し、
一つの前記高圧スイッチ素子の出力端が前記制御信号出力チャンネルの一つに接続していることを特徴とする請求項2から請求項10の何れか一項に記載のX線装置。 - 用いられるX線源が請求項1から請求項14の何れか一項に記載のX線装置であることを特徴とするCTデバイス。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310427174.1A CN104470177B (zh) | 2013-09-18 | 2013-09-18 | X射线装置及具有该x射线装置的ct设备 |
CN201310427174.1 | 2013-09-18 | ||
PCT/CN2014/086677 WO2015039594A1 (zh) | 2013-09-18 | 2014-09-17 | X射线装置及具有该x射线装置的ct设备 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016533020A JP2016533020A (ja) | 2016-10-20 |
JP6259524B2 true JP6259524B2 (ja) | 2018-01-10 |
Family
ID=51582282
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016543300A Active JP6259524B2 (ja) | 2013-09-18 | 2014-09-17 | X線装置及び該x線装置を有するctデバイス |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9653247B2 (ja) |
EP (1) | EP2860751B1 (ja) |
JP (1) | JP6259524B2 (ja) |
KR (1) | KR101897113B1 (ja) |
CN (1) | CN104470177B (ja) |
ES (1) | ES2759205T3 (ja) |
HK (1) | HK1204198A1 (ja) |
PL (1) | PL2860751T3 (ja) |
RU (1) | RU2690024C2 (ja) |
WO (1) | WO2015039594A1 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150051820A (ko) * | 2013-11-05 | 2015-05-13 | 삼성전자주식회사 | 투과형 평판 엑스레이 발생 장치 및 엑스레이 영상 시스템 |
GB2531326B (en) * | 2014-10-16 | 2020-08-05 | Adaptix Ltd | An X-Ray emitter panel and a method of designing such an X-Ray emitter panel |
KR102312207B1 (ko) * | 2015-08-11 | 2021-10-14 | 한국전자통신연구원 | 엑스선 소스 및 이를 포함하는 장치 |
US11282668B2 (en) * | 2016-03-31 | 2022-03-22 | Nano-X Imaging Ltd. | X-ray tube and a controller thereof |
CN109216137B (zh) * | 2017-06-30 | 2024-04-05 | 同方威视技术股份有限公司 | 分布式x射线源及其控制方法 |
CN109216138B (zh) * | 2017-06-30 | 2024-07-26 | 同方威视技术股份有限公司 | X射线管 |
CN107481912B (zh) | 2017-09-18 | 2019-06-11 | 同方威视技术股份有限公司 | 阳极靶、射线光源、计算机断层扫描设备及成像方法 |
US20190189384A1 (en) * | 2017-12-18 | 2019-06-20 | Varex Imaging Corporation | Bipolar grid for controlling an electron beam in an x-ray tube |
CN108811287B (zh) * | 2018-06-28 | 2024-03-29 | 北京纳米维景科技有限公司 | 一种面阵多焦点栅控射线源及其ct设备 |
JP7300745B2 (ja) * | 2018-06-29 | 2023-06-30 | 北京納米維景科技有限公司 | 走査型のx線源及びその画像形成システム |
US12087540B2 (en) | 2018-11-27 | 2024-09-10 | Cat Beam Tech Co., Ltd. | Field emission-type tomosynthesis system, emitter for field emission-type tomosynthesis system, and method of manufacturing emitter |
KR102136062B1 (ko) * | 2018-11-27 | 2020-07-21 | 경희대학교 산학협력단 | 전계 방출형 토모신테시스 시스템 |
US11404235B2 (en) | 2020-02-05 | 2022-08-02 | John Thomas Canazon | X-ray tube with distributed filaments |
CN114068267B (zh) | 2020-08-04 | 2023-03-28 | 清华大学 | 偏转电极组件、x射线源和x射线成像系统 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3962583A (en) * | 1974-12-30 | 1976-06-08 | The Machlett Laboratories, Incorporated | X-ray tube focusing means |
US4926452A (en) | 1987-10-30 | 1990-05-15 | Four Pi Systems Corporation | Automated laminography system for inspection of electronics |
JP3033608B2 (ja) * | 1990-04-28 | 2000-04-17 | 株式会社島津製作所 | 回転陰極x線管装置 |
JPH0541191A (ja) * | 1991-07-31 | 1993-02-19 | Shimadzu Corp | 環状x線管 |
US5438605A (en) * | 1992-01-06 | 1995-08-01 | Picker International, Inc. | Ring tube x-ray source with active vacuum pumping |
DE4425691C2 (de) * | 1994-07-20 | 1996-07-11 | Siemens Ag | Röntgenstrahler |
JP2001357724A (ja) * | 2000-06-15 | 2001-12-26 | Fujikura Ltd | 防食架空電線 |
US20040213378A1 (en) * | 2003-04-24 | 2004-10-28 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Computed tomography system for imaging of human and small animal |
WO2002067779A1 (fr) * | 2001-02-28 | 2002-09-06 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Appareil de tomodensitometrie emettant des rayons x depuis une source de rayonnement multiple |
GB0309383D0 (en) * | 2003-04-25 | 2003-06-04 | Cxr Ltd | X-ray tube electron sources |
JP2004357724A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-24 | Toshiba Corp | X線ct装置、x線発生装置及びx線ct装置のデータ収集方法 |
US6975703B2 (en) * | 2003-08-01 | 2005-12-13 | General Electric Company | Notched transmission target for a multiple focal spot X-ray source |
US20100189223A1 (en) * | 2006-02-16 | 2010-07-29 | Steller Micro Devices | Digitally addressed flat panel x-ray sources |
JP5295503B2 (ja) * | 2007-01-15 | 2013-09-18 | ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー | X線発生装置およびx線ct装置 |
US7826594B2 (en) * | 2008-01-21 | 2010-11-02 | General Electric Company | Virtual matrix control scheme for multiple spot X-ray source |
US20110075802A1 (en) * | 2009-09-29 | 2011-03-31 | Moritz Beckmann | Field emission x-ray source with magnetic focal spot screening |
CN102422364B (zh) * | 2009-05-12 | 2015-08-05 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 具有多个电子发射器的x射线源 |
WO2011119629A1 (en) | 2010-03-22 | 2011-09-29 | Xinray Systems Llc | Multibeam x-ray source with intelligent electronic control systems and related methods |
DE102010027871B4 (de) * | 2010-04-16 | 2013-11-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Ringkathodensegment mit Nanostruktur als Elektronenemitter |
DE102011076912B4 (de) * | 2011-06-03 | 2015-08-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Röntgengerät umfassend eine Multi-Fokus-Röntgenröhre |
CN202142495U (zh) * | 2011-07-18 | 2012-02-08 | 东南大学 | 基于场发射冷阴极的阵列x射线源 |
CN102299036A (zh) * | 2011-07-18 | 2011-12-28 | 东南大学 | 基于场发射冷阴极的阵列x射线源 |
JP5984403B2 (ja) * | 2012-01-31 | 2016-09-06 | キヤノン株式会社 | ターゲット構造体及びそれを備える放射線発生装置 |
CN202502979U (zh) * | 2012-02-29 | 2012-10-24 | 北京国药恒瑞美联信息技术有限公司 | X射线球管 |
CN103903940B (zh) | 2012-12-27 | 2017-09-26 | 清华大学 | 一种产生分布式x射线的设备和方法 |
CN103901057B (zh) | 2012-12-31 | 2019-04-30 | 同方威视技术股份有限公司 | 使用了分布式x射线源的物品检查装置 |
CN103903941B (zh) | 2012-12-31 | 2018-07-06 | 同方威视技术股份有限公司 | 阴控多阴极分布式x射线装置及具有该装置的ct设备 |
CN203178216U (zh) * | 2012-12-31 | 2013-09-04 | 清华大学 | Ct设备 |
CN203734907U (zh) * | 2013-09-18 | 2014-07-23 | 同方威视技术股份有限公司 | X射线装置以及具有该x射线装置的ct设备 |
CN203563254U (zh) * | 2013-09-18 | 2014-04-23 | 同方威视技术股份有限公司 | X射线装置及具有该x射线装置的ct设备 |
CN203590580U (zh) * | 2013-09-18 | 2014-05-07 | 清华大学 | X射线装置以及具有该x射线装置的ct设备 |
-
2013
- 2013-09-18 CN CN201310427174.1A patent/CN104470177B/zh active Active
-
2014
- 2014-09-17 RU RU2016112575A patent/RU2690024C2/ru active
- 2014-09-17 WO PCT/CN2014/086677 patent/WO2015039594A1/zh active Application Filing
- 2014-09-17 KR KR1020167008289A patent/KR101897113B1/ko active IP Right Grant
- 2014-09-17 JP JP2016543300A patent/JP6259524B2/ja active Active
- 2014-09-18 EP EP14185445.5A patent/EP2860751B1/en active Active
- 2014-09-18 US US14/490,516 patent/US9653247B2/en active Active
- 2014-09-18 PL PL14185445T patent/PL2860751T3/pl unknown
- 2014-09-18 ES ES14185445T patent/ES2759205T3/es active Active
-
2015
- 2015-05-13 HK HK15104517.9A patent/HK1204198A1/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2016112575A (ru) | 2017-10-23 |
JP2016533020A (ja) | 2016-10-20 |
US9653247B2 (en) | 2017-05-16 |
KR20160084835A (ko) | 2016-07-14 |
US20150078509A1 (en) | 2015-03-19 |
PL2860751T3 (pl) | 2020-03-31 |
HK1204198A1 (en) | 2015-11-06 |
EP2860751A1 (en) | 2015-04-15 |
KR101897113B1 (ko) | 2018-10-18 |
RU2690024C2 (ru) | 2019-05-30 |
ES2759205T3 (es) | 2020-05-07 |
WO2015039594A1 (zh) | 2015-03-26 |
CN104470177A (zh) | 2015-03-25 |
EP2860751B1 (en) | 2019-09-18 |
CN104470177B (zh) | 2017-08-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6259524B2 (ja) | X線装置及び該x線装置を有するctデバイス | |
JP6496321B2 (ja) | X線装置及び該x線装置を有するctデバイス | |
JP6526014B2 (ja) | X線装置及び該x線装置を有するctデバイス | |
JP6382320B2 (ja) | X線装置及び該x線装置を有するctデバイス | |
JP6126239B2 (ja) | カソード制御マルチカソード分散型x線装置、及びこの装置を有するct設備 | |
CN108777248B (zh) | 一种扫描式x射线源及其成像系统 | |
WO2020001276A1 (zh) | 一种扫描式x射线源及其成像系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170221 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20170519 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170621 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171128 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171208 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6259524 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |