JP7300745B2 - 走査型のx線源及びその画像形成システム - Google Patents
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Description
本発明が解決しようとする他の技術課題は、上述の走査型のX線源を含む画像形成システムを提供することである。
本発明の実施例における第一の方面では、真空チャンバー体を含む走査型のX線源を提供し、前記真空チャンバー体内にはカソードと複数のアノードターゲット構造が設置されており、前記真空チャンバー体内の前記カソードに近い位置にはグリッドが設置されており、前記真空チャンバー体内の前記グリッドに近い位置には集束極が設置されており、前記真空チャンバー体の外周且つ前記グリッドに近い位置には偏向コイルが設置されており、
前記グリッドは、前記カソードにより生成される電子ビームが順番に前記集束極の集束、前記偏向コイルの作動方向の偏向を経過した後、事前に設定された規則に従って対応する前記アノードターゲット構造のターゲット面を順次に衝突して、前記ターゲット面の衝突側からX線を生成することによって、事前に設定された配列形状に沿って配置される複数の焦点を形成し、
少なくとも一つの前記アノードターゲット構造を使用してナロービームX線を生成且つ出射させ、また、前記アノードターゲット構造は一体式の反射ターゲットを使用する場合、前記一体式の反射ターゲットの上面には散熱ブロックが設置されており、前記散熱ブロックの上面には鋼板が設置されており、前記鋼板にはリニアアレイ式に従って複数のアライメント穴が配置されており、前記アライメント穴は一つのベリリウム窓に対応し、複数のX線の出射口を形成しており、
少なくとも一つの前記アノードターゲット構造を使用してナロービームX線を生成且つ出射させ、また、前記アノードターゲット構造はアレイ形状に配列される場合、前記アノードターゲット構造は独立した個体式の反射ターゲットを使用し、前記独立した個体式の反射ターゲットの上面には散熱ブロックが設置されており、前記散熱ブロックの上面には鋼板が設置されており、前記鋼板には前記独立した個体式の反射ターゲットに対応してアライメント穴が設置されており、前記アライメント穴は一つのベリリウム窓に対応し、複数のX線の出射口を形成する。
前記グリッドは、前記カソードにより生成される電子ビームが順番に前記集束極の集束、前記偏向コイルの作動方向の偏向を経過した後、事前に設定された規則に従って対応する前記アノードターゲット構造のターゲット面を順次に衝突して、前記ターゲット面の衝突側からX線を生成することによって、事前に設定された配列形状に沿って配置される複数の焦点を形成するように制御し、
少なくとも一つの前記アノードターゲット構造を使用してブロードビームX線を生成且つ出射させ、また、前記アノードターゲット構造は一体式の反射ターゲットを使用する場合、前記一体式の反射ターゲットの下面には散熱ブロックが設置されており、前記一体式の反射ターゲットの上面には鋼板が設置されており、前記鋼板にはリニアアレイ式に従って複数のアライメント穴が配置されており、前記アライメント穴はベリリウム窓に対応し、複数のX線の出射口を形成しており、
少なくとも一つの前記アノードターゲット構造を使用してブロードビームX線を生成且つ出射させ、また、前記アノードターゲット構造はアレイ形状に配置される場合、前記アノードターゲット構造は独立した個体式の反射ターゲットを使用し、前記独立した個体式の反射ターゲットの上面には鋼板が設置されており、前記独立した個体式の反射ターゲットの下面には散熱ブロックが設置されており、前記鋼板には前記独立した個体式の反射ターゲットに対応してアライメント穴が設置されており、前記アライメント穴はベリリウム窓に対応し、複数のX線の出射口を形成する。
好ましくは、前記走査型のX線源にはグリッド制御スイッチが配設されており、前記グリッド制御スイッチはラックを介して前記真空チャンバー体に固定されており、前記グリッド制御スイッチの出力端はリード線を介して前記グリッドに連結され、前記グリッド制御スイッチはグリッド制御電源に連結されており、前記グリッド制御電源は外部の高圧電源に連結される。
好ましくは、複数のリニアアレイ式に配置された前記アノードターゲット構造を使用してX線を生成且つ出射させ、また、前記アノードターゲット構造は独立した個体式の反射ターゲットを使用する場合、前記カソードにより発射される電子ビームは前記独立した個体式の反射ターゲットのターゲット面に向い合う。
本発明にて提供される走査型のX線源はカソードを通じて電子ビームを生成し、グリッドを介して電子ビームのオン/オフを制御し、及び偏向コイルは電子ビームの作動方向に対して制御することによって、事前に設定された規則に従って対応するターゲット面を順次に衝突させ、多焦点との間の切り替えを完成する。このような方法は、本走査型のX線源の効率を向上させると共に、走査型のX線源及び複数の投射角度でイメージングを取得することに対する画像形成システムの要件を満足させ、作動機構を使用してX線源の回転または平行移動を実現する際に機械的なモーションアーチファクトが生成される問題を解決する。他に、本走査型のX線源はさらに大きい効率と熱容量を有すると共に、体積が小さく、焦点密度が高い特徴を有する。
図1に示すように、本発明にて提供される走査型のX線源は真空チャンバー体1を含み、真空チャンバー体1内には1つのカソード2と複数のアノードターゲット構造3が設置されており、真空チャンバー体1内のカソード2に近い位置にはグリッド4が設置されており、真空チャンバー体1内のグリッド4に近い位置には集束極5が設置されており、真空チャンバー体1の外周且つグリッド4に近い位置には偏向コイル6が設置されている。グリッド4を制御することによって、カソードにより生成される電子ビームを順番に集束極5の集束、偏向コイル6の作動方向を経過させ、事前に設定された規則に従って対応するアノードターゲット構造3のターゲット面を順番に走査衝突させ、ターゲット面の衝突側からX線を生成し、事前に設定された配列形状に沿って配置される複数の焦点を形成する。その中、焦点が配置される事前に設定された配列形状は画像形成システムの必要によって決定することができる。
図8に示すように、出射面上のブロックは放射線の出射口306を表し、矢印は電子ビームがターゲット面を走査衝突する作動方向を示し、出射面の上方の曲線はX方向の偏向コイルに印加される電圧波形を表し、出射面の左方の曲線はY方向の偏向コイルに印加される電圧波形を表し、電子ビームが左から右へ、上から下への順番にアノードターゲット構造3のターゲット面を順次に走査衝突することによって、X線を生成させるように、X方向の偏向コイルとY方向の偏向コイルに印加される電圧波形はマッチングされる。
図9に示すように、反転ジオメトリの画像形成システムにおいて、本走査型のX線源のアノードターゲット構造3を用いて生成且つ出射されたナロービームX線を使用すると共に、本走査型のX線源を該反転ジオメトリの画像形成システムのフレームを満足させる平面上に分散させる必要がある。
Claims (9)
- 真空チャンバー体を含む走査型のX線源において、前記真空チャンバー体内にはカソードと複数のアノードターゲット構造が設置されており、前記真空チャンバー体内の前記カソードに近い位置にはグリッドが設置されており、前記真空チャンバー体内の前記グリッドに近い位置には集束極が設置されており、前記真空チャンバー体の外周且つ前記グリッドに近い位置には偏向コイルが設置されており、
前記グリッドは、前記カソードにより生成される電子ビームが順番に前記集束極の集束、前記偏向コイルの作動方向の偏向を経過した後、事前に設定された規則に従って対応する前記アノードターゲット構造のターゲット面を順次に衝突して、前記ターゲット面の衝突側からX線を生成することによって、事前に設定された配列形状に沿って配置される複数の焦点を形成するように制御し、
少なくとも一つの前記アノードターゲット構造を使用してナロービームX線を生成且つ出射させ、また、前記アノードターゲット構造は一体式の反射ターゲットを使用する場合、前記一体式の反射ターゲットの上面には散熱ブロックが設置されており、前記散熱ブロックの上面には鋼板が設置されており、前記鋼板にはリニアアレイ式に従って複数のアライメント穴が配置されており、前記アライメント穴は一つのベリリウム窓に対応し、複数のX線の出射口を形成しており、
少なくとも一つの前記アノードターゲット構造を使用してナロービームX線を生成且つ出射させ、また、前記アノードターゲット構造はアレイ形状に配置される場合、前記アノードターゲット構造は独立した個体式の反射ターゲットを使用し、前記独立した個体式の反射ターゲットの上面には散熱ブロックが設置されており、前記散熱ブロックの上面には鋼板が設置されており、前記鋼板には前記独立した個体式の反射ターゲットに対応してアライメント穴が設置されており、前記アライメント穴は一つのベリリウム窓に対応し、複数のX線の出射口を形成する、走査型のX線源。 - 前記アライメント穴は前記鋼板に埋め込められており、前記ベリリウム窓は前記散熱ブロックと前記鋼板に埋め込まれ且つ対応する前記アライメント穴を貫通することを特徴とする、請求項1に記載の走査型のX線源。
- 真空チャンバー体を含む走査型のX線源において、前記真空チャンバー体内にはカソードと複数のアノードターゲット構造が設置されており、前記真空チャンバー体内の前記カソードに近い位置にはグリッドが設置されており、前記真空チャンバー体内の前記グリッドに近い位置には集束極が設置されており、前記真空チャンバー体の外周且つ前記グリッドに近い位置には偏向コイルが設置されており、
前記グリッドは、前記カソードにより生成される電子ビームが順番に前記集束極の集束、前記偏向コイルの作動方向の偏向を経過した後、事前に設定された規則に従って対応する前記アノードターゲット構造のターゲット面を順次に衝突して、前記ターゲット面の衝突側からX線を生成することによって、事前に設定された配列形状に沿って配置される複数の焦点を形成するように制御し、
少なくとも一つの前記アノードターゲット構造を使用してブロードビームX線を生成且つ出射させ、また、前記アノードターゲット構造は一体式の反射ターゲットを使用する場合、前記一体式の反射ターゲットの下面には散熱ブロックが設置されており、前記一体式の反射ターゲットの上面には鋼板が設置されており、前記鋼板にはリニアアレイ式に従って複数のアライメント穴が配置されており、前記アライメント穴はベリリウム窓に対応し、複数のX線の出射口を形成しており、
少なくとも一つの前記アノードターゲット構造を使用してブロードビームX線を生成且つ出射させ、また、前記アノードターゲット構造はアレイ形状に配置される場合、前記アノードターゲット構造は独立した個体式の反射ターゲットを使用し、前記独立した個体式の反射ターゲットの上面には鋼板が設置されており、前記独立した個体式の反射ターゲットの下面には散熱ブロックが設置されており、前記鋼板には前記独立した個体式の反射ターゲットに対応してアライメント穴が設置されており、前記アライメント穴はベリリウム窓に対応し、複数のX線の出射口を形成する、走査型のX線源。 - 前記アライメント穴は前記鋼板に埋め込められており、前記ベリリウム窓は前記鋼板に埋め込められ且つ対応する前記アライメント穴を貫通することを特徴とする、請求項3に記載の走査型のX線源。
- 前記走査型のX線源にはグリッド制御スイッチが配設されており、前記グリッド制御スイッチはラックを介して前記真空チャンバー体に固定され、前記グリッド制御スイッチの出力端はリード線を介して前記グリッドに連結され、前記グリッド制御スイッチはグリッド制御電源に連結され、前記グリッド制御電源は外部の高圧電源に連結されることを特徴とする、請求項1または3に記載の走査型のX線源。
- 前記偏向コイルはX方向の偏向コイルとY方向の偏向コイルとを含み、前記X方向の偏向コイルと前記Y方向の偏向コイルには制御インターフェースがそれぞれ設置されており、前記制御インターフェースはそれぞれ主制御回路に連結され、前記主制御回路は前記X方向の偏向コイルの前記制御インターフェースと前記Y方向の偏向コイルの前記制御インターフェースに対してそれぞれ事前に設定された電圧波形を印加することによって、前記カソードにより生成される電子ビームの作動方向に対する制御を実現することを特徴とする、請求項1または3に記載の走査型のX線源。
- 一つの前記アノードターゲット構造を使用してX線を生成且つ出射させ、また、前記アノードターゲット構造は一体式の反射ターゲットを使用する場合、前記カソードが発射する電子ビームは前記一体式の反射ターゲットのターゲット面に向い合うことを特徴とする、請求項1または3に記載の走査型のX線源。
- 複数のリニアアレイ式に配置された前記アノードターゲット構造を使用してX線を生成且つ出射させ、また、前記アノードターゲット構造は独立した個体式の反射ターゲットを使用する場合、前記カソードにより発射される電子ビームは前記独立した個体式の反射ターゲットのターゲット面に向い合うことを特徴とする、請求項1または3に記載の走査型のX線源。
- 請求項1~8のいずれか1項に記載の走査型のX線源を含む、画像形成システム。
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