JP5773093B2 - 容器用鋼板 - Google Patents
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Description
しかしながら、昨今の環境問題を踏まえて、Crの使用を規制する動きが各分野で進行しており、容器用鋼板においてもクロメート処理に替わる処理技術がいくつか提案されている。
例えば、特許文献1には、「Crを用いず、樹脂密着性に優れ」るものとして([0013])、「金属板の少なくとも片面に、ZrおよびOを含む皮膜を有し、該皮膜のF量が片面あたり0.1mg/m2未満であることを特徴とする表面処理金属板」が開示されており([請求項1])、ここでいう「金属板」は「電気Snめっき鋼板」である([請求項3])。
本発明者らは、特許文献1に開示された容器用鋼板(表面処理金属板)について、さらに検討を行なった。その結果、PETフィルム等の樹脂をラミネートした後にレトルト処理を行なった際に、樹脂であるフィルムに対する密着性(以下「樹脂密着性」ともいう)が不十分となる場合があることが分かった。
また、本発明者らは、容器用鋼板にエポキシフェノール系塗料による塗膜を形成した後、所定条件下でトマトジュースに浸漬すると、塗膜が剥離したり錆が発生したりする等、耐食性に劣る場合があることが分かった。
(1)鋼板の表面の少なくとも一部を覆うSn層を含むめっき層を有するめっき鋼板と、上記めっき鋼板の上記めっき層側の表面上に配置された皮膜とを有する容器用鋼板であって、上記皮膜が、Zr、Tiおよびシリカを含有し、上記皮膜は、上記めっき鋼板の片面あたりのZr換算の付着量が1〜40mg/m2であり、上記めっき鋼板の片面あたりのTi換算の付着量が0.5mg/m2超10mg/m2未満であり、上記めっき鋼板の片面あたりのSi換算の付着量が1〜40mg/m2である、容器用鋼板。
(2)上記皮膜は、上記めっき鋼板の片面あたりのTi換算の付着量が3mg/m2超10mg/m2未満である、上記(1)に記載の容器用鋼板。
(3)上記皮膜の上記めっき鋼板側とは反対の最表面におけるTiとZrとの原子比(Ti/Zr)が0.05〜2.0であり、SiとZrとの原子比(Si/Zr)が0.1〜3.0である、上記(1)または(2)に記載の容器用鋼板。
(4)上記めっき層が、さらに、Ni層、Ni−Fe合金層、Fe−Sn合金層およびFe−Sn−Ni合金層からなる群から選ばれる少なくとも1層を含む、上記(1)〜(3)のいずれかに記載の容器用鋼板。
本発明の容器用鋼板は、めっき鋼板と、めっき鋼板のめっき層側の表面上に配置された皮膜とを有する。そして、この皮膜が、ZrおよびTiを特定量で含有し、さらに、シリカを特定量で含有することで、樹脂密着性および耐食性が優れる。
めっき鋼板は、鋼板と、鋼板の表面の少なくとも一部を覆うめっき層とを有し、めっき層は、少なくともSn層を含む。以下に、鋼板およびめっき層の態様について詳述する。
鋼板の種類は特に制限されるものではなく、通常、容器材料として使用される鋼板(例えば、低炭素鋼板、極低炭素鋼板)を用いることができる。この鋼板の製造方法、材質なども特に規制されるものではなく、通常の鋼片製造工程から熱間圧延、酸洗、冷間圧延、焼鈍、調質圧延等の工程を経て製造される。
Ni含有層としてはニッケルが含まれていればよく、例えば、Niめっき層、Ni−Fe合金層などが挙げられる。
鋼板にNi含有層を付与する方法は特に制限されず、例えば、公知の電気めっきなどの方法が挙げられる。また、Ni含有層としてNi−Fe合金層を付与する場合、電気めっきなどにより鋼板表面上にNi付与後、焼鈍することにより、Ni拡散層を配位させ、Ni−Fe合金層を形成することができる。
Ni含有層中のNi量は特に制限されず、片面当たりのNi換算量として50〜2000mg/m2が好ましい。上記範囲内であれば、コスト面でも有利となる。
めっき鋼板は、鋼板表面上の少なくとも一部に、Sn層を含むめっき層を有する。該めっき層は鋼板の少なくとも片面に設けられていればよく、両面に設けられていてもよい。
めっき層のめっき鋼板片面当たりのSn付着量は、0.1〜15.0g/m2が好ましい。Sn付着量が上記範囲内であれば、容器用鋼板の耐食性がより優れ、なかでも、0.2〜15.0g/m2が好ましく、加工性が優れる点で、1.0〜15.0g/m2がさらに好ましい。
また、めっき層としては、Ni含有層を表面に有する鋼板に対してSnめっきを行い、さらに通電加熱などにより錫を加熱溶融させ、Sn層の最下層(Sn層/鋼板界面)にFe−Sn−Ni合金層、Fe−Sn合金層などが一部形成されためっき層も含む。
なお、本発明においては、上述したNi含有層(Ni層、Ni−Fe合金層)も、めっき鋼板のめっき層に含まれるものとする。
例えば、フェノールスルフォン酸Snめっき浴、メタンスルフォン酸Snめっき浴、またはハロゲン系Snめっき浴を用い、片面あたり付着量が所定量(例えば、2.8g/m2)となるように鋼板表面にSnを電気めっきした後、Snの融点(231.9℃)以上の温度で加熱溶融処理を行って、Sn単体のめっき層(Sn層)の最下層(Sn層/鋼板界面)にFe−Sn合金層を形成しためっき層を製造できる。加熱溶融処理を省略した場合、Sn単体のめっき層(Sn層)を製造できる。
皮膜は、上述しためっき鋼板のめっき層側の表面上に配置される。
皮膜は、その成分として、Zr、Tiおよびシリカを含有する。まず、以下に各成分に関して詳述し、その後該皮膜の形成方法について詳述する。
皮膜は、Zr(ジルコニウム元素)を含有し、めっき鋼板の片面あたりのZr換算の付着量(以下、「Zr付着量」ともいう)が1〜40g/m2である。Zr付着量が上記範囲内であれば、容器用鋼板の樹脂密着性および耐食性が優れる。なかでも、コストパフォーマンスが優れるという理由から、1〜25mg/m2が好ましい。
Zr付着量が1mg/m2未満であると樹脂密着性および耐食性が劣る。なお、Zr付着量が40.0mg/m2を超えても性能上の問題はないが、付着量確保のための処理液コスト増加および高電流密度化によるコスト増加につながる。
Ti付着量が0.5mg/m2以下であると、樹脂密着性が劣る。なお、Ti付着量が10mg/m2以上であっても性能上の問題はないが、付着量確保のための処理液コスト増加および高電流密度化によるコスト増加につながる。
なお、組成式SiO2で表されるシリカには、不定形な形状のものと球状のものとが存在するが、皮膜に含まれるシリカとしては、球状シリカであるのが好ましい。後述する処理液中のSi成分として、球状シリカが分散したコロイダルシリカを用いることで、この球状シリカが形状を維持したまま皮膜中に含まれると考えられる。このとき、皮膜に含まれるシリカが球状であることは、例えば、皮膜の断面を収束イオンビーム(FIB)加工により露出させ、透過型電子顕微鏡(TEM)観察することにより確認できる。
Si付着量が1mg/m2未満であると、樹脂密着性が劣る。また、Si付着量が40mg/m2を超えると、皮膜内で凝集破壊が発生して樹脂密着性を低下させる。
なお、皮膜中のZrは、例えば、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、フッ化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、またはこれらの複合化合物などのジルコニウム化合物として含まれる。上記Zr付着量とは、これらジルコニウム化合物のZr換算量を意味する。
皮膜中のTiは、例えば、リン酸チタン、チタン水和酸化物、またはこれらの複合化合物などのチタン化合物として含まれる。上記Ti付着量とは、これらチタン化合物のTi換算量を意味する。
皮膜の好適態様として、皮膜の最表面(めっき鋼板側とは反対側の最表面)におけるTiとZrとの原子比(Ti/Zr)が0.05〜2.0であり、SiとZrとの原子比(Si/Zr)が0.1〜3.0である態様が挙げられる。この態様であれば、容器用鋼板の樹脂密着性がより優れる。
XPS分析としては、例えば、以下のような条件が挙げられる。
装置: 島津/KRATOS社製 AXIS−HS
X線源: モノクロ AlKα線(hv=1486.6eV)
測定領域: Hybridモード 250×500(μm)
上述した本発明の容器用鋼板を製造する方法としては、特に限定されないが、後述する処理液(以下、「本発明の処理液」ともいう)中にめっき鋼板を浸漬する、または、本発明の処理液中に浸漬しためっき鋼板に陰極電解処理を施すことにより、上述した皮膜を形成する皮膜形成工程を少なくとも備える方法(以下、「本発明の製造方法」ともいう)であるのが好ましい。
以下、本発明の製造方法について説明を行い、この説明の中で、併せて本発明の処理液についても説明する。
皮膜形成工程は、めっき鋼板のめっき層側の表面上に、上述した皮膜を形成する工程であって、後述する本発明の処理液中にめっき鋼板を浸漬する(浸漬処理)、または、浸漬した鋼板に陰極電解処理を施す工程である。陰極電解処理は、浸漬処理よりも、より高速に、均一な皮膜を得ることができるという理由から好ましい。なお、陰極電解処理と陽極電解処理とを交互に行う交番電解を実施してもよい。
以下に、使用される本発明の処理液、陰極電解処理の条件などについて詳述する。
本発明の処理液は、上記皮膜にZr(ジルコニウム元素)を供給するZr供給源としてZr成分(Zr化合物)を含有する。
本発明の処理液が含有するZr化合物としては、例えば、六フッ化ジルコン酸および/またはその塩(例えば、カリウム、アンモニウム等)、オキシ酢酸ジルコニウム、オキシ硝酸ジルコニウム等が挙げられる。なお、六フッ化ジルコン酸は、ジルコンフッ化水素酸とも呼ばれる。オキシ酢酸ジルコニウム〔ZrO(CH3COO)2〕は、酢酸ジルコニルとも呼ばれる。オキシ硝酸ジルコニウム〔ZrO(NO3)2〕は、硝酸ジルコニルとも呼ばれる。
本発明の処理液におけるZr化合物の含有量は、0.3〜10.0g/Lが好ましく、0.5〜4.0g/Lがより好ましい。
本発明の処理液が含有するTi化合物としては、例えば、チタンラクテート、六フッ化チタン酸および/またはその塩(例えば、カリウム、アンモニウム等)、チタンアルコキシド、シュウ酸チタニルアンモニウム、シュウ酸チタニルカリウム2水和物、硫酸チタン等が挙げられる。なお、チタンラクテート〔Ti(OH)2[OCH(CH3)COOH]2〕は、ジヒドロキシビス(ラクタト)チタンとも呼ばれ、本発明では、そのアンモニウム塩(モノアンモニウム塩、ジアンモニウム塩)をも含むものとする。また、六フッ化チタン酸は、チタンフッ化水素酸とも呼ばれる。
本発明の処理液におけるTi化合物の含有量は、0.1〜10g/Lが好ましく、0.2〜1.0g/Lがより好ましい。
ここで、コロイダルシリカとは、SiO2を基本単位とする球状シリカが水等の分散媒に分散した分散系である。分散媒の量は特に限定されないが、通常、コロイダルシリカ中の固形分量としては、例えば20〜30質量%が挙げられる。
一方、コロイダルシリカの平均粒子径の下限値は特に限定されず、例えば、一般に流通している5nm以上が好ましい。
平均粒子径はBET法(吸着法による比表面積から換算)により測定できる。また、電子顕微鏡写真から実測した平均値で代用することも可能である。
本発明の処理液におけるSi化合物の含有量としては、コロイダルシリカの場合、0.01〜5.0g/Lが好ましく、0.1〜4.0g/Lがより好ましい。
本発明の処理液が上記電導助剤を含むことにより、上記皮膜を形成できるラインスピードを高速化できる。すなわち、高速操業性に優れる。これは、電導助剤を含むことにより、処理液の電気伝導性すなわち液抵抗が低下・改善し、高速化に伴う高電流を通電することが容易になるためと考えられる。
上記電導助剤は、実質的には、上記陰イオンと上記陽イオンとがイオン結合した塩(例えば、硝酸アンモニウム、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム等)として、本発明の処理液に含まれ、その含有量としては、高速操業性がより優れるという理由から、0.1〜10.0g/Lが好ましく、0.5〜5.0g/Lがより好ましい。
pHの調整には公知の酸成分(例えば、リン酸、硫酸)・アルカリ成分(例えば、水酸化ナトリウム、アンモニア水)を使用することができる。
また、陰極電解処理の際の電気量密度は、0.20〜15C/dm2が好ましく、0.40〜10C/dm2がより好ましい。
乾燥処理の際の温度としては、100℃以下が好ましい。下限は特に限定されないが、通常室温程度である。
以下の2つの方法[(K−1)および(K−2)]によって、めっき鋼板を製造した。
(K−1)
板厚0.22mmの鋼板(T4原板)について電解脱脂と酸洗を行い、その後Snめっきを施した。引き続き、錫の融点以上の温度で加熱溶融処理を施し、第2表に示す片面当たりのSn付着量のめっき層をT4原板の両面に形成した。このようにして、下層側から順に、Fe−Sn合金層/Sn層からなるめっき層を形成した。
(K−2)
板厚0.22mmの鋼板(T4原板)を電解脱脂し、ワット浴を用いて第2表に示す片面当たりのNi付着量でニッケルめっき層を両面に形成後、10vol.%H2+90vol.%N2雰囲気中にて700℃で焼鈍してニッケルめっきを拡散浸透させることによりNi−Fe合金層(Ni含有層)(第2表にNi付着量を示す)を両面に形成した。
引き続き、上記表層にNi含有層を有する鋼板を、Snめっき浴を用い、第2表中に示す片面当たりのSn付着量でSn層を両面に形成後、Snの融点以上で加熱溶融処理を施し、めっき層をT4原板の両面に形成した。このようにして、下層側から順に、Ni−Fe合金層/Fe−Sn−Ni合金層/Sn層からなるめっき層を形成した。
鋼板を、第1表に示す組成の処理液(溶媒:水)を用い、第2表に示す浴温、電解条件(電流密度、通電時間)で陰極電解処理を施した。その後、得られた鋼板を水洗して、ブロアを用いて室温で乾燥を行い、皮膜を両面に形成した。
また、第1表に示すオルトリン酸としては、リン酸濃度が85質量%のものを用いた。
なお、皮膜のTi付着量、Zr付着量およびSi付着量ならびに原子比は、上述の方法により測定した。
作製した容器用鋼板の両面に、厚さ25μm、共重合比12mol%のイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタラートフィルムをラミネートして、ラミネート鋼板を作製した。ラミネートは、210℃に加熱した鋼板とフィルムを一対のゴムロールで挟んでフィルムを鋼板に融着させ、ゴムロール通過後1sec以内に水冷して行った。このとき、鋼板の送り速度は40m/min、ゴムロールのニップ長は17mmであった。ここで、ニップ長とは、ゴムロールと鋼板が接する部分の搬送方向の長さのことである。そして、作製したラミネート鋼板について、次の樹脂密着性の評価を行った。
樹脂密着性の評価は、温度150℃、相対湿度100%のレトルト雰囲気における180度ピール試験により行った。180度ピール試験とは、図1(a)に示すようなフィルム2を残して鋼板1の一部3を切り取った試験片(サイズ:30mm×100mm)を用い、図1(b)に示すように、試験片の一端に重り4(150g)を付けてフィルム2側に180度折り返して30min間放置して行うフィルム剥離試験のことである。そして、図1(c)に示す剥離長5を測定し、次のように樹脂密着性を評価し、◎または○であれば樹脂密着性が良好であるとした。
◎:剥離長が40mm未満
○:剥離長が40mm以上50mm未満
△:剥離長が50mm以上70mm未満
×:剥離長が70mm以上
作製した容器用鋼板の両面に、付着量が50mg/dm2となるようにエポキシフェノール系塗料を塗布した後、210℃で10分間の焼付を行ない塗膜を形成した。次いで、市販のトマトジュースを入れたビーカーに、50℃で10日間浸漬させて、塗膜の剥離および錆の発生の有無を目視観察して、次のように評価し、○であれば耐食性が良好であるとした。
○:塗膜剥離および錆発生なし(クロメート処理材同等)
△:塗膜剥離なし、わずかに錆発生
×:塗膜剥離あり、顕著に錆発生
これに対して、Zr付着量が1mg/m2未満である比較例1,2,8および9は、樹脂密着性および耐食性が劣っていた。
また、Ti付着量が0.5mg/m2以下である比較例3,4,10および11は、樹脂密着性が劣っていた。
また、Si付着量が1mg/m2未満または40mg/m2を超える比較例5〜7および12〜14は、樹脂密着性が劣っていた。
2 フィルム
3 鋼板の切り取った部位
4 重り
5 剥離長
Claims (4)
- 鋼板の表面の少なくとも一部を覆うSn層を含むめっき層を有するめっき鋼板と、前記めっき鋼板の前記めっき層側の表面上に配置された皮膜とを有する容器用鋼板であって、
前記皮膜が、Zr、Tiおよびシリカを含有し、
前記皮膜が、(i)六フッ化ジルコン酸および/もしくはその塩、オキシ酢酸ジルコニウム、または、オキシ硝酸ジルコニウムと、(ii)チタンラクテート、六フッ化チタン酸および/もしくはその塩、チタンアルコキシド、シュウ酸チタニルアンモニウム、シュウ酸チタニルカリウム2水和物、または、硫酸チタンと、(iii)コロイダルシリカと、を含有する処理液中に浸漬した前記めっき鋼板に陰極電解処理を施すことにより形成され、
前記皮膜は、前記めっき鋼板の片面あたりのZr換算の付着量が1〜40mg/m2であり、前記めっき鋼板の片面あたりのTi換算の付着量が0.5mg/m2超10mg/m2未満であり、前記めっき鋼板の片面あたりのSi換算の付着量が1〜40mg/m2である、容器用鋼板。 - 前記皮膜は、前記めっき鋼板の片面あたりのTi換算の付着量が3mg/m2超10mg/m2未満である、請求項1に記載の容器用鋼板。
- 前記皮膜の前記めっき鋼板側とは反対の最表面におけるTiとZrとの原子比(Ti/Zr)が0.05〜2.0であり、SiとZrとの原子比(Si/Zr)が0.1〜3.0である、請求項1または2に記載の容器用鋼板。
- 前記めっき層が、さらに、Ni層、Ni−Fe合金層、Fe−Sn合金層およびFe−Sn−Ni合金層からなる群から選ばれる少なくとも1層を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の容器用鋼板。
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