JP6209071B2 - 光源装置 - Google Patents

光源装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6209071B2
JP6209071B2 JP2013253264A JP2013253264A JP6209071B2 JP 6209071 B2 JP6209071 B2 JP 6209071B2 JP 2013253264 A JP2013253264 A JP 2013253264A JP 2013253264 A JP2013253264 A JP 2013253264A JP 6209071 B2 JP6209071 B2 JP 6209071B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
light
light source
turned
counter electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013253264A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015111515A (ja
Inventor
昭典 浅井
昭典 浅井
福満 憲志
憲志 福満
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hamamatsu Photonics KK
Original Assignee
Hamamatsu Photonics KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hamamatsu Photonics KK filed Critical Hamamatsu Photonics KK
Priority to JP2013253264A priority Critical patent/JP6209071B2/ja
Priority to PCT/JP2014/080345 priority patent/WO2015083528A1/ja
Priority to DE112014005518.2T priority patent/DE112014005518T5/de
Priority to US15/022,222 priority patent/US9646816B2/en
Publication of JP2015111515A publication Critical patent/JP2015111515A/ja
Priority to IL244786A priority patent/IL244786A0/en
Priority to US15/478,306 priority patent/US9824879B2/en
Priority to US15/712,284 priority patent/US10032622B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6209071B2 publication Critical patent/JP6209071B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

本発明は、光源装置に関する。
従来、発光ガスを封入した発光封体の筐体内にレーザ光を照射し、発生したプラズマを利用する光源装置がある。例えば特許文献1に記載の光源では、ガラス製の筐体内に配置した対向電極間に給電することで電極間の放電によるプラズマを発生させ、当該プラズマに集光したレーザ光を継続して照射させることでプラズマ発光であるレーザ支持光を点灯・維持している。
特表2009−532829号公報
しかしながら、上述した従来の光源装置では、対向電極間でプラズマが発生し続けることによって対向電極がスパッタリングされ、対向電極の消耗によって発光封体の寿命が短くなるおそれがあった。また、スパッタリングされた物質が筐体の内壁に付着することでレーザ光の入射やレーザ支持光の取出しが阻害されるため、レーザ支持光の発光強度が徐々に低下していき、発光封体としての寿命が短くなるおそれがあった。
本発明は、上記課題の解決のためになされたものであり、筐体内でのスパッタリングを抑制し、十分な長寿命化が図られる光源装置を提供することを目的とする。
上記課題の解決のため、本発明に係る光源装置は、レーザ光を出射するレーザ部と、内部空間に発光ガスが封入された発光封体、及び、互いに対向するように内部空間に配置された対向電極を有する光源と、レーザ光を対向電極間に導光する光学系と、対向電極間におけるレーザ光のエネルギー密度を制御する制御部と、を備え、光源は、内部空間において、レーザ部からのレーザ光の照射によって点灯する発光ガスのプラズマ発光であるレーザ支持光を、レーザ部からのレーザ光の照射によって維持し、制御部は、レーザ支持光維持時の対向電極間におけるレーザ光のエネルギー密度を、レーザ支持光点灯時の対向電極間におけるレーザ光のエネルギー密度に対して低くすることを特徴としている。
この光源装置では、対向電極間におけるレーザ光のエネルギー密度を制御すると共に、レーザ支持光維持時の対向電極間におけるレーザ光のエネルギー密度をレーザ支持光点灯時の対向電極間におけるレーザ光のエネルギー密度に対して低くしている。そのため、レーザ支持光維持時には、対向電極間におけるプラズマの発生をスパッタリングが生じない程度に抑制できる。したがって、この光源装置では、発光封体内でのスパッタリングを抑制できるため、十分な長寿命化が図られる。
制御部は、レーザ支持光維持時のレーザ光の集光位置をレーザ支持光点灯時のレーザ光の集光位置に対して対向電極間から離間する方向に移動させる集光位置移動部を有していることが好ましい。この場合、レーザ支持光維持時には、レーザ光の集光位置が対向電極間から離間しているため、より確実に対向電極間におけるプラズマの発生をスパッタリングが生じない程度に抑制できる。
集光位置移動部は、レーザ光の内部空間における光路長を調整する光路長調整部を有していることが好ましい。この場合、光路長調整部によって、レーザ支持光点灯時にはレーザ光の集光位置を適切な位置に保ちつつ、レーザ支持光維持時にはレーザ光の集光位置を容易に対向電極間から離間させることができる。
集光位置移動部は、レーザ支持光維持時の光学系の位置をレーザ支持光点灯時の光学系の位置に対して移動させる光学系移動部を有していることが好ましい。この場合、光学系を移動させることで、レーザ光の集光位置を容易に金属構造体から離間させることができる。
集光位置移動部は、レーザ支持光維持時の発光封体の位置をレーザ支持光点灯時の発光封体の位置に対して移動させる発光封体移動部を有していることが好ましい。この場合、発光封体を移動させることで、レーザ光の集光位置を容易に金属構造体から離間させることができる。
光学系は、レーザ支持光点灯時及び維持時のいずれにおいても、レーザ光を対向電極間から離間した位置に集光させることが好ましい。この場合、最もエネルギー密度の高いレーザ光の集光位置が常に対向電極間以外の位置にあるため、発光封体内でのスパッタリングを抑制できる。したがって、光源装置の十分な長寿命化が図られる。
制御部は、レーザ支持光維持時の光源からのレーザ光の出射エネルギーをレーザ支持光点灯時のレーザ部からのレーザ光の出射エネルギーに対して低くすることが好ましい。この場合、レーザ光の集光位置を機械的に移動させる必要がないため、レーザ光の集光位置を適切な位置に保つことができる。
本発明によれば、筐体内でのスパッタリングを抑制し、十分な長寿命化が図られる。
本発明の第1実施形態に係る光源装置を示す図である。 図1に示した光学部材(光路長調整部)のレーザ支持光点灯時における状態を示す図である。 図1に示した光学部材(光路長調整部)のレーザ支持光点灯後における状態を示す図である。 第1実施形態の変形例に係る光学部材(光路長調整部)を構成する透明媒体を示す図である。 図1に示した光学部材(光路長調整部)のレーザ支持光点灯時における他の態様を示す図である。 図1に示した光学部材(光路長調整部)のレーザ支持光点灯後における他の態様を示す図である。 本発明の第2実施形態に係る光源装置のレーザ支持光点灯時における状態を示す図である。 図7に示した光源装置のレーザ支持光点灯後における状態を示す図である。 本発明の第3実施形態に係る光源装置のレーザ支持光点灯時における状態を示す図である。 図9に示した光源装置のレーザ支持光点灯後における状態を示す図である。 本発明の第5実施形態に係る光源装置を示す図である。 図11に示した光源装置の作用を示す図であり、(a)はレーザ支持光点灯時、(b)はレーザ支持光点灯後を示す。
以下、図面を参照しながら、本発明に係る発光封体の好適な実施形態について詳細に説明する。
[第1実施形態]
図1は、本発明の第1実施形態に係る光源装置を示す概略図である。同図に示すように、光源装置1は、レーザ光を出射するレーザ部2と、レーザ部2からのレーザ光Lを導光する光学系3と、互いに対向する対向電極13,13を収容する発光封体11(光源7)とを含んで構成されている。この光源装置1では、対向電極13,13の間に放電を発生させ、その放電領域にレーザ光を照射することで、光源7である発光封体11内において、レーザ光Lの集光位置Fを含む所定の発光領域を有するプラズマ発光である高輝度のレーザ支持光を発生させることができる。レーザ支持光は、例えば半導体検査用の光源や分光計測用の光として使用される。
レーザ部2は、例えばレーザダイオードである。また、レーザ部2としては、連続レーザ及びパルスレーザのいずれを用いてもよいが、本実施形態においては連続レーザを用いる。レーザ部2からは、発光ガスGの吸収スペクトルに合わせた波長、例えば波長980nmのレーザ光Lが出射する。レーザ光Lの出力は、例えば30W程度となっている。レーザ部2から出射したレーザ光Lは、光ファイバ4によって光学系3に導光される。光学系3は、レーザ部2からのレーザ光Lを対向電極13,13間に導光する光学系である。光学系3は、例えば2つのレンズ5,6によって構成されている。光ファイバ4のヘッド4aから出射したレーザ光Lは、レンズ5によって平行光化した後、レンズ6によって光軸LAをもって発光封体11に向けて集光する。集光されたレーザ光Lの直径は、例えば直径120μm程度である。
発光封体11は、より具体的には、内部空間Sに発光ガスGが高圧に封入されたバルブ(筐体)12と、内部空間S内で互いに対向する対向電極13,13とを含んで構成されている。バルブ12は、例えばガラスによって中空に形成されている。バルブ12の内部空間Sには、発光ガスGとして例えばキセノンガスが高圧で封入されている。
対向電極13,13は、例えばタングステン等の高融点金属によって棒状に形成されており、その先端側で互いに対向している。対向電極13の基端側は、バルブ12の壁部を貫通してバルブ12の外部に引き出され、図示しない電源部に接続された給電部材14にそれぞれ接続されることで、電極間放電のための電力が対向電極13,13に供給されている。なお、対向電極13,13が直接バルブ12の壁部を貫通するのではなく、対向電極13,13と電気的に接続された導電部材がバルブ12の壁部を貫通してバルブ12の外部に引き出され、給電部材14にそれぞれ接続されていてもよい。
以上のような光源装置1では、給電部材14を介して対向電極13,13の間に高電圧を付加することにより、対向電極13,13に放電領域が形成され、放電によって内部空間S内の発光ガスGがイオン化及びプラズマ化される。この放電領域にレーザ光Lが照射されることで、高輝度のレーザ支持光が点灯し、レーザ支持光へのレーザ光Lの照射を継続させることで、対向電極13,13への電力供給が停止されても、レーザ光Lによるエネルギー供給を受けてレーザ支持光が維持される。なお、予めレーザ光Lを放電領域に集光させておき、その後、対向電極13,13間で放電領域を形成してもよい。さらに、レーザ支持光の点灯後は、対向電極13,13への給電を停止してもよく、給電を継続してもよい。
また、光源装置1は、集光位置移動部として、レーザ光Lの光路長を調整するための光路長調整部51を備えている。より詳細には、光路長調整部51は、バルブ12の内部空間Sにおける、バルブ12の内壁から集光位置Fまでのレーザ光Lの光軸LAの長さである光路長LLを調整する。光路長調整部51としては、例えば図1に示すような光学部材8を用いる。光学部材8は、レーザ光Lの光軸LA方向の厚さ(レーザ光Lが透過する長さ)が略均一な板状の透明媒体9と、透明媒体9を保持するアクチュエータ10とによって構成されている。透明媒体9は、例えば合成石英ガラスといった空気(発光封体11外部のレーザ光照射雰囲気)よりも高い屈折率を有する材料によって形成されている。アクチュエータ10に保持された透明媒体9は、レーザ支持光LS点灯時(図2)及び点灯後(維持時)(図3)のそれぞれに応じてレーザ光Lの光軸LAと略直交する方向に移動する。
すなわち、まず、図2に示すように、透明媒体9は、光学系3と発光封体11との間に介在し、レーザ光Lにおける断面方向の全領域が透明媒体9を通るように配置される。このとき、レーザ光Lは、例えば対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上、つまり対向電極13,13間の放電領域の中でも、最も放電する可能性が高い放電経路に集光している。このときのラインX上の集光位置Fにおけるレーザ光Lのエネルギー密度は、例えば260kW/cm程度となっている。これにより、対向電極13,13間の放電領域において発生したプラズマにレーザ光Lを照射して、レーザ支持光LSが点灯する。
続いてレーザ支持光LS点灯後(維持時)には、図3に示すように、透明媒体9は、アクチュエータ10によって光学系3と発光封体11との間に介在しないように移動される。このとき、レーザ光Lの集光位置Fは、レーザ支持光LS点灯時のレーザ光Lの集光位置Fに対して光軸LA方向の手前側(図3の上方側)に移動することとなるため、ラインX上におけるレーザ光Lのエネルギー密度は、レーザ支持光LS点灯時(維持時)(図2)のラインX上におけるレーザ光Lのエネルギー密度に対して低下している。
また、レーザ光Lの集光位置Fが対向電極13,13から離間するのに伴って、プラズマ発光であるレーザ支持光LSも対向電極13,13から離間するため、レーザ支持光LSによる対向電極13,13のスパッタリングを抑制できる。以上より、スパッタリングによる対向電極13,13の劣化や、それに伴ってスパッタリングされた物質がバルブ12の内壁に堆積していくことによるレーザ光Lの入射及びレーザ支持光LSの取出しの阻害を抑制できる。そのため、レーザ支持光LSの発光強度の低下を抑制でき、発光封体11及び光源装置1の十分な長寿命化が図られる。
さらに、集光位置Fにおけるレーザ光Lのエネルギー密度を、レーザ支持光LS点灯時よりもレーザ支持光LSを維持可能な程度に小さくしたり、対向電極13,13への電力供給を停止することで、対向電極13,13のスパッタリングを更に抑制できる。したがって、発光封体11および光源装置1の十分な長寿命化が図られる。
光学部材8(光路長調整部51)の構成は、他の態様をとり得る。光学部材8は、例えば空間光変調素子といった光変調素子によって構成されていてもよい。また、透明媒体9に代えて、例えば図4(a)に示すような透明媒体39を用いることもできる。透明媒体39は、一面が他面に対して傾斜していることで、レーザ光Lの光軸LA方向の厚さ(レーザ光Lが透過する長さ)が連続的に変化する板状をなしており、透明媒体9と同様にアクチュエータ10に保持された状態で用いられる。
透明媒体39を用いる場合、まず、透明媒体39をレーザ光Lにおける断面方向の全領域が透明媒体39を通るように光学系3と発光封体11との間に介在させ、例えばレーザ光Lを対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上で集光させる。これにより、対向電極13,13間の放電領域においてレーザ支持光LSが点灯する。
続いて、レーザ支持光LS点灯後(維持時)には、透明媒体39は、アクチュエータ30によって光学系3と発光封体11との間に介在しないように移動される。このとき、透明媒体39の一面が他面に対して傾斜しているため、透明媒体39の移動に伴って透明媒体39のレーザ光Lが入射する領域における厚さも徐々に小さくなっていく。そのため、レーザ光Lの集光位置Fは、透明媒体39の移動に伴って徐々に光軸LA方向の手前側(図2の上方側)に移動していく。これにより、レーザ支持光LSの維持に十分なエネルギー密度を有する領域が徐々に光軸LA方向の手前側に移動することとなる。したがって、レーザ支持光LS点灯後(維持時)にレーザ光Lの集光位置Fを光軸LA方向の手前側に移動させたとしても、レーザ光Lの集光位置Fの移動は連続的な移動となるため、レーザ支持光LSの維持がより確実になされる。
また、透明媒体29に代えて、例えば図4(b)に示すような透明媒体49を用いることもできる。透明媒体49は、レーザ光Lの光軸LA方向の厚さ(レーザ光Lが透過する長さ)が異なる2つの部材が接合されており、例えば4mm程度の厚さを有する第1の透明媒体49aと、例えば2mm程度の厚さを有する第2の透明媒体49bとが互いの端面同士で接合した構成となっている。
透明媒体49を用いる場合、まず、透明媒体49をレーザ光Lにおける断面方向の全領域が第1の透明媒体49aを通るように光学系3と発光封体11との間に介在させ、例えばレーザ光Lを対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上で集光させる。これにより、対向電極13,13間の放電領域においてレーザ支持光LSが点灯する。
続いて、レーザ支持光LS点灯後(維持時)には、透明媒体49は、アクチュエータ30によって光学系3と発光封体11との間に介在しないように移動される。このとき、透明媒体49が厚みの異なる透明媒体49a,49bから構成されているため、透明媒体49の移動に伴って透明媒体49のレーザ光Lが入射する領域における厚さが段階的に小さくなっていく。そのため、レーザ光Lの集光位置Fは、透明媒体49の移動に伴って段階的に光軸LA方向の手前側(図2の上方側)に移動していく。これにより、レーザ支持光LSの維持に十分なエネルギー密度を有する領域が段階的に光軸LA方向の手前側に移動することとなる。したがって、レーザ支持光LS点灯後(維持時)にレーザ光Lの集光位置Fを光軸LA方向の手前側に移動させたとしても、レーザ光Lの集光位置Fの移動は段階的な(小刻みな)移動となるため、レーザ支持光LSの維持がより確実になされる。
また、上記第1実施形態では、レーザ支持光LS点灯後(維持時)のレーザ光Lの集光位置Fは対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインXよりも光軸LA方向の手前側(図1における上方側)の位置であったが、レーザ支持光LS点灯後(維持時)のレーザ光Lの集光位置Fは、対向電極13,13の尖頭部を結ぶラインXよりも光軸LA方向の奥側(図1における下方側)の位置であってもよい。
この場合、図5に示すように、レーザ光Lにおける断面方向の全領域が透明媒体9を通らないように光学系3と発光封体11との間から透明媒体9を退避させた状態で、例えばレーザ光Lを対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上で集光させる。一方、レーザ支持光LS点灯後(維持時)では、図6に示すように、レーザ光Lにおける断面方向の全領域が透明媒体9を通るように光学系3と発光封体11との間に透明媒体9を介在させる。このとき、レーザ光Lの集光位置Fはレーザ支持光LS点灯時のレーザ光Lの集光位置Fに対して光軸LA方向の奥側(図5における下方側)に移動することとなる。したがって、この場合でも上記第1実施形態と同様に、対向電極13のスパッタリングを抑制できる。
[第2実施形態]
図7,8は、それぞれ本発明の第2実施形態に係る光源装置を示す図である。以下では、第2実施形態に係る光源装置について説明するが、第1実施形態と重複する説明は省略する。図7,8に示すように、光源装置21では、例えば光学系3と光ファイバ4のヘッド4aとが筐体17に収容されている。筐体17は、アクチュエータ18(光学系移動部52)に保持されており、レーザ支持光LS点灯時(図7)及び点灯後(維持時)(図8)それぞれに応じて光軸LA方向に移動する。
すなわち、まず、図7に示すように、筐体17は、例えばレーザ光Lが対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上で集光するような位置で保持されている。これにより、対向電極13,13間の放電領域においてレーザ支持光LSが点灯する。続いてレーザ支持光LS点灯後(維持時)には、図8に示すように、筐体17は光軸LA方向の手前側(図7における上方側)に移動する。これにより、レーザ光Lの集光位置Fはレーザ支持光LS点灯時のレーザ光Lの集光位置Fに対して光軸LA方向の手前側(図7における上方側)に移動するため、レーザ支持光LS点灯後(維持時)の対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上におけるレーザ光Lのエネルギー密度がレーザ支持光LS点灯時の対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上におけるレーザ光Lのエネルギー密度に対して低下する。
このように、光学系3を含む筐体17をアクチュエータ18(光学系移動部52)によって移動させるという簡易な構成で、レーザ光Lの集光位置Fを移動させる(対向電極13,13間から離間させる)ことで対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上におけるレーザ光Lのエネルギー密度を変化させることができる。そのため、対向電極13のスパッタリングを抑制でき、光源装置21の十分な長寿命化が図られる。
上記第2実施形態では、レーザ支持光LS点灯後(維持時)のレーザ光Lの集光位置は対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインXよりも光軸LA方向の手前側(図7における上方側)の位置であったが、レーザ支持光LS点灯後(維持時)のレーザ光Lの集光位置は、対向電極13,13の尖頭部を結ぶラインXよりも光軸LA方向の奥側(図7における下方側)の位置であってもよい。すなわち、レーザ支持光LS点灯後(維持時)の筐体17の保持位置は、レーザ支持光LS点灯時の筐体17の保持位置に対して光軸LA方向の奥側(図7における下方側)であってもよい。
[第3実施形態]
図9,10は、それぞれ本発明の第3実施形態に係る光源装置を示す図である。以下では、第3実施形態に係る光源装置について説明するが、第1,2実施形態と重複する説明は省略する。図9,10に示すように、光源装置31では、発光封体11は、アクチュエータ18(発光封体移動部53)に保持されており、レーザ支持光LS点灯時(図9)及び点灯後(維持時)(図10)それぞれに応じて光軸LA方向に移動する。
すなわち、まず、図9に示すように、発光封体11は、例えばレーザ光Lが対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上で集光するような位置で保持されている。これにより、対向電極13,13間の放電領域においてレーザ支持光LSが点灯する。続いてレーザ支持光LS点灯後(維持時)には、図10に示すように、発光封体11は光軸LA方向の奥側(図9における右方側)に移動する。これにより、レーザ光Lの集光位置Fはレーザ支持光LS点灯時のレーザ光Lの集光位置Fに対して光軸LA方向の手前側(図9における左方側)に移動するため、レーザ支持光LS点灯後(維持時)の対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上におけるレーザ光Lのエネルギー密度がレーザ支持光LS点灯時の対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上におけるレーザ光Lのエネルギー密度に対して低下する。
このように、発光封体11をアクチュエータ18(発光封体移動部53)によって移動させるという簡易な構成で、レーザ光Lの集光位置Fを移動させる(対向電極13,13間から離間させる)ことで対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上におけるレーザ光Lのエネルギー密度を変化させることができる。そのため、対向電極13のスパッタリングを抑制でき、光源装置31の十分な長寿命化が図られる。
上記第3実施形態では、レーザ支持光LS点灯後(維持時)のレーザ光Lの集光位置Fは対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインXよりも光軸LA方向の手前側(図9における左方側)の位置であったが、レーザ支持光LS点灯後(維持時)のレーザ光Lの集光位置Fは、対向電極13,13の尖頭部を結ぶラインXよりも光軸LA方向の奥側(図9における右方側)の位置であってもよい。すなわち、レーザ支持光LS点灯後(維持時)の発光封体11の保持位置は、レーザ支持光LS点灯時の発光封体11の保持位置に対して光軸LA方向の手前側(図9における左方側)であってもよい。
[第4実施形態]
図11は、本発明の第4実施形態に係る光源装置を示す図である。以下では、第4実施形態に係る光源装置について説明するが、第1〜3実施形態と重複する説明は省略する。図11に示すように、光源装置41は、集光位置移動部として、レーザ部2から出射するレーザ光Lの出射エネルギーを調整する制御部54を備えている。また、光源装置41では、光学系3は、例えばレーザ光Lを対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上よりも光軸LA方向の手前側(図11における上方側)の位置で集光させている。
図12は、制御部54の作用を示す図である。図12(a)に示すように、制御部54は、まず、レーザ光Lの集光位置Fを対向電極13,13から離間した位置に設定しつつ、対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインXにおけるレーザ光Lのエネルギー密度がレーザ支持光LS点灯可能な程度(例えば260kW/cm程度)となるように、レーザ部2から出射するレーザ光Lの出射エネルギーを設定する。これにより、対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインXにおけるレーザ光Lは、デフォーカス状態でありながら、レーザ支持光LSを点灯することができる。
続いてレーザ支持光LS点灯後(維持時)では、図12(b)に示すように、制御部54は、レーザ光Lの集光位置Fをレーザ支持光LS点灯時の位置(図12(a)の位置)に保ったまま、レーザ部2から出射するレーザ光Lの出射エネルギーをレーザ支持光LS点灯時のレーザ光Lの出射エネルギーに対して低く設定する。これにより、レーザ支持光LSを維持可能なエネルギーを持つ領域をレーザ光Lの集光位置F近傍のみとすることができるため、レーザ支持光LSを対向電極13,13から離間した位置で維持することが可能となる。
このように、光源装置41では、レーザ光Lを常に対向電極13,13間から離間した位置に集光させつつ、レーザ部2から出射するレーザ光Lの出射エネルギーを制御部54によって調整することで、対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上におけるレーザ光Lのエネルギー密度を変化させることができる。したがって、最もエネルギー密度の高いレーザ光Lの集光位置Fが常に対向電極13,13間に位置することはないため、対向電極13のスパッタリングを抑制でき、光源装置41の十分な長寿命化が図られる。また、光源装置41では、レーザ光Lの集光位置Fを機械的に移動させる必要がないため、レーザ光Lの集光位置を適切な位置に保つことができると共に、光学系3や発光封体11を移動させるための装置が不要となるため、光源装置の小型化が図られる。
上記第4実施形態では、光学系3はレーザ光Lを対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上よりも光軸LA方向の手前側(図11における上方側)で集光させていたが、光学系3は、レーザ光Lを対向電極13,13の尖頭部間を結ぶラインX上よりも光軸LA方向の奥側(図11における下方側)で集光させてもよい。この場合でも、上記第4実施形態と同様に、制御部54がレーザ部2から出射するレーザ光Lの出射エネルギーを調整することによって、対向電極13のスパッタリングを抑制できる。
さらに、上記いずれの実施形態においても、集光位置F(レーザ支持光LS)はレーザ光Lの光軸LA方向に移動していたが、レーザ支持光LS点灯後(維持時)のレーザ光Lの集光位置Fがレーザ支持光LS点灯時のレーザ光Lの集光位置Fに対して対向電極13から離間する位置となるのであれば、レーザ光Lの光軸LA方向とは異なる方向(例えばレーザ光Lの光軸LAと交わる方向)に移動してもよい。
1,21,31,41…光源装置、2…レーザ部、3…光学系、7…光源、8…光学部材、9,29,39,49…透明媒体、11…発光封体、13…対向電極、18…アクチュエータ、51…光路長調整部、52…光学系移動部、53…発光封体移動部、54…制御部、G…発光ガス、L…レーザ光、S…内部空間。

Claims (6)

  1. レーザ光を出射するレーザ部と、
    内部空間に発光ガスが封入された発光封体、及び、互いに対向するように前記内部空間に配置された対向電極を有する光源と、
    前記レーザ光を前記対向電極間に導光する光学系と、
    前記対向電極間における前記レーザ光のエネルギー密度を制御する制御部と、を備え、
    前記光源は、前記内部空間において、前記レーザ部からの前記レーザ光の照射によって点灯する前記発光ガスのプラズマ発光であるレーザ支持光を、前記レーザ部からの前記レーザ光の照射によって維持し、
    前記制御部は、前記レーザ支持光維持時の前記レーザ光の集光位置を前記レーザ支持光点灯時の前記レーザ光の集光位置に対して前記対向電極間から離間する方向に移動させる集光位置移動部を有し、前記レーザ支持光維持時の前記対向電極間における前記レーザ光のエネルギー密度を、前記レーザ支持光点灯時の前記対向電極間における前記レーザ光のエネルギー密度に対して低くすることを特徴とする光源装置。
  2. 前記集光位置移動部は、前記レーザ光の前記内部空間における光路長を調整する光路長調整部を有していることを特徴とする請求項に記載の光源装置。
  3. 前記集光位置移動部は、前記レーザ支持光維持時の前記光学系の位置を前記レーザ支持光点灯時の前記光学系の位置に対して移動させる光学系移動部を有していることを特徴とする請求項1又は2に記載の光源装置。
  4. 前記集光位置移動部は、前記レーザ支持光維持時の前記発光封体の位置を前記レーザ支持光点灯時の前記発光封体の位置に対して移動させる発光封体移動部を有していることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光源装置。
  5. レーザ光を出射するレーザ部と、
    内部空間に発光ガスが封入された発光封体、及び、互いに対向するように前記内部空間に配置された対向電極を有する光源と、
    前記レーザ光を前記対向電極間に導光する光学系と、
    前記対向電極間における前記レーザ光のエネルギー密度を制御する制御部と、を備え、
    前記光源は、前記内部空間において、前記レーザ部からの前記レーザ光の照射によって点灯する前記発光ガスのプラズマ発光であるレーザ支持光を、前記レーザ部からの前記レーザ光の照射によって維持し、
    前記制御部は、前記レーザ支持光維持時の前記対向電極間における前記レーザ光のエネルギー密度を、前記レーザ支持光点灯時の前記対向電極間における前記レーザ光のエネルギー密度に対して低くし、
    前記光学系は、前記レーザ支持光点灯時及び維持時のいずれにおいても、前記レーザ光を前記対向電極間から離間した位置に集光させることを特徴とす光源装置。
  6. 前記制御部は、前記レーザ支持光維持時の前記レーザ部からの前記レーザ光の出射エネルギーを前記レーザ支持光点灯時の前記光源からの前記レーザ光の出射エネルギーに対して低くすることを特徴とする請求項に記載の光源装置。
JP2013253264A 2013-12-06 2013-12-06 光源装置 Active JP6209071B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013253264A JP6209071B2 (ja) 2013-12-06 2013-12-06 光源装置
DE112014005518.2T DE112014005518T5 (de) 2013-12-06 2014-11-17 Lichtquellenvorrichtung
US15/022,222 US9646816B2 (en) 2013-12-06 2014-11-17 Light source device
PCT/JP2014/080345 WO2015083528A1 (ja) 2013-12-06 2014-11-17 光源装置
IL244786A IL244786A0 (en) 2013-12-06 2016-03-28 light source device
US15/478,306 US9824879B2 (en) 2013-12-06 2017-04-04 Light source device
US15/712,284 US10032622B2 (en) 2013-12-06 2017-09-22 Light source device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013253264A JP6209071B2 (ja) 2013-12-06 2013-12-06 光源装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015111515A JP2015111515A (ja) 2015-06-18
JP6209071B2 true JP6209071B2 (ja) 2017-10-04

Family

ID=53526205

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013253264A Active JP6209071B2 (ja) 2013-12-06 2013-12-06 光源装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6209071B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10008378B2 (en) * 2015-05-14 2018-06-26 Excelitas Technologies Corp. Laser driven sealed beam lamp with improved stability
JP2017216125A (ja) * 2016-05-31 2017-12-07 ウシオ電機株式会社 レーザ駆動ランプ

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7435982B2 (en) * 2006-03-31 2008-10-14 Energetiq Technology, Inc. Laser-driven light source
JP2010205577A (ja) * 2009-03-04 2010-09-16 Ushio Inc 光源装置を点灯する方法
JP5557487B2 (ja) * 2009-07-30 2014-07-23 ウシオ電機株式会社 光源装置
JP2013045537A (ja) * 2011-08-23 2013-03-04 Ushio Inc 光源装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015111515A (ja) 2015-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10032622B2 (en) Light source device
JP6412229B2 (ja) 光源装置
US9922814B2 (en) Apparatus and a method for operating a sealed beam lamp containing an ionizable medium
TWI382789B (zh) 製造遠紫外線輻射或軟性x射線之方法及裝置
JP6887388B2 (ja) 無電極単一cwレーザ駆動キセノンランプ
JP5322217B2 (ja) 光源装置
US8358069B2 (en) Lighting method of light source apparatus
JP2008004452A5 (ja)
JP6209071B2 (ja) 光源装置
US4611143A (en) Composite light source
CN103281855A (zh) 一种用于激光光源的液态金属靶产生装置
JP6224445B2 (ja) 光源装置
JP6211912B2 (ja) 光源装置
JP6978718B2 (ja) レーザ駆動光源
JP5947329B2 (ja) 光源装置
WO2015083528A1 (ja) 光源装置
JP5622081B2 (ja) プラズマ光源
JP5521522B2 (ja) キセノン水銀放電ランプおよび光照射装置
JP2005093165A (ja) ショートアークランプ
JP2017157299A (ja) レーザ駆動光源
WO2015093486A1 (ja) 照明装置および照明器具
JP2017216125A (ja) レーザ駆動ランプ
JP5620186B2 (ja) レーザ駆動光源
JP2017050087A (ja) 放電ランプ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170801

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170830

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170905

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170908

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6209071

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250