JP6206079B2 - ポリメタロキサン組成物、その製造方法、及びその用途 - Google Patents

Description

本発明は典型金属を含有したポリメタロキサン組成物、その製造方法及びその用途に関するものである。殊に、該ポリメタロキサン組成物を用いた封止材及びガスバリア材に関するものである。

現在、ＬＥＤ素子の封止材としてエポキシ樹脂、ポリシロキサンが使用されている。ビスフェノールＡを主骨格に有する芳香族系エポキシ樹脂は安価であり、従来から長波長の光出力の低い赤色及び緑色ＬＥＤ素子の封止材として長く使用されてきた。

しかし、１９９３年以降、ＬＥＤ素子が高出力化し、更に青色化、白色化が進み、短波長で、かつ高出力な照明が求められている。このような短波長で、かつ高出力なＬＥＤ素子を特許文献１や特許文献２で提案されているような芳香族基を有するエポキシ樹脂で封止した場合、芳香環が短波長の光を吸収し、劣化するため、黄変や輝度低下の問題が生じる。

また、特許文献３や特許文献４においてハイドロシリレーション反応を用いた熱硬化型のポリシロキサン系封止材の提案がある。これらのポリシロキンサン系封止材では、光取出し効率を向上させるためにフェニル基等の芳香族基を置換させ、高屈折率化を図っている。しかしながら、紫外線光源ＬＥＤ（以下ＵＶ−ＬＥＤと略記する）等の高出力なＬＥＤ素子の封止に用いた場合、紫外線による芳香族基の酸素酸化による劣化の為、黄変したり、光度が低下する。また、ＵＶ−ＬＥＤ等の高出力ＬＥＤ素子は、発熱が著しく、熱による劣化がある。

上記のエポキシ樹脂、ポリシロキサン系封止材は、ガスバリア性が十分でない為、空気中の水蒸気や酸素を透過し、ＬＥＤ素子がダメージを受けたり、銀リフレクターが硫化され、黒変する場合がある。

更にポリシロキサン系封止材は、線膨張係数が大きい為、配線の断線や電極と封止材との剥離が問題となる場合があった。また、硬度が不十分であることから、トランスファー成形もしくは、コンプレッション成形後のダイシングによる切断が困難となる場合があった。

すなわち、現在提案されているエポキシ樹脂系封止材やポリシロキサン系封止材では、耐熱性、放熱性、耐クラック性、耐光性、特に耐ＵＶ性、水及び酸素や硫化水素に対するガスバリア性が不十分であり、改善が望まれている。

特開平０５−６９４６号公報 特許第２７８１２７９号公報 特開２００４−１８６１６８号公報 特開２００６−９３３５４号公報

本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ＬＥＤ素子の封止やＬＥＤデバイス配線の保護、パワー半導体の絶縁封止、透明プラスチック基板や透明プラスチックフィルム用ガスバリア層等に好適な材料を提供し、それを用いたＬＥＤデバイス、ガスバリア部材、ＦＰＤデバイス及び半導体デバイスを提供することにある。

本発明者らは、特定の有機金属化合物成分の共存下に不飽和基含有シロキサン化合物と水素がケイ素に直結した構造を有するシロキサン化合物とをハイドロシリレーション（Ｈｙｄｒｏｓｉｌｙｌａｔｉｏｎ）重合させた重合体組成物が耐ＵＶ性、ガスバリア性、及び機械的特性が高く、ＬＥＤ素子の封止やＬＥＤデバイス配線の保護、パワー半導体の絶縁封止、透明プラスチック基板や透明プラスチックフィルム用のガスバリア層等として有用であることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち本発明は、Ｉ）、ＩＩ）及びＩＩＩ）を含むことを特徴とする重合体組成物である。
Ｉ）下記式（１）及び（２）、（１）及び（３）、又は（１）、（２）及び（３）の繰り返し単位を含み不飽和基含有シロキサン化合物（成分（Ａ））と、

（式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ^１どうしは、同一でも異なっても良い。ａは１〜１０の整数を表す。）
周期表の第１族金属、第２族金属、第１２族金属、第１３族金属、第１４族金属の、有機金属化合物またはメタロキサン化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種（成分（Ｃ））を反応して得られる重合体。
ＩＩ）下記式（４）及び（５）、（４）及び（６）、又は（４）、（５）及び（６）の繰り返し単位を含み水素がケイ素に直結した構造を有するシロキサン化合物（成分（Ｂ））。

（式中、Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ^２どうしは、同一でも異なっても良い。）
ＩＩＩ）周期表の第８族金属、第９族金属、または第１０族金属の金属触媒（成分（Ｄ））。

また、本発明は、上述で成分（Ｃ）が有機アルミニウム化合物、有機亜鉛化合物、アルミノキサンより選ばれる１種以上である重合体組成物である。

また、本発明は、Ｉ）が式（１）、式（２）及び下記式（７）、式（１）、式（３）及び下記式（７）、又は式（１）、式（２）、式（３）及び下記式（７）の繰り返し単位を含む重合体である重合体組成物である。

（Ｒ^６は、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のシラノキシ基を表す。）
また、本発明は、上述で成分（Ｄ）が白金触媒またはルテニウム触媒である重合体組成物である。

更に、本発明は、予め成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させた後、成分（Ｂ）及び成分（Ｄ）を添加する上述の重合体組成物の製造方法である。

また、本発明は、成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させる際に、水を添加する上述の重合体組成物の製造方法である。

また、本発明は、上述の重合体組成物を硬化して得られる硬化物である。

更に、本発明は、上述の硬化物からなる封止材、ガスバリア材、または半導体用絶縁封止材である。

また、本発明は、上述の封止材を用いるＬＥＤデバイスである。

更に、本発明は、上述のガスバリア材を用いる樹脂部材である。

また、本発明は、上述の半導体用絶縁封止材を用いる半導体デバイスである。

更に成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させて得られる重合体である。

以下、本発明の詳細について説明する。

本発明は、Ｉ）特定の不飽和基含有シロキサン化合物（成分（Ａ））と、周期表の第１族金属、第２族金属、第１２族金属、第１３族金属、第１４族金属の、有機金属化合物またはメタロキサン化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種（成分（Ｃ））を反応して得られる重合体、ＩＩ）特定の水素がケイ素に直結した構造を有するシロキサン化合物（成分（Ｂ））及びＩＩＩ）周期表の第８族金属、第９族金属、または第１０族金属の金属触媒（成分（Ｄ））を含む重合体組成物である。

成分（Ａ）の不飽和基含有シロキサン化合物は、直鎖状または分岐鎖状または環状のシロキサン化合物、シロキサンオリゴマー、またはポリシロキサンである。

成分（Ａ）において、Ｒ^１は、水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基であり、該炭化水素基は飽和または不飽和のいずれでもよく、また直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれの構造を有してよい。

Ｒ^１としては、炭素数１〜２０の炭化水素基、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、ビニル基等のアルケニル基、アセチニル基等のアルキニル基等を挙げることができる。

Ｒ^１の具体的な例としては、水素原子、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ．−ブチル、ｎ−ペンチル、ｔｅｒｔ．−アミル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、フェニル、トルイル、ナフチル、シクロブチル、シクロブテニル、シクロペンチル、シクロペンタジエニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロオクテニル、シクロオクタジエニル、１−アダマンチルなどの基を挙げることができる。

Ｒ^１は、なかんずく、経済的には炭素数３以下の直鎖状アルキル基が好ましいが、重合体組成物の屈折率を低くする場合は、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、シクロヘキシル、ｔｅｒｔ．−ブチル、ｔｅｒｔ．−アミル、１−アダマンチルなどの基のような２級、もしくは３級炭化水素基が好ましく、重合体組成物の屈折率を高くする場合は、フェニル、トルイル、ナフチルなどの基のような芳香族基が好ましい。

混合、計量、供給のしやすさの観点から成分（Ａ）の粘度は０．００１ｍＰａ・ｓ〜１０００Ｐａ・ｓ以下となるような範囲が好ましく、特に好ましくは、０．０１ｍＰａ・ｓ〜１００Ｐａ・ｓ以下となるような範囲である。更に好ましくは、０．１ｍＰａ・ｓ〜２０Ｐａ・ｓ以下となるような範囲である。

成分（Ａ）の直鎖状、分岐鎖状シロキサン化合物の例としては、
ビニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−ジエチルシロキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−ジフェニルシロキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−メチルエチルシロキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−ジエチルシロキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−ジフェニルシロキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−メチルエチルシロキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−ジフェニルシロキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−メチルエチルシロキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−フェニルメチルシロキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−ジフェニルシロキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルエチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
ビニルフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
等が挙げられる。

これらのシロキサン化合物に特に分子量の制限は無いが、通常分子量５００〜５，０００，０００が好ましく、特に好ましくは、１，０００〜１，０００，０００である。この範囲の分子量であるとハイドロシリレーション反応が効率的に進み、ガスバリア性と機械的物性が良好な重合体組成物と成る場合がある。また、分子量が５００以下の同様の構造を有するオリゴマーも本発明の範囲に入る。

また、上記直鎖状、分岐鎖状シロキサン化合物の末端に下記一般式（８）のシリル基で末端のシラノール基を封鎖することも本発明の範囲に入る。

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。）
Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、成分（Ａ）のＲ^１と同様の水素原子又は炭化水素基である。

成分（Ａ）の環状シロキサン化合物の例としては、
環状［ビニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−ジエチルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−ジフェニルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−メチルエチルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−ジエチルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−ジフェニルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−メチルエチルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−ジメチルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−フェニルメチルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−ジフェニルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−メチルエチルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−ジメチルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−フェニルメチルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−ジフェニルシロキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルエチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［ビニルフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体
等の共重合体、
２，４，６−トリイソプロピル−２，４，６−トリビニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトライソプロピル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタイソプロピル−２，４，６，８，１０−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリｓｅｃ−ブチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラｓｅｃ−ブチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタｓｅｃ−ブチル−２，４，６，８，１０−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリｔｅｒｔ−ブチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラｔｅｒｔ−ブチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタｔｅｒｔ−ブチル−２，４，６，８，１０−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、
２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタメチル−２，４，６，８，１０−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリエチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラエチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタエチル−２，４，６，８，１０−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリｎ−プロピル−２，４，６−トリビニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラｎ−プロピル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタｎ−プロピル−２，４，６，８，１０−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリｎ−ブチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラｎ−ブチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタｎ−ブチル−２，４，６，８，１０−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリイソブチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトライソブチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタイソブチル−２，４，６，８，１０−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリフェニル−２，４，６−トリビニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラフェニル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタフェニル−２，４，６，８，１０−ペンタビニルシクロペンタシロキサン、
ヘキサビニルシクロトリシロキサン、オクタビニルシクロテトラシロキサン、デカビニルシクロペンタシロキサン
等の環状シロキサンを挙げることができる。

環状シロキサン化合物である不飽和基含有シロキサン化合物を用いた場合、生成する重
合体組成物の耐熱性、耐クラック性、及び引張強度等機械的特性が向上する場合がある。

上記の直鎖状、分岐鎖状及び環状構造であるシロキサン化合物が混合したものを使用することも本発明の範囲に入る。

成分（Ｃ）としての周期表の第１族金属、第２族金属、第１２族金属、第１３族金属または第１４族金属の有機金属化合物としては、リチウム、マグネシウム、亜鉛、スズまたはアルミニウムの金属と有機基とからなる有機金属化合物、すなわち、炭素と金属が直接結合した化合物が挙げられる。上記の有機基としては、アルキル基を代表として挙げることができる。このアルキル基としては、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜２０のアルキル基が用いられる。

なかんずく、直鎖または分岐鎖の炭素数１〜２０のアルキルアルミニウム及びアルキル亜鉛が好ましい。

具体例としては、例えばｎ−ブチルリチウム、ジエチルマグネシウム、ジエチル亜鉛、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリ−ｉ−ブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチルアルミニウム、トリ−ｎ−デシルアルミニウム、テトラエチルスズ、テトラブチルスズ、トリメチルアルミニウム，トリエチルアルミニウム，トリｎ−プロピルアルミニウム，トリｎ−ブチルアルミニウム，トリイソブチルアルミニウム，トリイソプレニルアルミニウム，トリｎ−ヘキシルアルミニウム，トリｎ−オクチルアルミニウム，トリ（２−メチルペンチル）アルミニウム、ジメチルアルミニウムクロライド，メチルアルミニウムセスキクロライド，メチルアルミニウムジクロライド，ジエチルアルミニウムクロライド，エチルアルミニウムセスキクロライド，エチルアルミニウムジクロライド，ジｎ−プロピルアルミニウムクロライド，ジｎ−ブチルアルミニウムクロライド，ジイソブチルアルミニウムクロライド，イソブチルアルミニウムジクロライド，ヨウ化ジエチルアルミニウム，フッ化ジエチルアルミニウム，ジエチルアルミニウムブロミド，ジイソブチルアルミニウムヒドリド，ジエチルアルミニウムヒドリド，ジエチルアルミニウムメトキシド，ジエチルアルミニウムエトキシド，ジイソブチルアルミニウムメトキシド，ジイソブチルアルミニウムエトキシド，ジイソブチルアルミニウムイソプロポキシド、ジメチル亜鉛、塩化メチル亜鉛、臭化メチル亜鉛、ヨウ化メチル亜鉛、弗化メチル亜鉛、ジエチル亜鉛、塩化エチル亜鉛、臭化エチル亜鉛、ヨウ化エチル亜鉛、弗化エチル亜鉛等が挙げられ、その中でもトリメチルアルミニウム，トリエチルアルミニウム，トリｎ−プロピルアルミニウム，トリｎ−ブチルアルミニウム，トリイソブチルアルミニウム，トリイソプレニルアルミニウム，トリｎ−ヘキシルアルミニウム，トリｎ−オクチルアルミニウム，トリ（２−メチルペンチル）アルミニウム、ジメチルアルミニウムクロライド，メチルアルミニウムセスキクロライド，メチルアルミニウムジクロライド，ジエチルアルミニウムクロライド，エチルアルミニウムセスキクロライド，エチルアルミニウムジクロライド，ジｎ−プロピルアルミニウムクロライド，ジｎ−ブチルアルミニウムクロライド，ジイソブチルアルミニウムクロライド，イソブチルアルミニウムジクロライド，ヨウ化ジエチルアルミニウム，フッ化ジエチルアルミニウム，ジエチルアルミニウムブロミド，ジイソブチルアルミニウムヒドリド，ジエチルアルミニウムヒドリド，ジエチルアルミニウムメトキシド，ジエチルアルミニウムエトキシド，ジイソブチルアルミニウムメトキシド，ジイソブチルアルミニウムエトキシド，ジイソブチルアルミニウムイソプロポキシド、ジメチル亜鉛、塩化メチル亜鉛、臭化メチル亜鉛、ヨウ化メチル亜鉛、弗化メチル亜鉛、ジエチル亜鉛、塩化エチル亜鉛、臭化エチル亜鉛、ヨウ化エチル亜鉛、弗化エチル亜鉛等が好ましい。

とりわけ、ハロゲンを含まないトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛等が好ましい。

また、これらの周期表の第１族金属、第２族金属、第１２族金属、第１３族金属または第１４族金属の有機金属化合物を水と反応させたメタロキサン化合物も本発明の範囲に入る。該メタロキサン化合物としては、好ましくは、有機アルミニウムと水との反応物であるポリメチルアルミノキサン、ポリエチルアルミノキサン、ポリイソブチルアルミノキサン、［メチルアルミノキサン−エチルアルミノキサン］共重合体、［メチルアルミノキサン−イソブチルアルミノキサン］共重合体、［エチルアルミノキサン−イソブチルアルミノキサン］共重合体、［メチルアルミノキサン−エチルアルミノキサン−イソブチルアルミノキサン］共重合体が挙げられる。

これらの有機金属化合物は、単独または２種以上の混合物として使用される。

成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させる際もしくは、反応させた後に、水、有機ヒドロキシ化合物及び有機ヒドロキシカルボン酸化合物から選ばれる１種以上を反応させることが好ましい。これらを反応させるこで引張強度や破断伸び等の機械的特性が向上する場合がある。

有機ヒドロキシ化合物、有機ヒドロキシカルボン酸化合物としては、少なくとも２つの水酸基及び／又はガルボキシル基を有する化合物であれば特に限定されない。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、ヒドロキシ酢酸、乳酸、ヒドロキシ酪酸、ヒドロキシシクロヘキシルカルボン酸、ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシフタル酸、４−ヒドロキシフタル酸、リンゴ酸等を挙げることができる。

本発明の重合体組成物は、成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応して得られる重合体を含むものである。該重合体を含むことにより得られる重合体組成物の耐熱性、耐ＵＶ性、ガスバリア性等の性能が向上する。

成分（Ａ）及び成分（Ｃ）の反応に使用する反応器は、当該技術分野で通常用いられるものであれば、適宜使用することができる。攪拌槽型反応器、流動床型反応器、または循環式反応器を用いて、重合操作を連続方式、半回分方式及び回分方式のいずれかの方式で行うことができる。更に異なる重合の反応条件で、２段階以上に分けて行うことも可能である。

成分（Ａ）及び成分（Ｃ）の反応条件について、特に限定はされるものではないが、以下に示す条件を使用することができる。

成分（Ａ）自身を反応溶媒としてもよいが、不活性溶媒を反応溶媒として用いることもできる。使用できる反応溶媒は、当該技術分野で使用されるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ｎ−ペンタン、ｉ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−デカン等の飽和炭化水素類；トルエン、キシレン、デセン−１等の不飽和炭化水素類；ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ｔｅｒｔ．−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ．−ブタノール、２−エチルヘキサノール等のアルコール；等を使用することができる。また、これらの混合溶媒も使用することができる。

成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させる際の反応温度については、通常、工業的に使用されている温度である−１００〜２００℃の範囲が好ましく、特に好ましくは−８５〜１５０℃の範囲である。反応の圧力条件は、加圧下、常圧下、減圧下のいずれであっても可能である。

また、成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させる際、成分（Ａ）中のＳｉ含有量１ｍｏｌに対し、成分（Ｃ）のＡｌ含有量は、０．００１ｍｏｌ〜１００ｍｏｌが好ましく、特に好ましくは０．０１ｍｏｌ〜１０ｍｏｌの範囲である。この範囲を外れると硬化速度が低下したり、生成する重合体組成物膜の機械的強度の低下や重合体組成物膜の白化が生じたり、クラックや剥離が発生する場合がある。

そして、成分（Ａ）と成分（Ｃ）と反応して得られる重合体としては、式（１）、式（２）及び下記式（７）、式（１）、式（３）及び下記式（７）、又は式（１）、式（２）、式（３）及び下記式（７）の繰り返し単位を含む重合体が好ましい。

（Ｒ^６は、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のシラノキシ基を表す。）
Ｒ^６の例としては、メチル、エチル、イソブチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｓｅｃ．−ブトキシ、ｔｅｒｔ．−ブトキシ、トリメチルシラノキシ、ｔｅｒｔ．−ブチルジメチルシラノキシを挙げることができる。Ｒ^６は、同一でも異なっても良い。

成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応して得られ得る重合体は、Ａｌ−Ｏに基づく７００〜８００ｃｍ^−１とＳｉ−Ｏ−Ａｌに基づく１０１０〜１０２０ｃｍ^−１の赤外吸収を有し、成分（Ａ）の不飽和基含有シロキサン化合物の^２９Ｓｉ−ＮＭＲの化学シフト（ｐｐｍ）と、成分（Ａ）と成分（Ｃ）の有機金属化合物またはメタロキサン化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種との反応物の^２９Ｓｉ−ＮＭＲの化学シフト（ｐｐｍ）の差分が１．０ｐｐｍ以上であり、^２７Ａｌ−ＮＭＲで−５０〜１００ｐｐｍにブロードピークを有する重合体であることが好ましい。

成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するシロキサン化合物は、鎖状または環状のシロキサン化合物、シロキサンオリゴマー、及びポリシロキサンである。

成分（Ｂ）において、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基であり、これは飽和または不飽和のいずれでもよく、また直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれの構造を有してもよい。

Ｒ^２の炭化水素基は、炭素数１〜２０の炭化水素基、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基、ビニル基等のアルケニル基、アセチニル基等のアルキニル基を挙げることができる。

Ｒ^２の具体的な例としては、水素原子、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ．−ブチル、ｎ−ペンチル、ｔｅｒｔ．−アミル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、フェニル、トルイル、ナフチル、シクロブチル、シクロブテニル、シクロペンチル、シクロペンタジエニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロオクテニル、シクロオクタジエニル、１−アダマンチルなどの基を挙げることができる。

Ｒ^２は、なかんずく、経済的には、炭素数３以下の直鎖状アルキル基が好ましいが、重合体組成物の屈折率を低くする場合は、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、シクロヘキシル、ｔｅｒｔ．−ブチル、ｔｅｒｔ．−アミル、１−アダマンチルなどの基のような２級、もしくは３級炭化水素基が好ましく、重合体組成物の屈折率を高くする場合は、フェニル、トルイル、ナフチルなどの基のような芳香族基が好ましい。

混合、計量、供給のしやすさの観点から成分（Ｂ）の粘度は０．００１ｍＰａ・ｓ〜１０００Ｐａ・ｓ以下となるような範囲が好ましく、特に好ましくは、０．０１ｍＰａ・ｓ〜１００Ｐａ・ｓ以下となるような範囲である。更に好ましくは、０．１ｍＰａ・ｓ〜２０Ｐａ・ｓ以下となるような範囲である。

成分（Ｂ）の鎖状シロキサン化合物の例としては、
メチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
メチルハイドロジエンシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
エチルハイドロジエンシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−メチルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−エチルセスキオキサン共重合体、
フェニルハイドロジエンシロキサン−フェニルセスキオキサン共重合体、
等が挙げられる。

これらのシロキサン化合物に特に分子量の制限は無いが、通常分子量５００〜５，０００，０００が好ましく、特に好ましくは１，０００〜１，０００，０００である。この範囲の分子量であるとハイドロシリレーション反応が効率的に進み、ガスバリア性と機械的物性が良好な重合体組成物と成る場合がある。また、分子量が５００以下の同様の構造を有するオリゴマーも本発明の範囲に入る。

また、上記鎖状シロキサン化合物の末端に成分（Ａ）の一般式（８）のシリル基で末端のシラノール基を封鎖することも本発明の範囲に入る。

成分（Ｂ）の環状シロキサン化合物の例としては、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−ジエチルシロキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−メチルエチルシロキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−ジメチルシロキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−フェニルメチルシロキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−ジフェニルシロキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［メチルハイドロジエンシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［エチルハイドロジエンシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−メチルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−エチルセスキオキサン］共重合体、
環状［フェニルハイドロジエンシロキサン−フェニルセスキオキサン］共重合体、
２，４，６−トリイソプロピルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトライソプロピルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタイソプロピルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリｓｅｃ−ブチルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラｓｅｃ−ブチルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタｓｅｃ−ブチルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリｔｅｒｔ−ブチルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラｔｅｒｔ−ブチルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタシロキサン、
２，４，６−トリメチルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタメチル−シクロペンタシロキサン、２，４，６−トリエチルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラエチルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタエチルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリｎ−プロピルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラｎ−プロピルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタｎ−プロピルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリｎ−ブチルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラｎ−ブチルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタｎ−ブチルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリイソブチルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトライソブチルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタイソブチルシクロペンタシロキサン、２，４，６−トリフェニルシクロトリシロキサン、２，４，６，８−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、２，４，６，８，１０−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等を挙げることができる。

環状シロキサン化合物である水素化シロキサン化合物を用いた場合、生成する重合体組成物の硬化速度が向上したり、耐熱性、耐クラック性、及び引張強度等機械的特性が向上する場合がある。

上記の鎖状及び環状シロキサン化合物が混合したものを使用することも本発明の範囲に入る。

成分（Ｄ）の周期表の第８族金属、第９族金属、または第１０族金属の触媒としては、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、及び白金の金属触媒からなる群から選ばれる少なくとも１種を用いることができる。触媒活性の点から、好ましくは、ルテニウム触媒または白金触媒であり、特に好ましくは白金触媒である。

具体的な白金触媒としては、四塩化白金、二塩化白金、四臭化白金、二臭化白金、四ヨウ化白金、二ヨウ化白金、六塩化白金酸、六臭化白金酸、六ヨウ化白金酸、六塩化白金酸六水和物、六臭化白金酸六水和物、六ヨウ化白金酸六水和物、トリメチルシクロペンタジエニル白金（ＩＶ）等が挙げられる。特に白金触媒としては、これらを還元剤によって還元した白金化合物、またビニル基を有するシラン化合物とシロキサン化合物と上記白金化合物から合成された白金の金属錯体が好ましい。

ビニル基を有するシラン化合物としては、一分子中に２個以上のビニル基を有する化合物が触媒活性の点で好ましい。

具体的には、１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラビニル−１，３−ジメチルジシロキサン、上記の成分（Ａ）等のビニル基を有する環状シロキサンを挙げることができる。

殊に、二級もしくは三級炭素原子が直結し、かつアルケニル基を有するケイ素原子を有する下記一般式（９）の環状シロキサンと、

（式中、Ｒ^７、及びＲ^８は、それぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。Ｒ^７、及びＲ^８は、互いに結合し、環状構造を形成してもよい。Ｒ^９は、炭素数１〜２０の炭化水素基または水素原子を表す。ｂは、３以上の整数を表す。）
上記白金化合物とを混合し、還元した白金触媒が好ましい。

Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９の炭素数１〜２０の炭化水素基としては、一般式（１）のＲ^１のおける炭素数１〜２０の炭化水素基と同じものを挙げることができる。

このような白金触媒を使用することにより、硬化速度が向上し、重合体組成物の耐クラック性及び機械的物性が向上させることができる。

具体的なルテニウム触媒としては、ルテニウムカルボニル、トリルテニウムドデカカルボニル、三塩化ルテニウム、三臭化ルテニウム、三沃化ルテニウム、ルテニウムアセチルアセトナート、二塩化ルテニウムトリカルボニル、二塩化（１，５−シクロオクタジエニル）ルテニウム、二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウムジカルボニル、二水素化ビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウムカルボニル、ビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウムトリカルボニル、二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、二塩化トリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、二水素化ビス（トルフェニルホスフィン）ルテニウムカルボニル、塩化水素化トリス（トルフェニルホスフィン）ルテニウム、二水素化テトラキス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、（ビスエチレン）トリス（トルフェニルホスフィン）ルテニウム、ビス（トリフェニルホスフィン）ルテニウムトリカルボニル、二塩化トリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、エチレントリス（トルフェニルホスフィン）ルテニウム、三水素化トリス（トリフェニルホスフィン）（トリメトキシシリル）ルテニウム、三水素化トリス（トリフェニルホスフィン）（ジメトキシフェニルシリル）ルテニウム、ビス（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウム、（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウム、（２，４−ジメチルペンタジエニル）（メチルシクロペンタジエニル）ルテニウムカルボニルビス（２−メチル−１，３−ペンタジエン）ルテニウム、（η４−１，３−シクロヘキサジエン）（η６−エチルベンゼン）ルテニウム、（η６−エチルベンゼン）（η４−５−エチル−１，３−シクロヘキサジエン）ルテニウム等が挙げられる。

本発明の重合体組成物は、成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させた後、成分（Ｂ）及び成分（Ｄ）を添加し、混合することにより製造することができる。

成分（Ｂ）、成分（Ｄ）を添加、混合する際に使用する装置は、当該技術分野で通常用いられるものであれば、適宜使用することができる。攪拌槽型反応器、自転公転回転式脱泡混合装置を用いることができる。

本発明の重合体組成物を製造する方法は、特に限定されるものでは無いが、以下に示す製造方法を使用することができる。

成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させた後、成分（Ｂ）及び成分（Ｄ）の混合方法は、あらゆる混合方法を使用することができる。例えば、（１）成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させた後、成分（Ｂ）及び成分（Ｄ）を順に添加し、混合する方法、（２）成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させた後、これに成分（Ｄ）、及び成分（Ｂ）を順に添加し、混合する方法、（３）成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させ得られる重合体、成分（Ｂ）、及び成分（Ｄ）を同時に混合する方法等が挙げられる。

成分（Ｂ）及び成分（Ｄ）を添加、混合する際の条件について、特に限定はされるものではないが、以下に示す条件を使用することができる。

成分（Ａ）及び成分（Ｃ）の反応物、成分（Ｂ）のそれ自身を反応溶媒とする、すなわち、無溶媒下で行ってよい。また、不活性溶媒を添加することもできる。使用できる反応溶媒は、当該技術分野で使用されるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ｎ−ペンタン、ｉ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−デカン等の飽和炭化水素類；トルエン、キシレン、デセン−１等の不飽和炭化水素類；ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ｔｅｒｔ．−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ．−ブタノール、２−エチルヘキサノール等のアルコール；等を使用することができる。また、これらの混合溶媒も使用することができる。

混合の際の反応温度については、通常、工業的に使用されている温度である−１００〜２００℃の範囲が好ましく、特に好ましくは−８５〜１５０℃の範囲である。混合の圧力
条件は、加圧下、常圧下、減圧下のいずれであっても可能である。

成分（Ａ）に対する成分（Ｂ）、及び成分（Ｄ）の量論比に特に制限は無いが、通常、成分（Ａ）中のＳｉに結合したビニル基等の不飽和炭素結合含有量１ｍｏｌに対し、成分（Ｂ）のＳｉに結合した水素原子含有量は、０．０１ｍｏｌ〜１０００ｍｏｌが好ましく、特に好ましくは０．１ｍｏｌ〜１００ｍｏｌの範囲である。この範囲を外れると硬化速度が低下したり、生成する重合体組成物膜の機械的強度の低下や重合体組成物にクラックや剥離が発生する場合がある。

成分（Ａ）中のＳｉに結合したビニル基等の不飽和炭素結合含有量１ｍｏｌに対し、成分（Ｄ）の金属含有量は、０．００００１ｍｍｏｌ〜１０００ｍｍｏｌが好ましく、特に好ましくは０．０００１ｍｍｏｌ〜１０ｍｍｏｌの範囲である。この範囲を外れると、硬化速度が低下し、生成する重合体組成物の生成が困難となり、膜が形成されなかったり、重合体組成物が着色する場合がある。

製造した重合体組成物は、そのまま用いてもよいが、ガラスフィルター、焼結多孔体等を用いた濾過、常圧もしくは減圧蒸留、またはシリカ、アルミナ、高分子ゲルを用いたカラム分離等の精製手段を用いて精製することもできる。この際、必要に応じてこれらの手段を組み合わせて使用してもよい。

本発明の重合体組成物は、熱もしくは、光を照射することにより硬化し、硬化物とすることができる。

硬化する場合の条件は、特に限定されるものでは無いが、硬化温度については、通常、工業的に使用されている温度である−１００〜２００℃の範囲が好ましく、特に好ましくは−８５〜１５０℃の範囲である。硬化の圧力条件は、加圧下、常圧下、減圧下のいずれであっても可能である。

硬化の際に機械特性、特に剛性、ヤング率、引張強度を向上させるために下記一般式（１０）の末端ビニルを有するシロキサンを添加したり、ゼオライトやシリカ粒子を添加することも本発明の範囲に入る。

（Ｒ^１０は水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ^１０どうしは、同一でも異なっても良い。ｔは１以上の整数を表す。）
Ｒ^１０の例としては、メチル、エチル、イソブチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｓｅｃ．−ブトキシ、ｔｅｒｔ．−ブトキシ、トリメチルシラノキシ、ｔｅｒｔ．−ブチルジメチルシラノキシを挙げることができる。

硬化の際、もしくは硬化後に、屈折率を高める為に、第４族金属の酸素原子含有有機化合物を添加することも本発明の範囲に入る。

第４族金属の酸素原子含有有機化合物としては、下記一般式（１１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｍは、Ｔｉ、Ｚｒ、またはＨｆであり、Ｒ^１１は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。Ｘは、フッ素、塩素、臭素、または沃素を表す。ｑ、ｕ、ｒ及びｓは、それぞれｑ≧０、ｒ＞０、ｕ≧１、及びｓ≧０であり、Ｔｉ、Ｚｒ、及びＨｆの原子価と相容れる数を表し、ｙは整数を表す。なかんずく、０≦ｑ≦１、１≦ｕ≦２で１≦ｒ≦６であるようなＴｉ、Ｚｒ、またはＨｆの酸素原子含有有機化合物であることが望ましい。）
Ｒ^１１は炭素数１〜２０の炭化水素基であり、好ましくは炭素数１〜１０の炭化水素基である、該炭化水素基としては、直鎖または分岐鎖アルキル基、シクロアルキル基、アリ−ルアルキル基、アリ−ル基、アルキルアリ−ル基などを挙げることができる。

一般式（１１）の具体例としては、チタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタンテトラ−ｉ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−ｉ−ブトキシド、テトラ（ｎ−ノニル）チタネ−ト、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネ−ト、テトラクレジルチタネ−ト、ヘキサ−ｉ−プロポキシジチタネ−トなどのアルコシキチタン化合物；テトラクロロシラン等のハロゲン化チタン化合物；テトラクロロジルコニウム、酸化ジクロロジルコニウム等のハロゲン化ジルコニウム；テトラエトキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム等のアルコシキジルコニウム化合物；テトラクロロハフニウム等のハロゲン化ハフニウム化合物；テトラエトキシハフニウム、テトラブトキシハフニウム等のアルコシキハフニウム化合物；等が挙げられる。

いくつかの異なる炭化水素基を有する第４族金属の酸素原子含有有機化合物の使用も本発明の範囲に入る。これら第４族金属の酸素原子含有有機化合物は、単独で用いてもよく、また２種以上を混合あるいは反応させてから使用することもできる。

また、成分（Ｃ）の周期表の第１族金属、第２族金属、第１２族金属、第１３族金属または第１４族の有機金属化合物やメタロキサン化合物と反応したり、錯体化したりする水、アルコール類、有機シラノ−ル類、有機ケイ素化合物等の化合物を添加することも本発明の範囲に入る。

添加できるアルコ−ル類としては、１〜１８個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖脂肪族アルコ−ル、脂環式アルコ−ルまたは芳香族アルコ−ルである。

アルコール類の例としては、メタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、ｉ−プロパノ−ル、ｎ−ブタノ−ル、ｉｓｏ−ブタノ−ル、ｓｅｃ−ブタノ−ル、ｔ−ブタノ−ル、ｎ−ヘキサノ−ル、２−エチルヘキサノ−ル、ｎ−オクタノ−ル、ｉ−オクタノ−ル、ｎ−ステアリルアルコ−ル、シクロペンタノ−ル、シクロヘキサノ−ル、エチレングリコ−ルなどが挙げられる。更に、ベンジルアルコ−ル、及びフェノ−ル類として、フェノ−ル、クレゾ−ル、キシレノ−ル、ハイドロキノンなどを例示することができる。

また、添加できる有機シラノ−ル類としては、少なくとも１個の水酸基を有し、かつ有機基は１〜１２個の炭素原子、好ましくは１〜６個の炭素原子を有する、アルキル基、シクロアルキル基、アリ−ルアルキル基、アリ−ル基、アルキルアリ−ル基を有する化合物等から選ばれる。

例えば、トリメチルシラノ−ル、トリエチルシラノ−ル、トリフェニルシラノ−ル、ｔｅｒｔ．−ブチルジメチルシラノ−ル、ビニルジメチルシラノールなどを挙げることができる。

添加できる有機ケイ素化合物としては、下記一般式（１２）で表される化合物が好ましい。

（式中、Ｒ^１２、及びＲ^１３は、それぞれ独立して炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。ｋ、ｖ、ｗ、及びｚは、ｋ≧０、ｖ＞０、ｗ≧１、及びｚ≧０であり、Ｓｉの原子価と相容れる数を表し、ｘは整数を表す。）
Ｒ^１２、及びＲ^１３は炭素数１〜２０の炭化水素基であり、好ましくは炭素数１〜１０の炭化水素基である。該炭化水素基としては、直鎖または分岐鎖の、アルキル基、シクロアルキル基、アリ−ルアルキル基、アリ−ル基、アルキルアリ−ル基などを挙げることができる。

一般式（１２）の具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｉ−ペントキシシラン、テトラ−ｎ−ヘキソキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラキス（２−エチルヘキソキシ）シラン、テトラキス（２−エチルブトキシ）シラン、テトラキス（２−メトキシエトキシ）シラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、４−クロロフェニルトリメトキシシラン、トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。

また、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、トリエトキシシラン、エチルトリ−ｉ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｉ−プロポキシシラン、ｉ−ペンチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｉ−ペントキシシラン、エチルトリ−ｉ−ペントキシシラン，メチルトリ−ｎ−ヘキソキシシラン、フェニルトリ−ｉ−ペントキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−ブチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルドデシルジエトキシシラン、メチルオクタデシルジエトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジベンジルジエトキシシシラン、ジエトキシシラン、ジメチルジ−ｎ−ブトキシシラン等が挙げられる。

また、ジメチルジ−ｉ−ペントキシシラン、ジエチルジ−ｉ−ペントキシシラン、ジ−ｉ−ブチルジ−ｉ−ペントキシシラン、ジフェニルジ−ｉ−ペントキシシラン、ジフェニルジ−ｎ−オクトキシシラン、ジイソブチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、トリメチル−ｉ−プロポキシシラン、トリメチル−ｎ−プロポキシシラン、トリメチル−ｔ−ブトキシシラン、トリメチル−ｉ−ブトキシシラン、トリメチル−ｎ−ブトキシシラン、トリメチル−ｎ−ペントキシシラン、トリメチルフェノキシシランなどのアルコキシシランもしくはアリ−ロキシシラン；ジクロロジエトキシシラン、ジクロロジフェノキシシラン、トリブロモエトキシシランなどのハロアルコキシシラン；ハロアリ−ロキシシラン；などが挙げられる。

また、イソプロピルトリメトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、トリイソプロピルメトキシシラン、イソプロピルメチルジメトキシシラン、イソプロピルエチルジメトキシシラン、イソプロピルフェニルジメトキシシラン、イソプロピルジメチルメトキシシラン、イソプロピルジエチルメトキシシラン、イソプロピルジフェニルメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、ジイソプロピルジエトキシシラン、トリイソプロピルエトキシシラン、イソプロピルメチルジエトキシシラン、イソプロピルエチルジエトキシシラン、イソプロピルフェニルジエトキシシラン、イソプロピルジメチルエトキシシラン、イソプロピルジエチルエトキシシラン、イソプロピルジフェニルエトキシシラン、
ｓｅｃ−ブチルトリメトキシシラン、ジｓｅｃ−ブチルジメトキシシラン、トリｓｅｃ−ブチルメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルエチルジメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルフェニルジメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジメチルメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジエチルメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジフェニルメトキシシランなどが挙げられる。

また、ｓｅｃ−ブチルトリエトキシシラン、ジｓｅｃ−ブチルジエトキシシラン、トリｓｅｃ−ブチルエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルエチルジエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルフェニルジエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジメチルエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジエチルエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジフェニルエトキシシラン、シクロペンチルトリメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、トリシクロペンチルメトキシシラン、シクロペンチルメチルジメトキシシラン、シクロペンチルエチルジメトキシシラン、シクロペンチルフェニルジメトキシシラン、シクロペンチルジメチルメトキシシラン、シクロペンチルジエチルメトキシシラン、シクロペンチルジフェニルメトキシシランなどが挙げられる。

また、シクロペンチルトリエトキシシラン、ジシクロペンチルジエトキシシラン、トリシクロペンチルエトキシシラン、シクロペンチルメチルジエトキシシラン、シクロペンチルエチルジエトキシシラン、シクロペンチルフェニルジエトキシシラン、シクロペンチルジメチルエトキシシラン、シクロペンチルジエチルエトキシシラン、シクロペンチルジフェニルエトキシシラン、シクロペンタジエニルトリメトキシシラン、ジシクロペンタジエニルジメトキシシラン、トリシクロペンタジエニルメトキシシラン、シクロペンタジエニルメチルジメトキシシラン、シクロペンタジエニルエチルジメトキシシラン、シクロペンタジエニルフェニルジメトキシシラン、シクロペンタジエニルジメチルメトキシシラン、シクロペンタジエニルジエチルメトキシシラン、シクロペンタジエニルジフェニルメトキシシランなどが挙げられる。

また、シクロペンタジエニルトリエトキシシラン、ジシクロペンタジエニルジエトキシシラン、トリシクロペンタジエニルエトキシシラン、シクロペンタジエニルメチルジエトキシシラン、シクロペンタジエニルエチルジエトキシシラン、シクロペンタジエニルフェニルジエトキシシラン、シクロペンタジエニルジメチルエトキシシラン、シクロペンタジエニルジエチルエトキシシラン、シクロペンタジエニルジフェニルエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラン、トリシクロヘキシルメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン、シクロヘキシルフェニルジメトキシシラン、シクロヘキシルジメチルメトキシシラン、シクロヘキシルジエチルメトキシシラン、シクロヘキシルジフェニルメトキシシラン等が挙げられる。

また、シクロヘキシルトリエトキシシラン、ジシクロヘキシルジエトキシシラン、トリシクロヘキシルエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジエトキシシラン、シクロヘキシルエチルジエトキシシラン、シクロヘキシルフェニルジエトキシシラン、シクロヘキシルジメチルエトキシシラン、シクロヘキシルジエチルエトキシシラン、シクロヘキシルジフェニルエトキシシラン、シクロヘキセニルトリメトキシシラン、ジシクロヘキセニルジメトキシシラン、トリシクロヘキセニルメトキシシラン、シクロヘキセニルメチルジメトキシシラン、シクロヘキセニルエチルジメトキシシラン、シクロヘキセニルフェニルジメトキシシラン、シクロヘキセニルジメチルメトキシシラン、シクロヘキセニルジエチルメトキシシラン、シクロヘキセニルジフェニルメトキシシラン等が挙げられる。

また、シクロヘキセニルトリエトキシシラン、ジシクロヘキセニルジエトキシシラン、トリシクロヘキセニルエトキシシラン、シクロヘキセニルメチルジエトキシシラン、シクロヘキセニルエチルジエトキシシラン、シクロヘキセニルフェニルジエトキシシラン、シクロヘキセニルジメチルエトキシシラン、シクロヘキセニルジエチルエトキシシラン、シクロヘキセニルジフェニルエトキシシラン等が挙げられる。

また、イソプロピルビニルジメトキシシラン、イソプロピルビニルジエトキシシラン、イソプロピルビニルジｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、ジイソプロピルビニルメトキシシラン、ジイソプロピルビニルエトキシシラン、ジイソプロピルビニルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、イソプロピルジビニルメトキシシラン、イソプロピルジビニルエトキシシラン、イソプロピルジビニルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、イソプロピルビニルメチルメトキシシラン、イソプロピルビニルメチルエトキシシラン、イソプロピルビニルメチルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、イソプロピルビニルエチルメトキシシラン、イソプロピルビニルエチルエトキシシラン、イソプロピルビニルエチルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、イソプロピルフェニルジメトキシシラン、イソプロピルフェニルジエトキシシラン、イソプロピルフェニルジｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、ジイソプロピルフェニルメトキシシラン、ジイソプロピルフェニルエトキシシラン、ジイソプロピルフェニルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、イソプロピルジフェニルメトキシシラン、イソプロピルジフェニルエトキシシラン、イソプロピルジフェニルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、イソプロピルフェニルメチルメトキシシラン、イソプロピルフェニルメチルジエトキシシラン、イソプロピルフェニルメチルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、イソプロピルフェニルエチルメトキシシラン、イソプロピルフェニルエチルジエトキシシラン、イソプロピルフェニルエチルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルビニルジメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルビニルジエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルビニルジｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、ジｓｅｃ−ブチルビニルメトキシシラン、ジｓｅｃ−ブチルビニルエトキシシラン、ジｓｅｃ−ブチルビニルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジビニルメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジビニルエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジビニルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルフェニルジメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルフェニルジエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルフェニルジｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、ジｓｅｃ−ブチルフェニルメトキシシラン、ジｓｅｃ−ブチルフェニルエトキシシラン、ジｓｅｃ−ブチルフェニルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジフェニルメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジフェニルエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルジフェニルｔｅｒｔ．−ブトキシシラン等のアルコキシシラン；アリ−ロキシシランジクロロジエトキシシラン、ジクロロジフェノキシシラン、トリブロモエトキシシランなどのハロアルコキシシラン；ハロアリ−ロキシシラン；等の有機シラン化合物が挙げられる。

また、ヘキサメトキシジシロキサン、オクタメトキシトリシロキサン、デカメトキシテトラシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサン、オクタエトキシトリシロキサン、デカエトキシテトラシロキサン等のポリアルコキシポリシロキサン；１，３−ジメチル−１，１，３，３−テトラメトキシジシロキサン、１，３，５−トリメチル−１，１，３，５，５−ペンタメトキシジシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，１，３，５，７，７−ヘキサメトキシジシロキサン等のポリアルキルポリアルコキシポリシロキサン；等が挙げられる。

これらのアルコール類、有機シラノ−ル類、及び有機ケイ素化合物は、単独または２種以上の混合物として使用できる。

本発明の重合体組成物を硬化して得られる硬化物は、屈折率、ガスバリア性、機械的強度、耐ＵＶ性、耐熱性、及び熱伝導性が良好で、これら全ての特性を有する材料となり得る。これらの特性は、従来から提案されているメチル基置換シロキサン系やフェニル基置換シロキサン系では、十分には達成できない水準のものである。

本発明の硬化物の内、殊にＳｉ−Ｏ−Ａｌ、またはＳｉ−Ｏ−Ｚｎで示される構造を有する硬化物では、上記のガスバリア性、機械的特性、耐ＵＶ性、耐熱性、及び熱伝導性が、良好である。

Ａｌ−Ｏに基づく７００〜８００ｃｍ^−１とＳｉ−Ｏ−Ａｌに基づく１０１０〜１０２０ｃｍ^−１の赤外吸収を有し、成分（Ａ）の不飽和基含有シロキサン化合物と成分（Ｂ）水素がケイ素に直結した構造を有するシロキサン化合物の硬化物の^２９Ｓｉ−ＮＭＲの化学シフト（ｐｐｍ）に対する成分（Ａ）と成分（Ｃ）の有機金属化合物またはメタロキサン化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種との反応物との成分（Ｂ）水素がケイ素に直結した構造を有するシロキサン化合物の硬化物の^２９Ｓｉ−ＮＭＲの化学シフト（ｐｐｍ）の差分が１．０ｐｐｍ以上であり、^２７Ａｌ−ＮＭＲで−５０〜１００ｐｐｍにブロードピークを有する成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させて得られた重合体を用いて得られた硬化物や同赤外吸収、^２９Ｓｉ−ＮＭＲ、^２７Ａｌ−ＮＭＲスペクトルを有する硬化物は、ガスバリア性、機械的特性、耐ＵＶ性、耐熱性、及び熱伝導性に優れることから、殊に好ましい。

上記硬化物は封止材として使用することができる。例えば、ＬＥＤチップ、ＬＥＤデバイス、半導体、パワー半導体等を保護及び封止するのに好適に使用できる。

また樹脂部材に本発明の重合体組成物を塗布することにより、樹脂部材のガスバリア性を向上させることができる。該樹脂部材とは、樹脂基板や樹脂フィルム等が挙げられる。

本発明により得られた封止材、及び保護膜は、ＦＰＤデバイスや半導体デバイスとして用いることができる。ガスバリア性の向上した樹脂部材は、ＦＰＤデバイスとして用いることができる。

ＬＥＤや半導体を封止する際の成形方法については、特に限定されないが、ポッティング成形、トランスファー成形、コンプレッション成形を用いることができる。

本発明の重合体組成物を硬化して得られる硬化物は、封止材、保護膜、ガスバリア材等として用いることができ、ガスバリア性、機械的強度、耐ＵＶ性、及び耐熱性等の良好な、ガスバリア性樹脂部材、ＬＥＤデバイス、半導体デバイス等を提供できる。さらに、これらはＦＰＤデバイスに用いることができる。

以下に実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

膜厚測定は、アルバック社製の触針式表面形状測定器（デックタック（Ｄｅｋｔａｋ）６Ｍ）を用いて行なった。

粘度測定は、芝浦システム社製Ｂ型回転粘度計（ビスメトロン粘度計）を用いて行った。

屈折率は、ＪＡＳＣＯ社製のＭＥＬ−３０Ｓ（自動波長スキャンエリプソメータ）または、アタゴ社製の多波長アッベ屈折計（ＤＲ−Ｍ４（波長５８９ｎｍ））により測定した。

全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７３６１−１法により測定した。光線透過率の波長依存性については、日本分光社製の紫外・可視分光光度計（Ｖ−５３０（測定波長領域２５０ｎｍ〜８５０ｎｍ））により測定した。

ＵＶ照射試験は、岩崎電気社製のアイスーパーＵＶテスターＳＵＶ−Ｆ１を用い、６８ｍＷ／ｃｍ２（波長３００〜４００ｎｍ）、１２０時間の条件で行った。

ＵＶ照射加速試験は、ハリソン東芝ライティング（株）社製、光化学用水銀ランプＨ４００−Ｐ（４００Ｗ）を１時間照射することで行った。

ＵＶ−ＬＥＤチップ試験は、２．１Ｗ、ピーク波長３７５ｎｍのＵＶ−ＬＥＤチップ光源を用いて１０００時間照射することで行った。

デュロメータ硬度は、デュロメータ硬度計タイプＡ又はタイプＤを用い、ＪＩＳ７２１５に基いて測定した。

熱伝導率については、密度を水中置換法により測定し、比熱をパーキンエルマー社製のＰｙｒｉｓ Ｄｉａｍｏｎｄ ＤＳＣにより測定し、熱拡散率を京都電子工業社製のレーザーフラッシュ法測定装置（ＬＦＡ−５０２）により測定し、算出した。

酸素透過性は、ＪＩＳ Ｋ ７１２６−１法により測定し、水透過性は、ＪＩＳ Ｋ ７１２９Ａ法により測定した。

^２９Ｓｉ−ＮＭＲ、^２７Ａｌ−ＮＭＲ、^２９ＳｉのＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲ（Ｃｒｏｓｓ Ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ／Ｍａｇｉｃ Ａｎｇｌｅ Ｓｐｉｎｎｉｎｇ Ｎｕｃｌｅａｒ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）、^２９ＳｉのＭＳ ＮＭＲ、及び^２７ＡｌのＭＳ ＮＭＲは、Ｖａｒｉａｎ社製、ＶＮＭＲＳ−４００で測定した。

ポッティング成形は、武蔵エンジニアリング（株）社製、容積計量式デジタル制御ディスペンサーＭＥＡＳＵＲＩＮＧ ＭＡＳＴＥＲ ＭＰＰ−１と次世代標準卓上型ロボットＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ ２００ＤＳを用いて行った。

引張強度及び破断伸びは、島津製作所製引張試験機ＡＧ２０００Ｂを用いて縦１２０ｍｍ、横２５ｍｍ、厚さ２．０ｍｍの短冊状試験片をロードセル１０００Ｎ、チャック距離
１０ｍｍ、引張速度５ｍｍ／ｍｉｎ．、２３℃の条件で測定した。

実施例１
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
攪拌装置と還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに水７５６ｇ（４２．０ｍｏｌ）とトルエン３０２ｇ（３．２８ｍｏｌ）を仕込み、７５℃とした後、滴下濾斗より、ビニルメチルジクロロシラン２９６．２ｇ（２．１０ｍｏｌ）とジメチルジクロロシラン１３５．５ｇ（１．０５ｍｏｌ）とメチルトリクロロシラン５２．３ｇ（０．３５ｍｏｌ）の混合物を６０分間で滴下した。滴下終了後、８０℃、１時間攪拌した。

得られた反応液を分液濾斗に入れ、分層して水層を除去した。更にトルエン層を水により、中性になるまで洗浄した。得られたトルエン層を減圧加熱し、トルエンと含有水を留去し、重合体２６９ｇを得た。

得られた重合体７０．８ｇを窒素気流下、攪拌装置及び還流管を備えた１Ｌの四つ口フラスコに仕込み、ヘキサン１３７．５ｇを加え、攪拌し溶解させた。この重合体のヘキサン溶液にトリエチルアルミニウムの５０重量％のヘキサン溶液９２．４ｇ（Ａｌ含有量０．４０５ｍｏｌ）を加え、ヘキサン還流条件で３時間攪拌した。室温に冷却した後、水１４．６ｇ（０．８１０ｍｏｌ）と２−ブタノール３０．０ｇ（０．４０５ｍｏｌ）を滴下濾斗より３０分間で滴下し、ヘキサン還流条件で２時間攪拌した。

得られたヘキサン溶液を減圧加熱し、ヘキサンと低沸点成分を留去して成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体１０３ｇを得た。

［成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンの合成］
攪拌装置と還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに水６４８ｇ（３６．０ｍｏｌ）とトルエン２５９ｇ（２．８１ｍｏｌ）を仕込み、水冷し内温を４０℃以下としつつ、滴下濾斗より、メチルジクロシラン１７２．６ｇ（１．５０ｍｏｌ）とジメチルジクロロシラン１９３．６ｇ（１．５０ｍｏｌ）の混合物を滴下した。滴下終了後、８０℃、２時間攪拌した。

得られた反応液を分液濾斗に入れ、分層して水層を除去した。更にトルエン層を水により、中性になるまで洗浄した。得られたトルエン層を減圧加熱し、トルエンと含有水を留去し、重合体１９０ｇを得て、これを成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンとした。

［ビニル基と二級炭素原子が直結したケイ素原子を有する環状シロキサンと白金とから成る金属触媒の合成］
窒素気流下、攪拌装置を備えた５０ｍｌのシュレンク管反応器に、特開２００５−５１１９２号公報に記載の方法に従って合成した２，４，６−トリビニル−２，４，６−トリイソプロピルシクロトリシロキサン１７．１ｇ（５０ｍｍｏｌ）、エタノール１６．４ｍｌ、及び塩化白金酸六水和物２．５９ｇ（５．０ｍｍｏｌ）を仕込み、室温で攪拌し、均一溶液とした。この均一溶液に炭酸水素ナトリウム４．２０ｇ（５０ｍｍｏｌ）を１０分間で加えた後、７０℃で６時間攪拌した。得られた懸濁液をガラスフィルターで濾過することにより灰色の残渣を濾別し、透明黄色の白金触媒溶液を得た。得られた透明黄色の白金触媒溶液の白金の濃度は、５７．９ｍｇ／ｇ（０．２９７ｍｍｏｌ／ｇ）であった。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇ（Ｓｉ含有量３８．５ｍｍｏｌ、ビニル含有量２３．１ｍｍｏｌ）に上記で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン３．０９ｇ（Ｓｉ含有量４６．１ｍｍｏｌ、Ｈ含有量２３．１ｍｍｏｌ）を加え、上記で合成した白金触媒溶液の０．００２８ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、２分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５７０であった。また、その全光線透過率は、９１．５％であり、ＵＶ照射試験後の全光線透過率も９１．５％を維持した。光線透過率の波長依存性は、測定波長範囲内で９７．０％以上の光線透過率であり、ＵＶ照射試験後も９７．０％以上を維持した。すなわち、耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ｄは、７０．５であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も７０．５を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１０．６ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−１１０ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

実施例２
実施例１の重合体組成物の合成においてビニルメチルジクロロシラン２９６．２ｇ（２．１０ｍｏｌ）とジメチルジクロロシラン１３５．５ｇ（１．０５ｍｏｌ）とメチルトリクロロシラン５２．３ｇ（０．３５ｍｏｌ）の混合物に変えて、ビニルメチルジクロロシラン１４８．１ｇ（１．０５ｍｏｌ）とジメチルジクロロシラン２６４．６ｇ（２．０５ｍｏｌ）とメチルトリクロロシラン５２．３ｇ（０．３５ｍｏｌ）としたこと以外は、実施例１と同様に成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成を行い、重合体組成物の合成を行った。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ３分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、３分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５７１であった。また、その全光線透過率は、９１．７％であり、ＵＶ照射試験後の全光線透過率も９１．７％を維持した。光線透過率の波長依存性は、測定波長範囲内で９７．０％以上の光線透過率であり、ＵＶ照射試験後も９７．０％以上を維持した。すなわち、耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ｄは、３０．３あり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後は、３０．４であった。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１２．６ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−１１０ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

比較例１
実施例１の重合体組成物の合成において使用したトリエチルアルミニウムの２０重量％のヘキサン溶液を加えなかったこと以外は、実施例１と同様に成分（Ｃ）を含まないポリシロキサン重合体の合成を行い、重合体組成物の合成を行った。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．４３１であった。また、その全光線透過率は、９０．７％であり、ＵＶ照射試験後の全光線透過率は、７６．８％に低下した。更に光線透過率の波長依存性は、測定波長範囲内で９７．０％以上の光線透過率であったが、ＵＶ照射試験後は８９．２％以下に低下した。すなわち、ＵＶ照射により著しく重合体組成物が劣化した。すなわち、耐ＵＶ性が低いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ｄは、６０．８であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後には５５．９に低下した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックと割れが発生し、黄色に変色した。すなわち、耐熱性が低いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過性は、１５８．３ｇ／ｍ^２・ｄａｙであり、実施例１及び実施例２に比べて高く、ガスバリア性が低いことが判明した。

比較例２
実施例１の重合体組成物の合成において使用したトリエチルアルミニウムの５０重量％のヘキサン溶液９２．４ｇ（Ａｌ含有量０．４０５ｍｏｌ）に変えて、アルミニウムイソプロポキシド８２．７ｇ（Ａｌ含有量０．４０５ｍｏｌ）とヘキサン８２．７ｇとしたこと以外は、実施例１と同様にＡｌ含有重合体の合成を行い、重合体組成物の合成を行った。重合体組成物の硬化板状サンプルを作製した。

重合体組成物は、白濁した粘稠スラリー状であり、不均一であった。重合体組成物の硬化板状サンプルは、白濁不透明で、その表面は凹凸があり、平坦ではなかった。

比較例３
実施例１の重合体組成物の合成において使用したトリエチルアルミニウムの５０重量％のヘキサン溶液９２．４ｇ（Ａｌ含有量０．４０５ｍｏｌ）に変えて、アルミニウムｓｅｃ．−ブロキシド９９．８ｇ（Ａｌ含有量０．４０５ｍｏｌ）とヘキサン９９．８ｇとしたこと以外は、実施例１と同様にＡｌ含有重合体の合成を行い、重合体組成物の合成を行った。重合体組成物の硬化板状サンプルを作製した。

実施例１と同様に重合体組成物の硬化板状サンプルを作製したところ、その表面は平坦かつ平滑であったが、表面が白濁し、不透明であった。

実施例３
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
実施例１の重合体組成物の合成においてビニルメチルジクロロシラン２９６．２ｇ（２．１０ｍｏｌ）とジメチルジクロロシラン１３５．５ｇ（１．０５ｍｏｌ）とメチルトリクロロシラン５２．３ｇ（０．３５ｍｏｌ）の混合物に変えて、ビニルメチルジクロロシラン２８２．２ｇ（２．００ｍｏｌ）とジメチルジクロロシラン２０６．４ｇ（１．６０ｍｏｌ）とメチルトリクロロシラン５９．８ｇ（０．４０ｍｏｌ）としたこと以外は、実施例１と同様に成分（Ａ）（粘度４５．６ｍＰａ・ｓ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体（粘度１８．９Ｐａ・ｓ）の合成を行った。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン３．０５ｇを加え、実施例１で合成した成分（Ｄ）の白金触媒溶液の０．００２８ｇを添加し、実施例１と同様にして真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、３分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５３０であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９７．３％、波長５６５ｎｍで９７．３％、波長７５０ｎｍで９７．３％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９７．３％を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９７．３％を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ｄは、３７．０あり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後は、３７．０であった。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１２．９ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

更にポッティング成形テストを重合体組成物の吐出速度０．００５ｍｌ／ｓｅｃ．、成形温度１５０℃、硬化時間５分間の条件で行い、無色透明な半径１．３ｍｍの高さ／半径比＝０．８７のレンズが成形が可能であること確認した。

実施例４
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
攪拌装置と還流管を備えた３Ｌの四つ口フラスコに水１０８０．０ｇ（６０．０ｍｏｌ）とトルエン４３２．０ｇ（４．６９ｍｏｌ）を仕込み、７５℃とした後、滴下濾斗より、ビニルメチルジクロロシラン３５２．７ｇ（２．５０ｍｏｌ）とジメチルジクロロシラン３２２．７ｇ（２．５０ｍｏｌ）の混合物を１２０分間で滴下した。滴下終了後、８０℃、２時間攪拌した。

得られた反応液を分液濾斗に入れ、分層して水層を除去した。更にトルエン層を水により、中性になるまで洗浄した。得られたトルエン層を減圧加熱し、トルエンと含有水を留去し、粘度５．４ｍＰａ・ｓの重合体３７０．３ｇを得た。

得られた重合体２０１．２ｇを窒素気流下、攪拌装置及び還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、ヘキサン３５８．４ｇを加え、攪拌し溶解させた。この重合体のヘキサン溶液にトリエチルアルミニウムの４５．１重量％のヘキサン溶液２９０．７ｇ（Ａｌ含有量１．１４８ｍｏｌ）を加え、ヘキサン還流条件で４時間攪拌した。室温に冷却した後、水３３．１ｇ（１．８３７ｍｏｌ）を２時間で添加した。その後、２−ブタノール８５．１ｇ（１．１４８ｍｏｌ）を滴下濾斗より３０分間で滴下し、ヘキサン還流条件で２時間攪拌した。

得られたヘキサン溶液を減圧加熱し、ヘキサンと低沸点成分を留去して成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度１９．１Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体２４４．４ｇを得た。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン３．００ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液の０．００２８ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、２分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５５０であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９７．１％、波長５６５ｎｍで９７．１％、波長７５０ｎｍで９７．１％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９７．１％を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９７．１％を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ｄは、２０．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も２０．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１０．６ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

更にポッティング成形テストを重合体組成物の吐出速度０．００５ｍｌ／ｓｅｃ．、成形温度１５０℃、硬化時間５分間の条件で行い、無色透明な半径１．３ｍｍの高さ／半径比＝０．８６のレンズが成形が可能であること確認した。

実施例５
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
実施例４の重合体組成物の合成においてビニルメチルジクロロシラン２８２．１ｇ（２．００ｍｏｌ）とジメチルジクロロシラン３８７．２ｇ（３．００ｍｏｌ）の混合物に変えて、ビニルメチルジクロロシラン２８２．１ｇ（２．００ｍｏｌ）とジメチルジクロロシラン３８７．２ｇ（３．００ｍｏｌ）の混合物としたこと以外は、実施例４と同様に成分（Ａ）（粘度１５．４ｍＰａ・ｓ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体（粘度１８．０Ｐａ・ｓ）の合成を行った。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン２．１５ｇを加え、実施例１で得られた成分（Ｄ）の白金触媒溶液の０．００２５ｇを添加し、実施例４と同様にして真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ３分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、３分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５４０であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９６．８％、波長５６５ｎｍで９６．８％、波長７５０ｎｍで９６．８％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９６．８％を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９６．８％を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、２５．０あり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後は、２５．０であった。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１３．７ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

実施例６
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
攪拌装置と還流管を備えた３Ｌの四つ口フラスコに水１０９０．０ｇ（６６．１ｍｏｌ）とトルエン４７６．０ｇ（５．１７ｍｏｌ）を仕込み、７５℃とした後、滴下濾斗より、ジメチルジクロロシラン４６２．０ｇ（３．５８ｍｏｌ）を６０分間で滴下した。滴下終了後、８０℃、２時間攪拌した。

その後、滴下濾斗より、ビニルメチルジクロロシラン２７２．３ｇ（１．９３ｍｏｌ）６０分間で滴下し、更に８０℃、２時間攪拌した。

得られた反応液を分液濾斗に入れ、分層して水層を除去した。更にトルエン層を水により、中性になるまで洗浄した。得られたトルエン層を減圧加熱し、トルエンと含有水を留去し、成分（Ａ）の粘度７．２ｍＰａ・ｓの重合体３５２．３ｇを得た。

得られた重合体２０３．５ｇを窒素気流下、攪拌装置及び還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、ヘキサン３８０．１ｇを加え、攪拌し溶解させた。この重合体のヘキサン溶液にトリエチルアルミニウムの４５．１重量％のヘキサン溶液３００．１ｇ（Ａｌ含有量１．１８５ｍｏｌ）を加え、ヘキサン還流条件で４時間攪拌した。室温に冷却した後、水３４．１ｇ（１．８９６ｍｏｌ）を２時間で添加した。その後、２−ブタノール８７．８ｇ（１．１８５ｍｏｌ）を滴下濾斗より６０分間で滴下し、ヘキサン還流条件で２時間攪拌した。

得られたヘキサン溶液を減圧加熱し、ヘキサンと低沸点成分を留去して成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度１９．７Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体２７２．９ｇを得た。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン２．９０ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液の０．００２７ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、２分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５７０であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９７．５％、波長５６５ｎｍで９７．５％、波長７５０ｎｍで９７．５％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９７．５％を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９７．５％を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、５１．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も５１．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１１．２ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

実施例７
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
実施例６と同様にして得た成分（Ａ）の重合体２０３．５ｇを窒素気流下、攪拌装置及び還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、ヘキサン３８０．１ｇを加え、攪拌し溶解させた。この重合体のヘキサン溶液にトリエチルアルミニウムの４５．１重量％のヘキサン溶液３００．１ｇ（Ａｌ含有量１．１８５ｍｏｌ）を加え、ヘキサン還流条件で４時間攪拌した。水冷し、冷却した後、２−ブタノール２６８．３ｇ（３．６２０ｍｏｌ）を滴下濾斗より６０分間で滴下し、ヘキサン還流条件で２時間攪拌した。

得られたヘキサン溶液を減圧加熱し、ヘキサンと低沸点成分を留去して成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度８７Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体２６８．１ｇを得た。

得られたＡｌ重合体を^２９Ｓｉ−ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．７ｐｐｍと−３５．４ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−ＡｌのＳｉに帰属されるピークが観測された。この２つのピークは、実施例６と同様にして得た成分（Ａ）の^２９Ｓｉ−ＮＭＲのＳｉの−２０．３ｐｐｍと−３４．３ｐｐｍのピーク位置から各々１．４ｐｐｍ、１．１ｐｐｍシフトしている。更に本Ａｌ重合体を２７Ａｌ ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−１００ｐｐｍから−２０ｐｐｍにブロードピークが観られた。

また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１５ｃｍ^−１付近にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン２．９０ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液の０．００２７ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、２分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５７０であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９７．６％、波長５６５ｎｍで９７．６％、波長７５０ｎｍで９７．６％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９７．６％を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９７．６％を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、４５．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も４５．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１０．５ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

実施例８
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
実施例７で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体１５０．０ｇを窒素気流下、攪拌装置及び還流管を備えた１Ｌの四つ口フラスコに仕込み、ヘキサン３００．０ｇを加え、攪拌し溶解させた。この重合体のヘキサン溶液に水冷しつつ、水１２．０ｇ（０．６７ｍｏｌ）を滴下濾斗より６０分間で滴下し、室温で５時間攪拌した。

得られたヘキサン溶液を減圧加熱し、ヘキサンと低沸点成分を留去して成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度１００Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体１４７．１ｇを得た。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン２．７５ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液の０．００２７ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、２分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５５０であった。また、その全光線透過率は、９５．３％であり、ＵＶ照射試験後の全光線透過率も９５．３％を維持した。光線透過率の波長依存性は、測定波長範囲内で９７．０％以上の光線透過率であり、ＵＶ照射試験後も９５．３％以上を維持した。すなわち、耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、６０．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も６０．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１０．３ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

実施例９
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
実施例６と同様にして成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度１９．７Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体を合成した。

［成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンの合成］
攪拌装置と還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに水６４８ｇ（３６．０ｍｏｌ）とトルエン２５９ｇ（２．８１ｍｏｌ）を仕込み、内温を７５℃とし、滴下濾斗より、ジメチルジクロロシラン１９３．６ｇ（１．５０ｍｏｌ）を６０分間で滴下した。滴下終了後、８０℃、２時間攪拌した。

その後、冷却し、内温を４０℃に保ちつつ、メチルジクロシラン１７２．６ｇ（１．５０ｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、８０℃、２時間攪拌した。

得られた反応液を分液濾斗に入れ、分層して水層を除去した。更にトルエン層を水により、中性になるまで洗浄した。得られたトルエン層を減圧加熱し、トルエンと含有水を留去し、粘度１２３ｍＰａ・ｓの重合体１６６．９ｇを得て、これを成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンとした。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇに上記で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン２．９０ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液の０．００２７ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、２分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５７１であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９７．６％、波長５６５ｎｍで９７．６％、波長７５０ｎｍで９７．６％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９７．６％を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９７．６％を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、４９．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も４９．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１２．４ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

比較例４
［成分（Ａ）の重合体の合成］
攪拌装置と還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに水４３２．０ｇ（２４．０ｍｏｌ）とトルエン１７３．０ｇ（１．８８ｍｏｌ）を仕込み、７５℃とした後、滴下濾斗より、ビニルメチルジクロロシラン８４．６ｇ（０．６００ｍｏｌ）とジフェニルジクロロシラン３５４．５ｇ（１．４００ｍｏｌ）の混合物を１２０分間で滴下した。滴下終了後、８０℃、２時間攪拌した。

得られた反応液を分液濾斗に入れ、分層して水層を除去した。更にトルエン層を水により、中性になるまで洗浄した。得られたトルエン層を減圧加熱し、トルエンと含有水を留去し、重合体２６６．７ｇを得た。

［成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンの合成］
攪拌装置と還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに水５６２ｇ（３１．２ｍｏｌ）とトルエン２２５ｇ（２．４４ｍｏｌ）を仕込み、水冷し内温を４０℃以下としつつ、滴下濾斗より、ジフェニルジクロロシラン３２９．２ｇ（１．３００ｍｏｌ）とメチルジクロシラン１４９．６ｇ（１．３００ｍｏｌ）の混合物を６０分間で滴下した。滴下終了後、８０℃、２時間攪拌した。

得られた反応液を分液濾斗に入れ、分層して水層を除去した。更にトルエン層を水により、中性になるまで洗浄した。得られたトルエン層を減圧加熱し、トルエンと含有水を留去し、重合体１９８．９ｇを得て、これを成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンとした。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）５．００ｇに上記で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン２．５０ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液の０．００２６ｇ（成分（Ａ）と成分（Ｂ）の混合物に対し２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ５分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、５分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５６０であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで８６．６％、波長５６５ｎｍで８８．４％、波長７５０ｎｍで８８．７％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後は、波長３８０ｎｍで７５．４％、波長５６５ｎｍで８０．２％、波長７５０ｎｍで８０．９％の光線透過率となり、光線透過率が著しく低下した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が低いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、８８．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後は、８５．２であった。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後に黄色に変色した。すなわち、耐熱性が低いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、５０．６ ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

比較例５
［成分（Ａ）の重合体の合成］
比較例４と同様にして成分（Ａ）の重合体を合成した。

［成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンの合成］
比較例４の成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンの合成においてジフェニルジクロロシラン３２９．２ｇ（１．３００ｍｏｌ）とメチルジクロシラン１４９．６ｇ（１．３００ｍｏｌ）の混合物に変えて、フェニルメチルジクロロシランｇ（１．３００ｍｏｌ）とメチルジクロシラン１４９．６ｇ（１．３００ｍｏｌ）の混合物としたこと以外は、比較例４と同様に成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンの合成を行い、重合体組成物の合成を行った。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）の重合体５．００ｇに上記で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン２．１５ｇを加え、実施例１で合成した成分（Ｄ）の白金触媒溶液の０．００２０ｇを添加し、比較例４と同様にして真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ３分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、３分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５６５であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで８５．３％、波長５６５ｎｍで８７．１％、波長７５０ｎｍで８７．７％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後は、波長３８０ｎｍで７０．４％、波長５６５ｎｍで７８．５％、波長７５０ｎｍで７９．９％の光線透過率となり、光線透過率が著しく低下した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が低いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、５２．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後は、４９．８であった。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後に黄色に変色した。すなわち、耐熱性が低いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、４２．６ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

実施例１０
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
実施例６と同様にして得た成分（Ａ）の重合体１６３．１ｇを窒素気流下、攪拌装置及び還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、トリメチルアルミニウムの１．０７ｍｏｌ／Ｌのヘキサン溶液８４１．６ｇ（Ａｌ含有量０．９０１ｍｏｌ）を加え、ヘキサン還流条件で４時間攪拌した。水冷し、冷却した後、２−ブタノール２０５．６ｇ（２．７７４ｍｏｌ）を滴下濾斗より６０分間で滴下し、ヘキサン還流条件で２時間攪拌した。

得られたヘキサン溶液を減圧加熱し、ヘキサンと低沸点成分を留去して成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度５．５Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体２６８．１ｇを得た。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン３．３９ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液の０．００２９ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し、白金２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、２分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５８９であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９２．３％、波長５６５ｎｍで９７．６％、波長７５０ｎｍで９８．２％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９２．３％以上を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９２．３％以上を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、５２．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も５２．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１２．６ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

実施例１１
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
実施例６と同様にして得た成分（Ａ）の重合体２０１．２ｇを窒素気流下、攪拌装置及び還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、トルエン２０１．２ｇを加え、攪拌し溶解させた。この重合体のトルエン溶液に東ソー・ファインケム（株）社製アルミノキサントルエン溶液（ＴＭＡＯ−２１２トルエン溶液、Ａｌ濃度＝９．１ｗｔ％）７６．３ｇ（Ａｌ含有量０．２５７ｍｏｌ）を加え、内温９０．０℃で４時間攪拌した。水冷し、冷却した後、２−ブタノール５２．４ｇ（０．７０７ｍｏｌ）を滴下濾斗より６０分間で滴下し、９０．０℃で２時間攪拌した。

得られたトルエン溶液を減圧加熱し、トルエンと低沸点成分を留去して成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度１．１Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体１９０．２ｇを得た。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン３．１６ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液の０．００２８ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し、白金２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、２分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５４８であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９０．２％、波長５６５ｎｍで９６．９％、波長７５０ｎｍで９８．２％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９０．２％以上を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９０．２％以上を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、２３．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も２３．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１１．５ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

実施例１２
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
実施例６において添加する水３４．１ｇ（１．８９６ｍｏｌ）に変えて水１０．７ｇ（０．５９３ｍｏｌ）としたこと以外は、実施例６と同様にして成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度１９．５Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体を合成した。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン１．６８ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液の０．００２３ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し、白金２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、２分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５６９であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで８９．６％、波長５６５ｎｍで９６．９％、波長７５０ｎｍで９８．６％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で８９．６％以上を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率８９．６％以上を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、２１．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も２１．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１３．５ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

実施例１３
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
実施例６において添加する水３４．１ｇ（１．８９６ｍｏｌ）に変えて水５．３ｇ（０．２９７ｍｏｌ）としたこと以外は、実施例６と同様にして成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度１．２Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体を合成した。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体５．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン１．６８ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液の０．００２３ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、２分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５７１であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９０．４％、波長５６５ｎｍで９７．０％、波長７５０ｎｍで９７．９％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９０．４％以上を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９０．４％以上を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、３１．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も３１．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１０．３ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−Ａｌに帰属されるピークが観測された。また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

実施例１４
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＺｎ含有重合体の合成］
実施例４と同様にして得た成分（Ａ）の重合体２０６．２ｇを窒素気流下、攪拌装置及び還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、ヘキサン２００．４ｇを加え、攪拌し溶解させた。この重合体のヘキサン溶液にジエチル亜鉛の１．０９ｍｏｌ／Ｌのヘキサン溶液６０１．５ｍｌ（Ｚｎ含有量０．６５６ｍｏｌ）を加え、室温で４時間攪拌した。水冷し、冷却した後、水１１．８ｇ（０．６５６ｍｏｌ）を滴下濾斗より６０分間で滴下し、室温で２時間攪拌した。

得られたヘキサン溶液を減圧加熱し、ヘキサンと低沸点成分を留去して成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度０．５２Ｐａ・ｓのＺｎ含有重合体２８９．５ｇを得た。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＺｎ含有重合体５．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン２．９０ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液の０．００２７ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２分間であった。

［重合体組成物の成型（硬化物の合成）］
縦５０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのガラス製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、２分間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。

得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５４４であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９７．６％、波長５６５ｎｍで９７．６％、波長７５０ｎｍで９７．６％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９７．６％を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９７．６％を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、８３．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も８３．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１３．８ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

実施例１５
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
実施例６と同様にして得た成分（Ａ）の重合体３０１．０を窒素気流下、攪拌装置及び還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、ヘキサン３２２．０ｇを加え、攪拌し溶解させた。この重合体のヘキサン溶液にトリエチルアルミニウムの４９．０重量％のヘキサン溶液２２４．０ｇ（Ａｌ含有量０．９６１ｍｏｌ）を加え、ヘキサン還流条件で４時間攪拌した。室温に冷却した後、２−ブタノール２１７．２ｇ（２．９３１ｍｏｌ）を滴下濾斗より６０分間で滴下し、ヘキサン還流条件で２時間攪拌した。

得られたヘキサン溶液を減圧加熱し、ヘキサンと低沸点成分を留去して成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度２．１９Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体２８７．４ｇを得た。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体１０．０ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン６．２２ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液（Ｐｔ＝５７．９ｍｇ／ｇ溶液）の０．００５６ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し、白金２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２２秒であった。

［重合体組成物の成形（硬化物の合成）］
縦１２０ｍｍ、横２５ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのテフロン（登録商標）製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、１時間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

本硬化板状サンプルの機械的強度を測定したところ、引張強度は１．７５ＭＰａ、破断伸びは、１０．９％であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５００であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９２．７％、波長５６５ｎｍで９６．７％、波長７５０ｎｍで９７．４％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９２．７％以上を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９２．７％以上を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、７８．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も７８．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。また、デュロメータ硬度Ｄは、２４．０であった。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１３．６ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍと−３６．９ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−ＡｌのＳｉに帰属されるピークが観測された。この２つのピークは、実施例６で得た成分（Ａ）のみと実施例１で得られた成分（Ｂ）を白金触媒下に硬化させたＡｌ成分を含まない（成分（Ｃ）を含まない）硬化物の^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲのＳｉの−２０．５ｐｐｍと−３５．９ｐｐｍのピーク位置から各々１．１ｐｐｍ、１．０ｐｐｍシフトしている。更に本硬化板状サンプルを^２７Ａｌ ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−１００ｐｐｍから−２０ｐｐｍにブロードピークが観られた。

また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

実施例１６
［成分（Ａ）の合成］
攪拌装置と還流管を備えた５Ｌの四つ口フラスコに水１６２０．０ｇ（９０．０ｍｏｌ）とトルエン３９１．０ｇ（４．２０ｍｏｌ）を仕込み、７５℃した後、滴下濾斗より、ジメチルジクロロシラン１７４２．３ｇ（１３．５０ｍｏｌ）を６０分間で滴下した。滴下終了後、８０℃、２時間攪拌した。

その後、滴下濾斗より、ビニルメチルジクロロシラン２１１．６ｇ（１．５０ｍｏｌ）６０分間で滴下し、更に８０℃、２時間攪拌した。

得られた反応液を分液濾斗に入れ、分層して水層を除去した。更にトルエン層を水により、中性になるまで洗浄した。得られたトルエン層を減圧加熱し、トルエンと含有水を留去し、成分（Ａ）の粘度０．２６４Ｐａ・ｓの重合体８３９．０ｇを得た。

［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
得られた成分（Ａ）１１０．３ｇを窒素気流下、攪拌装置及び還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、トリエチルアルミニウムの４９．０重量％のヘキサン溶液８６．３９ｇ（Ａｌ含有量０．３７１ｍｏｌ）を加え、ヘキサン還流条件で４時間攪拌した。室温に冷却した後、２．００ｇ（０．１１１ｍｏｌ）を１０分間で添加した。その後、２−ブタノール７５．６ｇ（１．０２０ｍｏｌ）を滴下濾斗より６０分間で滴下し、ヘキサン還流条件で２時間攪拌した。

得られたヘキサン溶液を減圧加熱し、ヘキサンと低沸点成分を留去して成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度０．７５Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体１５３．７ｇを得た。

得られたＡｌ重合体を^２９Ｓｉ−ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．５ｐｐｍと−３５．３ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−ＡｌのＳｉに帰属されるピークが観測された。この２つのピークは、成分（Ａ）の^２９Ｓｉ−ＮＭＲのＳｉの−２０．３ｐｐｍと−３４．３ｐｐｍのピーク位置から各々１．２ｐｐｍ、１．０ｐｐｍシフトしている。更に本Ａｌ重合体を^２７Ａｌ ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−１００ｐｐｍから−２０ｐｐｍにブロードピークが観られた。

また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１５ｃｍ−１付近にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体１２．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン１．５４ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液（５７．９ｍｇ／ｇ）の０．００４７ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し白金２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ１１秒であった。
［重合体組成物の成形（硬化物の合成）］
縦１２０ｍｍ、横２５ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのテフロン（登録商標）製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、１時間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

本硬化板状サンプルの機械的強度を測定したところ、引張強度は１．５５ＭＰａ、破断伸びは、２０．９％であった。 得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５００であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９３．１％、波長５６５ｎｍで９７．１％、波長７５０ｎｍで９７．８％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９３．１％以上を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９３．１％以上を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、９１．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も９１．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。また、デュロメータ硬度Ｄは、２５．０であった。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１１．７ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍと−３７．０ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−ＡｌのＳｉに帰属されるピークが観測された。この２つのピークは、上記の成分（Ａ）のみと実施例１で得られた成分（Ｂ）を白金触媒下に硬化させたＡｌ成分を含まない（成分（Ｃ）を含まない）硬化物の^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲのＳｉの−２０．５ｐｐｍと−３５．９ｐｐｍのピーク位置から各々１．１ｐｐｍ、１．１ｐｐｍシフトしている。更に本硬化板状サンプルを^２７Ａｌ ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−１００ｐｐｍから−２０ｐｐｍにブロードピークが観られた。

また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

実施例１７
［重合体組成物の合成］
実施例１６で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体６．００ｇと実施例１６で得られた成分（Ａ）６．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン１．９９ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液（５７．９ｍｇ／ｇ）の０．００４８ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し白金２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ８秒であった。

［重合体組成物の成形（硬化物の合成）］
縦１２０ｍｍ、横２５ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのテフロン（登録商標）製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、１時間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

本硬化板状サンプルの機械的強度を測定したところ、引張強度は３．６８ＭＰａ、破断伸びは、６８．６％であった。 得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．４８０であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９４．０％、波長５６５ｎｍで９８．２％、波長７５０ｎｍで９８．８％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９４．０％以上を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９４．０％以上を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、６７．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も６７．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。また、デュロメータ硬度Ｄは、１９．０であった。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１７．７ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

実施例１８
［重合体組成物の合成］
実施例１６で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体１２．００ｇと２，４，６，８−テトライソプロピル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン３．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン９．７８ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液（５７．９ｍｇ／ｇ）の０．００８６ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し白金２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ１３秒であった。

［重合体組成物の成形（硬化物の合成）］
縦１２０ｍｍ、横２５ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのテフロン（登録商標）製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、１時間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

本硬化板状サンプルの機械的強度を測定したところ、引張強度は７．６８ＭＰａ、破断伸びは、１２．８％であった。 得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５１０であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９３．５％、波長５６５ｎｍで９７．９％、波長７５０ｎｍで９８．２％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９３．５％以上を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９３．５％以上を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、９５．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も９５．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。また、デュロメータ硬度Ｄは、６６．０であった。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１５．７ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

実施例１９
実施例１６においてジメチルジクロロシランを１８３９．１ｇ（１４．２５ｍｏｌ）に、ビニルメチルジクロロシラン１０５．８ｇ（０．７５ｍｏｌ）としたこと以外は、実施例１６と同様にして成分（Ａ）を合成し、成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成を行った。成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応により粘度０．２７Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体１５０．３ｇを得た。

得られたＡｌ重合体を^２９Ｓｉ−ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍと−３５．３ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−ＡｌのＳｉに帰属されるピークが観測された。この２つのピークは、実施例１９で得られた上記成分（Ａ）の^２９Ｓｉ−ＮＭＲのＳｉの−２０．３ｐｐｍと−３４．３ｐｐｍのピーク位置から各々１．３ｐｐｍ、１．０ｐｐｍシフトしている。更に本Ａｌ重合体を^２７Ａｌ ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−１００ｐｐｍから−２０ｐｐｍにブロードピークが観られた。

また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１５ｃｍ^−１付近にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体１２．００ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン０．８０４ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液（５７．９ｍｇ／ｇ）の０．００４４ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し白金２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ２４秒であった。

［重合体組成物の成形（硬化物の合成）］
縦１２０ｍｍ、横２５ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのテフロン（登録商標）製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、１時間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

本硬化板状サンプルの機械的強度を測定したところ、引張強度は１．３２ＭＰａ、破断伸びは、４５．３％であった。 得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５１０であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９３．６％、波長５６５ｎｍで９７．６％、波長７５０ｎｍで９８．０％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９３．６１％以上を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９３．６％以上を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、５４．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も５４．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。また、デュロメータ硬度Ｄは、１５．０であった。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１２．３ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．６ｐｐｍと−３７．０ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−ＡｌのＳｉに帰属されるピークが観測された。この２つのピークは、上記の成分（Ａ）のみと実施例１で得られた成分（Ｂ）を白金触媒下に硬化させたＡｌ成分を含まない（成分（Ｃ）を含まない）硬化物の^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲのＳｉの−２０．５ｐｐｍと−３５．９ｐｐｍのピーク位置から各々１．１ｐｐｍ、１．１ｐｐｍシフトしている。更に本硬化板状サンプルを^２７Ａｌ ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−１００ｐｐｍから−２０ｐｐｍにブロードピークが観られた。

また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

実施例２０
［成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体の合成］
実施例６と同様にして得た成分（Ａ）の重合体３０１．６を窒素気流下、攪拌装置及び還流管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、ヘキサン３２２．０ｇを加え、攪拌し溶解させた。この重合体のヘキサン溶液にトリエチルアルミニウムの４９．０重量％のヘキサン溶液４０７．６ｇ（Ａｌ含有量１．７４９ｍｏｌ）を加え、ヘキサン還流条件で４時間攪拌した。室温に冷却した後、４−ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸１２６．１ｇ（０．８７５ｍｏｌ）を添加し、ヘキサン還流条件で２時間攪拌した。更に室温に冷却した後、２−ブタノール２６５．８ｇ（３．５８５ｍｏｌ）を滴下濾斗より６０分間で滴下し、ヘキサン還流条件で２時間攪拌した。

得られたヘキサン溶液を減圧加熱し、ヘキサンと低沸点成分を留去して成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応による粘度４．２１Ｐａ・ｓのＡｌ含有重合体３３６．９ｇを得た。

［重合体組成物の合成］
上記で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体１０．０ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン４．０７ｇを加え、実施例１で得られた白金触媒溶液（Ｐｔ＝５７．９ｍｇ／ｇ溶液）の０．００４９ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し、白金２０ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ１５秒であった。

［重合体組成物の成形（硬化物の合成）］
縦１２０ｍｍ、横２５ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのテフロン（登録商標）製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、１時間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

本硬化板状サンプルの機械的強度を測定したところ、引張強度は３．６１ＭＰａ、破断伸びは、７８．２％であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５６０であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９２．４％、波長５６５ｎｍで９６．３％、波長７５０ｎｍで９７．１％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９２．４％以上を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９２．４％以上を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、７２．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も７２．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。また、デュロメータ硬度Ｄは、２６．０であった。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１５．５ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

実施例２１
［ルテニウム触媒の調整］
（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウム
０．１００ｇを実施例６で合成した成分（Ａ）１０ｇでに溶解し、１０．０ｍｇ／ｇの溶液とした。
［重合体組成物の合成］
実施例１５で得られた成分（Ａ）と成分（Ｃ）との反応によるＡｌ含有重合体１０．０ｇに実施例１で得られた成分（Ｂ）の水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサン６．２２ｇを加え、上記の（２，４−ジメチルペンタジエニル）（エチルシクロペンタジエニル）ルテニウム触媒溶液を１．４６ｇ（Ａ１含有重合体＋水素がケイ素に直結した構造を有するポリシロキサンに対し、９００ｐｐｍ）を添加し、シンキー社製自転・公転真空ミキサーＡＲＶ−３１０で内圧＝０．６ｋＰａ，公転／自転比＝２０００ｒｐｍ／１０００ｒｐｍで３分間、真空脱泡混合を行い、重合体組成物とした。

［重合体組成物の硬化時間の測定］
得られた重合体組成物を１５０℃の焼成炉で加温し、硬化時間を測定したところ１２５秒であった。

［重合体組成物の成形（硬化物の合成）］
縦１２０ｍｍ、横２５ｍｍ、厚さ２．０ｍｍのテフロン（登録商標）製鋳型に上記の重合体組成物を流し込み、１５０℃、４時間の条件で加熱硬化させ、重合体組成物の硬化板状サンプル（硬化物）を得た。得られた重合体組成物の硬化板状サンプルは、無色透明で、その表面は平坦かつ平滑であった。

本硬化板状サンプルの機械的強度を測定したところ、引張強度は１．２５ＭＰａ、破断伸びは、９．８％であった。

得られた硬化板状サンプルの屈折率を測定したところ、１．５１０であった。また、光線透過率の波長依存性は、波長３８０ｎｍで９１．０％、波長５６５ｎｍで９５．８％、波長７５０ｎｍで９６．５％の光線透過率であり、ＵＶ照射加速試験後も波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で９１．０％以上を維持した。

また、同様にＵＶ−ＬＥＤチップ試験の前後でも光線透過率の変化は無く、波長３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域で光線透過率９１．０％以上を維持した。すなわち、本重合体組成物の耐ＵＶ性が高いことが判明した。

得られた硬化板状サンプルのデュロメータ硬度Ａは、６８．０であり、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後も７８．０を維持した。また、１５０℃から２６０℃の昇降温３回の耐熱試験後にクラックの発生や割れ、黄変等の変色は観られなかった。すなわち、耐熱性が高いことが判明した。また、デュロメータ硬度Ｄは、２１．０であった。

得られた硬化板状サンプルの水透過率は、１７．６ｇ／ｍ^２・ｄａｙであった。

得られた硬化板状サンプルを^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−２１．５ｐｐｍと−３６．９ｐｐｍにＳｉ−Ｏ−ＡｌのＳｉに帰属されるピークが観測された。この２つのピークは、実施例６で得た成分（Ａ）のみと実施例１で得られた成分（Ｂ）を白金触媒下に硬化させたＡｌ成分を含まない（成分（Ｃ）を含まない）硬化物の^２９Ｓｉ ＣＰ／ＭＡＳ ＮＭＲのＳｉの−２０．５ｐｐｍと−３５．９ｐｐｍのピーク位置から各々１．０ｐｐｍ、１．０ｐｐｍシフトしている。更に本硬化板状サンプルを^２７Ａｌ ＭＡＳ ＮＭＲにより分析したところ、δ−１００ｐｐｍから−２０ｐｐｍにブロードピークが観られた。

また、赤外吸収スペクトルにより分析したところ、１０１４ｃｍ^−１にＳｉ−Ｏ−Ａｌの伸縮に帰属される伸縮振動、７５０ｃｍ^−１付近にＡｌ−Ｏの伸縮振動が観測された。すなわち、ケイ素、酸素、及びアルミニウムから成る一次構造鎖が形成されていることが判明した。

Claims (17)

1. Ｉ）、ＩＩ）及びＩＩＩ）を含むことを特徴とする重合体組成物。
   Ｉ）下記式（１）及び（２）、（１）及び（３）、又は（１）、（２）及び（３）の繰り返し単位を含む不飽和基含有シロキサン化合物（成分（Ａ））と、
   

   

   （式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ^１どうしは、同一でも異なっても良い。ａは０を表す。）
   アルミニウム及び／又は亜鉛の、有機金属化合物またはメタロキサン化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種（成分（Ｃ））を反応して得られる重合体。
   ＩＩ）下記式（４）及び（５）、（４）及び（６）、又は（４）、（５）及び（６）の繰り返し単位を含み水素がケイ素に直結した構造を有するシロキサン化合物（成分（Ｂ））。
   

   

   （式中、Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ^２どうしは、同一でも異なっても良い。）
   ＩＩＩ）周期表の第８族金属、第９族金属、または第１０族金属の金属触媒（成分（Ｄ））。
2. Ｉ）が、成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させる際もしくは、反応させた後に、水、有機ヒドロキシ化合物及び有機ヒドロキシカルボン酸化合物から選ばれる１種以上を反応させた反応物であることを特徴とする、請求項１に記載の重合体組成物。
3. Ｉ）が、成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応して得られる重合体にアルケニル基置換環状シロキサンを添加した反応物であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の重合体組成物。
4. Ｉ）が、式（１）、式（２）及び下記式（７）、式（１）、式（３）及び下記式（７）、又は式（１）、式（２）、式（３）及び下記式（７）の繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の重合体組成物。
   

   

   （Ｒ^６は、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のシラノキシ基を表す。）
5. 成分（Ｄ）が、白金触媒またはルテニウム触媒であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の重合体組成物。
6. 予め成分（Ａ）と成分（Ｃ）を反応させた後、成分（Ｂ）及び成分（Ｄ）を添加することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の重合体組成物の製造方法。
7. 請求項１〜５のいずれかに記載の重合体組成物を加熱もしくは、光を照射して反応させて得ることを特徴とする硬化物。
8. Ａｌ−Ｏに基づく７００〜８００ｃｍ^−１とＳｉ−Ｏ−Ａｌに基づく１０１０〜１０２０ｃｍ^−１の赤外吸収を有し、成分（Ａ）の不飽和基含有シロキサン化合物と成分（Ｂ）水素がケイ素に直結した構造を有するシロキサン化合物の硬化物の^２９Ｓｉ−ＮＭＲの化学シフト（ｐｐｍ）に対する成分（Ａ）と成分（Ｃ）の有機金属化合物またはメタロキサン化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種との反応物との成分（Ｂ）水素がケイ素に直結した構造を有するシロキサン化合物の硬化物の^２９Ｓｉ−ＮＭＲの化学シフト（ｐｐｍ）の差分が１．０ｐｐｍ以上であり、^２７Ａｌ−ＮＭＲで−５０〜１００ｐｐｍにブロードピークを有することを特徴とする請求項７に記載の硬化物。
9. 請求項７又は８に記載の硬化物からなることを特徴とする封止材。
10. 請求項７又は８に記載の硬化物からなることを特徴とするガスバリア材。
11. 請求項７又は８に記載の硬化物からなることを特徴とする半導体用絶縁封止材。
12. 請求項９に記載の封止材を用いることを特徴とするＬＥＤデバイス。
13. 請求項１０に記載のガスバリア材を用いることを特徴とする樹脂部材。
14. 請求項１１に記載に記載の半導体用絶縁封止材を用いることを特徴とする半導体デバイス。
15. 下記式（１）及び（２）、（１）及び（３）、又は（１）、（２）及び（３）の繰り返し単位を含み不飽和基含有シロキサン化合物（成分（Ａ））と、
    

    

    （式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ^１どうしは、同一でも異なっても良い。ａは０を表す。）
    アルミニウム及び／又は亜鉛属の、有機金属化合物またはメタロキサン化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種（成分（Ｃ））を反応して得られる重合体。
16. 式（１）、式（２）及び下記式（７）、式（１）、式（３）及び下記式（７）、又は式（１）、式（２）、式（３）及び下記式（７）の繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項１５に記載の重合体。
    

    

    （Ｒ^６は、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のシラノキシ基を表す。）
17. Ａｌ−Ｏに基づく７００〜８００ｃｍ^−１とＳｉ−Ｏ−Ａｌに基づく１０１０〜１０２０ｃｍ^−１の赤外吸収を有し、成分（Ａ）の不飽和基含有シロキサン化合物の^２９Ｓｉ−ＮＭＲの化学シフト（ｐｐｍ）と、成分（Ａ）と成分（Ｃ）の有機金属化合物またはメタロキサン化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種との反応物の^２９Ｓｉ−ＮＭＲの化学シフト（ｐｐｍ）の差分が１．０ｐｐｍ以上であり、^２７Ａｌ−ＮＭＲで−５０〜１００ｐｐｍにブロードピークを有することを特徴とする請求項１５又は１６に記載の重合体。