JP6206631B2 - 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子 - Google Patents
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かかる本発明によれば、緻密な酸化ジルコニウム層を形成できるので、酸化ジルコニウム層と下地層や、上層、例えば、電極との密着性が向上でき、耐久性の高い液体噴射ヘッドを実現できる。
また、他の態様は、上記態様の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。
かかる態様では、酸化ジルコニウム層と下地層や上層との密着性が優れ、耐久性の高い液体噴射ヘッドを具備する液体噴射装置となる。
さらに、本発明の他の態様は、酸化ジルコニウム層の上方に設けられ、圧電体層及び該圧電体層に設けられた電極を具備する圧電素子であって、前記酸化ジルコニウム層は、表面観察で粒状で且つ断面観察でも粒状である結晶粒からなることを特徴とする圧電素子にある。
かかる態様では、緻密な酸化ジルコニウム層を形成できるので、酸化ジルコニウム層と下地層や上層との密着性が向上でき、耐久性の高い圧電素子を実現できる。
また、本発明の別の態様は、酸化ジルコニウム層の上方に、圧電体層及び該圧電体層に設けられた電極を有する圧電素子を備えた液体噴射ヘッドであって、前記酸化ジルコニウム層は、粒状の結晶粒からなることを特徴とする液体噴射ヘッドにある。
かかる本発明によれば、緻密な酸化ジルコニウム層を形成できるので、酸化ジルコニウム層と下地層や、上層、例えば、電極との密着性が向上でき、耐久性の高い液体噴射ヘッドを実現できる。
かかる態様では、酸化ジルコニウム層と下地層や上層との密着性が優れ、耐久性の高い液体噴射ヘッドを具備する液体噴射装置となる。
かかる態様では、緻密な酸化ジルコニウム層を形成できるので、酸化ジルコニウム層と下地層や上層との密着性が向上でき、耐久性の高い圧電素子を実現できる。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係るアクチュエーター装置を有する液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの概略構成を示す分解斜視図であり、図2は、インクジェット式記録ヘッドの要部平面図であり、図3は、図2のA−A′線断面図である。
まず、カルボン酸に、金属アルコキシド又は金属カルボン酸塩と増粘剤を加え、その後、水(H2O)を加えて、約70℃で約2時間の加熱攪拌を行い、均一で透明な前駆体溶液を得る。この前駆体溶液をスピンコート法により、回転数1400rpmで基板に塗布する(塗布工程)。次に、この基板に塗布された溶液を160℃〜200℃に加熱して、約5分間乾燥し、乾燥膜を得る(乾燥工程)。そして、この乾燥膜を375℃〜415℃に加熱して、約5分間保持することによって脱脂する(脱脂工程)。なお、ここで言う脱脂とは、乾燥膜に含まれる有機成分を、例えば、NO2、CO2、H2O等として離脱させることである。より厚い酸化ジルコニウム層55を得たい場合は、脱脂工程後に、最初の塗布工程に戻り、次いで乾燥工程及び脱脂工程を繰り返し行ってもよい。この脱脂工程の後、乾燥膜を750℃〜850℃に加熱して約3分間保持することによって結晶化させる(仮焼成工程)。さらに厚い酸化ジルコニウム層55を得たい場合は、この仮焼成工程の後に、最初の塗布工程に戻り、次いで乾燥工程、脱脂工程及び仮焼成工程を繰り返し行ってもよい。そして、仮焼成工程の後、800℃〜950℃に加熱して約1時間保持することによって、酸化ジルコニウム層55を形成する(本焼成工程)。なお、乾燥工程、脱脂工程、仮焼成工程及び本焼成工程で用いられる加熱装置としては、例えば、赤外線ランプの照射により加熱するRTA(Rapid Thermal Annealing)装置やホットプレート等が挙げられる。
流路形成基板用ウェハー110を約1100℃の拡散炉で熱酸化し、厚さ1μmの酸化シリコン膜51を形成し、この酸化シリコン膜51上に、液相法により厚さ400nmの酸化ジルコニウム層55を形成した。酸化ジルコニウム層55の形成は以下の手順で行った。
酸化シリコン膜51上に、液相法により厚さ200nmの酸化ジルコニウム層55を形成した。実施例1では、塗布工程、乾燥工程及び脱脂工程を二回繰り返した後に、さらに塗布工程、乾燥工程、脱脂工程及び仮焼成工程を二回繰り返すが、実施例2では、最初の塗布工程、乾燥工程及び脱脂工程を二回繰り返した後に、仮焼成工程及び本仮焼成工程に進んだ。他の条件は実施例1と同様にした。
比較例1では、スパッタリング法によりジルコニウム層を形成した後、ジルコニウム層を熱酸化することにより酸化ジルコニウム層を形成した。以下に手順を示す。まず、流路形成基板用ウェハー110を約1100℃の拡散炉で熱酸化し、厚さ1μmの酸化シリコン膜51を形成し、この酸化シリコン膜51上に、DCスパッタリング法により200nmのジルコニウム層を形成した。その後、ジルコニウム層が形成された流路形成基板用ウェハー110を、700℃以上に加熱した熱酸化炉に投入し、酸素を含む酸化性ガスを15リットル/分の流量で連続的に供給しながら、ジルコニウム層を熱酸化して、酸化ジルコニウム層を形成した。なお、熱酸化炉には光洋リンドバーク社製の横型炉を使用した。
実施例1、2と比較例1について、酸化ジルコニウム層の結晶構造を走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察した。
実施例1、2と比較例1について、酸化ジルコニウム層のスクラッチ強度(mN)を、薄膜スクラッチ試験機(株式会社レスカ製CSR−02;商品名)を使用して測定した。これらの結果を表1に示す。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の基本的構成は上述した実施形態1に限定されるものではない。例えば、上述した実施形態1では、基板上に酸化シリコン層と酸化ジルコニウム層を順に設けたが、金属酸化物からなる基板を用い、この基板上に酸化ジルコニウム層を直接設けてもよい。金属酸化物の金属としては、Mg等が挙げられる。このような構成にすると、第一電極膜や基板と酸化ジルコニウム層との密着性に優れたアクチュエーター装置となる。なお、酸化ジルコニウム層が設けられる一方面側が金属酸化物からなる基板であればよく、例えば、基板本体の酸化ジルコニウム層が設けられる側に金属酸化膜が設けられている基板を用いてもよい。
Claims (3)
- 酸化ジルコニウム層の上方に、圧電体層及び該圧電体層に設けられた電極を有する圧電素子を備えた液体噴射ヘッドであって、
前記酸化ジルコニウム層は、表面観察で粒状で且つ断面観察でも粒状である結晶粒からなることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 請求項1記載の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
- 酸化ジルコニウム層の上方に設けられ、圧電体層及び該圧電体層に設けられた電極を具備する圧電素子であって、
前記酸化ジルコニウム層は、表面観察で粒状で且つ断面観察でも粒状である結晶粒からなることを特徴とする圧電素子。
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