JP6114074B2 - 電力供給システム - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 78
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 38
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 22
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 6
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 60
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 33
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 23
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 6
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 6
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229910020994 Sn-Zn Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910009069 Sn—Zn Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 4
- 229910018137 Al-Zn Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018573 Al—Zn Inorganic materials 0.000 description 3
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- 229910018120 Al-Ga-Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020833 Sn-Al-Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020868 Sn-Ga-Zn Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 In—Zn oxide Chemical class 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020944 Sn-Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910009369 Zn Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007573 Zn-Mg Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N thulium atom Chemical compound [Tm] FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02J—CIRCUIT ARRANGEMENTS OR SYSTEMS FOR SUPPLYING OR DISTRIBUTING ELECTRIC POWER; SYSTEMS FOR STORING ELECTRIC ENERGY
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- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y04—INFORMATION OR COMMUNICATION TECHNOLOGIES HAVING AN IMPACT ON OTHER TECHNOLOGY AREAS
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- Y04S10/00—Systems supporting electrical power generation, transmission or distribution
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Description
図1に、本発明の一態様に係る電力供給システムの構造を一例として示す。図1に示す電力供給システム100は、コンポーネント101−1乃至コンポーネント101−L(Lは2以上の自然数)と、コンポーネント101−1乃至コンポーネント101−Lへの電力の供給を個別に制御する指令部102とを有する。
図2に、本発明の一態様に係る電力供給システムの、別の構造の一例を示す。図2に示す電力供給システム200は、第1コンポーネント201−1乃至第1コンポーネント201−L(Lは2以上の自然数)と、第1コンポーネント201−1乃至第1コンポーネント201−Lへの電力の供給を個別に制御する第1指令部202−1とを有する。図2では、第1コンポーネント201−1と、第1コンポーネント201−2の一部のみを図示している。
図3に、本発明の一態様に係る電力供給システムの、別の構造の一例を示す。図3に示す電力供給システム300は、第1コンポーネント301−1乃至第1コンポーネント301−Lと、第1コンポーネント301−1乃至第1コンポーネント301−Lへの電力の供給を個別に制御する第1指令部302−1と、を有する。図3では、第1コンポーネント301−1と、第1コンポーネント301−2の一部のみを図示している。
図4に、本発明の一態様に係る電力供給システムの、別の構造の一例を示す。図4に示す電力供給システム400は、指令部500と、複数の第1コンポーネントと、複数の第2コンポーネントと、複数の第3コンポーネントとを有する。
本発明の一態様では、スイッチ105として機能するトランジスタのチャネル形成領域に、酸化物半導体を含む。上述したように、酸化物半導体をチャネル形成領域に含むことで、オフ電流が極めて小さいトランジスタを実現することができる。トランジスタの断面図の一例を、図8に示す。
101−L乃至101−1 コンポーネント
102 指令部
103 電源線
104 負荷
105 スイッチ
120 基板
121 半導体膜
121c チャネル形成領域
121d ドレイン領域
121s ソース領域
122 ソース電極
123 ドレイン電極
124 ゲート絶縁膜
125 ゲート電極
200 電力供給システム
201−1乃至201−L 第1コンポーネント
202−1 第1指令部
202−2 第2指令部
203 電源線
204 負荷
205 スイッチ
206−1乃至206−M 第2コンポーネント
300 電力供給システム
301−1乃至301−L 第1コンポーネント
302−1 第1指令部
302−2 第2指令部
302−3 第3指令部
306−1乃至306−M 第2コンポーネント
307−1乃至307−N 第3コンポーネント
400 電力供給システム
500 指令部
501−1乃至501−L 第1コンポーネント
502−1乃至502−M 第2コンポーネント
503−1乃至503−N 第3コンポーネント
700 センサ回路
901 センサ回路
Claims (10)
- 指令部と、
第1のコンポーネントと、
第2のコンポーネントと、
第1のセンサ回路と、を有し、
前記第1のコンポーネントは、第1の電源線、第1の負荷、及び第1のスイッチを有し、
前記第2のコンポーネントは、第2の電源線、第2の負荷、及び第2のスイッチを有し、
前記第1のスイッチは、前記第1の電源線と前記第1の負荷との間の導通状態を切り替える機能を有し、
前記第2のスイッチは、前記第2の電源線と前記第2の負荷との間の導通状態を切り替える機能を有し、
前記指令部は、前記第1のセンサ回路の出力に応じて前記第1のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、前記第1のセンサ回路の出力に応じて前記第2のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、を有し、
前記第1のスイッチは、前記第1のセンサ回路の出力に応じて前記第1のスイッチがオフであるとき、前記第1の負荷に蓄積された電荷を保持する機能を有し、
前記第2のスイッチは、前記第1のセンサ回路の出力に応じて前記第2のスイッチがオフであるとき、前記第2の負荷に蓄積された電荷を保持する機能を有し、
前記第1のスイッチまたは前記第2のスイッチは、チャネル形成領域に、バンドギャップがシリコンよりも広い半導体を含むトランジスタを有する電力供給システム。 - 指令部と、
第1のコンポーネントと、
第2のコンポーネントと、
第1のセンサ回路と、
第2のセンサ回路と、を有し、
前記第1のコンポーネントは、第1の電源線、第1の負荷、及び第1のスイッチを有し、
前記第2のコンポーネントは、第2の電源線、第2の負荷、及び第2のスイッチを有し、
前記第1のスイッチは、前記第1の電源線と前記第1の負荷との間の導通状態を切り替える機能を有し、
前記第2のスイッチは、前記第2の電源線と前記第2の負荷との間の導通状態を切り替える機能を有し、
前記指令部は、前記第1のセンサ回路の出力に応じて前記第1のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、前記第2のセンサ回路の出力に応じて前記第2のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、を有し、
前記第1のスイッチは、前記第1のセンサ回路の出力に応じて前記第1のスイッチがオフであるとき、前記第1の負荷に蓄積された電荷を保持する機能を有し、
前記第2のスイッチは、前記第2のセンサ回路の出力に応じて前記第2のスイッチがオフであるとき、前記第2の負荷に蓄積された電荷を保持する機能を有し、
前記第1のスイッチまたは前記第2のスイッチは、チャネル形成領域に、バンドギャップがシリコンよりも広い半導体を含むトランジスタを有する電力供給システム。 - 請求項1または請求項2において、
前記第1の電源線は前記第2の電源線に電気的に接続されている電力供給システム。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一において、
前記第1のセンサ回路は、前記第1の負荷の利用環境または周囲環境の変化を監視する機能を有する電力供給システム。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
前記第1のセンサ回路は、光センサ、磁気センサ、マイクロフォン、歪みゲージ、圧力センサ、ガスセンサ、または温度センサを有する電力供給システム。 - 第1の指令部と、
第2の指令部と、
第3の指令部と、
第1のコンポーネントと、
第2のコンポーネントと、
第3のコンポーネントと、
第4のコンポーネントと、
第1のセンサ回路と、
第2のセンサ回路と、
第3のセンサ回路と、
第4のセンサ回路と、
を有し、
前記第1のコンポーネントは、第1の電源線、第1の負荷、及び第1のスイッチを有し、
前記第2のコンポーネントは、第2の電源線、第2の負荷、及び第2のスイッチを有し、
前記第3のコンポーネントは、第3の電源線、第3の負荷、及び第3のスイッチを有し、
前記第4のコンポーネントは、第4の電源線、第4の負荷、及び第4のスイッチを有し、
前記第1のスイッチは、前記第1の電源線と前記第1の負荷との間の導通状態を切り替える機能を有し、
前記第2のスイッチは、前記第2の電源線と前記第2の負荷との間の導通状態を切り替える機能を有し、
前記第3のスイッチは、前記第3の電源線と前記第3の負荷との間の導通状態を切り替える機能を有し、
前記第4のスイッチは、前記第4の電源線と前記第4の負荷との間の導通状態を切り替える機能を有し、
前記第1の指令部は、前記第1のセンサ回路の出力に応じて前記第1のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、前記第2のセンサ回路の出力に応じて前記第2のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、前記第3のセンサ回路の出力に応じて前記第3のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、前記第4のセンサ回路の出力に応じて前記第4のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、を有し、
前記第2の指令部は、前記第1のセンサ回路の出力に応じて前記第1のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、前記第2のセンサ回路の出力に応じて前記第2のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、を有し、
前記第3の指令部は、前記第3のセンサ回路の出力に応じて前記第3のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、前記第4のセンサ回路の出力に応じて前記第4のスイッチのオンまたはオフを制御する機能と、を有し、
前記第1のスイッチは、前記第1のセンサ回路の出力に応じて前記第1のスイッチがオフであるとき、前記第1の負荷に蓄積された電荷を保持する機能を有し、
前記第2のスイッチは、前記第2のセンサ回路の出力に応じて前記第2のスイッチがオフであるとき、前記第2の負荷に蓄積された電荷を保持する機能を有し、
前記第3のスイッチは、前記第3のセンサ回路の出力に応じて前記第3のスイッチがオフであるとき、前記第3の負荷に蓄積された電荷を保持する機能を有し、
前記第4のスイッチは、前記第4のセンサ回路の出力に応じて前記第4のスイッチがオフであるとき、前記第4の負荷に蓄積された電荷を保持する機能を有し、
前記第1のスイッチ、前記第2のスイッチ、前記第3のスイッチ、または前記第4のスイッチは、チャネル形成領域に、バンドギャップがシリコンよりも広い半導体を含むトランジスタを有する電力供給システム。 - 請求項6において、
前記第1の電源線は前記第2の電源線に電気的に接続されている電力供給システム。 - 請求項6または請求項7において、
前記第1の電源線は前記第3の電源線に電気的に接続されている電力供給システム。 - 請求項6乃至請求項8のいずれか一において、
前記第1のセンサ回路は、前記第1の負荷の利用環境または周囲環境の変化を監視する機能を有する電力供給システム。 - 請求項6乃至請求項9のいずれか一において、
前記第1のセンサ回路は、光センサ、磁気センサ、マイクロフォン、歪みゲージ、圧力センサ、ガスセンサ、または温度センサを有する電力供給システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013044861A JP6114074B2 (ja) | 2012-03-14 | 2013-03-07 | 電力供給システム |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012056842 | 2012-03-14 | ||
JP2012056842 | 2012-03-14 | ||
JP2013044861A JP6114074B2 (ja) | 2012-03-14 | 2013-03-07 | 電力供給システム |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017050683A Division JP6391743B2 (ja) | 2012-03-14 | 2017-03-16 | 電力供給システム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013219759A JP2013219759A (ja) | 2013-10-24 |
JP2013219759A5 JP2013219759A5 (ja) | 2016-03-31 |
JP6114074B2 true JP6114074B2 (ja) | 2017-04-12 |
Family
ID=49156961
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013044861A Expired - Fee Related JP6114074B2 (ja) | 2012-03-14 | 2013-03-07 | 電力供給システム |
JP2017050683A Active JP6391743B2 (ja) | 2012-03-14 | 2017-03-16 | 電力供給システム |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017050683A Active JP6391743B2 (ja) | 2012-03-14 | 2017-03-16 | 電力供給システム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130241286A1 (ja) |
JP (2) | JP6114074B2 (ja) |
KR (1) | KR102082515B1 (ja) |
TW (1) | TWI650916B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7055779B2 (ja) | 2019-08-06 | 2022-04-18 | ダイキン工業株式会社 | ヘッダを有する熱交換器 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9394614B2 (en) | 2013-04-19 | 2016-07-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for forming projections and depressions, sealing structure, and light-emitting device |
US11367739B2 (en) | 2017-06-27 | 2022-06-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and electronic component |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5238895Y2 (ja) * | 1972-11-30 | 1977-09-03 | ||
JPH05110392A (ja) * | 1991-10-16 | 1993-04-30 | Hitachi Ltd | 状態保持回路を具備する集積回路 |
JPH0944152A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-02-14 | Kawai Musical Instr Mfg Co Ltd | 電子楽器の電源システム |
JP3877854B2 (ja) * | 1998-02-04 | 2007-02-07 | 日立オムロンターミナルソリューションズ株式会社 | 現金自動取引装置および紙幣取引装置 |
JP2001119954A (ja) * | 1999-10-20 | 2001-04-27 | Ricoh Co Ltd | 電源装置 |
JP4632107B2 (ja) * | 2000-06-29 | 2011-02-16 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP3852555B2 (ja) * | 2000-09-01 | 2006-11-29 | 三菱電機株式会社 | 熱制御装置、宇宙機および熱制御方法 |
JP2002146878A (ja) * | 2000-11-15 | 2002-05-22 | Toto Ltd | トイレ装置 |
US6631440B2 (en) * | 2000-11-30 | 2003-10-07 | Hewlett-Packard Development Company | Method and apparatus for scheduling memory calibrations based on transactions |
US6606870B2 (en) * | 2001-01-05 | 2003-08-19 | General Electric Company | Deterministic refrigerator defrost method and apparatus |
US6594195B2 (en) * | 2001-09-17 | 2003-07-15 | Cascade Semiconductor Corporation | Low-power, high-density semiconductor memory device |
BR0203311A (pt) * | 2002-08-16 | 2004-05-18 | Multibras Eletrodomesticos Sa | Sistema detector de sub-tensão em um aparelho elétrico |
WO2005059955A2 (en) * | 2003-11-18 | 2005-06-30 | Halliburton Energy Services | A high temperature memory device |
WO2005050257A2 (en) * | 2003-11-18 | 2005-06-02 | Halliburton Energy Services, Inc. | High temperature imaging device |
US7250627B2 (en) * | 2004-03-12 | 2007-07-31 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Semiconductor device |
JP2006115422A (ja) * | 2004-10-18 | 2006-04-27 | Toshiba Corp | 半導体装置及び電圧発生回路 |
JP2007053226A (ja) * | 2005-08-18 | 2007-03-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
TWM306417U (en) * | 2006-06-15 | 2007-02-11 | Himax Display Inc | Power supply circuit |
KR101496148B1 (ko) * | 2008-05-15 | 2015-02-27 | 삼성전자주식회사 | 반도체소자 및 그 제조방법 |
JP2010206914A (ja) | 2009-03-03 | 2010-09-16 | Koyo Electronics Ind Co Ltd | 電気機器の電源制御システム |
US8324755B2 (en) * | 2009-03-06 | 2012-12-04 | Briggs And Stratton Corporation | Power management system and method of operating the same |
KR101720072B1 (ko) * | 2009-12-11 | 2017-03-27 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 불휘발성 래치 회로와 논리 회로, 및 이를 사용한 반도체 장치 |
WO2011155295A1 (en) * | 2010-06-10 | 2011-12-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Dc/dc converter, power supply circuit, and semiconductor device |
-
2013
- 2013-03-07 JP JP2013044861A patent/JP6114074B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-03-07 KR KR1020130024342A patent/KR102082515B1/ko active IP Right Grant
- 2013-03-08 US US13/789,714 patent/US20130241286A1/en not_active Abandoned
- 2013-03-08 TW TW102108233A patent/TWI650916B/zh not_active IP Right Cessation
-
2017
- 2017-03-16 JP JP2017050683A patent/JP6391743B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7055779B2 (ja) | 2019-08-06 | 2022-04-18 | ダイキン工業株式会社 | ヘッダを有する熱交換器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130105391A (ko) | 2013-09-25 |
KR102082515B1 (ko) | 2020-02-27 |
JP2017147731A (ja) | 2017-08-24 |
TW201347341A (zh) | 2013-11-16 |
JP6391743B2 (ja) | 2018-09-19 |
JP2013219759A (ja) | 2013-10-24 |
TWI650916B (zh) | 2019-02-11 |
US20130241286A1 (en) | 2013-09-19 |
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Date | Code | Title | Description |
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A521 | Request for written amendment filed |
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