JP6189331B2 - 弁構造 - Google Patents

Description

本発明は、弁構造に関するものである。

従来、流量や流量に伴う流体圧力の制御を行うために、ソレノイドバルブが広く利用されている。また、ソレノイドバルブにおいては、コイルへの通電量と流量を比例させるリニアソレノイドを用いたものが知られている。図１１〜図１３を参照して、リニアソレノイドを用いた従来例に係るソレノイドバルブについて説明する。図１１は従来例に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が閉じた状態を示す模式的断面図である。図１２は従来例に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が開いた状態を示す模式的断面図である。図１３は従来例に係るソレノイドバルブにおけるコイルへの通電量と流量との関係を示すグラフである。

この従来例に係るソレノイドバルブにおいては、コイルへの通電量に応じて往復移動するロッド１００の先端面１１０の中央から更に先端方向に突出する弁体部１２０がロッド１００に一体的に設けられている。そして、この弁体部１２０の外周にゴム製のＯリング３００が装着されている。また、弁座２００には、弁孔２１０が設けられている。

以上の構成により、コイルに対して通電されていない状態では、ロッド１００の弁体部１２０が弁座２００の弁孔２１０内に入り込み、Ｏリング３００が、ロッド１００の先端面１１０と弁座２００の座面２２０との間に挟まれた状態となっている。これにより、弁孔２１０は弁体部１２０とＯリング３００によって塞がれた状態となる（図１１参照）。そして、コイルに対して通電されると、ロッド１００の先端面１１０が座面２２０から離れる方向にロッド１００が移動していく。これにより、弁孔２１０から弁体部１２０が抜け、かつＯリング３００が座面２２０から離れるため、弁孔２１０が開いた状態となる（図１２参照）。

ここで、ゴム製のＯリング３００は、粘着性を有している。また、上記従来例においては、Ｏリング３００は、ロッド１００の先端面１１０と弁座２００の座面２２０との間に挟まれた状態となっている。そのため、弁が閉じた状態から、ロッド１００が移動し始めた直後においては、Ｏリング３００は、座面２２０との粘着により、軸線方向に少し伸びた後に、座面２２０から離れて元の形状に戻るように変形する。なお、図１２中、点線で示すＯリング３００ａは、座面２２０との粘着により、軸線方向に伸びた様子を示している。そのため、図１３中のグラフのＸ部に示すように、通電開始直後において、流体の流量が一瞬高くなるといった現象が生じてしまう。なお、図１３中、Ｌ１は非通電の状態から電流値が増加していく際の様子を示し、Ｌ２は電流値が高い状態から電流値が低減していき非通電になるまでの様子を示している。このグラフから分かるように、同じ電流値でもＬ１とＬ２では流量が異なっている。この流量の差はヒステリシスと呼ばれており、このヒステリシスが大きいほど、ある通電量に対する流量の誤差が大きくなってしまうことが分かる。このヒステリシスが生じる原因の一つとして、上述したＯリング３００の粘着の問題があると考えられている。

このように、Ｏリング３００が座面２００に対して粘着してしまうことで変形時のふるまいが安定しない（一定でない）ことが、通電開始直後（弁が開き始めた直後）において流量制御を不安定にし、また、ヒステリシスを大きくしてしまい、流量制御の精度を低下させる原因となっている。なお、上記の説明においては、ソレノイドバルブにおける弁構造についての問題を説明したが、駆動源がソレノイド以外のもの（空圧アクチュエータ、油圧アクチュエータ、圧電アクチュエータなど）における弁構造であっても、同様の問題が起こり得る。

特開２００６−２２６３５２号公報 実公平３−２９６４５号公報

本発明の目的は、流量制御の精度の向上を図った弁構造を提供することにある。

本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。

すなわち、本発明の弁構造は、
往復動用のアクチュエータによって往復移動するように構成された往復動部材の先端に設けられる弁体と、
該弁体の先端面である弁部が弁孔の周りの端面により構成される座面に着座することで前記弁孔が閉じられ、該弁部が座面から離れることで前記弁孔が開かれる弁座と、
を備え、
前記往復動部材が前記座面側に移動している状態では、前記弁部が前記弁座に着座する位置に前記弁体が移動し、前記往復動部材の前記座面から離れる方向への移動に伴って、前記弁部が前記弁座から離れる方向に前記弁体が移動する弁構造において、
前記弁体の外周面に摺動自在に接触するシールリップを有するシール部材を備え、
前記弁体は、前記弁部が前記弁座から離れてから、前記弁体と前記シーリップとの間に隙間を形成すべく前記シールリップから離間する離間部を有し、
前記離間部は、前記弁部が前記弁座から離れるにつれて、前記弁体と前記シールリップとの間の隙間を通過する流体の流量が増えるように構成されていることを特徴とする。

本発明によれば、弁体の弁部が弁座に着座している状態においては、シール部材のシールリップも弁体の表面に密着することで、弁体の弁部とともに弁孔からの流体の流出を防ぐ状態となる。そして、弁が閉じた状態から、弁部が弁座から離れる方向に弁体が移動していく。このとき、弁体に設けられた離間部により形成される隙間を介して、流体がシールリップと弁体との間を通過して流れていく。そして、該隙間を通過する流体の流量は、弁部が弁座から離れるにつれて増えていく。

ここで、本発明では、弁部とともに弁孔からの流体の流出を塞ぐための部材として、弁体の表面に摺動自在に接触するシールリップを有するシール部材を採用している。また、弁体が閉位置から移動すると、弁体の離間部に形成された隙間によってシールリップを挟んだ弁孔側の領域と反対側の領域とが流通可能となり、両領域間の圧力差が徐々に低減される。従って、従来例のＯリングの場合のように両側から圧縮された状態から座面から離れるのに比べて、本発明における弁体の弁部の方が座面から離れ易い。また、本発明においては、離間部による隙間を介してシールリップと弁体との間を通過する流体の流量が、弁部が弁座から離れるにつれて増えていくように構成されている。以上のことから、弁が開き始めた直後から流体制御を安定的に行うことが可能となる。また、弁部が座面から離れ易いことからヒステリシスによる流量制御の誤差も少なくすることができる。

前記離間部は、前記弁体の往復移動によって前記シールリップと対向する範囲の表面の領域のうち前記弁部が前記弁座から離れてから前記シールリップと対向する領域内に形成されるテーパ面部であり、
前記テーパ面部は、前記弁部が前記弁座から離れるにつれて、前記シールリップから離れていくように縮径するとよい。
あるいは、前記離間部は、前記弁体の往復移動によって前記シールリップが摺動する範囲の表面の領域のうち前記弁部が前記弁座から離れてから前記シールリップが摺動する領域内に形成される溝であり、
前記溝は、前記弁部が前記弁座から離れるにつれて、前記弁体と前記シールリップとの接触領域を通過する流体の流量が増えるように構成されているとよい。

上記構成の離間部によれば、安定的な流体制御を簡易な構成によって実現することができる。

以上説明したように、本発明によれば、流量制御の精度の向上を図ることができる。

図１は本発明の実施例１に係るソレノイドバルブの模式的断面図である。 図２は本発明の実施例１に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が閉じた状態を示す模式的断面図である。 図３は本発明の実施例１に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が開いた状態を示す模式的断面図である。 図４は本発明の実施例２に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が閉じた状態を示す模式的断面図である。 図５は本発明の実施例２に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が開いた状態を示す模式的断面図である。 図６は本発明の実施例２に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が閉じた状態を示す模式的断面図である。 図７は本発明の実施例３に係るソレノイドバルブの模式的断面図である。 図８は本発明の実施例３に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が閉じた状態を示す模式的断面図である。 図９は本発明の実施例３に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が開いた状態を示す模式的断面図である。 図１０は本発明の実施例３に係るソレノイドバルブにおける弁体の溝の断面形状を示す図である。 図１１は従来例に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が閉じた状態を示す模式的断面図である。 図１２は従来例に係るソレノイドバルブにおいて、バルブ部付近における弁が開いた状態を示す模式的断面図である。 図１３は従来例に係るソレノイドバルブにおけるコイルへの通電量と流量との関係を示すグラフである。

以下に図面を参照して、この発明を実施するための形態を、実施例に基づいて例示的に詳しく説明する。ただし、この実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。なお、以下の説明においては、弁構造が適用される装置の一例として、ソレノイドバルブの場合を例にして説明する。

（実施例１）
図１〜図３を参照して、本発明の実施例１に係るソレノイドバルブについて説明する。

＜ソレノイドバルブの全体構成＞
図１を参照して、本発明の実施例に係るソレノイドバルブの全体構成を説明する。ソレノイドバルブＳＶは、往復動用のアクチュエータであるソレノイド部Ｓと、弁構造としてのバルブ部Ｖと、これらソレノイド部Ｓとバルブ部Ｖを構成する各種部材を収容するハウジング部Ｈとから構成される。

ソレノイド部Ｓは、ボビン１１と、ボビン１１に巻かれ、通電により磁界を発生するコイル１２と、コイル１２によって発生した磁界により磁気回路が形成されることでセンターポスト１４に磁気的に吸引される往復動部材としてのプランジャ１３とを備えている。また、ソレノイド部Ｓは、上記の磁気回路を形成するべく、いずれも磁性部材からなる一対のプレート１５ａ，１５ｂ及びケース１５ｃも備えている。また、ソレノイド部Ｓは、プランジャ１３をセンターポスト１４から離れる方向に付勢するスプリング１６ａと、このスプリング１６ａを受けるスプリング受け１６ｂと、スプリング受け１６ｂの位置調整を行うアジャストスクリュ１６ｃとを備えている。更に、ソレノイド部Ｓは、コイル１２に電気的に接続された端子１７も備えている。

ハウジング部Ｈは、ソレノイド部Ｓとバルブ部Ｖを構成する各種部材を収容するハウジング本体２１と、ハウジング本体２１に固定されるカバー２２と、ハウジング本体２１を補強する補強部材２３とから構成される。ハウジング本体２１には、元圧側から流体を流入させるための入力ポート部２１ａと、出力側（制御圧側）に流体を排出させるための出力ポート部２１ｂが設けられている。また、ハウジング本体２１には、外部電源からの電気供給を得るために電気的な接続を行うためのコネクタ部２１ｃも設けられている。

バルブ部Ｖは、プランジャ１３の先端に設けられる弁体３０と、弁体３０が着座したり離れたりすることで弁の開閉がなされる弁座４０とを備えている。また、バルブ部Ｖは、弁体３０の弁部では流出を防ぎきれなかった流体をシールするためのシール部材５０を備えている。また、バルブ部Ｖは、弁座４０及びシール部材５０を支持する環状の支持部材６０を備えている。更に、バルブ部Ｖは、支持部材６０の外周面とハウジング本体２１の内周面との間の隙間を封止するシールリング６１と、弁座４０及び支持部材６０を支持する支持部材７０とを備えている。

なお、上述したスプリング１６ａによる付勢力と、コイル１２への通電量による磁力とのバランスによって、所望の流量（又は流量に伴う流体圧力）の制御がなされるように、アジャストスクリュ１６ｃにより、スプリング受け１６ｂの位置の調整がなされる。

＜バルブ部（弁構造）＞
＜＜バルブ部の構成＞＞
特に、図２、図３を参照して、バルブ部Ｖの構成について、より詳細に説明する。バルブ部Ｖは、上記の通り、弁体３０と、弁座４０と、シール部材５０と、支持部材６０とを備えている。

弁体３０は、概略、円柱状の部材であり、一端側がプランジャ１３に固定され、他端の端面が弁部３１を構成している。弁体３０は、コイル１２への通電によってプランジャ１３とともに往復移動する。

弁座４０は、環状の部材であり、その中央に弁孔（貫通孔）４１が設けられている。プランジャ１３側の弁孔４１周りの端面領域が、弁座４０の座面４２となる。この座面４２に弁体３０の端面である弁部３１が当接することで、弁孔４１は塞がれた状態（閉弁状態）となる。すなわち、弁体３０と弁孔４１は、それぞれの中心軸線が略一致し、弁体３０の径が弁孔４１の径よりも大きく構成されている。

シール部材５０は、弁体３０の弁部３１では流出を防ぎきれなかった流体、すなわち、着座した弁部３１と弁座４２との隙間から漏れた流体をシールするための部材であり、弁体３０の外周面に摺動自在に接触するシールリップ５１を有している。シール部材５０は、概略、環状の補強部材としての金属環５２にゴム状弾性体５３が焼き付け固定された構成となっており、外周面が支持部材６０の内周面に嵌合されている。なお、補強部材としては、剛性体であれば、例えば、樹脂等の金属以外のものであってもよい。金属環５２は、筒状部５２ａと、筒状部５２ａの一端から径方向内向きに延びるフランジ部５２ｂと、を備えた半断面形状が略Ｌ字の部材である。シールリップ５１は、ゴム状弾性体部５３の一部として、フランジ部５２ｂの先端部から、弁体３０が弁座４０に近づくときに移動する方向に向かって、軸方向よりも径方向内向きに傾いて突出している。シールリップ５１は、先端部の径が弁体３０の径（閉弁時に接触する領域における径）よりも小さく設定されており、弁体３０に対してしめ代を有している。ゴム状弾性体部５３の材料としては、例えば、ポリウレタン、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、水素添加ニトリルゴム（ＨＮＢＲ）、フッ素ゴム（ＦＫＭ）等を挙げることができる。なお、シール部材５０の構成は特に限定されるものはなく、上記構成はあくまで一例である。往復動用のシールであれば他の従来から周知のものを適宜採用できる。

弁体３０は、外周面の一部に離間部としてのテーパ面部３２が設けられている。テーパ面部３２は、弁体３０の外周面において弁体３０の往復移動によってシールリップ５１と対向する領域のうち、弁部３１が弁座４２に着座したときに対向（接触）している領域を除いた領域内、すなわち、弁部３１が弁座４２を離れてから対向する領域内に形成されている。テーパ面部３２は、弁体３０の先端の弁部３１に向かって徐々に縮径する先細形状に構成されている。

＜＜バルブ部のメカニズム＞＞
特に、図２、図３を参照して、バルブ部Ｖのメカニズムについて説明する。

ソレノイド部Ｓのコイル１２に対して通電されていない状態では、磁力は発生しておらず、スプリング１６ａによる付勢力によって、プランジャ１３は、センターポスト１４から離れる方向に移動している。これにより、図２に示すように、弁体３０における弁部３１は弁座４０の座面４２に着座している。これにより、弁が閉じた状態となる。このとき、シール部材５０のシールリップ５１は、弁体３０の外周面に対して、テーパ面部３２が形成された領域から外れて密着している。これにより、図２に示すように、シールリップ５１が弁体３０の外周面の全周にわたって接触する帯状のシール領域Ｒが形成される。これにより、入力ポート部２１ａから出力ポート部２１ｂへと至る流路は、弁部３１と座面４２の密着とシール部材５０によるシール領域Ｒの２段階で遮断される。

そして、ソレノイド部Ｓのコイル１２に対する通電量を増加させるに従い、磁気吸引力が高まるため、スプリング１６ａによる付勢力に抗して、プランジャ１３はセンターポスト１４に向かって移動する。これに伴って、プランジャ１３の先端に設けられた弁体３０もセンターポスト１４に向かって移動するため、弁体３０における弁部３１は弁座４０の座面４２から離れる。また、弁体３０とシールリップ５１が接触するシール領域Ｒの位置も、シールリップ５１が弁体３０の外周面に全周にわたって接触するシール位置からテーパ面部３２が設けられた領域に移動する。そして、テーパ面部３２の径がシールリップ５１の内径よりも小さくなると、すなわち、シールリップ５１のテーパ面部３２に対するしめ代がなくなると、弁部３１と座面４２との間に隙間が形成される。これにより、弁孔４１から、弁部３１の外周面側、テーパ面部３２とシールリップ５１との間を抜けていく流路が形成される（図３中矢印Ａ参照）。従って、入力ポート部２１ａから流入された流体は、出力ポート部２１ｂから排出される。ここで、コイル１２への通電量に応じて、プランジャ１３の先端に設けられた弁体３０の位置が定まり、弁部３１と座面４２との隙間の大きさが定まる。従って、コイル１２への通電量を制御することによって、出力ポート部２１ｂから排出される流体の流量や流体圧力を制御することが可能となる。

（実施例２）
図４〜図６を参照して、本発明の実施例２に係るソレノイドバルブについて説明する。なお、ここでは、主に実施例１と異なる点について説明する。実施例１と共通する構成については、同じ符号を付して説明を省略する。ここで特に説明しない事項については実施例１と同様である。

本実施例に係るソレノイドバルブは、シール部材５０が支持部材６０に対して装着される向きが実施例１とは逆の構成となっている。すなわち、シールリップ５１は、フランジ部５２ｂの先端部から、弁体３０が弁座４０から離れるときに移動する方向に向かって、軸方向よりも径方向内向きに傾いて突出している。

図６に示すように、本実施例は、入力ポート部２１ａから流入される流体の圧力（元圧）によって、シールリップ５１が弁体３０から離れるように変形しやすい構成となっている。このときの変形状態を図６中に破線で示している。元圧が高圧仕様のソレノイドバルブの場合には、シール性を重視して実施例１のように密封流体側にシールリップ５１が傾いた構成が好ましいが、元圧が低圧仕様のソレノイドバルブの場合には、本実施例の構成を採用することができる。本実施例の構成によれば、元圧が低圧仕様において排出する流量を増やしたい場合において、シールリップ５１の変形によって流量の増大を図ることができる。

（実施例３）
図７〜図９を参照して、本発明の実施例３に係るソレノイドバルブについて説明する。なお、ここでは、主に上記実施例と異なる点について説明する。上記実施例と共通する構成については、同じ符号を付して説明を省略する。ここで特に説明しない事項については上記実施例と同様である。

本実施例においては、弁体３０の外周面に離間部としての溝３３が設けられている。溝３３は、弁体３０の外周面において弁体３０の往復移動によってシールリップ５１が摺動する領域のうち、弁部３１が弁座４２に着座したときに接触している領域を除いた領域内、すなわち、弁部３１が弁座４２を離れてから摺動する領域内に形成されている。溝３３は、弁体３０の外周面を弁体３０の往復移動の方向に沿って延びており、深さは弁部３１側が最も深く、弁部３１から離れるにしたがって徐々に浅くなっている。また、溝３３の開口形状は、軸方向において、弁部３１側が最も溝幅が広く、弁部３１から離れるにしたがって徐々に狭くなる、略二等辺三角形状となっている。

ソレノイド部Ｓのコイル１２に対して通電されていない状態では、磁力は発生しておらず、スプリング１６ａによる付勢力によって、プランジャ１３は、センターポスト１４から離れる方向に移動している。これにより、図８に示すように、弁体３０における弁部３１は弁座４０の座面４２に着座している。これにより、弁が閉じた状態となる。このとき、シール部材５０のシールリップ５１は、弁体３０の外周面に対して、溝３３が形成された領域から外れて密着している。これにより、図８に示すように、シールリップ５１が弁体３０の外周面の全周にわたって接触する帯状のシール領域Ｒが形成される。これにより、入力ポート部２１ａから出力ポート部２１ｂへと至る流路は、弁部３１と座面４２の密着とシール部材５０によるシール領域Ｒの２段階で遮断される。

そして、ソレノイド部Ｓのコイル１２に対する通電量を増加させるに従い、磁気吸引力が高まるため、スプリング１６ａによる付勢力に抗して、プランジャ１３はセンターポスト１４に向かって移動する。これに伴って、プランジャ１３の先端に設けられた弁体３０もセンターポスト１４に向かって移動するため、弁体３０における弁部３１は弁座４０の座面４２から離れる。また、弁体３０とシールリップ５１が接触するシール領域Ｒの位置も、シールリップ５１が弁体３０の外周面に全周にわたって接触するシール位置から溝３３が設けられた領域に移動する。これにより、弁部３１と座面４２との間に隙間ができるとともに、シール領域Ｒにも溝３３による隙間ができ、弁孔４１から、弁部３１の外周面側、溝３３とシールリップ５１との間を抜けていく流路が形成される（図９中矢印Ａ参照）。従って、入力ポート部２１ａから流入された流体は、出力ポート部２１ｂから排出される。

＜本実施例に係るソレノイドバルブの優れた点＞
本実施例に係るソレノイドバルブＳＶによれば、コイル１２に対して通電されていない状態から通電が開始され、通電量が増加するに従い、弁体３０の弁部３１が弁座４０の座面４２から離れる方向にプランジャ１３が移動していく。このとき、弁体３０とシール部材５０との相対位置が変化し、弁体３０とシールリップ５１が接触するシール領域Ｒの位置も、シールリップ５１が弁体３０の外周面に全周にわたって接触するシール位置からテーパ面部３２あるいは溝３３が設けられた領域内に移動する（図２→図３、図４→図５、図８→図９）。

ここで、本実施例に係る弁体３０は、往復動用シールとして用いられるシール部材５０を用いて、弁体３０の弁部３１だけでは流出を防ぎきれなかった流体をシールする構成を採用している。シール部材５０のシールリップ５１は、弁体３０の外周面に摺動自在に接触するので、従来例のＯリングの場合のように変形時のふるまいの不安定さがなく、弁体３０の移動を妨げることなくシール性を発揮することができる。

また、本実施例においては、弁体３０が閉位置から移動すると、弁体３０のテーパ面部３２あるいは弁体３０の表面に形成された溝３３による隙間を介して、流体がシールリップ５１と弁体３０との間を通過して流れていく。そして、該隙間を通過する流体の流量は、弁部３１が弁座４２から離れるにつれて増えていく。このように、テーパ面部３２あるいは溝３３によってシールリップ５１を挟んだ弁孔４１側の領域と反対側の領域とが流通可能となることで、両領域間の圧力差が徐々に低減される。以上のことから、通電開始直後（弁が開き始めた直後）から流体制御を安定的に行うことが可能となる。また、弁部３１が座面４２から離れ易いことからヒステリシスによる流量制御の誤差も少なくすることができる。また、従来例のＯリングの場合には、プランジャが往復移動する毎に粘着状態が異なってしまい、流量特性にバラツキが生じるのに対して、本実施例に係るソレノイドバルブＳＶの場合には、そのような問題が解消され、流量特性を安定させることができる。

また、本実施例に係るソレノイドバルブＳＶにおいては、シール部材５０のシールリップ５１によって弁体３０の弁部３１が設けられた側が弾性的に支持される構成となっている。これにより、弁体３０が往復移動する際の弁座４０に対する中心軸線の位置ずれを抑制できる。従って、弁体３０の弁部３１が座面４２に着座する位置の精度を高めることができる。

また、実施例３に係るソレノイドバルブＳＶにおいては、上記の通り、溝３３は、弁部３１が弁座４２から離れるにつれて断面形状が大きくなる形状を有している。つまり、弁部３１が弁座４２から離れるにつれて流体が流れる流路の面積が徐々に広くなっていく。実施例３では、溝３３の構成が、図８、図９に示すように、中心軸線方向に深さが変化するとともに、開口形状（中心軸線に直交する方向に見たときにの形状）が略三角形状となっている。これにより、開弁状態になった途端に、流体が流れる流路の面積が急に広くなってしまわないようにしている。なお、この溝３３の形状や、数、配置の設定によって、コイル１２への通電量に対する流量の変化をリニアにすることができ、かつ最大流量を調整することができる。また、溝３３の構成は種々の構成を採用することができる。溝３３の断面形状としては、例えば、図１０に示すように、深さ方向に対して溝幅が変化しない略矩形形状（図１０（ａ））、溝幅が深さ方向に対して徐々に狭くなる略三角形形状（図１０（ｂ））や略半円形状（図１０（ｃ））等が挙げられる。また、溝３３の開口形状としては、図８、図９に示すような略三角形状に限られず、例えば、軸方向に溝幅が変化しない略矩形、溝幅の変化がなだらかな台形形状等が挙げられる。また、溝３３の数や配置も、図８、図９に示すように、４個を等配する構成に限られるものではない。

なお、実施例３に係るソレノイドバルブにおいては、シール部材５０が支持部材６０に対して装着される向きを上記構成とは逆の構成としてもよい。すなわち、上記構成においては、図７〜図９に示すように、シールリップ５１が、フランジ部５２ｂの先端部から、弁体３０が弁座４０から離れるときに移動する方向に向かって、軸方向よりも径方向内向きに傾いて突出した構成となっている。これに対し、シールリップ５１が、フランジ部５２ｂの先端部から、弁体３０が弁座４０から近づくときに移動する方向に向かって、軸方向よりも径方向内向きに傾いて突出するように、シール部材５０を支持部材６０に装着する構成としてもよい。

また、本実施例に係るソレノイドバルブＳＶにおいては、テーパ面部の傾斜（縮径）の度や形成範囲、溝３３の形状や大きさや個数の設定、シール部材５０の構成や材質、シールリップ５１の弁体３０に対するしめ代等によって、ある電流値に対する流量が、元圧の大きさによってあまり変化しないようにすることができる。これにより、元圧が変化してしまうような場合であっても、制御圧（出力ポート部２１ｂから排出される流体の圧力）を安定させることができる。

なお、上記各実施例においては、弁体３０がプランジャ１３の先端に設けられた場合の構成を示したが、本発明は弁体がプランジャに設けられたロッドの先端に設けられる場合にも適用可能である。また、上記各実施例においては、弁構造がソレノイドバルブに適用される場合を例にして説明した。しかしながら、本発明の弁構造は、ソレノイドバルブ以外の弁構造にも適用可能である。すなわち、往復動部材を往復移動させるための往復動用のアクチュエータとしては、ソレノイドには限られず、空圧アクチュエータ，油圧アクチュエータ及び圧電アクチュエータなども適用可能である。本発明は、これらの各種往復動用のアクチュエータによって往復移動するように構成された往復動部材に弁体が設けられた弁構造に対しても適用可能である。

１１ ボビン
１２ コイル
１３ プランジャ
１３ａ 嵌合凹部
１４ センターポスト
１５ａ，１５ｂ プレート
１５ｃ ケース
１６ａ スプリング
１６ｃ アジャストスクリュ
１７ 端子
２１ ハウジング本体
２１ａ 入力ポート部
２１ｂ 出力ポート部
２１ｃ コネクタ部
２２ カバー
２３ 補強部材
３０ 弁体
３１ 弁部
３２ テーパ面部（離間部）
３３ 溝（離間部）
４０ 弁座
４１ 弁孔
４２ 座面
５０ シール部材
５１ シールリップ
５２ 金属環
５３ ゴム状弾性体部
６０ 支持部材
６１ シールリング
７０ 支持部材
ＳＶ ソレノイドバルブ
Ｈ ハウジング部
Ｓ ソレノイド部
Ｖ バルブ部

Claims (3)

1. 往復動用のアクチュエータによって往復移動するように構成された往復動部材の先端に設けられる弁体と、
   該弁体の先端面である弁部が弁孔の周りの端面により構成される座面に着座することで前記弁孔が閉じられ、該弁部が座面から離れることで前記弁孔が開かれる弁座と、
   を備え、
   前記往復動部材が前記座面側に移動している状態では、前記弁部が前記弁座に着座する位置に前記弁体が移動し、前記往復動部材の前記座面から離れる方向への移動に伴って、前記弁部が前記弁座から離れる方向に前記弁体が移動する弁構造において、
   前記弁体の外周面に摺動自在に接触するシールリップを有するシール部材を備え、
   前記弁体は、前記弁部が前記弁座から離れてから、前記弁体と前記シーリップとの間に隙間を形成すべく前記シールリップから離間する離間部を有し、
   前記離間部は、前記弁部が前記弁座から離れるにつれて、前記弁体と前記シールリップとの間の隙間を通過する流体の流量が増えるように構成されていることを特徴とする弁構造。
2. 前記離間部は、前記弁体の往復移動によって前記シールリップと対向する範囲の表面の領域のうち前記弁部が前記弁座から離れてから前記シールリップと対向する領域内に形成されるテーパ面部であり、
   前記テーパ面部は、前記弁部が前記弁座から離れるにつれて、前記シールリップから離れていくように縮径していることを特徴とする請求項１に記載の弁構造。
3. 前記離間部は、前記弁体の往復移動によって前記シールリップが摺動する範囲の表面の領域のうち前記弁部が前記弁座から離れてから前記シールリップが摺動する領域内に形成される溝であり、
   前記溝は、前記弁部が前記弁座から離れるにつれて、前記弁体と前記シールリップとの接触領域を通過する流体の流量が増えるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の弁構造。

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