JP6184645B1 - オゾン供給装置およびオゾン供給方法 - Google Patents
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Abstract
Description
これに対し、オゾン脱着前に予備加熱を行う待機工程を設け、要求に対して即時に脱着を開始し供給する手法が開示されている(例えば、特許文献4)。
実施の形態1は、オゾン発生器と、内部に吸着剤が充填された吸着塔と、オゾン化ガスを待機させる待機部と、減圧装置と、オゾン化ガスを供給するオゾン供給部と、吸着剤を冷却する低温冷媒循環器と、オゾン化ガスを吸着剤に吸着させ、吸着剤に吸着させたオゾン化ガスを脱着させて濃縮する制御部とを備えるオゾン供給装置、
および吸着工程と、濃縮工程と、待機工程と、供給工程とを備えるオゾン供給方法に関するものである。
なお、系統概略図において、同一あるいは相当部分は、同一の符号を付している。
本説明において、オゾン純度は対象ガス中の全粒子数に対するオゾン粒子数の割合を示す用語、オゾン分圧は単位体積に含まれるオゾン粒子の絶対数を示す用語として、両者を区別して使用する。
図1は、オゾン供給装置の構成を示す系統概略図である。オゾン供給装置100は、原料ガス源1、オゾン発生器2、吸着塔3、低温冷媒循環器5、待機部7、減圧装置8、オゾン供給部9、および制御部10を備える。
吸着塔3は、周囲を低温冷媒6で囲まれており、低温冷媒循環器5は、低温冷媒6を循環させ、吸着塔3を冷却することで吸着剤4の温度を低温に維持している。
また待機部7の外壁は、例えば断熱材で被覆する、または真空断熱する方法で外気と断熱することで、待機部7に封じ切られたオゾン化ガスの温度上昇を防止する。
吸着塔3および待機部7の内壁面は、実際にオゾン供給装置100を使用する前に、使用予定オゾン分圧よりも高いオゾン分圧を有するオゾン化ガスに曝露して不動態化しておくことが望ましい。吸着塔3および待機部7の内壁面を不動態化しておくことで、内壁面とオゾンとが接触することで生じるオゾンの分解を抑制することができる。
オゾン供給装置100で生成されたオゾン化ガスは、オゾン供給部9から供給対象11に供給される。
オゾン供給装置100の動作は、冷却された吸着剤4にオゾンを吸着する吸着工程と、吸着剤4が充填された吸着塔3を減圧して吸着塔3内のガス中オゾン純度を高める濃縮工程と、濃縮された高純度オゾン化ガスを吸着塔3および待機部7内に封じ切り、任意の時間待機する待機工程と、高純度オゾン化ガスを供給対象11に供給する供給工程と、から成る。
吸着工程において、酸素を含む原料ガスが原料ガス源1からオゾン発生器2へ導入され、オゾン発生器2は原料ガスをオゾン化する。制御部10は、バルブV1およびバルブV3を開状態、バルブV2およびバルブV4を閉状態とし、オゾン化ガスは吸着塔3へと導入され、冷却された吸着剤4にオゾンが吸着される。
吸着剤4は、酸素、窒素、窒素酸化物等、オゾン化ガスに含まれるオゾン以外のガス種(以降、原料ガス種と記載する)に比べ、オゾンを優先的に吸着するものを選定する。吸着剤4として、例えばシリカゲルが使用される。吸着剤4の吸着特性により、吸着剤4表面でのオゾン純度はオゾン化ガス中のオゾン純度よりも高くなる。
吸着剤4の温度は低いほど、吸着剤4へのオゾンの吸着量は多くなる。このため、低温冷媒循環器5は吸着塔3の周囲に低温冷媒6を循環させ、吸着剤4の温度を低温に維持する。吸着されなかったオゾンおよび原料ガス種はバルブV3を通り系外に排出される。
吸着剤4へのオゾンの吸着量が一定量に達するか、一定時間が経過するか、または工程移行信号が外部より入力される等、予め設定した条件を満たすと、濃縮工程に移行する。
減圧装置8としては、例えば真空ポンプ、エジェクタが使用される。減圧装置8として真空ポンプを使用した場合、真空ポンプの二次側は正圧となるため、供給対象11の圧力を吸着塔3の圧力よりも低くする必要はなく、供給対象11の自由度が高まる。
吸着剤4の吸着特性により、原料ガス種の吸着剤4からの脱着率に比べ、オゾンの吸着剤4からの脱着率は低いため、吸着塔3が減圧されると、吸着塔3内のオゾン以外の原料ガス種が優先的に排気され、吸着塔3内のオゾン純度が高まる。
このように、供給対象11の前段に真空ポンプ等のように二次側が正圧となる減圧装置8を備えることで、供給対象11の気相圧力よりも、吸着塔3内の圧力が低い状態で、オゾン化ガスを供給対象11に供給することができる。
制御部10はバルブV1、バルブV3、およびバルブV4を任意の時間閉状態に維持し、オゾン要求信号を待機する。
予め設定した任意の時間経過する、又は外部からオゾン要求信号が入力される等、設定した条件を満たすと、オゾン供給装置100は供給工程に移行し、減圧装置8を用いて吸着塔3を負圧に維持したまま、オゾン供給部9により供給対象11へ高純度オゾン化ガスを供給する。
オゾン供給部9は、供給対象11が気相オゾンを要求する場合、例えばガス配管、エジェクタ等であり、供給対象11が液相オゾンを要求する場合、例えば散気管、エジェクタ等である。エジェクタを用いた場合、減圧装置8とオゾン供給部9との機能を一つのエジェクタで担当させてもよい。
なお、図3のフローチャートでは、ステップ5(S05)に運転継続判定処理を追加して、運転を継続できるフローとしている。
比較例のオゾン供給装置は、原料ガス源1、オゾン発生器2、吸着塔3、低温冷媒循環器5を備え、濃縮したオゾン化ガスを供給対象11に供給する。
原料ガス源1からオゾン発生器2に導入され、オゾン化されたオゾン化ガスは、吸着剤4が充填された吸着塔3へと導入され、オゾン化ガス中のオゾンが吸着剤4表面に吸着される。低温冷媒循環器5は低温冷媒6を循環させ、吸着塔3を冷却することで吸着剤4の温度を低温に維持している。吸着工程において、バルブV1およびバルブV3は開状態、バルブV2は閉状態であり、所定量のオゾンが吸着剤に吸着されると、オゾン発生を停止する。オゾンを供給対象11に供給する際には、バルブV1およびバルブV3は閉状態、バルブV2を開状態とし、吸着塔3内の吸着剤4からオゾンを脱着させることで、高純度オゾン化ガスを間欠的に供給する。
比較例のオゾン供給装置によれば、オゾン発生器2を連続運転する必要がないため電力消費および原料ガス消費を抑制できるとともに、オゾン発生器単体では生成できない高い純度(純度50%以上)のオゾン化ガスを供給することが可能である。
しかし、比較例のオゾン供給装置においては、オゾン需要が生じてからオゾンの脱着を開始するため、供給対象11からのオゾン要求に対して即時にオゾンを供給することができないという問題があった。
これに対し本発明では、待機部7を減圧装置8の直前に設置し、濃縮工程を経た後の高純度オゾン化ガスを待機部7に待機させることで、供給対象11からオゾン要求を受けてから高純度オゾンを供給するまでの時間差を低減するとともに、待機工程におけるオゾンの自己分解を大幅に抑制することができる。
実施の形態1のオゾン供給装置100の吸着工程、濃縮工程、待機工程、供給工程の各工程における吸着塔3内圧力、オゾン純度、およびオゾン分圧の時間変化の例を図4に示す。
図4において、Aは吸着塔3内の圧力を表し、Bはオゾン要求信号を表している。Cは吸着塔3内のオゾン純度を表し、Dは吸着塔3内のオゾン分圧を表し、Eは待機時のオゾン分解量を表している。なお、待機時のオゾン分解量(E)は、待機工程の開始時と終了時の吸着塔3内のオゾン分圧の差に相当する。
濃縮工程の前に待機工程を設けた比較例のオゾン供給装置における、吸着塔3内の圧力、オゾン純度、およびオゾン分圧の時間変化の例を図5に示す。
図5において、Aは吸着塔3内の圧力を表し、Bはオゾン要求信号を表している。Cは吸着塔3内のオゾン純度を表し、Dは吸着塔3内のオゾン分圧を表し、Eは待機時のオゾン分解量を表している。図5においても、待機時のオゾン分解量(E)は、待機工程の開始時と終了時の吸着塔3内のオゾン分圧の差に相当する。
一方、比較例のオゾン供給装置では、図5に示すように、待機工程時に吸着塔3内オゾン純度は低いがオゾン分圧は高い状態となっている。このため、オゾンの供給要求が発生した際に濃縮工程を実施するため時間の遅延が生じる。また、待機時のオゾン自己分解に起因する無効消費が大きいことが、図4、5の待機時のオゾン分解量(E)の差から明らかである。
オゾン自己分解反応とは、オゾンが処理対象と反応する前にオゾン同士で反応して酸素分子に戻ってしまう現象であり、オゾン自己分解反応が起こると生成したオゾンの利用効率が低下する。
O3+O3→3O2 (式1)
式1の反応速度係数kRの報告例は少ないが、「NIST Chemical Kinetics Database, Standard Reference Database 17, Version 7.0 (Web Version) Release 1.6.8 http://kinetics.nist.gov/kinetics/」では温度をT[K]として
kR=7.47×10−12×exp(−9310/T)[cm6/s](式2)
と報告されている。
オゾン自己分解反応速度vRは、オゾン分圧をCoz[/cm3]として、
vR=kR×Coz2[/s] (式3)
と表される。即ち、オゾン純度が同じであっても、高温であるほど、また、オゾン分圧が高いほど、自己分解反応は速くなる。
まず、比較例のオゾン供給装置を例にとり、待機時のオゾン自己分解速度を計算する。比較例では、オゾン脱着を開始せずに待機工程に入り、待機工程における温度は0℃、オゾン純度は大気圧で、35wt%=26vol%以上である。このとき、オゾン分圧はCoz=7.09×1018[/cm3]であるから、式3より、オゾン自己分解速度はvR=3.57×1011[/s] となる。
オゾン供給装置100では、吸着塔3を減圧してオゾンを脱着させた状態で待機工程に移行するので、待機工程におけるオゾン分圧はCoz=2.76×1018[/cm3]である。また、濃縮工程および待機工程において吸着塔3および待機部7を昇温しないため、吸着塔3および待機部7の温度は−15℃以下であり、オゾン自己分解速度はvR=7.26×109[/s]以下となる。即ち、比較例のオゾン供給装置のように高温かつ高オゾン分圧で待機工程に移行する場合のオゾン自己分解速度に比べ、実施の形態1のオゾン供給装置100では、待機工程におけるオゾン自己分解速度はおよそ1/50程度になり、待機工程中でのオゾン消費が大幅に抑制される。
まず、図6に系統概略図を示すオゾン供給装置101について説明する。
オゾン供給装置100との違いは、待機部7を低温冷媒6により冷却している点である。このように待機部7を低温冷媒6により冷却することで、待機工程における待機部7の温度が吸着塔3の温度と同等の低温になり、待機部7内でのオゾン自己分解速度が低減される。このため、貯蔵したオゾンの利用効率が向上する。
図6のオゾン供給装置101では、低温冷媒6は待機部7、吸着塔3の順で流れているが、流れる方向は逆順でもよく、また吸着塔3と待機部7とを並列に冷却してもよい。
オゾン供給装置100との違いは、吸着塔3が待機部7の機能を併せ持つ点である。
濃縮工程において吸着塔3が減圧され、吸着塔3内の圧力が予め設定した値を下回ると、制御部10はバルブV2を閉状態として、吸着塔3を封じ切り待機工程に移行する。待機工程においては、吸着塔3内は減圧状態となっているため、オゾン自己分解速度を小さく維持できる。
このように吸着塔3が待機部7の機能を併せ持つ構成にすれば、オゾン供給装置100に比較して、供給対象11からオゾン要求を受けて高純度オゾンを供給する応答性は若干低下する。しかし、待機部7およびバルブV4が省略されるため、オゾン供給装置に必要な部材が少なくなるとともに、制御部10によるバルブ制御が簡略化される。
オゾン供給装置100との違いは、吸着工程において吸着塔3から排気されるガスを再びオゾン発生器2に循環導入させる経路を有する点である。
吸着工程において吸着塔3から排出されたオゾン化ガス(以降、排出ガスと記載する)は、バルブV3を経てオゾン分解塔21に導入される。吸着剤4に吸着されなかったオゾン化ガス中のオゾンはオゾン分解塔21において分解され、酸素となる。
排出ガスは酸素を含むため、原料ガスとして再利用可能である。したがって、オゾン分解塔21を通過した排出ガスは、ガス圧縮器22で昇圧された後、原料ガスとしてオゾン発生器2に再導入される。
このように吸着塔3から排気される排出ガスを再びオゾン発生器2に循環導入させる構成にすれば、原料ガスの再利用がなされるため、オゾン製造コストが低減される。
吸着工程においてオゾン化ガス中のオゾンが吸着剤4に全量吸着され、吸着塔から排出されるガスにオゾンが含まれない場合、オゾン分解塔21は省略してもよい。
オゾン供給装置100との違いは、原料ガス源1からオゾン発生器2を介さずに吸着塔3へ原料ガスを供給する分岐経路と、分岐経路における原料ガスの流量を制御する流量制御器23とを有する点である。
オゾン供給装置から出力するオゾン化ガス中のオゾン純度は、供給工程時の吸着塔3内の圧力と一対一に対応している。しかし、減圧装置8またはオゾン供給部9が圧力調整機能を有さない場合、供給工程においては常に最大オゾン純度のオゾン化ガスが出力される。
オゾン供給装置104では、オゾン供給工程において吸着塔3内に原料ガスを導入し、原料ガスの流量を変化させることで、吸着塔3内圧力を調整し、吸着剤4から脱着させるオゾン化ガス中のオゾン純度を制御できる。
オゾン供給装置104の構成にすれば、減圧装置8およびオゾン供給部9が圧力調整機能を有さない場合でも、最大発生オゾン純度以下で所望の純度のオゾン化ガスを供給対象11へ供給できる。
このため、実施の形態1のオゾン供給装置およびオゾン供給方法は、供給対象でオゾン要求が発生した際には、即時に高純度オゾン化ガスを供給することができる。さらに、待機工程において吸着塔および待機部が減圧状態に維持され、オゾンの自己分解速度が低減されることで、待機中のオゾン消費が抑制され、オゾン利用効率が向上する。
実施の形態2のオゾン供給装置は、実施の形態1のオゾン供給装置100に圧力計を追加して、吸着塔3および待機部7内の圧力を制御する構成としたものである。
制御部10は、濃縮工程において圧力計204の測定値が、予め設定した圧力値を下回ったことを条件として、待機工程への移行指令を出力する。
図11は、吸着塔3内温度を変化させた場合の、供給オゾン化ガス中オゾン純度の吸着塔3内圧力依存性を示しており、この依存性が吸着塔3内温度によって変化しないことを明確に示している。なお、図11の横軸は吸着塔内の圧力(任意単位)であり、縦軸は吸着塔出口のオゾン密度(任意単位)である。
本実施の形態2において、オゾン供給装置101(図6)のように待機部7を低温冷媒6で冷却してもよい。またオゾン供給装置102(図7)のように吸着塔3が待機部7の機能を兼ね備えてもよい。またオゾン供給装置103(図8)のように酸素リサイクル機構を備えてもよい。またオゾン供給装置104(図9)のようにオゾン純度調整用原料ガス導入ラインを設けてもよい。
実施の形態3のオゾン供給装置は、実施の形態1のオゾン供給装置100にオゾン計を追加して、吸着塔3および待機部7内のオゾン純度およびオゾン分圧を制御する構成としたものである。
オゾン計24は、濃縮工程における吸着塔3内のオゾン純度およびオゾン分圧を測定し、測定結果を制御部10に送信する。
(条件1)濃縮工程における吸着塔3内のオゾン純度が、予め設定した目標オゾン純度以上の純度に到達している。
(条件2)濃縮工程における吸着塔3内のオゾン分圧が、吸着工程における吸着塔3内のオゾン分圧よりも低い。
(条件1)を満たした場合、待機工程から供給工程への移行時に即時に高純度オゾン化ガスを供給できる。また、(条件2)を満たした場合、待機工程中でのオゾン自己分解が抑制される。
なお、実施の形態3のオゾン供給装置300では、オゾン純度およびオゾン分圧の2つの条件を満たした場合、待機工程への移行を可能としたが、いずれか一方の条件を満たした場合、待機工程への移行を可能とすることもできる。
実施の形態4のオゾン供給装置は、実施の形態1のオゾン供給装置100に温度計と低温冷媒の温度を制御するための冷媒温度制御部を追加したものである。
実施の形態5のオゾン供給装置は、実施の形態1のオゾン供給装置100に供給対象と制御部との間で信号授受をするための通信部を追加したものである。
オゾン要求信号を受信した制御部10は減圧装置8の動作を開始させると同時にバルブV4およびV5を開状態とし、高純度オゾンを供給対象11に供給する。
実施の形態6のオゾン供給装置は、複数の供給対象にオゾン化ガスを供給することを想定し、待機部7を複数並列に備えたものである。
以下、実施の形態7のオゾン供給装置について、構成を示す系統概略図である図15に基づいて、実施の形態1との差異を中心に説明する。図15において、実施の形態1の図1と同一あるいは相当部分は、同一の符号を付している。
オゾン供給装置600では、吸着塔3と第二待機部7Bとを接続するガス流路にはバルブV6が、第二待機部7Bと第二減圧装置8Bとを接続するガス流路にはバルブV7が、第一減圧装置8Aとオゾン供給部9とを接続するガス流路にはバルブV8が、第二減圧装置8Bとオゾン供給部9とを接続するガス流路にはバルブV9が設けられている。さらに、第一減圧装置8Aの出口にはガスを系外に排出するバルブV10が、第二減圧装置8Bの出口にはガスを系外に排出するバルブV11が設けられている。
オゾン供給装置600では、制御部10が各バルブV1〜V4、V6〜V11の制御を行うことで、高純度オゾン化ガスを供給対象11に供給する。
待機部7Aから高純度オゾン化ガスを供給している間に、吸着塔3にオゾンを貯蔵した後、第二減圧装置8Bを用いて第二待機部7Bに高純度オゾン化ガスを待機させる。第一待機部7Aからの高純度オゾン化ガス供給が完了した後に、バルブV6、V8、V10、V11を閉とし、バルブV9を開として、待機部7Bから供給対象11に高純度オゾン化ガスを供給する。このようにすれば、供給対象11に対して連続的に高純度オゾン化ガスを供給することが可能となる。
また、吸着塔3についても、待機部に対応した複数の吸着塔を備えていてもよい。その場合、一つの吸着塔からオゾン化ガスを供給している間に、他の吸着塔にオゾンを貯蔵することができるため、時間的に無駄がない。
実施の形態7のオゾン供給装置は、実施の形態1のオゾン供給装置100にオゾン供給間隔またはオゾン供給時間のうち少なくとも一方を記憶する記憶部を追加したものである。
次回のオゾン供給までの時間間隔を得た制御部10は、次回オゾン供給が開始される予定時間の直前に吸着工程および濃縮工程を終えて待機工程に移行するよう、オゾン発生器2、吸着塔3およびバルブV1〜バルブV4を制御する。
また、記憶部28に、オゾン供給間隔だけでなく供給オゾン純度、供給オゾン化ガス流量、吸着工程時のオゾン化ガス純度、吸着工程時の吸着塔3内圧力等を併せて記憶させておけば、次回オゾン供給においても同様の条件でオゾン化ガスを出力することが容易になり、これらパラメータの調整に要する時間を短縮できる。
実施の形態8のオゾン供給装置は、吸着塔3および待機部7の内部でのオゾン分解を抑制するために、吸着塔3および待機部7の内壁面に表面処理を施したものである。
実施の形態8のオゾン供給装置では、内壁面にオゾン分解を抑制する表面処理を施した吸着塔3および待機部7を備えている。
オゾン分解を抑制する表面処理としては、機械研磨、電界研磨等により表面の凹凸を減ずる処理、およびフッ素樹脂コート、金属酸化物コート等により表面の化学反応性を減ずる処理等が適用できる。
なお、吸着塔3および待機部7いずれか1方の内壁面にのみ表面処理を施すこともできる。
実施の形態9のオゾン供給装置は、処理対象にオゾン溶液の状態で供給することを想定し、実施の形態1のオゾン供給装置100に、液体供給部および気液混合装置を備えたものである。
液体としては主に水を使用することが多いが、場合により酸又は水酸化物等のpH調整剤を添加した溶液や、汚泥等を使用する場合もある。
気液混合装置30としては、例えばエジェクタまたは散気管が使用される。
制御部10は供給対象11においてオゾン要求が生じると、液体供給部29を制御して気液混合装置30に液体を供給する。気液混合準備が整った時点で、制御部10はバルブV2およびバルブV4を開状態とし、減圧装置8を用いて吸着塔3および待機部7からオゾン化ガスを吸引し、気液混合装置30へオゾン化ガスを供給してオゾン溶液31を生成する。
この場合、減圧装置8としては、減圧装置8の一次側(前段)が負圧となり二次側(後段)が正圧となるような真空ポンプ類が適している。ただし、減圧装置8の二次側を正圧にすると、二次側のオゾン化ガスでは高オゾン純度かつ正圧のためオゾン分圧が非常に大きくなり、オゾン自己分解反応が活発になる。このため、減圧装置8と気液混合装置30とを接続するガス流路はできる限り短くすることが望ましい。
Claims (12)
- オゾン化ガスを生成するオゾン発生器と、
生成した前記オゾン化ガスを内部の吸着剤に吸着させる吸着塔と、
前記吸着塔の前記吸着剤から脱着させた前記オゾン化ガスを待機させる待機部と、
前記吸着塔および前記待機部の圧力を低下させる減圧装置と、
前記脱着させたオゾン化ガスを供給対象に供給するオゾン供給部と、
前記吸着剤を冷却する低温冷媒循環器と、
前記オゾン発生器、前記吸着塔、前記待機部、および前記減圧装置を接続するガス流路のガス流を制御し、生成した前記オゾン化ガスを冷却された前記吸着剤に吸着させ、前記吸着剤に吸着させた前記オゾン化ガスを脱着させてオゾンを濃縮する制御部とを備え、
前記減圧装置は、前記待機部と前記オゾン供給部との間に接続され、
前記制御部は、前記脱着させたオゾン化ガスを前記待機部に待機させる待機状態のときの前記吸着塔内の圧力を、前記吸着のときの前記吸着塔内の圧力よりも低くするオゾン供給装置。 - 前記供給対象の前段に前記減圧装置を備え、前記減圧装置により、前記オゾン化ガスを前記供給対象に供給する際、前記供給対象の圧力よりも前記吸着塔内の圧力を低くする請求項1に記載のオゾン供給装置。
- 前記吸着塔と前記待機部との間の前記ガス流路に圧力計を備え、前記制御部は、前記吸着塔内の圧力が予め設定した圧力を下回ったことを条件として、前記待機状態に移行させる請求項1または請求項2に記載のオゾン供給装置。
- 前記吸着塔と前記待機部との間の前記ガス流路にオゾン計を備え、
前記オゾン計はガス流路内のオゾン分圧を測定し、
前記制御部は、前記吸着において前記オゾン発生器から前記吸着塔に導入される前記オゾン化ガス中のオゾン分圧よりも低い所定のオゾン分圧を工程移行条件として設定し、前記吸着塔内のオゾン分圧が前記工程移行条件として設定したオゾン分圧を下回ったことを条件として、前記待機状態に移行させる請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のオゾン供給装置。 - 前記吸着塔と前記待機部との間の前記ガス流路にオゾン計を備え、
前記オゾン計は前記ガス流路内のオゾン純度を測定し、
前記制御部は、前記吸着塔内のオゾン純度が予め設定したオゾン純度以上の純度に達したことを条件として、前記待機状態に移行させる請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のオゾン供給装置。 - 前記吸着塔内の温度を測定する温度計と前記吸着剤の温度を調節する温度調節装置とを備え、
前記制御部は、前記待機状態における前記吸着剤の温度を、前記吸着における前記吸着剤の温度以下の温度にする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のオゾン供給装置。 - 前記供給対象と前記制御部との間で信号の授受を行うための通信部を設け、前記供給対象でオゾン要求が発生した場合、
前記制御部は、前記オゾン要求を受信し、前記減圧装置および前記ガス流を制御し、前記供給対象に前記オゾン化ガスを供給する請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のオゾン供給装置。 - 前記待機部を複数並列に備え、1つまたは複数の前記供給対象に対して前記濃縮したオゾン化ガスを供給する請求項1から請求項7のいずれか1項に記載のオゾン供給装置。
- オゾン供給間隔またはオゾン供給時間のうち少なくとも一方を記憶する記憶部を備え、
前記制御部は、前記記憶部に蓄積されたオゾン供給データを用いて次回のオゾン供給時期を推定し、前記オゾン供給時期の直前に前記吸着および前記濃縮が完了するように前記オゾン発生器および前記ガス流を制御する請求項1から請求項8のいずれか1項に記載のオゾン供給装置。 - 前記吸着塔および前記待機部の両方またはいずれか一方の内壁面は、オゾン分解を抑制する処理を施した請求項1から請求項9のいずれか1項に記載のオゾン供給装置。
- 前記オゾン供給部は、液体供給部と気液混合装置とを備え、
前記濃縮した前記オゾン化ガスを、前記気液混合装置を用いて液体に溶解させてオゾン溶液を生成し、前記オゾン溶液を前記供給対象に供給する請求項1から請求項10のいずれか1項に記載のオゾン供給装置。 - オゾン発生器と、内部に吸着剤が充填された吸着塔と、オゾン化ガスを待機させる待機部と、前記オゾン化ガスを供給するオゾン供給部と、前記待機部と前記オゾン供給部との間に接続された減圧装置と、前記吸着剤を冷却する低温冷媒循環器と、を備えたオゾン供給装置を用い、
前記オゾン発生器で発生したオゾン化ガスを、前記吸着塔に導入し、冷却された前記吸着剤に前記オゾン化ガスを吸着する吸着工程と、
前記減圧装置で前記吸着塔を減圧して前記吸着塔内のガス中オゾン純度を高める濃縮工程と、
濃縮された高純度オゾン化ガスを減圧された前記吸着塔および前記待機部の内部に封じ切り、待機する待機工程と、
前記高純度オゾン化ガスを供給する供給工程と、
を備えたオゾン供給方法。
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