JP2002528878A - 可変結像スポットサイズを提供するｘ線管 - Google Patents

可変結像スポットサイズを提供するｘ線管

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JP2002528878A JP2000578836A JP2000578836A JP2002528878A JP 2002528878 A JP2002528878 A JP 2002528878A JP 2000578836 A JP2000578836 A JP 2000578836A JP 2000578836 A JP2000578836 A JP 2000578836A JP 2002528878 A JP2002528878 A JP 2002528878A
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ベミス、トーマス・マイケル
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 可変結像スポットサイズを提供するＸ線管 【解決手段】 可変スポットサイズＸ線管は、アノードに対する対称の管軸に沿って実質的に移動する電子ビームを提供する電子放出表面を有するカソードを備える。カソードから離間されたアノードは、ターゲットを含み、このターゲットの前面は、軸対称に関して斜角に配置される。アノードの電位は、カソードのそれに相対して一般的に正である。カソードは、電子が熱電子放出プロセスによって放出される温度まで加熱される。カソードからの電流は、カソードが温度制限領域内で動作される場合、カソード温度を変化させることによって制御され得る。入射電子ビームは、ターゲット表面（３８）上にスポットを形成すると共に、このターゲット上への電子ビームの衝突に応答してＸ線が生成される。Ｘ線は、ターゲットスポットから外側に真空ウインドウ（４２）を介して伝播してＸ線管の外側にビーム状のＸ線放射を形成する。開口グリッド（１８）は、カソードとアノードとの間に配置され、電子ビームが通過可能な中心開口を有する。更に、開口グリッドは、正、負、又はカソードの電位に等しい可変電圧が印加される。制御グリッド上の電圧は、ターゲットに衝突する電子ビームの直径を制御するために使用される。特に、電子ビームの直径は、可変開口グリッド電圧に対応して変化し、かつ電子ビームの直径の選択的変化によって、Ｘ線結像スポットのサイズが対応して変化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 （発明の背景） １．発明の分野 本発明は、Ｘ線管に関し、より詳細には、所与の範囲に亘って連続的に調節可
能な結像スポットサイズを生成する高パワーＸ線管に関する。
【０００２】 ２．関連技術の記述 従来技術において、Ｘ線源を使用して医療及び技術的診断用途のためにプレー
ナ画像を生成することは周知となっている。技術的診断結像の分野において、Ｘ
線は、中実の結像オブジェクトの内部構造を浸透する点において特に有効であり
、かつそれらを通過したＸ線によって形成される画像は、そのオブジェクトの内
部欠陥や構造的欠点を現す。このように、技術的診断Ｘ線結像は、製造中及び製
品の有効寿命に亘って製品の構造的態様を評価するための高品質制御検査ツール
を提供する。この形態の診断解析は、他のタイプの評価方法に比べて有利である
。理由は、この結像オブジェクトは、評価の処理において破壊される必要が無い
からである。このため、技術的診断結像は、非破壊検査として公知となっている
。
【０００３】 一般に、技術的結像用途のためのＸ線管は、アノードに向けて加速される電子
ビームを放出するように励起されるカソードを有する電子ガンを備える。このア
ノードは、タングステンのような金属ターゲット表面で構成されることができ、
この表面からＸ線が加速された電子の衝突に起因して発生される。アノード表面
を電子ビームの軸に対してある角度で配置することによって、Ｘ線は、電子ビー
ムに対して略垂直な方向へ送信されることができる。次に、Ｘ線は、Ｘ線管内に
真空シールを提供するために使用されるベリリウムウインドウを通過できる。そ
の後、Ｘ線はＸ線管を略コーン状パスに沿って出る。このコーンの頂点が、結像
電子ビームによって形成されたターゲットのスポットと略一致する。
【０００４】 Ｘ線管によって提供される倍率は、部分的にスポットサイズに依存し、これは
、時々結像スポットサイズと呼ばれる。一般に、より小さなスポットサイズによ
って、望ましい画像の鮮鋭度を維持しながら、より大きな倍率が可能となるが、
結像されたオブジェクトのより小さな部分をカバーする。これは、例えば、写真
フィルムや他のＸ線画像記録手段に位置に関して、Ｘ線源、即ち、Ｘ線結像スポ
ットにより近接して結像されたオブジェクトを配することによって達成される。
反対に、より大きなスポットサイズによって結像されたオブジェクトのより大き
な部分を結像し得るが、一般に、それはより低い倍率レベルにおいてである。こ
の場合、より小さなスポットサイズとは反対に、電子ビーム衝突の領域は、ター
ゲット上でより大きく、従って、電圧が高くなれば、電流がより大きくなり、或
いはより大きな電圧と電流の電子ビームは、ターゲットヘの過剰な熱的ストレス
無しで利用され得る。従来のＸ線管は、一般的に単一のスポットサイズ或いはあ
る場合には二つの離散的スポットサイズに制限される。二つの異なるスポットサ
イズを提供するために、Ｘ線管は、異なる直径の電子ビームを提供するために交
互に励起される二つの離散的カソードフィラメントを有する。Ｘ線管の操作者は
、結像されるオブジェクトの望ましい倍率レベルとサイズによってカソードフィ
ラメントの一方を選択する。このようなシステムの欠点は、Ｘ線管のスポットサ
イズが特定の結像動作にとって最適にされることができないことである。
【０００５】 従来のＸ線管では、有効スポットサイズを減少する他のアプローチは、ビーム
軸に対して９０°で配向されるＸ線出力コーンを維持しながら、ビーム軸に対し
て４５°よりも平らな角度でアノード表面を位置決めすることである。このアプ
ローチの利点は、平らなアノード角度は、アノード上のパワー密度を低下し、そ
れが過剰な場合は、タングステンターゲット材料の望ましくない溶融及び気化を
引き起こす。更に、平らなアノード角度を幾何学的に補償するために、電子ガン
は、Ｘ線スポットが円形断面を有するように楕円形の電子ビームを提供するよう
に構成される。この電子ガンの軸対称の欠落は、Ｘ線管の製造でのコストと複雑
さを増す。更に、電子ビームスポットは、めったに楕円形ではなく、かつ得られ
たＸ線結像スポットは、通常形状が歪んでおり、密度が不規則であり、更にＸ線
画像に品質低下を導く非円形である。
【０００６】 このように、結像動作でより大きな柔軟性を可能とするために所与の範囲に亘
って連続的に調節可能であるスポットサイズを有するＸ線管を提供することが望
ましい。また、製造を容易にしかつＸ線スポットの対称性と密度を改良するため
に軸方向に対称的な幾何学形状で構成されたＸ線管を提供することが望ましい。
さらに望ましい利点は、スポットサイズとＸ線密度が、オブジェクトを再位置決
めすること無しに変えられることである。最後に、改良されたＸ線画像品質を得
るためにより均一密度円形Ｘ線結像スポットを有するＸ線管を提供することが望
ましい。
【０００７】 （発明の概要） 本発明の教示によると、Ｘ線管が所与の範囲において連続的に調節可能なスポ
ットサイズを提供する。連続的に調節可能なスポットサイズは、操作者が、特定
の結像オブジェクトに結像するために最適のスポットサイズと密度を選択するこ
とを可能にする。さらに、そのＸ線管は軸方向に対称的な幾何的形状を有し、こ
れは単純な機械的製作を可能にし、そして改善された品質のＸ線像のための実質
的にさらに均質な密度の円形Ｘ線結像スポットをもたらす。
【０００８】 さらに詳しく述べると、そのＸ線管は、電子放出表面を有するカソードを有し
、そのカソードは電子放出表面の対称軸に沿って動く電子ビームを提供する。ア
ノードはカソードから離間され、対称軸に関して１５７．５°の角度に配置され
たターゲット表面を有する。ターゲット表面はその上に電子ビームが衝突すると
それに応答してＸ線を提供する。Ｘ線は、そのＸ線ターゲット上のＸ線結像スポ
ットからＸ線管の外側に向けられる。カソードとアノードの間に開口グリッドが
設けられ、中心開口を通って電子ビームが通過するようになっている。その開口
グリッドはさらに、そのカソードに対して印加される可変電圧を有し、それは電
子ビームの直径を制御するために使われる。さらに詳しく述べると、電子ビーム
の直径は可変電圧に応じて変わり、そして電子ビームの直径の選択的変化によっ
て、Ｘ線結像スポットのサイズの対応する変化がもたらされる。
【０００９】 本発明の一つの実施の形態では、そのＸ線管は、対称軸に対する電子ビームの
位置を変えるようにされており、それによって、ターゲット表面の上の電子ビー
ムの衝突点を変えるようになっている。少なくとも一つの磁極片がアノードの中
に対称軸に垂直の方向に配置されている。磁界が電子ビームを通るように、極片
に磁界が印加される。このようにして、ターゲット表面の上の離れたスポット上
に、電子ビームが衝突するようになっており、ターゲット表面の上の熱ストレス
の有害な効果を分散している。
【００１０】 この好ましい実施の形態についての以下の詳細な説明を考慮すると、当業者は
、この可変スポットＸ線管のもっと完全な理解を得ることができ、また付加的な
本発明の利点と目的を実感するであろう。添付の図面を参照する。それについて
最初に簡単に説明する。
【００１１】 （好ましい実施形態の詳細な説明） 本発明は、結像動作でより大きな柔軟性を可能とするために所与の範囲に亘っ
て連続的に調節可能であるスポットサイズを有するＸ線管の必要性を満足する。
以下の詳細な説明において、同様な構成要素の参照番号は、上記図面の一つ或い
はそれより多く図面において図示された同様な構成要素を記述するために使用さ
れる。
【００１２】 始めに、図１を参照して、Ｘ線管で使用される電子ガンの第１の実施形態が示
される。この電子ガンは、電子エミッタ１２を有するカソードアセンブリを含む
。エミッタ１２は、トリウムタングステン又は他の同様な電子放出材料から形成
された螺旋状にコイルされたフィラメントワイヤで構成されることが可能であり
、またそれが略円形或いは対称的空間を占めるように配置される。フィラメント
ワイヤは、共通に「パンケーキ」と呼ばれるタイプの略平らな断面を備えてもよ
い。環状形状のエッジ電極１６は、エミッタ１２の周りでありかつそれから離間
して同心的に配置され、かつ環状フォーカス電極２２は、エッジ電極の周りでか
つそれから離間して同心的に配置される。
【００１３】 開口グリッド１８は、エッジ電極１６とフォーカス電極２２との間に同心的に
配置される。まは、開口グリッド１８は、環状の形状であり、かつエミッタ１２
が露出される中央開口を有する。図１に示されるように、開口グリッド１８は、
エミッタ１２に平行な面にある平らな表面を有する。エミッタ１２、エッジ電極
１６及びフォーカス電極２２は、共に同じ負電位に連結され、そして開口グリッ
ド１８は、これらのカソード要素に関して可変正又は負電圧源に連結される。更
に、エミッタ１２、エッジ電極１６、開口グリッド１８及びフォーカス電極２２
は、それらの各々が共通軸１５の回りに対称的に配置される。
【００１４】 アノードアセンブリは、カソードアセンブリから離間される。アノードアセン
ブリは、環状部分３２とターゲット部分３６とを含む。環状部分３２は、軸１５
に沿って延出する開口３４を含む。ターゲット部分３６は、軸１５に対して鈍角
に配置されると共に軸に対して対称的ではないターゲット表面３８を備える。タ
ーゲット表面３８は、タングステンのようなＸ線放出物質よりなる。コーン形状
の開口は、環状部分３２とターゲット部分３６との間に設けられ、以下でより詳
細に記述されるように、装置内で発生されたＸ線のための出力通路を提供する。
ウインドウ４２は、装置内に真空シールを維持するためにコーン形状の開口を横
切る。ウインドウ４２は、ベリリウムやＸ線の通過を可能とするように選択され
た同様の材料より構成され得る。
【００１５】 動作上、電流は、電子の熱電子放出が発生するのに十分なレベルまで温度を上
昇するエミッタ１２に印加される。−１６０キロボルトのような、高い負の電圧
がアノードアセンブリに関してカソードアセンブリに印加され、それによって電
子ビームがエミッタ１２からアノードアセンブリヘ引っ張られる。逆に、カソー
ドアセンブリは、接地されてもよく、かつ高い正の電圧、例えば、＋１６０キロ
ボルトがアノードアセンブリに印加されることができる。従来技術で公知である
ように、電子ビームの電流は、エミッタ１２が限られた温度領域で動作する場合
、エミッタ１２の温度に依存する。エッジ電極１６とフォーカス電極２２の形状
は、カソードアセンブリとアノードアセンブリとの間の電極間空間内に等電位ラ
インを画定して、電子ビームが一般的にターゲット表面３８にフォーカスされる
と共に向けられる。
【００１６】 電子ビームの外側エンベロープ１７が図１に示される。電子ビームは、アノー
ド３２の環状部分の開口３４を通過し、Ｘ線３３を生成するためにターゲット表
面３８に衝突する。Ｘ線３３は、環状部分３２とアノードアセンブリのターゲッ
ト部分３６との間に設けられた開口を介して略コーン状パスに伝送される。Ｘ線
３３は、ウインドウ４２を通過して装置を越えた所定の距離に結像スポットを形
成する。開口グリッド１８に提供される電圧は、電子ビームがエミッタ１２を離
れるに従って、電子ビームを発散或いは収縮させる。開口グリッド１８を通過し
た後、電子ビームは略発散するパスへ拡散し、そして開口グリッド１８とアノー
ドアセンブリとの間の静電界の形状によってコーンに実質的にフォーカスされる
。
【００１７】 特定の例として、図２は、Ｘ線管可変結像制御のコンピュータシミュレーショ
ン近似から導出されるチャートを示す。このチャートは、ミリメートル（ｙ軸）
対開口グリッド電圧（ｘ軸）におけるビーム半径のプロットを示し、ここでビー
ム半径は、電子ビームの６３．２パーセントを囲む半径として定義される。＋１
６０キロボルトがアノードアセンブルへ印加されたと仮定して、グラフは、開口
グリッド電圧が０ボルトのカソードアセンブリに関して約＋９９０に設定される
と、ターゲット上のスポットサイズの最小化が起こることを示す。従って、ター
ゲット表面３８上に衝突する点での電子ビームの直径は、開口グリッド１８に印
加される電圧を変化することによって変更され得る。例えば、ビームのサイズは
、＋９１０ボルトの電圧を開口グリッドに、或いは＋１０４５ボルトを印加する
ことによって効果的に２倍にされることができる。
【００１８】 更に、カソードアセンブリに関して略負電圧の開口グリッド１８ヘの印加によ
って全てのビーム電流をオフにスイッチすることができる。電子ビームのフォー
カシングを変更することによって、発生されたＸ線のスポットサイズもまた変化
する。このように、ターゲット表面３８を打つ電子ビームの直径が増加すると、
Ｘ線装置によって提供される結像スポットサイズが増加し、かつ電子ビームの直
径が減少すると、それは減少する。電子ビームの形状とＸ線スポットサイズとの
間の関係は、更に以下の本発明装置と従来技術の装置との幾何学形状の議論にお
いて記述される。
【００１９】 次に、図３と４を参照して、Ｘ線管の電子ガンの他の実施形態が示される。こ
れらの実施形態は、アノードのターゲット表面に過度のストレスを付与すること
の問題を解決することに向けられる。上述のように、従来のＸ線管の欠点は、ア
ノードを打つ電子ビームのパワー密度は、タングステン材料の望ましくない溶融
や気化を引き起こす。ターゲット表面の過度のストレスを避ける方法は、電子ビ
ームの衝突点を異なる位置に移動することである。これは、Ｘ線結像スポットの
パワー密度が低下されないように、電子ビームの形状を歪ませることなく達成さ
れることが必要である。
【００２０】 より詳細には、図３は、アノードアセンブリの環状部分３２を横断面で示す。
第１と第２のセクション５１と５２を有する極片は、アノードアセンブリの環状
部分３２内に半径方向に延出する。極片セクション５１と５２は、全体としては
開口３４へは延出しないが、Ｘ線管の真空エンベロープが極片セクションの導入
によって影響されないことを確保するために開口に達する前に終端する。更に、
極片セクション５１と５２は、誘導コイル５０が接続された磁気リターンストラ
ップ５６へ連結される。電流の誘導コイル５０への印加によって開口３４を二分
しかつ電子ガンの中心軸１５に垂直に延出する磁界Ｂを生成する。誘導コイル５
０へ印加される電流のレベルを変化させることによって磁界Ｂの大きさが変化さ
れ得る。磁界Ｂは、それが開口３４を通過するように突出されると電子ビームを
偏向して、電子ビームをターゲット表面３８の他の位置に衝突させる。このよう
に、電子ビームは、あらゆる点への熱ストレスを減少するためにターゲット表面
３８のより大きな領域を横切るように電子ビームのエネルギーを拡散するために
定期的に再位置決めが行なわれ得る。電子ビームの偏向は、Ｘ線管の操作者によ
って手動的に制御されてもよいし、或いは、ターゲット表面３８の過加熱を検出
して自動的に制御されてもよい。
【００２１】 同様に、図４は、他の実施形態を示し、ここではセクション５１、５２と５３
、５４を有する一対の交差する極片が利用される。極片セクションは、互いに垂
直に配置されると共に、各々は、中心軸１５を貫通するように二つの軸に延出す
る磁界Ｂ１とＢ２を提供するように各誘導コイル（図示せず）を有する。このよ
うに、交差する磁界Ｂ１とＢ２は、この二つの軸方向への電子ビームの偏向への
より大きな範囲の制御を可能とすることに留意すべきである。
【００２２】 図５では、カソードアセンブリの他の実施形態が図示されている。この他の実
施形態では、カソードアセンブリは、支持スリーブ２９と熱的にシールされたエ
ンドキャップ２４によって画定されるオーブン領域内に配置される螺旋状に巻か
れたフィラメントワイヤ２６を備える。このエンドキャップ２９の中心部は、ト
リウムタングステン又は他の同様な電子放出材料で作られた放出表面１４を提供
する。この放出表面１４は、開口グリッド１８内に同心的にかつそれから離間し
て配置された円形形状を有する。また、熱シールド２８は、オーブン領域内に熱
を含みかつオーブン領域の外側ヘの熱伝達を防止するようにカソードアセンブリ
内に設けられることができる。
【００２３】 カソードアセンブリを動作するために、電圧電位ＶＨがフィラメントワイヤ２
６に印加される。前述の実施形態の場合と同様に、フィラメントワイヤ２６を流
れる電流は、このワイヤの温度を上昇させる。フィラメントによって発生される
熱は、オーブン領域内（例えば、図５の破線で図示されたパターン内）で外側に
向かってエンドキャップ２４へ、かつ特に放出表面１４へ放射される。放出表面
１４上への熱放射は、そこからの電子の熱電子放出を生じさせ、電子のビームは
、カソードアセンブリとアノードアセンブリとの間に高い負の電圧電位を印加す
ることによって放出表面１４から引出される。更に、電位差がフィラメントワイ
ヤ２６と放射表面１４との間に印加されてもよい。この場合、フィラメントワイ
ヤ２６からの電子は、エンドキャップ２４の後部に衝突してそれを熱電子放出が
生じるのに十分な温度まで加熱する。この汎用の実施形態は、放出表面１４がフ
ィラメントワイヤからの直接放出によって生成されるビームよりも不変的で均一
な電流密度を有する電子ビームを提供できるので、有利である。
【００２４】 本発明の他の態様では、ターゲット角度が軸対称幾何学形状を有する連続可変
スポットサイズを一層可能とするように選択される。図６は、Ｘ線出力コーンの
中心軸３５’とターゲット表面３６’（ターゲット表面３６’は、Ｘ線管の中心
軸１５’に関して１１２．５°に配置される）との間に従来の２２．５°ターゲ
ット角度を使用する従来技術のＸ線管を概略的に示す。従来技術のＸ線管は、タ
ーゲット上に二つの非類似サイズスポットを提供する。これを達成するために、
管は、Ｆ１とＦ２として示される、二つのカソードフィラメントを含み、それら
は、中心軸１５’に関して電子エミッタの分離した非対称領域を占める。これら
のフィラメントは、一般的にヘリカル形状に巻かれたワイヤであり、Ｆ１は、一
般に、Ｆ２よりも長い長さと大きなヘリカルピッチを有する。フィラメントＦ１ とＦ２との間の一般的な非類似性及びそれらの非対称配置に鑑み、夫々の電子ビ
ームは、ターゲット表面３６’上の異なる位置に衝突し得るし、一般的には衝突
する。上述のように、二つのフィラメントＦ１とＦ２は、フィラメントＦ１で生
成されるビームがフィラメントＦ２で生成されるビームよりも大きいように、異
なる直径のビームを生成するのに適している。
【００２５】 ターゲット表面３６’に衝突すると、衝突するビームは、Ｘ線出力コーンを生
成し、このコーンは、ウインドウ４２’を通過してターゲット表面からの焦点距
離ｆ’に配置された対象となるオブジェクト６０を照射する。何れのビームでも
、ターゲットでの略円形断面領域Ｘ線スポットは、照射されたオブジェクトから
見て、Ｘ線管に対する結像スポットサイズを構成する。一般的に、より大きなフ
ィラメントＦ１からのビームは、ターゲット上により高い電流のより大きなスポ
ットサイズを生成するが、より短いフィラメントＦ２は、ターゲット上により低
い電流のより小さなスポットサイズを生成する。フィルム或いはＸ線画像記録手
段３７’を画像スポットから距離ｇ’に配置することによって、拡大されたＸ線
画像を得る。従来技術のＸ線管では、焦点距離ｆ’は、十分な強度を可能とする
ように６インチ或いはその前後である。Ｘ線出力コーンの中心軸３５’は、Ｘ線
管の中心軸１５’に対して９０°の角度を形成する。このように、Ｘ線管は、Ｘ
線管の軸から略垂直な方向へ結像スポットを放出する。このタイプの管の一般的
コーン角度は、図６に示されるように、一般的に４０°である。
【００２６】 図７は、本発明の一つの実施の形態に係るターゲット角度を図示する。従来技
術のＸ線管と違って、ターゲット表面３６は、Ｘ線管の中心軸１５に関して１５
７．５°に配置されている。より大きいターゲット角度によって、Ｘ線出力コー
ンの中心軸３５はＸ線管の中心軸１５に対して１３５°の角度を形成する。電子
ビームが中心軸１５の周りで軸対称であるので、Ｘ線出力コーンは対称的な密度
を有し、ターゲット表面から焦点距離ｆだけ離れた結像オブジェクト６０を照射
する。本発明のＸ線管においては、従来技術に比べてより高い倍率を得ることが
できる。その理由は、例えば、１．２インチに近さで、オブジェクトを結像焦点
スポットの近くに置くことができるからである。（電子ビームが衝突する）本発
明の拡大されたターゲット領域は、ターゲット表面３６の単位面積当たりの加熱
を少なくさせることを評価しなければならない。さらに、オブジェクトを結像ス
ポットに近づけることによって、所定の倍率および画像の明るさのために必要と
される密度が少なくなる。
【００２７】 図８は、従来技術のＸ線管のターゲットの上への入射電子ビームと見かけのＸ
線画像スポットの間の幾何的関係を図示する。フィラメントカソードｄ１’の方
向に長さを有する電子ビームｅが、出射するＸ線ビームの軸に関して角度ａａ’
で配置されているターゲット表面３６’の上に投射される。そのＸ線ビームは見
かけのスポット長ｄ２’を持ち、それはｄ１’ｔａｎ ａａ’に等価であり、ま
たターゲット表面３６の衝突領域ｄ３’の幅はｄ２’／ｓｉｎ ａａ’に等価で
ある。従って、Ｘ線ビームの見かけのスポットサイズは、アノードターゲット角
度が４５°以下ならば、入射電子ビームより小さい。従来技術において使用され
るａａ＝２２．５°のターゲット角度の場合、反射ビームは、入射ビームの長さ
より４１％小さいであろう。ヘリカルフィラメントワイヤＦ１とＦ２に平行な方
向では、ターゲット表面の上の電子ビーム衝突のサイズ以上に、Ｘ線ビームスポ
ットサイズの見かけのサイズが減少することはない。その理由は、ターゲット表
面はこの方向では傾いていないからである。見かけのＸ線ビームサイズｄ２’の
所与のスポット長さのために、ある角度だけターゲットを傾斜することは、所与
のＸ線ビームスポットサイズのためにターゲット表面への電子ビームのパワー密
度を減少させる手段であることが理解できる。ａａ’＝２２．５°の場合、ビー
ムが打つターゲット表面の長さは、見かけのＸ線スポットサイズの長さの２．６
倍長い。
【００２８】 反対に、図９は本発明のＸ線管のアノードターゲット角度とＸ線出力コーンの
幾何学的関係を示す。上に述べたように、本発明のＸ線管はＸ線コーン軸に対し
て２２．５°のアノードターゲット角度と、入射電子ビームの軸の角度に対して
１３５°のＸ線ビーム角度を有する。従って、電子ビームがその上に衝突するタ
ーゲット表面の広がりｄ３はｄ２／ｓｉｎ ａａである。電子ビーム入射の角度
は出射するＸ線ビームの角度と等しいので、ｄ２はｄ１に等しいことになる。こ
のようにして、本発明のＸ線管において、ａａ＝２２．５°の場合には、ビーム
が打つターゲットの長さは、従来技術のＸ線管におけるのと同様に、見かけのＸ
線ビームスポットサイズの２．６倍に長くなる。
【００２９】 図１０と図１１を参照すると、本発明の教示によって構成されたＸ線管の実施
形態が図示されている。図１０は、Ｘ線管のカソードアセンブリの拡大図である
。図５の実施例と同じように、カソードアセンブリは、支持リング１１３の両側
で結合されたシェル半体１０８、１０４によって画定されたオーブン領域の中に
配置された螺旋状にコイルされたフィラメントワイヤ１１２を備えている。前面
に面している一方のシェル半体１１４は円形の放射表面を備え、その放射表面は
トリウム処理されたタングステンあるいは他の電子放出性材料の組からなる。そ
の放射表面の周りに同心的にそしてそれから離間されて、環状形状を有するエッ
ジ電極１１６が配置されており、環状焦点電極１４２がエッジ電極の周りに同心
的にそしてそれから離間されて配置されている。その焦点電極１４２は、凸形の
ドーム形状の外側表面１４４と、放射表面の中心軸に対して同心的に延在してい
る一定直径の穴１４６を有する。ハウジング１２２がカソードアセンブリの外側
部分をほぼ取り囲んでいる。
【００３０】 開口グリッド１１８が、エッジ電極１１６と焦点電極１４２の間に同心的に配
置されている。その開口グリッド１１８もまた環状形状を有し、そして中心開口
を有し、その中心開口を通って放射表面１１４が露出している。その放射表面１
１４と、エッジ電極１１６と、焦点電極１４２は共通に、同じ負の電位に結合さ
れている。そしてその開口グリッド１１８は、正、負、またはこれらの他のカソ
ード要素と同じ電圧に結合されている。図１の実施形態と同様に、開口グリッド
１１８の電圧は、放射表面１１４の上に作られる電子ビームの直径を変えるよう
に、カソードアセンブリのフォーカシング特性を変える。電気リード１３２がフ
ィラメントワイヤ１１２の一つの端子に結合されており、フィラメントワイヤの
他の端子はカソードアセンブリの導電性支持板１２４に結合されている。円筒形
絶縁体１３６が残りのカソードアセンブリを、電気リード１３２がフィラメント
ワイヤ１１２と結合している所から電気的に分離している。フィラメントワイヤ
１１２に印加された電圧電位ＶＨにより放射表面１１４が加熱され、これにより
、その放射表面１１４から電子の熱イオン放射が可能となる。カソードアセンブ
リとアノードアセンブリの間に大きな負電圧を印加すると、ターゲット板におい
て略円形の電子ビームが作られる。別の電気リード１３４が開口グリッド１１８
に電圧を印加する。別の円筒形絶縁体１３８が、開口グリッド１１８につながっ
ている電気リード１３４を、残りのカソードアセンブリから電気的に分離してい
る。絶縁リング１４０が、さらに、開口グリッド１１８と残りのカソードアセン
ブリの間を電気的に分離している。円筒形の絶縁体１３６、１３８と絶縁リング
１４０は、例えばアルミナセラミックのように熱的には導体であり、電気的には
絶縁体である材料である。
【００３１】 図１１は、Ｘ線管全体の側面断面図である。（図１０と関連して説明された）
カソードアセンブリは、Ｘ線管の中に軸方向に配置された絶縁体ポスト１５２か
ら延びている。外部ハウジング１５４がカソードアセンブリから半径方向外側に
設けられており、Ｘ線管の遠位端と結合している。そしてそのＸ線管はＸ線管の
近位端にアノードアセンブリを収容しており、Ｘ線管は（図示しない）他の構造
部分に装置を取り付けることができる。アノードアセンブリはカソードアセンブ
リから離間されており、環状部分１５４とターゲット部分１５６を含んでいる。
環状部分１５２は、カソードアセンブリの中心軸に沿って延びている開口１５４
を含んでいる。ターゲット部分１５６は、中心軸に対して１５７．５°の角度で
配置され、中心軸に対して対称的ではないターゲット表面１５８を備えている。
ターゲット表面１５８はタングステンなどのＸ線放射材料から成る、コーン形状
の開口１６４が前記環状部分１５２と、装置の中で発生されたＸ線の出口通路を
提供するターゲット部分１５６の間に提供される。装置の中の真空シールを維持
するために、前記コーン形状開口１６５にウィンドウ１６２が架設されている。
そのウィンドウ１６２はベリリウムあるいはＸ線を透過させることができるもの
から選択された同様な材料からなる。
【００３２】 以上に述べたように、放射表面１１４から電子ビームをアノードアセンブリに
引き出すように、カソードアセンブリにアノードアセンブリに関して高い負の電
圧が印加される。電子ビームはアノード１５２の環状部分の開口１５４を通って
通過し、そしてターゲット表面１５８に衝突してＸ線を発生する。そのＸ線はウ
ィンドウ１６２を通って略コーン状パスで伝播し、ターゲット上に結像スポット
を形成する。開口グリッド１１８に与えられた電圧は、電子ビームが放射表面１
１４を出る時、電子ビームが僅かに発散したり収束したりすることをもたらす。
従って、開口グリッドの電圧を変えることによって、ターゲット表面１５８にお
ける衝突点でのビームの直径を変えるように、電子ビームの直径を制御できる。
電子ビームのフォーカシングを変えることにより、Ｘ線装置によって提供される
結像スポットサイズは、ターゲット表面１５８を打つ電子ビームの直径が増加す
ると増加し、電子ビームの直径が減少すると減少する。
【００３３】 このように、可変結像スポットサイズを有するＸ線管の好ましい実施形態を説
明してきたので、当業者にとってはこのシステム内での幾つかの利点は明らかで
あろう。本発明の精神および技術的範囲の範囲において、本発明の種々の変更、
適切化、および別の実施形態をすることができることを理解するべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、本発明のＸ線管用の電子ガンの側面断面図である。
【図２】 図２は、開口グリッド電圧の関数としてのビーム半径に対するＸ線管可変結像
スポットサイズ性能のコンピュータシミュレーション近似グラフである。
【図３】 図３は、電子ビーム位置を変更するために、単一軸磁極片を有する電子ガンの
アノードの実施形態の端面図である。
【図４】 図４は、電子ビーム位置を変更するために、２軸磁極片を有する電子ガンのア
ノードの実施形態の端面図である。
【図５】 図５は、電子ガンのカソードアセンブリの他の実施形態の側面断面図である。
【図６】 図６は、従来技術の二重フィラメントカソードによって提供されるＸ線出力コ
ーンの概略図である。
【図７】 図７は、本発明の可変スポットカソードによって提供されるＸ線出力コーンの
概略図である。
【図８】 図８は、従来技術のＸ線管に対するＸ線出力コーンとアノードターゲット角度
との幾何学的関係を示す。
【図９】 図９は、本発明のＸ線出力コーンとアノードターゲット角度との幾何学的関係
を示す。
【図１０】 図１０は、本発明の電子ガンの実施形態の側面断面図である。
【図１１】 図１１は、本発明のＸ線管の実施形態の側面断面図である。
【符号の説明】
１２ 電子エミッタ １５ 共通軸 １６ エッジ電極 １７ 外側エンベロープ １８ 開口グリッド ２２ 環状フォーカス電極 ３２ 環状部分 ３３ Ｘ線 ３４ 開口 ３６ ターゲット部分 ３８ ターゲット表面 ４２ ウィンドウ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 テイラー、ジェームス・チャールズ アメリカ合衆国、カリフォルニア州 94065 レッドウッド・シティ、ブレイク ウォーター・ドライブ 529 (72)発明者 フェラーリ、クリストファー・ポール アメリカ合衆国、カリフォルニア州 94070 サン・カルロス、ボックス 825、 ローレル・ストリート 751 (72)発明者 アレン、カーチス・ゲイリー アメリカ合衆国、カリフォルニア州 94541 ヘイワード、ミニー・ストリート 2117 (72)発明者 ベミス、トーマス・マイケル アメリカ合衆国、ペンシルバニア州 17754 モンツァーズビル、ハンプトン・ ウェイ ９ 【要約の続き】 ドの電位に等しい可変電圧が印加される。制御グリッド 上の電圧は、ターゲットに衝突する電子ビームの直径を 制御するために使用される。特に、電子ビームの直径 は、可変開口グリッド電圧に対応して変化し、かつ電子 ビームの直径の選択的変化によって、Ｘ線結像スポット のサイズが対応して変化する。

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 電子ビームを提供する電子放射表面を有し、その電子ビーム
    が前記放射表面の対称軸にほぼ沿って伝播するカソードと； 前記カソードから離間され、前記対称軸に対して斜角で配置されたターゲット
    表面を有し、その上に前記電子ビームが衝突するとそれに応答して前記ターゲッ
    ト表面がＸ線を提供し、前記Ｘ線は前記Ｘ線管の外側に向けられてＸ線結像スポ
    ットを提供するアノードと； 前記カソードと前記アノードの間に配置された少なくとも一つの開口グリッド
    であって、前記開口グリッドはその中を前記電子ビームが通ることができる中心
    開口を有し、前記開口グリッドはさらに前記カソードに対する可変電圧を有し、
    前記電子ビームの直径は前記可変電圧に応答して変わる開口グリッドとを備え； それによって前記電子ビームの直径の選択的変化が前記Ｘ線結像スポットサイ
    ズの対応する変化を引き起こすことを特徴とするＸ線管。
  2. 【請求項２】 Ｘ線管の真空シールを与え、前記Ｘ線がほぼ通過できる、Ｘ
    線透明ウィンドウをさらに備えることを特徴とする請求項１記載のＸ線管。
  3. 【請求項３】 前記斜角が衝突電子ビームの対称軸に対して約１５７．５°
    であることを特徴とする請求項１記載のＸ線管。
  4. 【請求項４】 前記ターゲット表面がタングステン材料からなることを特徴
    とする請求項１記載のＸ線管。
  5. 【請求項５】 さらに前記電子ビームを対称軸に対して変位させるために前
    記電子ビームの位置を変える手段を備え、これにより、前記ターゲット表面の上
    の前記電子ビームの衝突点を変えることを特徴とする請求項１記載のＸ線管。
  6. 【請求項６】 前記変更手段が、さらに前記対称軸に対して垂直な方向に配
    置された少なくとも一つの磁極片と、前記少なくとも一つの磁極片に磁界を印加
    する手段を備え、これにより、前記磁界が前記電子ビームを通ることを特徴とす
    る請求項５記載のＸ線管。
  7. 【請求項７】 前記変更手段が前記アノードの中に配置されていることを特
    徴とする請求項５記載のＸ線管。
  8. 【請求項８】 前記少なくとも一つの磁極片が一対の交差した極片からなり
    、前記一対の交差した極片が前記アノードに配置されていることを特徴とする請
    求項６記載のＸ線管。
  9. 【請求項９】 前記電子放射表面がフィラメントワイヤからなり、前記フィ
    ラメントワイヤが前記カソードの中でほぼ対称的な空間を占めるように配置され
    ていることを特徴とする請求項１記載のＸ線管。
  10. 【請求項１０】 前記フィラメントワイヤから熱イオン放射が起こるように
    、前記フィラメントワイヤに印加される電圧電位を備えることを特徴とする請求
    項９記載のＸ線管。
  11. 【請求項１１】 前記カソードが、前記電子放射表面の後ろのオーブン領域
    の中に配置されたフィラメントワイヤヒータをさらに備え、前記フィラメントワ
    イヤヒータは前記電子放射表面からの熱イオン放射を引き起こすために使われる
    ことを特徴とする請求項１記載のＸ線管。
  12. 【請求項１２】 前記フィラメントワイヤヒータが熱を放射するように、前
    記フィラメントワイヤヒータに印加された電圧電位をさらに備えることを特徴と
    する請求項１１記載のＸ線管。
  13. 【請求項１３】 前記フィラメントワイヤヒータと前記電子放射表面の間に
    印加される電圧電位をさらに備え、それにより、前記フィラメントワイヤヒータ
    が前記電子放射表面に電子を注入し、前記電子放射表面からの熱イオン放射を引
    き起こすことを特徴とする請求項１１記載のＸ線管。
  14. 【請求項１４】 前記電子放射表面から熱イオン放射を引き起こすように、
    前記電子放射表面を励起する手段をさらに備えることを特徴とする請求項１記載
    のＸ線管。
  15. 【請求項１５】 前記カソードがさらに内部エネルギー源を有する閉じたオ
    ーブンと、前記内部エネルギー源からのエネルギーを受け取るのに適した放射表
    面を備えることを特徴とする請求項１記載のＸ線管。
  16. 【請求項１６】 前記放射表面がカップ形状であることを特徴とする請求項
    １５記載のＸ線管。
  17. 【請求項１７】 前記カソードが温度制限動作をするようにされていること
    を特徴とする請求項１記載のＸ線管。
  18. 【請求項１８】 電子放射表面を有し、前記電子放射表面から熱イオン放射
    を引き起こしそれにより電子ビームを提供するように、前記電子放射表面を励起
    する手段に結合されているカソードと； 前記カソードから離間され、前記電子ビームに対して斜角で配置されたターゲ
    ット表面を有し、前記ターゲット表面はその上に前記電子ビームの衝突に応答し
    てＸ線を作り、前記Ｘ線は前記Ｘ線管の外側に向けられそしてＸ線結像スポット
    を提供する、アノードと； 前記電子ビームの直径を変えることにより前記Ｘ線管のスポットサイズとＸ線
    強度を調節する手段であって、前記カソードと前記アノードの間に配置されてい
    る調節手段とを備えることを特徴とするＸ線管。
  19. 【請求項１９】 Ｘ線管の真空シールを提供し、前記Ｘ線がほぼ通過できる
    、Ｘ線透明ウィンドウをさらに備えることを特徴とする請求項１８記載のＸ線管
    。
  20. 【請求項２０】 前記斜角が衝突電子ビームの対称軸に対して約１５７．５
    °の角度を備えることを特徴とする請求項１８記載のＸ線管。
  21. 【請求項２１】 前記ターゲット表面がタングステン材料からなることを特
    徴とする請求項１８記載のＸ線管。
  22. 【請求項２２】 さらに前記電子ビームを対称軸に対して変位させるために
    前記電子ビームの位置を変える手段を備え、これにより、前記ターゲット表面の
    上の前記電子ビームの衝突点を変えることを特徴とする請求項１８記載のＸ線管
    。
  23. 【請求項２３】 前記カソードが温度制限動作を提供するのに適しているこ
    とを特徴とする請求項１８記載のＸ線管。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004064106A1 (ja) * 2003-01-10 2004-07-29 Toshiba Electron Tube & Devices Co., Ltd. Ｘ線装置
JP2005203358A (ja) * 2003-12-10 2005-07-28 General Electric Co <Ge> Ｘ線ビームの発生方法及び装置

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7180981B2 (en) * 2002-04-08 2007-02-20 Nanodynamics-88, Inc. High quantum energy efficiency X-ray tube and targets
US6785359B2 (en) * 2002-07-30 2004-08-31 Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc Cathode for high emission x-ray tube
DE602004027634D1 (de) * 2003-07-30 2010-07-22 Koninkl Philips Electronics Nv Röntgenröhre mit geformter anode
US6968039B2 (en) * 2003-08-04 2005-11-22 Ge Medical Systems Global Technology Co., Llc Focal spot position adjustment system for an imaging tube
US6901136B1 (en) * 2003-12-02 2005-05-31 Ge Medical Systems Global Technology Co., Llc X-ray tube system and apparatus with conductive proximity between cathode and electromagnetic shield
US7145988B2 (en) * 2003-12-03 2006-12-05 General Electric Company Sealed electron beam source
US7257194B2 (en) * 2004-02-09 2007-08-14 Varian Medical Systems Technologies, Inc. Cathode head with focal spot control
US7197116B2 (en) * 2004-11-16 2007-03-27 General Electric Company Wide scanning x-ray source
US8716925B2 (en) * 2011-08-09 2014-05-06 L-3 Communications Corporation Adjustable perveance electron gun header
JP6498535B2 (ja) * 2015-06-10 2019-04-10 キヤノン電子管デバイス株式会社 Ｘ線管
US20190193193A1 (en) * 2017-12-22 2019-06-27 Arcam Ab Electron beam source and the use of the same
US20190272970A1 (en) * 2018-03-02 2019-09-05 AcceleRAD Technologies, Inc. Static collimator for reducing spot size of an electron beam

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL18969C (nl) 1925-02-11 1928-11-15 Chf Mueller inrichting voor het regelen van de grootte der brandvlek bij een roentgenbuis met gloeikathode
US2011540A (en) 1934-04-18 1935-08-13 James F Lee X-ray tube
GB460181A (en) 1934-05-19 1937-01-20 Felix Raymund Ajkay Improvements in and relating to roentgen-ray tubes
US2683223A (en) 1952-07-24 1954-07-06 Licentia Gmbh X-ray tube
JPS5435078B1 (ja) 1970-07-30 1979-10-31
JPS5318318B2 (ja) 1972-12-27 1978-06-14
SU458899A1 (ru) * 1973-03-22 1975-01-30 Предприятие П/Я М-5659 Ренгеновска трубка
FR2333344A1 (fr) 1975-11-28 1977-06-24 Radiologie Cie Gle Tube radiogene a cathode chaude avec anode en bout et appareil comportant un tel tube
DE3142281A1 (de) 1981-10-24 1983-05-05 Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg Roentgenroehre mit einem metallteil und einer gegenueber dem metallteil positive hochspannung fuehrenden elektrode
US4566116A (en) * 1982-04-30 1986-01-21 Hitachi, Ltd. Soft X-ray generator
US4689809A (en) * 1982-11-23 1987-08-25 Elscint, Inc. X-ray tube having an adjustable focal spot
JPS5994348A (ja) * 1983-10-28 1984-05-31 Hitachi Ltd 可変焦点ｘ線管
DE3401749A1 (de) 1984-01-19 1985-08-01 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Roentgendiagnostikeinrichtung mit einer roentgenroehre
DE3426623A1 (de) 1984-07-19 1986-01-30 Scanray A/S, Kopenhagen Roentgenroehre
US4731804A (en) 1984-12-31 1988-03-15 North American Philips Corporation Window configuration of an X-ray tube
US4993055A (en) 1988-11-23 1991-02-12 Imatron, Inc. Rotating X-ray tube with external bearings
FR2644931A1 (fr) 1989-03-24 1990-09-28 Gen Electric Cgr Tube a rayons x a balayage avec plaques de deflexion
US4979199A (en) 1989-10-31 1990-12-18 General Electric Company Microfocus X-ray tube with optical spot size sensing means
NL9000203A (nl) 1990-01-29 1991-08-16 Philips Nv Eindvenster roentgenbuis.
US5128977A (en) * 1990-08-24 1992-07-07 Michael Danos X-ray tube
JPH0613195A (ja) * 1992-06-29 1994-01-21 Shimadzu Corp Ｘ線透視撮影装置
DE19513290C1 (de) * 1995-04-07 1996-07-25 Siemens Ag Röntgenröhre mit einem Niedrigtemperatur-Emitter
WO1997042646A1 (en) 1996-05-07 1997-11-13 American Science And Engineering, Inc. X-ray tubes for imaging systems
DE19639918C2 (de) * 1996-09-27 2001-02-22 Siemens Ag Röntgengerät mit einer Röntgenröhre mit Variofokus
GB9620160D0 (en) 1996-09-27 1996-11-13 Bede Scient Instr Ltd X-ray generator

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004064106A1 (ja) * 2003-01-10 2004-07-29 Toshiba Electron Tube & Devices Co., Ltd. Ｘ線装置
US7206381B2 (en) 2003-01-10 2007-04-17 Toshiba Electron Tube & Devices Co., Ltd. X-ray equipment
JP2005203358A (ja) * 2003-12-10 2005-07-28 General Electric Co <Ge> Ｘ線ビームの発生方法及び装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP1133784B1 (en) 2004-01-02
ATE257276T1 (de) 2004-01-15
DE69913985D1 (de) 2004-02-05
US6236713B1 (en) 2001-05-22
EP1133784A1 (en) 2001-09-19
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DE69913985T2 (de) 2004-12-09

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