JP6123847B2 - 容器用鋼板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
以上の金属容器には、製缶前後の塗装工程および焼付け工程が不可欠である。これらの工程では、塗料の廃液や焼付け時のVOC(揮発性有機化合物)および温室効果ガスの一種である二酸化炭素が大量に発生する。近年では、地球環境保全の観点から、これらの廃棄物や二酸化炭素を低減する取り組みがなされている。さらに、塗料の成分であるエポキシ樹脂原料のBPA(ビスフェノールA)は、環境ホルモンであり、一部の国々で人体接触し得る用途には使用を規制されている。塗装工程および焼付け工程を省略できる代替技術として、PET(ポリエチレンテレフタレート)などの有機樹脂フィルムをラミネートした鋼板を使用した容器が注目されており、急速に拡大している。
例えば、特許文献1には、「鋼板の少なくとも片面に、Ni層、Sn層、Fe−Ni合金層、Fe−Sn合金層およびFe−Ni−Sn合金層のうちから選ばれた少なくとも1層からなる耐食性皮膜を形成後、Tiを含むイオンを含有し、さらにCo、Fe、Ni、V、Cu、MnおよびZnのうちから選ばれた少なくとも1種の金属を含むイオンを含有する水溶液中で陰極電解処理して密着性皮膜を形成することを特徴とする表面処理鋼板の製造方法」により得られた表面処理鋼板が開示されている。
また、特許文献2には、「鋼板の少なくとも片面に、Ni層、Sn層、Fe−Ni合金層、Fe−Sn合金層およびFe−Ni−Sn合金層のうちから選ばれた少なくとも1層からなる耐食性皮膜を有し、該耐食性皮膜上に、Tiを含み、さらにCo、Fe、Ni、V、Cu、MnおよびZnのうちから選ばれた少なくとも1種をその合計でTiに対する質量比として0.01〜10含有する密着性皮膜を有することを特徴とする表面処理鋼板」が開示されている。
本発明は、以上の点を鑑みてなされたものであり、加工後フィルム密着性に優れる容器用鋼板を提供することを目的とする。
(1)鋼板の表面の少なくとも一部にSn層を含むめっき層を有するめっき鋼板と、上記めっき鋼板の上記めっき層側の表面上に配置された表面処理皮膜と、を有する容器用鋼板であって、上記表面処理皮膜は、Tiを含有し、上記めっき鋼板の片面あたりのTi換算の付着量が5〜60mg/m2であり、上記表面処理皮膜は、さらに、Feと、Ni、Co、Mn、V、CuおよびZnからなる群から選ばれる少なくとも1種と、を含有し、その合計のTiに対する質量比が0.01〜0.10であり、上記表面処理皮膜側の表面の展開面積比Sdrが0.35%以上である、容器用鋼板。
(2)上記展開面積比Sdrが0.45%以上である、上記(1)に記載の容器用鋼板。
(3)上記めっき層が、さらに、Ni層、Ni−Fe合金層、Fe−Sn合金層、および、Fe−Sn−Ni合金層からなる群から選ばれる少なくとも1層を含む、上記(1)または(2)に記載の容器用鋼板。
(4)上記(1)に記載の容器用鋼板を得る、容器用鋼板の製造方法であって、鋼板の表面の少なくとも一部にSn層を含むめっき層を有するめっき鋼板を、処理液中に浸漬させ、陰極電解処理を施すことにより、上記表面処理皮膜を形成する皮膜形成工程を少なくとも備え、上記処理液が、Ti成分を、Ti換算した量で、0.004〜0.400mol/L含有し、Fe成分を、Fe換算した量で、上記Ti成分の含有量に対するモル比で0.01〜0.30含有し、Ni成分、Co成分、Mn成分、V成分、Cu成分およびZn成分からなる群から得られた少なくとも1種を、金属換算した合計量で、上記Ti成分の含有量に対するモル比で、0.01〜0.30含有し、上記陰極電解処理を施す際の電解電流密度が、20.0A/dm2超である、容器用鋼板の製造方法。
本発明の容器用鋼板は、概略的には、めっき鋼板と、めっき鋼板のめっき層側の表面上に配置された特定の表面処理皮膜とを有し、かつ、特定の展開面積比Sdrを有する。
以下に、めっき鋼板および表面処理皮膜の具体的な態様について詳述した後、展開面積比Sdrについて説明する。まず、めっき鋼板の態様について詳述する。
めっき鋼板は、鋼板と、鋼板の表面の少なくとも一部を覆うめっき層とを有し、めっき層は、少なくともSn層を含む。
素材の鋼板としては、一般的な缶用の鋼板を使用できる。めっき層は、連続層であってもよいし、不連続の島状であってもよい。また、めっき層は、鋼板の少なくとも片面に設けられていればよく、両面に設けられていてもよい。めっき層の形成は、含有される金属元素に応じた公知の方法で行える。
以下に、鋼板およびめっき層の好適態様について詳述する。
鋼板の種類は特に限定されるものではない。通常、容器材料として使用される鋼板(例えば、低炭素鋼板、極低炭素鋼板)を用いることができる。この鋼板の製造方法、材質なども特に限定されるものではない。通常の鋼片製造工程から熱間圧延、酸洗、冷間圧延、焼鈍、調質圧延等の工程を経て製造される。
鋼板は、必要に応じて、その表面にニッケル含有層(Ni含有層)を形成したものを用い、このNi含有層上に後述するSn層を含むめっき層を形成してもよい。Ni含有層を有する鋼板を用いてSnめっきを施すことにより、島状Snを含むめっき層を形成することできる。その結果、溶接性が向上する。
Ni含有層としてはニッケルが含まれていればよい。例えば、Niめっき層(Ni層)、Ni−Fe合金層などが挙げられる。
鋼板にNi含有層を付与する方法は特に限定されない。例えば、公知の電気めっきなどの方法が挙げられる。また、Ni含有層としてNi−Fe合金層を付与する場合、電気めっきなどにより鋼板表面上にNi付与後、焼鈍することにより、Ni拡散層を配位させ、Ni−Fe合金層を形成できる。
Ni含有層中のNi付着量は特に限定されず、片面当たりの金属Ni換算量として50〜2000mg/m2が好ましい。上記範囲内であれば、コスト面でも有利となる。
なお、Ni付着量は、蛍光X線により表面分析して測定できる。この場合、Ni付着量既知のNi付着サンプルを用いて、Ni付着量に関する検量線をあらかじめ特定しておき、同検量線を用いて相対的にNi付着量を特定する。ただし、後述する表面処理皮膜がNiを含む場合は、上記の蛍光X線による表面分析によりNi含有層中のNi付着量のみを測定することは困難である。その場合は、Ni含有層中のNi付着量は、蛍光X線により求めたNi付着量から後述する表面処理皮膜中に含まれるNi付着量を差し引いて求めることができる。
めっき鋼板は、鋼板表面の少なくとも一部に、Sn層を含むめっき層を有する。このめっき層は鋼板の少なくとも片面に設けられていればよく、両面に設けられていてもよい。
また、めっき層は、鋼板表面上の少なくとも一部を覆う層であり、連続層であってもよいし、不連続の島状であってもよい。
めっき層の鋼板片面当たりのSn付着量は、0.1〜15.0g/m2が好ましい。Sn付着量が上記範囲内であれば、容器用鋼板の耐食性がより優れる。0.2〜15.0g/m2がより好ましい。
なお、Sn付着量は、電量法または蛍光X線により表面分析して測定できる。蛍光X線の場合、Sn量既知のSn付着量サンプルを用いて、Sn量に関する検量線をあらかじめ特定しておき、同検量線を用いて相対的にSn量を特定する。
また、めっき層としては、Ni含有層を表面に有する鋼板に対してSnめっきを行い、さらに通電加熱などによりSnを加熱溶融させて得られる、Sn層の最下層(Sn層/鋼板界面)にFe−Sn−Ni合金層、Fe−Sn合金層などが一部形成されためっき層も挙げられる。
なお、本発明においては、上述したNi含有層(Ni層、Ni−Fe合金層)も、めっき鋼板のめっき層に含まれるものとする。
例えば、フェノールスルフォン酸Snめっき浴、メタンスルフォン酸Snめっき浴、またはハロゲン系Snめっき浴を用い、片面あたりの付着量が所定量となるように鋼板表面にSnを電気めっきする。その後、Snの融点(231.9℃)以上の温度で加熱溶融処理を行って、Sn単体のめっき層(Sn層)の最下層(Sn層/鋼板界面)を合金化しFe−Sn合金層を形成しためっき層を製造できる。加熱溶融処理を省略した場合、Sn単体のめっき層(Sn層)を製造できる。
また、鋼板がその表面上にNi含有層を有する場合、Ni含有層上にSnめっき後、加熱溶融処理を行うと、Sn単体のめっき層(Sn層)の最下層(Sn層/鋼板界面)が合金化しFe−Sn−Ni合金層、Fe−Sn合金層などが形成される。
次に、上述しためっき鋼板のめっき層側の表面上に配置される表面処理皮膜について説明する。
表面処理皮膜は、概略的には、Ti(チタニウム元素)と、Fe(鉄元素)と、Ni(ニッケル元素)、Co(コバルト元素)、Mn(マンガン元素)、V(バナジウム元素)、Cu(銅元素)およびZn(亜鉛元素)からなる群から選ばれる少なくとも1種とを含有する皮膜であり、後述する処理液を用いて形成される。
また、Ni、Co、Mn、V、CuおよびZnからなる群から選ばれる少なくとも1種(M2)に関しても、同様にして、「M2付着量」という場合があり、個別に「Ni付着量」、「Co付着量」、「Mn付着量」等ともいう。
Fe付着量(M1付着量)とM2付着量との合計は、本発明の容器用鋼板の加工後フィルム密着性がより優れるという理由から、0.1〜6.0mg/m2が好ましく、0.5〜4.0mg/m2がより好ましい。
例えば、表面処理皮膜が、Ti、FeおよびNiを含有する場合、Fe付着量とTi付着量との比(Fe/Ti)と、Ni付着量とTi付着量との比(Ni/Ti)との合計が、上記質量比に相当する。
上記質量比が0.01未満または0.10超であると加工後フィルム密着性に劣るが、この範囲内であれば、加工後フィルム密着性に優れる。この効果がより優れるという理由から、上記質量比は、0.02〜0.09が好ましく、0.04〜0.08がより好ましい。
ただし、めっき層がNiを含む場合は、上記の蛍光X線による表面分析により表面処理皮膜中に含まれるNi付着量のみを測定することは困難である。また、鋼板中にFeが含まれるため、蛍光X線による表面分析により表面処理皮膜中に含まれるFe付着量のみを測定することは困難である。
その場合は、走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)や透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscope:TEM)による断面観察とグロー放電発光分析とを併用することで、表面処理皮膜中に含まれるNi付着量とめっき層中に含まれるNi量とを、および、表面処理皮膜中に含まれるFe付着量と鋼板中に含まれるFe量とを区別することができる。
以下、Niの場合について説明するが、Feの場合も同様の方法で付着量を求めることができる。具体的には、表面処理皮膜およびめっき層の断面を収束イオンビーム(Focused Ion Beam:FIB)加工により露出させ、SEMまたはTEMによる断面観察から表面処理皮膜の厚さを算出する。次いで、グロー放電発光分析によるスパッタリング深さとスパッタリング時間との関係を求める。その後、表面処理皮膜厚さに相当するスパッタリング時間までのグロー放電発光分析のNi元素による発光カウント積算値を求める。このNi元素による発光カウント積算値から、あらかじめ求めておいた検量線を用いて、Ni付着量を求めることができる。
ここで、検量線は以下の方法で作成する。
まず、Niを含まないめっき層上にNiを含む表面処理皮膜を有する、Ni付着量の異なる複数のサンプルについてグロー放電発光分析し、Ni元素による発光カウントが検出されなくなるスパッタリング時間までのカウント積算値を求める。次いでこれらのサンプルのNi付着量を蛍光X線による表面分析により求める。このようにして、グロー放電発光分析によるNiカウント積算値とNi付着量との検量線を作成する。
Feの場合は、Feを含まない金属板(例えばAl板など)上にFeを含む表面処理皮膜を有する、Fe付着量の異なる複数のサンプルを用いて、Niの場合と同様にして、グロー放電発光分析によるFeカウント積算値とFe付着量との検量線を作成することができる。
本発明の容器用鋼板は、表面処理皮膜側の表面の展開面積比Sdrが、0.35%以上である。展開面積比Sdr(以下、単に「Sdr」ともいう)は、下記式で表される。
展開面積比Sdr={(A−B)/B}×100[%]
A:測定領域における実際の凹凸が反映された表面積(展開面積)
B:測定領域における凹凸のない平面の面積
なお、このような表面凹凸形状は、後述する皮膜形成工程の陰極電解処理において、特定の電流密度を採用することにより得られる。
Sdrの上限値としては、1.0%以下が好ましく、1.0%未満がより好ましい。
なお、後述する条件で算出されるSdrは、めっき層および表面処理皮膜を有する容器用鋼板の表面凹凸形状を反映するものである。特に、Sn層表面の形状の情報を反映しており、Sn層表面の形状がフィルム密着性に影響を及ぼしていると考えられる。
本発明におけるSdrは、各試料のSn層上の任意の5箇所の視野(測定領域)の平均値とする。
ところで、二次曲面回帰処理を施して求めた粗さ曲面データは、めっき原板(素材の鋼板)のマクロな凹凸の上に微細なめっき層の形状が重畳したものであるが、めっき原板(素材の鋼板)のマクロな凹凸はフィルム密着性の向上には寄与しない。このため、本発明では、二次曲面回帰処理を施して求めた粗さ曲面データに対し、さらにハイパスフィルタ処理を施すことで得られる、微細なめっき層の形状のみを抽出したデータからSdrを算出する。
上記ハイパスフィルタ処理のカットオフ波長は、取得した3D−SEM像の長手方向の測定長の1/2に設定したカットオフ波長とする。具体的には、本発明では、3D−SEM像を3μm×4μmとし、カットオフ波長は、3D−SEM像の長手方向(4μm)の1/2である2μmとする。
さらに、取得した3D−SEM像から、長岡技術科学大学 柳研究室が開発した三次元表面形状解析ソフト「SUMMIT」を用いて、Sdrを求める。
上述した本発明の容器用鋼板を製造する方法としては、例えば、後述する皮膜形成工程を少なくとも備える方法(以下、便宜的に「本発明の製造方法」ともいう)が好適に挙げられる。以下、このような本発明の製造方法について説明を行う。
皮膜形成工程は、後述する処理液(以下、「本発明の処理液」ともいう)中に浸漬しためっき鋼板に陰極電解処理を施すことにより、めっき鋼板のめっき層側の表面上に、上述した表面処理皮膜を形成する工程である。なお、陰極電解処理と陽極電解処理とを交互に行う交番電解を実施してもよい。
以下に、使用される本発明の処理液や陰極電解処理の条件などについて詳述する。
本発明の処理液は、上述した表面処理皮膜にTi(チタニウム元素)を供給するためのTi成分(Ti化合物)を含有する。
このTi成分としては、特に限定されない。例えば、チタンアルコキシド、シュウ酸チタニルアンモニウム、シュウ酸チタニルカリウム二水和物、硫酸チタン、チタンラクテート、チタンフッ化水素酸(H2TiF6)および/またはその塩などが挙げられる。なお、チタンフッ化水素酸の塩としては、例えば、六フッ化チタン酸カリウム(K2TiF6)、六フッ化チタン酸ナトリウム(Na2TiF6)、六フッ化チタン酸アンモニウム((NH4)2TiF6)等が挙げられる。
これらのうち、処理液の安定性、入手の容易性などの観点から、チタンフッ化水素酸および/またはその塩が好ましい。
本発明の処理液におけるTi成分の含有量は、Ti換算した量で、0.004〜0.400mol/Lであり、0.020〜0.200mol/Lが好ましい。
なお、「Ti換算した量」としては、例えば、チタンフッ化水素酸および/またはその塩を使用する場合においては、六フッ化チタン酸イオン(TiF6 2-)に換算した量が該当し、より詳細には、例えば、六フッ化チタン酸カリウム(K2TiF6)が1mol/L存在する場合は、Ti換算した量は、1mol/Lとなる。
このFe成分(以下、「M1成分」ともいう)としては、特に限定されない。例えば、塩化鉄、硫酸鉄、硝酸鉄、これらの水和物などが挙げられる。
本発明の処理液におけるFe成分の含有量は、Fe換算(金属換算)した量で、Ti成分の含有量に対するモル比(Fe/Ti(M1/Ti))で、0.01〜0.30であり、0.04〜0.28が好ましく、0.15〜0.28がより好ましい。
M2成分としては、特に限定されない。例えば、塩化ニッケル、硫酸ニッケル、塩化コバルト、硫酸コバルト、硫酸マンガン、酸化硫酸バナジウム、硫酸銅、硫酸亜鉛、これらの水和物などが挙げられる。
本発明の処理液におけるM2成分の含有量は、金属換算した合計量で、Ti成分の含有量に対するモル比(M2/Ti)で、0.01〜0.30であり、0.04〜0.28が好ましく、0.04〜0.14がより好ましい。
本発明の処理液のpHは、特に限定されないが、pH2.0〜5.0が好ましい。この範囲内であれば、処理時間を短くでき、かつ、処理液の安定性に優れる。pHの調整には公知の酸成分(例えば、リン酸、硫酸)・アルカリ成分(例えば、水酸化ナトリウム、アンモニア水)を使用できる。
また、本発明の処理液には、必要に応じて、ラウリル硫酸ナトリウム、アセチレングリコールなどの界面活性剤が含まれていてもよい。また、付着挙動の経時的な安定性の観点から、処理液には、ピロリン酸塩などの縮合リン酸塩が含まれていてもよい。
本発明の処理液の液温は、表面処理皮膜の形成効率や組織の均一性に優れる点、かつ、低コストの点から、20〜80℃が好ましく、40〜60℃がより好ましい。
陰極電解処理を施す際の電解電流密度は、形成される表面処理皮膜中のTiが適量になる等の理由から、例えば、10.0〜100.0A/dm2が挙げられる。
もっとも、本発明において、電流密度は、適正なTi付着量を得る以外にも、容器用鋼板の表面凹凸形状を形成し、上述した展開面積比Sdrを増大させて、加工後フィルム密着性を向上させる目的からも調整される。
すなわち、本発明においては、陰極電解処理を施す際の電流密度は、20.0A/dm2超であり、25.0A/dm2以上が好ましく、30.0A/dm2以上がより好ましく、40.0A/dm2以上がさらに好ましい。これにより、Sdrが増大する。
陰極電解処理の際の電気量密度は、電流密度と通電時間との積であり適宜設定される。
このとき、水洗時間は、水洗処理による効果がより優れるという理由から、0.5秒超が好ましく、1.0〜5.0秒が好ましい。
さらに、水洗処理に代えて、または、水洗処理の後に、乾燥を行ってもよい。乾燥の際の温度および方式は特に限定されない。例えば、通常のドライヤーや電気炉乾燥方式が適用できる。乾燥処理の際の温度としては、100℃以下が好ましい。上記範囲内であれば、表面処理皮膜の酸化を抑制でき、表面処理皮膜組成の安定性が保たれる。なお、下限は特に限定されないが、通常室温程度である。
本発明の製造方法は、上述した皮膜形成工程の前に、以下に説明する前処理工程を備えていてもよい。
前処理工程は、アルカリ性水溶液(特に、炭酸ナトリウム水溶液)中で、めっき鋼板に陰極電解処理を施す工程である。
通常、めっき層の形成時にその表面は酸化されて、錫酸化物が形成される。このめっき鋼板に対して、陰極電解処理を施すことにより、不要な錫酸化物を除去して、錫酸化物量を調整できる。
前処理工程の陰極電解処理の際に使用される溶液としては、アルカリ性水溶液(例えば、炭酸ナトリウム水溶液)が挙げられる。アルカリ性水溶液中のアルカリ成分(例えば、炭酸ナトリウム)の濃度は特に限定されないが、錫酸化物の除去がより効率的に進行する点から、5〜15g/Lが好ましく、8〜12g/Lがより好ましい。
陰極電解処理の際のアルカリ性水溶液の液温は特に限定されないが、40〜60℃が好ましい。陰極電解処理の電解条件(電流密度、電解時間)は、適宜調整される。なお、陰極電解処理の後に、必要に応じて、水洗処理を施してもよい。
以下の方法によって、めっき鋼板を製造した。
まず、板厚0.22mmの鋼板(T4原板)を電解脱脂し、ワット浴を用いて第3表に示す片面当たりのNi付着量でニッケルめっき層を両面に形成後、10vol.%H2+90vol.%N2雰囲気中にて700℃で焼鈍してニッケルめっきを拡散浸透させることによりFe−Ni合金層(Ni含有層)(第3表にNi付着量を示す)を両面に形成した。
次いで、Snめっき浴を用い、第3表中に示す片面当たりのSn付着量でSn層を両面に形成した。その後、Snの融点以上で加熱溶融処理を施し、めっき層をT4原板の両面に形成した。このようにして、下層側から順に、Ni−Fe合金層/Fe−Sn−Ni合金層/Sn層からなるめっき層を形成した。
浴温50℃、10g/Lの炭酸ナトリウム水溶液中に上記めっき鋼板を浸漬し、第2表に示す条件にて、陰極電解処理を行なった(前処理工程)。
次いで、水洗し、pHを4.0に調整した第1表に示す組成の処理液(溶媒:水)を用いて、第2表に示す条件にて、陰極電解処理を施した。その後、水洗処理を施して、ブロアを用いて室温で乾燥を行ない、表面処理皮膜を両面に形成した(皮膜形成工程)。なお、水洗処理は、陰極電解処理後の鋼板を、85℃の水槽に、2.0秒間だけ浸漬させることにより行なった。
これにより、容器用鋼板の試験材を作製した。
作製した容器用鋼板の試験材表面に、市販のPETフィルム(Melinex850:デュポン社製)を、ロール加圧4kg/cm2、板送り速度40mpm、ロール通過後の板の表面温度が160℃となるような条件で熱融着させ、次いで、バッチ炉中で後加熱(到達板温210℃で120秒保持)を行ない、ラミネート鋼板を作製した。
平板(無加工)フィルム密着性の評価は、作製したラミネート鋼板を、温度130℃、相対湿度100%のレトルト雰囲気に25分間保持した後、この雰囲気における180度ピール試験を行うことにより評価を行った。180度ピール試験とは、図1(a)に示すようなフィルム2を残して鋼板1の一部3を切り取った試験片(サイズ:30mm×100mm)を用い、図1(b)に示すように、試験片の一端に重り4(100g)を付けてフィルム2側に180度折り返して30分間放置して行うフィルム剥離試験のことである。そして、図1(c)に示す剥離長5を測定し、次のように平板フィルム密着性を評価した。結果が◎または○であれば平板フィルム密着性が良好であるとした。
◎:剥離長が1mm未満
○:剥離長が1mm以上5mm未満
△:剥離長が5mm以上10mm未満
×:剥離長が10mm以上
作製したラミネート鋼板に対し、先端半径3/16インチのポンチを用い、2kgの錘を40cmの高さから落下させ、フィルムを貼った面の側が凸になるようデュポン衝撃加工を行った。このような加工試験片を作製し、レトルト装置内に、凸面が上になるように置き、130℃のレトルト環境で30分間保持した。その後、取り出し、加工部のフィルム剥離の程度を目視で次のように5段階評価した。実用上、◎または○であれば、加工後フィルム密着性に優れるものとして評価できる。
◎:剥離なし
○:加工部の面積の15%未満で剥離発生
△:加工部の面積の15%以上50%未満で剥離発生
×:加工部の面積の50%以上で剥離発生
とりわけ、Sdrが0.45%以上である発明例(試験材No.15〜16,19〜20,23〜24および27〜28)は、Sdrが0.35%以上0.45%未満である発明例(試験材No.14,18,22および26)と比較して、より加工後フィルム密着性に優れていた。
これに対して、Sdrが0.35%未満である比較例(試験材No.1〜12,13,17,21および25)は、加工後フィルム密着性に劣ることが確認された。
2:フィルム
3:鋼板の切り取った部位
4:重り
5:剥離長
Claims (4)
- 鋼板の表面の少なくとも一部にSn層を含むめっき層を有するめっき鋼板と、前記めっき鋼板の前記めっき層側の表面上に配置された表面処理皮膜と、を有する容器用鋼板であって、
前記表面処理皮膜は、Tiを含有し、前記めっき鋼板の片面あたりのTi換算の付着量が5〜60mg/m2であり、
前記表面処理皮膜は、さらに、Feと、Ni、Co、Mn、V、CuおよびZnからなる群から選ばれる少なくとも1種と、を含有し、その合計のTiに対する質量比が0.01〜0.10であり、
前記表面処理皮膜側の表面の展開面積比Sdrが0.35%以上である、容器用鋼板。 - 前記展開面積比Sdrが0.45%以上である、請求項1に記載の容器用鋼板。
- 前記めっき層が、さらに、Ni層、Ni−Fe合金層、Fe−Sn合金層、および、Fe−Sn−Ni合金層からなる群から選ばれる少なくとも1層を含む、請求項1または2に記載の容器用鋼板。
- 請求項1に記載の容器用鋼板を得る、容器用鋼板の製造方法であって、
鋼板の表面の少なくとも一部にSn層を含むめっき層を有するめっき鋼板を、処理液中に浸漬させ、陰極電解処理を施すことにより、前記表面処理皮膜を形成する皮膜形成工程を少なくとも備え、
前記処理液が、
Ti成分を、Ti換算した量で、0.004〜0.400mol/L含有し、
Fe成分を、Fe換算した量で、前記Ti成分の含有量に対するモル比で0.01〜0.30含有し、
Ni成分、Co成分、Mn成分、V成分、Cu成分およびZn成分からなる群から得られた少なくとも1種を、金属換算した合計量で、前記Ti成分の含有量に対するモル比で、0.01〜0.30含有し、
前記陰極電解処理を施す際の電解電流密度が、20.0A/dm2超である、容器用鋼板の製造方法。
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