JP6154918B2 - 非晶質形成能を有する結晶質合金、その製造方法、スパッタリング用合金ターゲット及びその製造方法 - Google Patents
非晶質形成能を有する結晶質合金、その製造方法、スパッタリング用合金ターゲット及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6154918B2 JP6154918B2 JP2015561289A JP2015561289A JP6154918B2 JP 6154918 B2 JP6154918 B2 JP 6154918B2 JP 2015561289 A JP2015561289 A JP 2015561289A JP 2015561289 A JP2015561289 A JP 2015561289A JP 6154918 B2 JP6154918 B2 JP 6154918B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy
- atomic
- amorphous
- range
- nanocrystalline
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 317
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims description 317
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 title claims description 77
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 41
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 claims description 106
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 63
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 59
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 45
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 44
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 40
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 34
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 32
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 26
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 20
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 20
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 16
- 238000002074 melt spinning Methods 0.000 claims description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 claims description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 70
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 55
- 230000008569 process Effects 0.000 description 34
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 21
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 19
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 16
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 14
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 12
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 11
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 5
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 229910018182 Al—Cu Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 239000013526 supercooled liquid Substances 0.000 description 3
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 229910002059 quaternary alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007712 rapid solidification Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- -1 argon ions Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 1
- 229910001325 element alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000005596 ionic collisions Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D13/00—Centrifugal casting; Casting by using centrifugal force
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D21/00—Casting non-ferrous metals or metallic compounds so far as their metallurgical properties are of importance for the casting procedure; Selection of compositions therefor
- B22D21/02—Casting exceedingly oxidisable non-ferrous metals, e.g. in inert atmosphere
- B22D21/022—Casting heavy metals, with exceedingly high melting points, i.e. more than 1600 degrees C, e.g. W 3380 degrees C, Ta 3000 degrees C, Mo 2620 degrees C, Zr 1860 degrees C, Cr 1765 degrees C, V 1715 degrees C
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
- B22F3/12—Both compacting and sintering
- B22F3/14—Both compacting and sintering simultaneously
- B22F3/15—Hot isostatic pressing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/002—Making metallic powder or suspensions thereof amorphous or microcrystalline
- B22F9/008—Rapid solidification processing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
- B23K20/02—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating by means of a press ; Diffusion bonding
- B23K20/023—Thermo-compression bonding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/11—Making amorphous alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C16/00—Alloys based on zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/10—Amorphous alloys with molybdenum, tungsten, niobium, tantalum, titanium, or zirconium or Hf as the major constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3426—Material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Continuous Casting (AREA)
Description
前記非晶質形成能を有する結晶質合金は、Zrが67原子%〜78原子%、Coが4原子%〜12原子%、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上が15原子%〜24原子%からなりうる。
前記非晶質形成能を有する結晶質合金の製造方法で、前記結晶粒の平均サイズは、0.1μm〜5μmの範囲になるように制御される。
前記スパッタリング用合金ターゲットの製造方法で、前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、Zrが67原子%〜78原子%、Alが3原子%〜10原子%、Coが2原子%〜9原子%、Cuが17原子%〜23原子%からなりうる。
前記スパッタリング用合金ターゲットの製造方法で、前記非晶質形成能を有する3つ以上の金属元素からなる非晶質合金またはナノ結晶質合金を複数個準備する段階は、前記非晶質形成能を有する3つ以上の金属元素からなるフォイル状の非晶質合金リボンまたはナノ結晶質合金リボンを複数層積層する段階を含みうる。
他の具体例を挙げれば、前記合金は、Zrが67原子%〜78原子%、Al及びCoのうちから選択された何れか1つ以上が4原子%〜13原子%、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上が15原子%〜24原子%からなりうる。例えば、前記合金は、Zrが67原子%〜78原子%、Coが4原子%〜12原子%、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上が15原子%〜24原子%からなりうる。また、例えば、前記合金は、Zrが67原子%〜78原子%、Alが3原子%〜10原子%、Coが2原子%〜9原子%、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上が17原子%〜23原子%からなりうる。
さらに他の例として、複数個準備される非晶質合金またはナノ結晶質合金は、非晶質合金鋳造材またはナノ結晶質合金鋳造材であり得る。この際、非晶質合金鋳造材またはナノ結晶質合金鋳造材は、棒状または板状を有しうる。この場合、熱加圧処理過程中に複数の非晶質合金鋳造材が積層された積層体またはナノ結晶質合金鋳造材が積層された積層体は、個別合金鋳造材間の相互拡散による結合が進行しながら、結晶化及び/または結晶粒成長が起こる。この際、合金鋳造材間の界面は、相互拡散によって消滅されうる。
以下、本発明の理解を助けるために、実施例を提供する。但し、下記の実施例は、本発明の理解を助けるためのものであり、本発明が、下記の実施例によって限定されるものではない。
図1には、本発明の実施例によるZr−Al−Cu合金棒の非晶質形成能をX線回折を用いて照射した結果が示されており、図2には、前記Zr−Al−Cu合金棒の直径による結晶化特性を示すDSC分析結果が示されている。前記Zr−Al−Cuの組成は、それぞれ原子%にそれぞれ63.9、10、26.1であった。それをZr63.9Al10Cu26.1で表示する(以後、合金の組成をこのような方式で表示する)。
例えば、実施例42、実施例43、実施例44、実施例45を参照すれば、本発明の一実施例による非晶質形成能を有する3つ以上の金属元素からなる合金は、Alを含まず、Zrが67原子%〜78原子%、Coが4原子%〜12原子%、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上が15原子%〜24原子%からなり、厳格には、Alを含まず、Zrが67原子%〜76原子%、Coが4原子%〜12原子%、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上が15原子%〜24原子%からなりうる。
表4には、実施例1の合金組成(Zr63.9Al10Cu26.1)を有する直径3mmの非晶質合金棒を複数個準備し、それをグラファイト金型内に積層した後、通電加圧焼結装置で熱加圧して結合した合金ターゲットにおいて、結合温度による硬度及びクラックの発生有無を観察した結果が示されている。この際、結合温度は、グラファイト(graphite)金型の接触温度を意味する。また、表4の△Txは、ガラス遷移温度と結晶化開始温度との間の温度区間、すなわち、過冷液体温度区間のうちから選択された温度を意味する。
表5には、実施例1と同じ組成(Zr63.9Al10Cu26.1)を有する合金を粉末状に製造した後、それをグラファイト金型に積層して、通電加圧焼結装置で加圧焼結して製造した合金ターゲットにおいて、焼結温度による硬度及びクラックの発生有無を観察した結果が示されている。
表6には、実験例1と同じ組成(Zr63.9Al10Cu26.1)を有する非晶質合金をリボン状に製造した後、複数個の合金リボンをグラファイト金型内に積層し、通電加圧焼結装置で加圧焼結(結合)して製造した合金ターゲットにおいて、加圧温度による硬度及びクラックの発生有無を観察した結果が示されている。
非晶質フォイルを使ってスパッタリングターゲットを製造する工程は、前述した非晶質合金棒または非晶質粉末を使ってスパッタリングターゲットを製造する工程よりも次のような有利な長所を有する。
もちろん、前述した多様な組成を有する非晶質合金またはナノ結晶質合金に対して、このような2つの段階の収縮を経るように熱処理を行うことができる。例えば、前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、Zrが67原子%〜78原子%、Al及びCoのうちから選択された何れか1つ以上が4原子%〜13原子%、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上が15原子%〜24原子%からなりうる。他の例として、前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、Alが5原子%〜20原子%、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上が15原子%〜40原子%、残部がZrからなりうる。さらに他の例として、前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、Alが5以上20原子%未満、Cu及びNiのうち何れか1つ以上が15〜40原子%、Cr、Mo、Si、Nb、Co、Sn、In、Bi、Zn、V、Hf、Ag、Ti、及びFeのうちから選択される何れか1つ以上の和が8原子%以下(0超過)、残部がZrからなりうる。
図11には、非晶質合金粉末を800℃で焼結して製造した結晶質合金ターゲット(Zr62.5Al10Mo5Cu22.5)を実際スパッタリング装置に装着し、300W DCプラズマ電源を印加する場合、その表面を観察した結果が示されている。また、図12の(a)には、スパッタリング前の合金の微細組織が示されており、図12の(b)には、スパッタリング後のスパッタリングが起こったターゲットの表面を観察した結果が示されている。
表7を参照すれば、結晶質ターゲットは、鋳造材ターゲットに比べて、薄膜の組成がターゲット組成にさらに近似していることが分かる。
Claims (14)
- 非晶質形成能を有する3元素以上からなる合金であって、
前記合金の結晶粒平均サイズは、0.1μm〜5μmの範囲にあり、
前記合金は、Zrが67原子%〜78原子%、Al及びCoのうちから選択された何れか1つ以上(2つ選択された場合は2つの合計)が4原子%〜13原子%、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上(2つ選択された場合は2つの合計)が15原子%〜24原子%からなる非晶質形成能を有し、
前記非晶質形成能を有する合金は、前記合金の溶湯を10 4 K/sec〜10 6 K/secの範囲の冷却速度で鋳造するとき、20μm〜100μmの範囲の鋳造厚さに非晶質リボンが得られる合金である、非晶質形成能を有する結晶質合金。 - 前記合金は、Zrが67原子%〜78原子%、Coが4原子%〜12原子%、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上(2つ選択された場合は2つの合計)が15原子%〜24原子%からなる請求項1に記載の非晶質形成能を有する結晶質合金。
- 前記合金は、Zrが67原子%〜78原子%、Alが3原子%〜10原子%、Coが2原子%〜9原子%、Cuが17原子%〜23原子%からなる請求項1に記載の非晶質形成能を有する結晶質合金。
- 請求項1ないし請求項3の何れか一項に記載の非晶質形成能を有する結晶質合金からなるスパッタリング用合金ターゲット。
- 非晶質形成能を有する3つ以上の金属元素からなる非晶質合金またはナノ結晶質合金を、前記非晶質合金またはナノ結晶質合金の結晶化開始温度以上、溶融温度未満の温度範囲で加熱して、結晶粒の平均サイズが0.1μm〜5μmの範囲になるように制御する段階を含み、
前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、Zrが67原子%〜78原子%の範囲、Al及びCoのうちから選択された何れか1つ以上(2つ選択された場合は2つの合計)が4原子%〜13原子%の範囲、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上(2つ選択された場合は2つの合計)が15原子%〜24原子%の範囲からなる非晶質形成能を有し、前記非晶質形成能を有する合金は、前記合金の溶湯を10 4 K/sec〜10 6 K/secの範囲の冷却速度で鋳造するとき、20μm〜100μmの範囲の鋳造厚さに非晶質リボンが得られる合金である、結晶質合金の製造方法。 - 前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、Zrが67原子%〜78原子%の範囲、Coが4原子%〜12原子%の範囲、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上(2つ選択された場合は2つの合計)が15原子%〜24原子%の範囲からなる請求項5に記載の非晶質形成能を有する結晶質合金の製造方法。
- 前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、Zrが67原子%〜78原子%の範囲、Alが3原子%〜10原子%の範囲、Coが2原子%〜9原子%の範囲、Cuが17原子%〜23原子%の範囲からなる請求項5に記載の非晶質形成能を有する結晶質合金の製造方法。
- 非晶質形成能を有する3つ以上の金属元素からなる非晶質合金またはナノ結晶質合金を複数個準備する段階と、
前記複数個の非晶質合金またはナノ結晶質合金を、前記非晶質合金またはナノ結晶質合金の結晶化開始温度以上、溶融温度未満の温度範囲で熱加圧して、結晶粒の平均サイズが0.1μm〜5μmの範囲を有する結晶質合金を製造する段階と、を含み、
前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、Zrが67原子%〜78原子%の範囲、Al及びCoのうちから選択された何れか1つ以上(2つ選択された場合は2つの合計)が4原子%〜13原子%の範囲、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上(2つ選択された場合は2つの合計)が15原子%〜24原子%の範囲からなり、前記非晶質形成能を有する合金は、前記合金の溶湯を10 4 K/sec〜10 6 K/secの範囲の冷却速度で鋳造するとき、20μm〜100μmの範囲の鋳造厚さに非晶質リボンが得られる合金である、スパッタリング用合金ターゲットの製造方法。 - 前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、Zrが67原子%〜78原子%、Coが4原子%〜12原子%、Cu及びNiのうちから選択された何れか1つ以上(2つ選択された場合は2つの合計)が15原子%〜24原子%からなる請求項8に記載のスパッタリング用合金ターゲットの製造方法。
- 前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、Zrが67原子%〜78原子%、Alが3原子%〜10原子%、Coが2原子%〜9原子%、Cuが17原子%〜23原子%からなる請求項8に記載のスパッタリング用合金ターゲットの製造方法。
- 前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、非晶質合金粉末またはナノ結晶質合金粉末である請求項8〜10のいずれか1項に記載のスパッタリング用合金ターゲットの製造方法。
- 前記非晶質形成能を有する3つ以上の金属元素からなる非晶質合金またはナノ結晶質合金を複数個準備する段階は、
前記非晶質形成能を有する3つ以上の金属元素からなるフォイル状の非晶質合金リボンまたはナノ結晶質合金リボンを複数層積層する段階を含む請求項8〜11のいずれか1項に記載のスパッタリング用合金ターゲットの製造方法。 - 前記非晶質合金リボンまたはナノ結晶質合金リボンは、
前記3つ以上の金属元素が溶解された溶湯を準備する段階と、
前記溶湯を回転するロールに投入する段階と、
を含むメルトスピニング法によって製造される請求項12に記載のスパッタリング用合金ターゲットの製造方法。 - 前記非晶質合金またはナノ結晶質合金は、非晶質合金鋳造材またはナノ結晶質合金鋳造材である請求項8〜13のいずれか1項に記載のスパッタリング用合金ターゲットの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130065244A KR101501067B1 (ko) | 2013-06-07 | 2013-06-07 | 비정질 형성능을 가지는 결정질 합금, 그 제조방법, 스퍼터링용 합금타겟 및 그 제조방법 |
KR10-2013-0065244 | 2013-06-07 | ||
PCT/KR2014/005022 WO2014196834A1 (ko) | 2013-06-07 | 2014-06-05 | 비정질 형성능을 가지는 결정질 합금, 그 제조방법, 스퍼터링용 합금타겟 및 그 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016512286A JP2016512286A (ja) | 2016-04-25 |
JP6154918B2 true JP6154918B2 (ja) | 2017-06-28 |
Family
ID=52008397
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015561289A Active JP6154918B2 (ja) | 2013-06-07 | 2014-06-05 | 非晶質形成能を有する結晶質合金、その製造方法、スパッタリング用合金ターゲット及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20160076137A1 (ja) |
JP (1) | JP6154918B2 (ja) |
KR (1) | KR101501067B1 (ja) |
WO (1) | WO2014196834A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160049255A (ko) * | 2014-10-27 | 2016-05-09 | 한국생산기술연구원 | 스퍼터링 타겟용 합금 및 이로 이루어진 스퍼터링 타겟 |
EP3184211A1 (fr) * | 2015-12-21 | 2017-06-28 | ETA SA Manufacture Horlogère Suisse | Matériau obtenu par compaction et densification de poudre(s) métallique(s) |
DE112018004793T5 (de) * | 2017-08-31 | 2020-11-05 | Korea Institute Of Industrial Technology | Target zur physikalischen gasphasenabscheidung, nanokomposit- beschichtungsfilm unter verwendung desselben, und herstellungsverfahren dafür |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0899353B1 (en) * | 1997-08-28 | 2004-05-12 | Alps Electric Co., Ltd. | Method of sintering an iron-based high-hardness glassy alloy |
JP3852805B2 (ja) * | 1998-07-08 | 2006-12-06 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 曲げ強度および衝撃強度に優れたZr基非晶質合金とその製法 |
CN1549868B (zh) * | 2001-08-30 | 2010-05-26 | 德累斯顿协会莱布尼茨固体材料研究所 | 室温下可塑性变形的高强度不含铍模制锆合金体 |
KR100749658B1 (ko) | 2003-08-05 | 2007-08-14 | 닛코킨조쿠 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟트 및 그 제조방법 |
CN101061252A (zh) * | 2004-11-15 | 2007-10-24 | 日矿金属株式会社 | 用于制造金属玻璃膜的溅射靶及其制造方法 |
KR100658982B1 (ko) * | 2005-03-08 | 2006-12-21 | 학교법인연세대학교 | 지르코늄기 다원소 비정질 합금조성물 |
JP5152790B2 (ja) * | 2008-03-11 | 2013-02-27 | 国立大学法人東北大学 | 高延性金属ガラス合金 |
KR101376074B1 (ko) * | 2011-12-06 | 2014-03-21 | 한국생산기술연구원 | 비정질 형성능을 가지는 결정질 합금, 그 제조방법, 스퍼터링용 합금타겟 및 그 제조방법 |
KR101452879B1 (ko) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 한국생산기술연구원 | 비정질 형성능을 가지는 결정질 합금, 그 제조방법, 스퍼터링용 합금타겟 및 그 제조방법 |
-
2013
- 2013-06-07 KR KR1020130065244A patent/KR101501067B1/ko active IP Right Grant
-
2014
- 2014-06-05 US US14/787,017 patent/US20160076137A1/en not_active Abandoned
- 2014-06-05 JP JP2015561289A patent/JP6154918B2/ja active Active
- 2014-06-05 WO PCT/KR2014/005022 patent/WO2014196834A1/ko active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160076137A1 (en) | 2016-03-17 |
KR20140145218A (ko) | 2014-12-23 |
JP2016512286A (ja) | 2016-04-25 |
KR101501067B1 (ko) | 2015-03-17 |
WO2014196834A1 (ko) | 2014-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6186369B2 (ja) | 非晶質形成能を有する結晶質合金、その製造方法、スパッタリング用合金ターゲット及びその製造方法 | |
KR102614644B1 (ko) | 높은 균일성 및 원소 함량을 갖는 알루미늄 합금 및 제품 | |
KR20210030939A (ko) | 알루미늄 합금 부품 제조 공정 | |
JPWO2005012591A1 (ja) | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
US11101118B2 (en) | Cobalt, iron, boron, and/or nickel alloy-containing articles and methods for making same | |
JP5877517B2 (ja) | 希土類磁石用スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
KR20190109863A (ko) | 고내식-고광택 알루미늄계 스퍼터링 타겟 합금 조성, 미세구조 및 그 제조 방법 | |
JP6154918B2 (ja) | 非晶質形成能を有する結晶質合金、その製造方法、スパッタリング用合金ターゲット及びその製造方法 | |
KR101459700B1 (ko) | 비정질 합금의 열처리방법 및 결정질 합금의 제조방법 | |
JP4602210B2 (ja) | 延性を有するマグネシウム基金属ガラス合金−金属粒体複合材 | |
KR101452879B1 (ko) | 비정질 형성능을 가지는 결정질 합금, 그 제조방법, 스퍼터링용 합금타겟 및 그 제조방법 | |
JP7546079B2 (ja) | アルミニウム-スカンジウム複合体、アルミニウム-スカンジウム複合体スパッタリングターゲットおよび作製方法 | |
JP6007840B2 (ja) | Cu−Gaスパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
JP6266660B2 (ja) | Zr基非晶質合金組成物 | |
JP7412867B1 (ja) | Nb合金部材の製造方法 | |
KR101466039B1 (ko) | 비정질 형성능을 가지는 금속원소를 포함하는 결정질 합금들의 접합 방법, 스퍼터링 타겟 구조체 및 그 제조방법 | |
KR101646653B1 (ko) | 결정질 합금 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160108 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160812 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20160906 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161201 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170516 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170602 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6154918 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |