JP6255022B2 - 光学素子の配置を有する装置 - Google Patents
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Description
例えば、ガスレーザでのプラズマ線、またはダイオードレーザでの自然放射増幅光(ASE)、のような、干渉光を抑制する。
励起光がオプトードに運ばれるのに用いられるシリカファイバーからの不要な信号でさえ、この手段でフィルタリングすることができる。これらのバンドパスフィルタは、狭い透過曲線を有し、励起波長に応じて選択される。
この場合、ラマン散乱の結果は、両方のレーザ光源がサンプルを連続的に励起する時、同一の光学システムにより収集することができる。さらに、蛍光発光バックグラウンドを除去するための2つの励起スペクトルの減算、および、スペクトルの差分を解析するための回路が開示されている。しかし、ラマン信号のための励起波長(単数または複数)の制御、最適化または多様性については開示されていない。
本発明は、それぞれ異なる波長を有する個々の光ビームを放射する励起光源を備え、そのスペクトル距離は、波数において互いに均等に離間されている。波数における距離は、未知の物質を同定するため、すべての必要十分となるラマン信号の一般的なスペクトルウィンドウより大きいことが好ましい。本発明における観点でのスペクトルウィンドウにより、対象となるラマン信号のスペクトル範囲を生成することができる。
n個の励起光源が互いに均等に離間しているので、励起波長に対する対象スペクトルを、それぞれ異なるスペクトル範囲から特に効率的な方法で検出することができる。
好ましくは、サンプルにより散乱されたラマン信号は、光学システムによって集められ、共通光路において反対方向に向けられる。
好ましくは、それぞれの第一波長に対して、少なくともn-1個の偏向装置の反射率は、0.5よりも大きく、より好ましくは0.6より大きく、さらに一層好ましくは0.7よりも大きく、さらに一層好ましくは0.8よりも大きく、さらに一層好ましくは0.9よりも大きい。
好ましくは、それぞれ、スペクトルで互いに隣接する励起放射線の波長間の差の量は、互いに隣接するそれぞれの励起放射線の帯域幅の合計よりも大きい。ここで、それぞれの第一波長(中心波長が最も高い強度を有する)周辺にある帯域幅の区間には、好ましくは90%、より好ましくは95%、及びさらに一層好ましくは99%の励起放射線のエネルギーが存在することが示される。
好ましくは、最大1つの残りの偏向装置も、その残りの偏向装置に関連付けられた光路上に、励起放射線の第一波長付近の波長域にある波長に対する第一透過率と、それぞれの別の波長に対する第二透過率を備え、
ここで、第二偏向装置の第二透過率は、最大1つの残りの偏向装置の第一透過率よりも大きい。
好ましくは、偏向装置の第二透過率は、0.5より大きく、より好ましくは0.6より大きく、さらに一層好ましくは0.7より大きく、さらに一層好ましくは0.8より大きく、さらに一層好ましくは0.9よりも大きい。
したがって、それぞれ異なる励起波長(励起光源)のラマンスペクトルは、光学素子を移動させることなく、同時に、または1つずつ時間的順序で、同じ検査用検出器に向けることができる。
これらの光源は、それぞれ異なる光路に重ね合わされ、個々の光ビームを共通光路に偏向させるため装置と関連づけられ、ここで、共通光路は、同じ光学システムを備え、励起経路において被検体に光ビームを集束する。
別の可能な実施形態では、個々の光ビームは、偏向前に、ビーム成形光学システムによって形成され、バンドパスフィルタでフィルタされる。
個々の光ビームが、それぞれの偏向装置に入射する前に、個々の光ビームの各々が、ビーム成形を行うことができるように、共通光路にビーム成形光学システムを配置することも可能である。
2つの接近した間隔の波長で電気的に放射するレーザダイオードを用いてSERDSを実装する場合には、このレーザダイオードは、2つの異なる励起条件でレーザダイオードに印加される電流によって交互に駆動される。それにより、交互にそれぞれ異なる励起波長を生成できる。ここで、励起状態の前後でのスイッチングは、好ましくは0.1ヘルツより大きい周波数で、好ましくは1 kHzより小さい周波数で行われる。
ここで、それぞれ少なくとも1つのラマンスペクトルが散乱放射線からのそれぞれ異なる励起波長に対して検出され、かつ、検査媒体に対する1つのラマンスペクトルはそれぞれ異なる励起波長の少なくとも2つの検出されたラマンスペクトルから識別され、そこでは蛍光発光バックグランドが計算によって除去されている。
ここで、レーザダイオードの交互の駆動と、それぞれ異なる励起波長の個々のラマンスペクトルの検出を同期させることが好ましい。この場合、ラマンスペクトルの検出をその間にそれぞれ実施することができ、レーザダイオードに印加される電流の強さが一定に維持される。
可能な実施形態では、さらに、励起経路上であって、測定対象である物体上に集束することを実現する光学システムが、モバイル移動保持装置上に取り付けられ、その装置によって、測定に必要とされる焦点または焦点領域に(例えば、光学システムを交換すること無く、電気機械的に連続して)調整される。
それにより、生成されたラマン信号の最適な収集が得られる。
また、これにより、光学的に混濁したまたは透明な、サンプルまたはパッケージサンプルにおける、焦点の外側にある信号が抑制され、かつ改善された分光信号が検出される。
追加ビーム成形光学システム108と、ウィンドウ109は、この共通光路に配置され、追加ビーム成形光学システム108は、焦点に光ビームを集光し、それにより、焦点に位置するサンプル110は、ラマン解析を利用できるようになる。
サンプル110からの後方散乱光111は、ウィンドウ109と追加ビーム成形光学システム108によって、共通光路に結像される。
その後、散乱光は、反対方向に、ノッチフィルタ107、121を通過する。ノッチフィルタは、レーザ光および散乱光の弾性的散乱部分をブロックする。ラマン信号は、ノッチフィルタを通過し、別のビーム成形光学システム113に到達する。このシステムは、伝送光学システム(例えば、ガラスファイバー)に、ラマン光子を集束し、結合し、ラマン信号を解析ユニット(例えば、CCD等の4チャンネル検出器を含む分光計)へ搬送する。
図2は、図1に示した本発明の実施形態とは別の実施形態を示す。図2に示す本実施形態において、レーザ光源101、115、関連する光学ビーム成形装置103、117、関連する光学アイソレータ104、118及び関連する光学バンドパスフィルタ105、119は、モジュールA、Bに配置されており、機械的構造に関して、レーザ光源101及び115のレーザ波長以外で同一である。
この共通光路上で、ノッチフィルタにより偏向された光ビームが、ビーム成形光学システムO1により、ビーム成形されて、ウィンドウWにより、焦点および焦点領域に集光される。焦点または焦点領域に位置しているサンプルPは、ウィンドウWおよびビーム成形光学システムO1(ここで、O1は、集光システムとして機能する)を通って、励起光を後方に散乱する。そして、後方に散乱した光は、ノッチフィルタ(F_A1 から F_An および F_B1 から F_Bn)を通って、逆方向に共通光路を進行する。
レーザ光と弾性散乱光は、ノッチフィルタによりブロックされる。スペクトル的にシフトしたラマン信号は、ノッチフィルタを通過し、別のビーム成形光学システムO2により、ファイバF上に集束される。ここで結合されたラマン信号はこのファイバFを経由して評価ユニットに搬送される。
図4Aは、図1のビーム成形ユニット108に相当する光学ビーム成形ユニット02を通り、図1のウィンドウ109に相当するウィンドウ03を通り、焦点または焦点領域に集束された励起光01を示し、ビーム成形ユニット02とウィンドウ03との間の距離aを有している。
焦点または焦点領域に位置されるサンプル04は、光05のように、励起光01を後方散乱する。光05は、ビーム成形装置02によって、図1のビーム成形装置113に相当するビーム成形装置07上に投影される。次に、ビーム成形装置07は、ガラスファイバー08上に光を集束する。図4Bで示されるケースは、図4Aに類似しているが、サンプル04は、もはや焦点上にはない。それにより、サンプルからのラマン信号の最大カップリングインは、もはや不可能である。図4Cにおいて、サンプル04の外部焦点位置は、サンプルとオプトードの間に配置された、透明または混濁した材料09の中間層が存在する結果として実現され、焦点のシフトを引き起こす。
図4Dおよび図4Eに示すように、ビーム成形ユニット02とウィンドウ03の間の距離を長さbに変更することによって、
長さa の焦点距離により以前は焦点の外側にあった、又は、透明または混濁の中間層により焦点の外側にもたらされた、物体を、焦点に戻すことができ、それゆえ、解析が可能となる。
図から分かるように、230 nmおよび669 nmの範囲のラマンスペクトルは、14個の励起光源を用いて測定することができる。このように、ラマンスペクトルを、14個の励起光源により、特に未知のサンプルのために生成することができ、励起波長は、ラマンスペクトルとサンプルの特性に基づいて適切に選択される。スペクトルをカバーするために、絶対波数に対応する励起光源の中心波長が、スペクトルにわたって均一に分布していることが好ましく、それは互いに等間隔に離間されていることを意味している。
ここで、本発明の観点での波数の違いとは、波数の違いが互いに5%未満ほどである場合に、等しいとみなされるとし、それゆえ、その関連する波数は、均等に離間されていると考えられる。
均等間隔の場合に、距離は、例えば、最小距離であり、それは、約10cm-1, 1000cm-1 または 2000cm-1でありえる。
この最小距離により、隣接する励起光源の波数の間に、検出ウィンドウがあることが確実となる。検出ウィンドウ内へ非弾性的に散乱された放射線は、ノッチフィルタにより、弾性的に散乱された放射線から分離することができる。絶対波数に対応する励起光源の中心波長が不均一な分布である場合には、隣接する励起光源の波数間最小距離が維持されることが好ましい。中心波長が不均一に分布されている別の例示的な実施形態では、隣接する励起光源との間の距離が最小距離又は最小距離の倍数に等しい。好ましくは、ノッチフィルタとして形成された偏向装置の幅は、励起光源の弾性的な散乱放射線の少なくとも99%が、集光経路から導かれるように選択される。14個のノッチフィルタのエッジの幅は、できるだけ小さく保たれ、それにより、光(ストークスの範囲と反ストークスの範囲)の非弾性的な散乱に相当する別の波長に対する高い透過率が、ノッチフィルタ間でもたらされる。
Claims (10)
- n個の励起放射線を放射する、n>2である複数の励起光源(A1 から An および B1 から Bn)と、
集光システムと、
を備える、光学素子の配置を有する装置であって、
前記励起放射線は、互いに等間隔の波数であって、それぞれ異なった発光を有し、それぞれ、n個である複数の異なる光路のうちの1つに沿って導かれ、
偏向装置(F_A1 から F_An および F_B1 から F_Bn)は、全ての光ビームと関連づけられ、前記偏向装置は、関連している前記光路であって前記励起放射線のそれぞれの第一波長(λ1)に対する前記光路上に形成され、それにより、それぞれの前記光路を共通光路上に偏向でき、
前記共通光路には、前記励起放射線を集光するために適用される光学システム(O1)を備え、
少なくともn-1個の前記偏向装置(F_A1 から F_An および F_B1 から F-Bn)は、それぞれ、第一透過率(T1)および第二透過率(T2)を備え、前記第一透過率は、前記第一波長(λ1)周辺の、それぞれ1つのスペクトル範囲を持つ波長に対するものであり、前記第二透過率は、それぞれ別の波長に対するものであり、前記第一透過率は、前記第二透過率よりも小さく、波長範囲は重ならず、
前記少なくともn-1個の前記偏向装置は、ノッチフィルターまたは体積ブラッググレーティングとして形成され、
前記集光システムは、散乱された光ビーム成形用の光学システムおよび前記光学システムに関連づけて焦点を共有するように配置された伝送光学システムを有し、
前記集光システムは、物体によって散乱された光を前記ウィンドウおよび前記光学システムおよび前記共通光路を備えた集光経路により個々の光ビームから1つの焦点に集めて出力するように適用され、前記偏向装置は、前記集光経路上に配置されている
ことを特徴とする、光学素子の配置を有する装置。 - 前記スペクトルにおいて、前記励起放射線の互いに隣接する波長の間の差の量は、それぞれ互いに隣接するそれぞれの前記励起放射線の帯域幅の合計より大きいことを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記スペクトルにおいて、前記励起放射線の互いに隣接する波数の前記距離は、少なくと
も10cm-1であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の装置。 - 最大1つの残りの前記偏向装置も、残りの前記偏向装置と関連する前記光路上に、前記励起放射線に関連する第一波長(λ1)周辺の波長範囲の波長に対応する第一透過率と、関連する別の波長に対応する第二透過率とを有し、
第一透過率は、最大1つの残りの前記偏向装置の前記第二透過率より小さいことを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の装置。 - 少なくともn-1個の前記偏向装置(F_A1 から F_An および F_B1 から F_Bn)の前記第一透過率(T1)は、それぞれ、0.5よりも小さいことを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の装置。
- 少なくともn-1個の前記偏向装置(F_A1 から F_An および F_B1 から F_Bn)の前記第二透過率(T2)は、0.5より大きいことを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載の装置。
- nは、3より大きいことを特徴とする、請求項1から6のいずれかに記載の装置。
- 前記光学システム(O1)が駆動されることができ、かつ前記光学システム(O1)の距離がウィンドウ(W)から調整されることができ、それによって焦点位置または焦点領域が前記光学システムを駆動することにより前記装置の外側で調整されることを特徴とする、請求項1から7のいずれかに記載の装置。
- ビーム成形光学システムおよび/またはバンドパスフィルターがそれぞれ異なる光路に配置されることを特徴とする、請求項1から8のいずれかに記載の装置。
- 前記励起光源(A1 から An および B1 から Bn)は、レーザダイオードであり、それぞれ少なくとも二つの異なる波長の前記励起放射線を生成するために少なくとも二つの異なる励起条件で駆動することができることを特徴とする、請求項1から9のいずれかに記載の装置。
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