JP7203293B1 - オゾン供給装置及びオゾン供給方法 - Google Patents

Abstract

オゾン発生器（２）で発生させたオゾンガスをオゾン吸着塔（３）に吸着させ、オゾン吸着塔（３）を通過した出口ガスをガスタンク（４）に貯留する吸着工程の後、貯留ガスをガスタンク（４）からオゾン吸着塔（３）に向けて流すことでオゾン吸着塔（３）に吸着されたオゾンを脱着し、供給対象にオゾンガスを供給する供給工程を行う。

Description

本願は、オゾン供給装置及びオゾン供給方法に関するものである。

オゾンは強力な酸化剤として水環境浄化、半導体洗浄、殺菌、及びウイルス不活化処理等、多岐に渡る分野で利用されており、高効率なオゾン供給装置への要求が高まっている。オゾン発生部単体の発生オゾン濃度の上限値は体積分率２０％程度であり、オゾンは自己分解する性質があるため常温での気相保管は困難である。そのため、必要に応じてオゾンを間欠的に発生させるオゾン供給装置が求められている。

このようなオゾン供給装置として、吸着現象を利用してオゾンの貯蔵および濃縮を行い、高濃度のオゾン化ガスを間欠的に供給するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。

また、特許文献２には、オゾン発生部で発生したオゾン化ガスを吸脱着塔の第１吸脱着領域および第２吸脱着領域に吸着させる吸着動作と、第１吸脱着領域からオゾン化ガスを脱着させて第２吸脱着領域で吸着させて回収する濃縮動作と、原料ガス源からの原料ガス（酸素ガス）を搬送しながら第２吸脱着領域で回収したオゾン化ガスを脱着させて第１吸脱着領域から吸脱着塔の外部に供給する供給動作を行うオゾン供給装置が開示されている。

特許５０２０１５１号公報 特許６５１６９４１号公報

しかしながら、特許文献１の構成では、オゾンの脱着のために多量の酸素ガスを供給する必要があるため運転コストが高くなる。また、特許文献２の構成では、第２吸脱着領域で吸着されたオゾンの脱着に原料ガス源からの原料ガス（酸素）を搬送する必要があるため、酸素ガスの使用量が増加し運転コストが高くなるなどの問題があった。

本願は上述のような問題を解決するためになされたものであり、供給対象に必要量のオゾンを供給する際の酸素ガスの使用量を削減し、運転コストを抑制可能なオゾン供給装置及びオゾン供給方法を提供することを目的とする。

本願に開示されるオゾン供給装置は、酸素を含むガスからオゾンガスを発生させるオゾン発生器、オゾン発生器の下流に設けられ、オゾンガスを吸着する吸着剤を有するオゾン吸着塔、オゾン吸着塔の下流に前記オゾン吸着塔とは独立に設けられたガスタンク、オゾン吸着塔から供給対象にオゾンガスを供給する供給配管、オゾン発生器で発生させたオゾンガスをオゾン吸着塔に吸着させ、オゾン吸着塔を通過した出口ガスをガスタンクに貯留ガスとして貯留するオゾン吸着工程と貯留ガスをガスタンクからオゾン吸着塔に向けて流すことでオゾン吸着塔に吸着されたオゾンを脱着し、供給配管から供給対象にオゾンガスを供給するオゾン供給工程とを切り替えるために、接続された機器の制御を行う制御部、
を備えることを特徴とする。

本願に開示されるオゾン供給方法は、オゾン発生器で発生させたオゾンガスをオゾン吸着塔に吸着させ、オゾン吸着塔を通過した出口ガスをガスタンクに貯留するオゾン吸着工程の後、ガスタンクの貯留ガスをガスタンクからオゾン吸着塔に向けて流すことでオゾン吸着塔に吸着されたオゾンを脱着し、供給対象にオゾンガスを供給するオゾン供給工程を行うことを特徴とする。

本願に開示されるオゾン供給装置及びオゾン供給方法によれば、供給対象にオゾンを供給する際の酸素ガスの使用量を削減し、運転コストを抑制することができる。

実施の形態１に係るオゾン供給装置を示す構造図である。 実施の形態２に係るオゾン供給装置を示す要部の構造図である。 実施の形態３に係るオゾン供給装置を示す要部の構造図である。 実施の形態４に係るオゾン供給装置を示す要部の構造図である。 実施の形態５に係るオゾン供給装置を示す要部の構造図である。 実施の形態６に係るオゾン供給装置を示す要部の構造図である。 実施の形態７に係るオゾン供給装置を示す要部の構造図である。 実施の形態８に係るオゾン供給装置を示す要部の構造図である。 実施の形態に係る制御部のハードウエアの一例を示す図である。

以下、本願に係るオゾン供給装置の好適な実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、同一内容および相当部については同一符号を配し、その詳しい説明は省略する。以降の実施形態も同様に、同一符号を付した構成について重複した説明は省略する。

実施の形態１．
図１は、実施の形態１のオゾン供給装置を示す構造図である。本実施の形態のオゾン供給装置１００は、酸素源１、酸素源１の下流に備えられたオゾン発生器２、オゾン発生器２の下流に備えられたオゾン吸着塔３、オゾン吸着塔３の下流に備えられたガスタンク４、ガスタンク４の下流に備えられた圧力調節器１１、及び制御部９９を備えている。酸素源１から圧力調節器１１まで、主配管６によって一連のガス流となるように接続されている。本実施の形態では、ガスタンク４は、オゾン吸着塔３とは独立に設けられている。

オゾン発生器２とオゾン吸着塔３の間の主配管６にはバルブ８が備えられている。オゾン吸着塔３と供給対象５は供給配管７によって接続されており、供給配管７にはバルブ１０が備えられている。制御部９９は、酸素源１、オゾン発生器２、圧力調節器１１、バルブ８、バルブ１０に接続され、以下で説明するオゾン吸着工程とオゾン供給工程の実施、及びオゾン吸着工程とオゾン供給工程の切替えのために、接続された少なくとも１つの機器の動作を制御する。

酸素源１は酸素を含むガスを供給する手段であり、例えばガスボンベ、液化ガス、ＰＳＡ（Pressure Swing Adsorption）などのガス製造装置が使用される。酸素源１から供給されるガスとして、本実施の形態では酸素ガスを用いる場合を説明するが、実用上は少なくとも酸素を含むガスであればよく、例えば空気、酸素と不活性ガスの混合ガスなどを用いてもよい。

オゾン発生器２は酸素を含むガスからオゾンガスを生成する装置であり、一般には誘電体バリア放電、及び沿面放電などの気中放電式が好適に用いられる。

オゾン吸着塔３には、オゾンを選択的に吸着可能な吸着剤２０が内包されている。吸着剤２０として、例えばシリカゲルを用いることができる。

ガスタンク４は、内部にガスを貯留可能なタンクであり、例えば耐オゾン性に優れたステンレス製の容器が用いられる。また、ガスタンクは加圧及び減圧に適合した構造とすることが好適である。

供給対象５として、例えば水処理を行う反応槽、オゾン燻蒸処理用の閉鎖空間、汚泥及びセルロースなどのバイオマス処理用の処理容器、半導体及び殺菌対象物などを内包した真空容器などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

圧力調節器１１は、上流（前段）側の圧力を任意に調節する機能を有し、例えばオートプレッシャーレギュレータ、または背圧レギュレータが用いられる。

次に、実施の形態１のオゾン供給装置の動作を説明する。オゾン吸着工程において、制御部９９は、酸素源１から酸素ガスを供給し、オゾン発生器２でオゾンを発生させる。また、バルブ８を開き、バルブ１０を閉じるとともに、圧力調節器１１を制御してオゾン吸着塔３とガスタンク４の圧力が供給対象５の圧力よりも高くなるよう維持する。

酸素源１から供給された酸素ガスはオゾン発生器２において、その一部がオゾンガスに転換され、オゾン吸着塔３に供給される。オゾン吸着塔３内の吸着剤２０は、オゾンガスを選択的に吸着する特性を有するため、オゾン吸着塔３にオゾンが貯蔵され、オゾン吸着塔３からの出口ガス中のオゾン濃度は、オゾン吸着塔３の入口ガス中のオゾン濃度よりも低くなる。オゾン吸着塔３の出口ガスは排出せず、ガスタンク４に貯留ガスとして貯留される。

次に、オゾン供給工程において、制御部９９は、酸素源１からの酸素ガス供給とオゾン発生器２のオゾン発生を停止し、バルブ８を閉じ、バルブ１０を開く。これにより、ガスタンク４内の貯留ガスをオゾン吸着塔３に供給（すなわち吸着工程と逆流）する。このとき、貯留ガス中のオゾン濃度は低いため、吸着剤２０からオゾンガスが脱着する。脱着したオゾンガスは、オゾン吸着塔３から供給配管７を通って供給対象５に供給される。このようにオゾン吸着工程とオゾン供給工程を交互に行うことで、供給対象５に対し間欠的にオゾンを供給する。

本実施の形態によれば、オゾン吸着工程でガスタンク４に貯留された貯留ガスを、オゾン供給工程で用いることで、オゾン吸着塔３内のオゾンを脱着して供給対象５にオゾンを供給する。このため、オゾン供給工程では酸素源１から酸素ガスを供給する必要がなく、酸素ガス使用量が削減され運転コストが抑制される。

また、一般に酸素源１から供給されるガスの流量は、流量調節及びガス製造量の制約により、比較的小流量に制限される。一方、本実施の形態では、ガスタンク４から貯留ガスを大流量で流すことができるため、オゾン吸着塔３のオゾンを短時間で脱着し、多量のオゾンガスを間欠的に短時間で供給対象５に供給することができる。

また、吸着状態にあるオゾンは、ガス状態のオゾンと比べてエネルギー的に安定であり、自己分解速度が遅くなる。このため、オゾン吸着塔３の存在により貯蔵時のオゾンの減少を抑制し、供給対象に効率的にオゾンを供給することができる。

また、吸着剤２０は、オゾンを選択的に吸着する性質を有するため、オゾン吸着塔３はオゾンを濃縮する効果が得られる。このため、ガス状態でオゾンを貯留する場合と比較して、小さな容積でより多くのオゾンを貯蔵することが可能となる。

また、吸着剤２０は一般に水分を吸着しやすく、一度水分が吸着されると吸着サイトを塞ぐため、以後のオゾンの吸着性能が劣化することがある。したがってオゾン供給工程において、オゾン吸着塔３には極力水分を入れないようにする必要がある。本実施の形態によれば、オゾン吸着工程で酸素源１から供給されたガスが貯留ガスとして貯留され、オゾン供給工程でオゾン吸着塔３に供給される。このため、オゾン吸着塔３の外部から空気が入り込むことが抑制され、水分による吸着剤２０の性能劣化を抑制する効果が得られる。

なお、圧力調節器１１は、上流側の圧力が、あらかじめ定められた値になるように制御する機能を有しており、例えば吸着工程の初期は、ガスの流通を遮断することでオゾン吸着塔３内の圧力を増加させてガスタンク４に貯留ガスを貯留する。圧力が、あらかじめ定められた値に到達したらガスを流通させ排出することで、過剰な圧力上昇を抑制する。

実施の形態２．
図２は実施の形態２のオゾン供給装置を示す要部の構造図である。本実施の形態では実施の形態１と比較して、供給対象が真空容器１４であり、真空容器１４にはバルブ１３を介して真空ポンプ１２が接続されている。また、ガスタンク４の下流側に、圧力調節器１１の代わりにバルブ９を備えている。制御部９９は、酸素源１、オゾン発生器２、バルブ８、バルブ９、バルブ１０、バルブ１３、真空ポンプ１２に接続され、以下で説明するオゾン吸着工程とオゾン供給工程の実施、及びオゾン吸着工程とオゾン供給工程の切替えのために、接続された少なくとも１つの機器の動作を制御する。その他の構造は、実施の形態１と同様である。

本実施の形態２の動作を説明する。オゾン吸着工程に先立ち、半導体及び殺菌対象などの被処理物を真空容器１４に設置したのち、真空ポンプ１２を用いて真空容器１４の圧力を大気圧より低くする（真空引き工程）。続くオゾン吸着工程では、制御部９９により、バルブ８とバルブ９を開くとともに、バルブ１０を閉じてオゾン発生器２からオゾンガスを供給することで、オゾン吸着塔３にオゾンを吸着する。

オゾン供給工程では、制御部９９により、バルブ８とバルブ９を閉じ、バルブ１０を開くことでガスタンク４内の貯留ガスをオゾン吸着塔３に供給してオゾンガスを脱着させ、真空容器１４に供給する。すなわち、真空容器１４とガスタンク４の圧力差を利用して貯留ガスを流す。その他の動作は実施の形態１と同様である。

本実施の形態によれば、実施の形態１の効果に加え、供給対象である真空容器１４の圧力をガスタンク４の圧力より低くすることで、圧力差によりオゾン吸着塔３からオゾンが供給される。このため、オゾン吸着塔３、及びガスタンク４を必ずしも陽圧（大気圧以上）にする必要がなく、装置設計が容易になる。また、半導体製造工程のように不純物を減らす必要がある場合、微細孔を有する物体の殺菌処理の場合等においては、オゾン供給前に陰圧（大気圧以下）とすることで、効果的なオゾン処理が可能となる。
なお、真空ポンプ１２を用いて真空容器１４の真空引きを行う工程と、オゾン吸着工程を同時に行うことも可能である。これにより、オゾン処理に要する時間を短縮することができる。

実施の形態３.
図３は、実施の形態３のオゾン供給装置を示す要部の構造図である。本実施の形態では実施の形態２と比較して、真空ポンプ１２とガスタンク４を繋ぐ真空配管１６と真空配管１６に備えられたバルブ１５を有している。制御部９９は、酸素源１、オゾン発生器２、バルブ８、バルブ１０、バルブ１３、バルブ１５、真空ポンプ１２に接続され、以下に説明する、真空引き工程、オゾン吸着工程、およびオゾン供給工程の実施、及びこれらの工程の切替えのために、接続された少なくとも１つの機器を制御する。なお、実施の形態２が備えたバルブ９を有さない。その他の構成は、実施の形態２と同様である。

本実施の形態では、オゾン吸着工程の前に真空引き工程を有する。真空引き工程では、被処理物を真空容器１４に収めた状態でバルブ８を閉じ、バルブ１３とバルブ１５を開き、真空ポンプ１２を稼働させ、真空容器１４とガスタンク４の内部のガスを真空排気する。

オゾン吸着工程では、バルブ１０とバルブ１５を閉じ、オゾン発生器２から供給されるオゾンガスをオゾン吸着塔３に吸着するとともに、オゾン吸着塔３の出口ガスを貯留ガスとしてガスタンク４に貯留する。ガスタンク４の圧力があらかじめ定められた値に到達した段階で、オゾン供給工程としてバルブ８を閉じ、バルブ１０を開くことでオゾン吸着塔３から真空容器１４にオゾンガスを供給する。

このように、本実施の形態によれば、実施の形態１の効果に加え、オゾン吸着工程に先立ってガスタンク４内のガスを排気する真空引き工程を有するため、ガスタンク内の空気を排出し、水分含有量が少ないガスを貯留ガスとしてガスタンク４に貯留することができる。このため、オゾン供給工程において、オゾン吸着塔３に水分が入り込むことを抑制し、オゾン吸着塔３の性能劣化を抑制できる。
なお、オゾン吸着塔３とガスタンク４との間にバルブを設け、ガスタンク４の真空引き工程において、オゾン吸着塔３を切り離すようにしてもよい。これにより、ガスタンク４を真空引きする際にオゾン吸着塔３内の圧力およびガス組成が変化せず、オゾン吸着の性能を安定させることができる。

実施の形態４.
図４は、実施の形態４のオゾン供給装置を示す要部の構造図である。本実施の形態では、ガスタンク４とオゾン発生器２の上流側を繋ぐ還流配管１９を備えている。還流配管１９にはバルブ１８と圧縮機１７が備えられている。制御部９９は、酸素源１、オゾン発生器２、バルブ８、バルブ１０、圧縮機１７、バルブ１８に接続され、以下に説明するオゾン吸着工程の実施、実施の形態１で説明されたオゾン供給工程の実施、及びオゾン吸着工程とオゾン供給工程との切替えのために、接続された少なくとも１つの機器の動作を制御する。なお、圧力調節器１１は備えていない。その他の構成は実施の形態１と同様である。

本実施の形態４のオゾン吸着工程では、バルブ８を開き、オゾン吸着塔３にオゾンを吸着させるとともにガスタンク４に貯留ガスを貯留させる。ガスタンク４の圧力があらかじめ定められた値（大気圧以上）となった段階で、バルブ１８を開き圧縮機１７を動作させる。これにより、ガスタンク４内の貯留ガスをオゾン発生器２の上流側に還流させる。その他の動作は実施の形態１と同様である。

実施の形態１では、貯留ガスの量はガスタンク４の容積と圧力で決まり、酸素源１から余剰に酸素ガスが供給された場合（すなわちオゾン吸着工程の時間が長い場合）には、ガスタンク４から排気することでガスタンク４の圧力を、あらかじめ定められた値に保持した。このため、酸素源１から供給されたガスの一部が無効消費されていた。

これに対し、本実施の形態では、実施の形態１の効果に加え、還流配管１９と圧縮機１７を備えるため、オゾン吸着塔３を通過後のガスを再びオゾン発生に用いることができるため、酸素使用量が抑制される。また、オゾン吸着塔３でオゾンが吸着されることから、オゾン吸着塔３の出口ガス中のオゾン濃度は低く抑えられる。このため、圧縮機及びオゾン発生器２の上流側には高い耐オゾン性能は必要なく、効率的に酸素ガスを還流して利用することができる。

実施の形態５.
図５は、実施の形態５のオゾン供給装置を示す要部の構造図である。実施の形態４と比較して、本実施の形態５では、オゾン吸着塔３とガスタンク４の間の主配管６に圧縮機１７が備えられている。また、ガスタンク４とオゾン発生器２の上流側を繋ぐ還流配管１９にはバルブ２２が備えられている。また、オゾン吸着塔３とガスタンク４の間に主配管６とは別に逆流配管２３を有しており、逆流配管２３にはバルブ２１が備えられている。制御部９９は、酸素源１、オゾン発生器２、バルブ８、バルブ１０、圧縮機１７、バルブ２１、バルブ２２に接続され、以下に説明するオゾン吸着工程、オゾン供給工程の実施、及びオゾン吸着工程とオゾン供給工程との切替えのために、接続された少なくとも１つの機器の動作を制御する。その他の構成は実施の形態４と同様である。

本実施の形態では、オゾン吸着工程において、オゾン吸着塔３の出口ガスは圧縮機１７によって加圧された状態でガスタンク４に貯留ガスとして貯留される。すなわち、ガスタンク４の圧力はオゾン吸着塔３の圧力よりも高く保持される。

オゾン吸着工程においてガスタンク４の圧力があらかじめ定められた値を超えた段階でバルブ２２を開き、還流配管１９を通って貯留ガスをオゾン発生器２の上流側に還流する。

オゾン供給工程において、バルブ２２を閉め、バルブ２１を開くことでガスタンク４内の貯留ガスをオゾン吸着塔３に供給してオゾンを脱着させ、供給対象５にオゾンを供給する。その他の動作は実施の形態１と同様である。

このように、本実施の形態によれば、実施の形態１の効果に加え、圧縮機１７の下流側にガスタンク４が備えられるため、より高い圧力でガスタンク４にガスを貯留することができ、結果的に少ない容積でより多くの貯留ガスを貯留できる。また、ガスタンク４の圧力をオゾン吸着塔３、及びオゾン発生器２の圧力よりも高くできるため、ガスタンク４内の貯留ガスを還流させてオゾン発生に用いることができる。
また、ガスタンク４に高い圧力で貯留された貯留ガスは、オゾン供給工程において逆流配管２３を通ってオゾン吸着塔３に供給されるため、高い圧力差によって高い流量で貯留ガスを流すことが可能となり、短時間で多量のオゾンを供給対象５に供給することができる。

実施の形態６.
図６は、実施の形態６のオゾン供給装置を示す要部の構造図である。本実施の形態は、実施の形態１と比較して、オゾン吸着塔３とガスタンク４を接続する逆流配管２３を主配管６とは別に備え、逆流配管２３には流量調節器２４が備えられている。またオゾン吸着塔３とガスタンク４の間の主配管６にはバルブ２５が備えられている。制御部９９は、酸素源１、オゾン発生器２、バルブ８、バルブ１０、流量調節器２４、バルブ２５、圧力調節器１１に接続され、以下に説明するオゾン吸着工程、オゾン供給工程の実施、及びオゾン吸着工程とオゾン供給工程との切替えのために、接続された少なくとも１つの機器の動作を制御する。その他の構成は実施の形態１と同様である。

本実施の形態では、オゾン供給工程において、バルブ２５を閉じるとともに、流量調節器２４で流量制御された貯留ガスが逆流配管２３を通ってガスタンク４からオゾン吸着塔３に供給される。その他の動作は実施の形態１と同様である。

このように、本実施の形態によれば、実施の形態１の効果に加え、流量調節器２４によって供給時の貯留ガスの流量を制御できるため、供給対象５へのオゾンの供給速度、及びオゾン濃度を任意に設定することができる。

実施の形態７.
図７は、実施の形態７のオゾン供給装置を示す要部の構造図である。本実施の形態は、オゾン吸着塔３に、オゾン吸着塔３を冷却するための温度差形成手段である冷却装置２６が接続されている。制御部９９は、酸素源１、オゾン発生器２、バルブ８、バルブ１０、冷却装置２６に接続され、以下に説明するオゾン吸着工程、オゾン供給工程の実施、及びオゾン吸着工程とオゾン供給工程との切替えのために、接続された少なくとも１つの機器の動作を制御する。その他の構成は、実施の形態１と同様である。

吸着剤２０は、一般に低温ほどオゾンを多く吸着することから、オゾン吸着工程においてオゾン吸着塔３の温度を低下させることでより多くのオゾンを貯蔵することができる。一方、オゾン供給工程において、温度が高いほど吸着剤２０に吸着されたオゾンの脱着が迅速に進むため、短時間で多量のオゾンの供給が可能となる。すなわち、オゾン吸着工程とオゾン供給工程で温度差を形成することが好適である。

このように、本実施の形態では、実施の形態１の効果に加え、オゾン吸着工程において、冷却装置２６を稼働させてオゾン吸着塔３の温度を低下させることで、実施の形態１と比べて同じ容積のオゾン吸着塔３であっても、より多くのオゾンを吸着し貯蔵することができる。また、独立に設けられたガスタンク４は冷却されていないため、オゾン吸着塔３よりも高温状態にある。したがって、オゾン供給工程において比較的高い温度の貯留ガスがオゾン吸着に供給されるため、迅速なオゾン脱着が行われる。

実施の形態８.
図８は、実施の形態８のオゾン供給装置を示す要部の構造図である。本実施の形態は、独立に設けられたガスタンク４に温度差形成手段である加熱装置２７が接続されている。制御部９９は、酸素源１、オゾン発生器２、バルブ８、バルブ１０、加熱装置２７に接続され、以下に説明するオゾン供給工程の実施、実施の形態１で説明したオゾン吸着装置の実施、及びオゾン吸着工程とオゾン供給工程との切替えのために、接続された少なくとも１つの機器の動作を制御する。その他の構成は、実施の形態１と同様である。

本実施の形態では、実施の形態１の効果に加え、加熱装置２７によりガスタンク４内に貯留された貯留ガスを加熱することで、オゾン供給工程において比較的高温のガスをオゾン吸着塔３に流すことができる。このため、吸着剤２０からのオゾンの脱着がより迅速に進み、供給対象５に対して短時間で多量のオゾンを供給することができる。

制御部９９のハードウエアの一例を図９に示す。プロセッサ１０１と記憶装置１０２から構成され、図示していないが、記憶装置はランダムアクセスメモリ等の揮発性記憶装置と、フラッシュメモリ等の不揮発性の補助記憶装置とを具備する。また、フラッシュメモリの代わりにハードディスクの補助記憶装置を具備してもよい。プロセッサ１０１は、記憶装置１０２から入力されたプログラムを実行することにより、例えば、実施の形態１から実施の形態８で説明したオゾン吸着工程、オゾン供給工程のそれぞれの動作、およびオゾン吸着工程とオゾン供給工程の切替え動作を実施するために、接続された各機器の動作を制御する。この場合、補助記憶装置から揮発性記憶装置を介してプロセッサ１０１にプログラムが入力される。また、プロセッサ１０１は、演算結果等のデータを記憶装置１０２の揮発性記憶装置に出力してもよいし、揮発性記憶装置を介して補助記憶装置にデータを保存してもよい。なお、制御部９９は、複数のロジック回路を接続したものでもよい。

本願は、様々な例示的な実施の形態及び実施例が記載されているが、１つ、または複数の実施の形態に記載された様々な特徴、態様、及び機能は特定の実施の形態の適用に限られるのではなく、単独で、または様々な組み合わせで実施の形態に適用可能である。
従って、例示されていない無数の変形例が、本願明細書に開示される技術の範囲内において想定される。例えば、少なくとも１つの構成要素を変形する場合、追加する場合または省略する場合、さらには、少なくとも１つの構成要素を抽出し、他の実施の形態の構成要素と組み合わせる場合が含まれるものとする。

１：酸素源、２：オゾン発生器、３：オゾン吸着塔、４：ガスタンク、５：供給対象、６：主配管、７：供給配管、８、９、１０：バルブ、１１：圧力調節器、１２：真空ポンプ、１３：バルブ、１４：真空容器、１５：バルブ、１６：真空配管、１７：圧縮機、１８：バルブ、１９：還流配管、２０：吸着剤、２１：バルブ、２２：バルブ、２３：逆流配管、２４：流量調節器、２５：バルブ、２６：冷却装置、２７：加熱装置、９９：制御部、１００：オゾン供給装置。

Claims (13)

1. 酸素を含むガスからオゾンガスを発生させるオゾン発生器、
   前記オゾン発生器の下流に設けられ、前記オゾンガスを吸着する吸着剤を有するオゾン吸着塔、
   前記オゾン吸着塔の下流に前記オゾン吸着塔とは独立に設けられたガスタンク、
   前記オゾン吸着塔から供給対象に前記オゾンガスを供給する供給配管、
   前記オゾン発生器で発生させたオゾンガスを前記オゾン吸着塔に吸着させ、前記オゾン吸着塔を通過した出口ガスを前記ガスタンクに貯留ガスとして貯留するオゾン吸着工程と前記貯留ガスを前記ガスタンクから前記オゾン吸着塔に向けて流すことで前記オゾン吸着塔に吸着されたオゾンを脱着し、前記供給配管から前記供給対象にオゾンガスを供給するオゾン供給工程とを切り替えるために、接続された機器の制御を行う制御部、
   を備えることを特徴とするオゾン供給装置。
2. 前記ガスタンクは、前記出口ガスを、ガスを排出しない状態において、貯留することを特徴とする請求項１に記載のオゾン供給装置。
3. 前記ガスタンクの圧力が前記供給対象の圧力よりも高くなるように圧力を調節する圧力調節器をさらに備えたことを特徴とする請求項１または２に記載のオゾン供給装置。
4. 前記オゾン吸着塔と前記ガスタンクとの間に、前記オゾン吸着工程のガスの流れ方向とは逆の方向にガスを流すための逆流配管が備えられていることを特徴とする請求項１または２に記載のオゾン供給装置。
5. 前記逆流配管に、前記ガスタンクから前記オゾン吸着塔に流れるガスの流量を制御する流量調節器を備えることを特徴とする請求項４に記載のオゾン供給装置。
6. 前記供給対象は真空容器であり、前記真空容器には真空ポンプが接続され、前記オゾン吸着工程の前に、前記真空ポンプを稼働させて前記真空容器の圧力を大気圧よりも低くすることを特徴とする請求項１または２に記載のオゾン供給装置。
7. 前記ガスタンクに真空ポンプが接続され、前記オゾン吸着工程の前に前記真空ポンプを可動させて、前記ガスタンクの圧力を大気圧より低くすることを特徴とする請求項１または２に記載のオゾン供給装置。
8. 前記ガスタンクに圧縮機が接続され、前記オゾン吸着工程において、前記圧縮機を稼働させて前記ガスタンク内の貯留ガスを前記オゾン発生器の上流側に還流させることを特徴とする請求項１または２に記載のオゾン供給装置。
9. 前記オゾン吸着塔と前記ガスタンクとの間に圧縮機が備えられ、前記ガスタンクと前記オゾン発生器の上流側とを接続する還流配管が備えられることを特徴とする請求項１または２に記載のオゾン供給装置。
10. 前記オゾン吸着塔と前記ガスタンクとの温度差を形成するための温度差形成手段を備えたことを特徴とする請求項１または２に記載のオゾン供給装置。
11. 前記温度差形成手段は、前記オゾン吸着塔に接続された冷却装置であることを特徴とする請求項１０に記載のオゾン供給装置。
12. 前記温度差形成手段は、前記ガスタンクに接続された加熱装置であることを特徴とする請求項１０に記載のオゾン供給装置。
13. オゾン発生器で発生させたオゾンガスをオゾン吸着塔に吸着させ、前記オゾン吸着塔を通過した出口ガスをガスタンクに貯留するオゾン吸着工程の後、前記ガスタンクの貯留ガスを前記ガスタンクから前記オゾン吸着塔に向けて流すことで前記オゾン吸着塔に吸着されたオゾンを脱着し、供給対象にオゾンガスを供給するオゾン供給工程を行うことを特徴とするオゾン供給方法。

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