JP6104084B2 - 有機電界発光表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は有機電界発光表示装置及びその製造方法に関し、より詳細には表示品質が向上された有機電界発光表示装置及びその製造方法に関する。

有機電界発光表示装置は平板表示装置の１つとして、従来から広く使用された液晶表示装置を代替してきている。有機電界発光表示装置は自分自身で光を発生させて映像を表示するので、液晶表示装置と異なり、その構成要素で光を発生させるバックライトユニットを必要としない。したがって、有機電界発光表示装置は液晶表示装置よりその厚さを減少させるのに有利であるのみならず応答特性が優れ、次世代表示装置として次第にその使用範囲が拡大している。

一般的に有機電界発光表示装置はアノード電極、カソード電極、及びこの２つの電極の間に介在される有機発光層を含む。前記アノード電極を通じて前記有機発光層へ正孔が提供され、前記カソード電極を通じて前記有機発光層へ電子が提供される。前記有機発光層へ提供された電子及び正孔が再結合されて励起子が生成され、前記励起子が励起状態から基底状態にその状態が変化されるにしたがって発生されるエネルギーによって前記有機発光層から光が発生される。

一方、前記有機発光層の厚さが均一になるほど、前記有機発光層から放出される光の輝度が均一になり得る。したがって、前記有機発光層から放出される光を利用して映像を表示する前記有機電界発光表示装置の表示品質を向上させるために、前記有機発光層を形成する時に、前記有機発光層の厚さを均一に形成することが重要であり得る。

韓国特許第１０−０５７８２８３号公報

本発明の一目的は表示品質が向上された有機電界発光表示装置を提供することにある。

本発明の他の目的は表示品質が向上された有機電界発光表示装置の製造方法を提供することにある。

上述した本発明の一目的を達成するための有機電界発光表示装置は、基板、前記基板上に配置される第１電極、前記第１電極の上に配置されて前記第１電極と重畳される部分に開口部が形成された画素定義膜、親液性を有して前記第１電極及び前記画素定義膜の上に配置される親液性膜、前記親液性膜の上に配置された有機発光層、及び前記有機発光層の上に配置される第２電極を含む。

前記親液性膜は中心部及びエッジ部を含む。前記中心部は前記開口部を通じて前記第１電極の上に配置され、前記中心部には少なくとも１つのリセス部が形成される。前記エッジ部は前記中心部から延長されて前記画素定義膜の上に配置される。

上述した本発明の他の目的を達成するための有機電界発光表示装置の製造方法は次の通りである。画素領域及び非画素領域を有する基板上に第１電極を形成し、前記第１電極の上に前記第１電極の少なくとも一部を露出させる開口部が形成された画素定義膜を形成する。その後に、前記第１電極及び前記画素定義膜の上に親液性を有する予備親液性膜を形成し、前記予備親液性膜をパターニングして親液性膜を形成する。その後に、前記親液性膜の上にプリンティング溶液を提供して有機発光層を形成し、前記有機発光層の上に第２電極を形成する。

前記親液性膜を形成する方法は次の通りである。前記非画素領域に位置した前記予備親液性膜を除去して前記開口部を通じて前記第１電極の上に配置される中心部及び前記中心部から延長されて前記画素定義膜の上に配置されるエッジ部を形成し、前記中心部にリセス部を形成して前記親液性膜が形成される。

本発明による有機電界発光表示装置及びその製造方法によれば、提供されたプリンティング溶液を硬化して有機発光層を形成する時に、前記プリンティング溶液が基板に対して水平な部分及び基板に対して傾いた部分に一括して提供されても、前記プリンティング溶液が前記傾いた部分から前記水平な部分に流れ落ちる現象を最小化することができるので、前記有機発光層の厚さが均一になり得る。また、前記プリンティング溶液を硬化する間に、前記水平な部分の表面エネルギー及び前記傾いた部分の表面エネルギーの差によって前記プリンティング溶液が再配置され得るので、前記有機発光層の厚さが均一になり得る。

したがって、前記有機発光層の厚さが均一になるので、前記有機発光層から放出される光の輝度が均一になって前記有機電界発光表示装置の表示品質が向上され得る。

本発明の実施形態による有機電界発光表示装置の画素を示す断面図である。 図１に図示された画素の一部分を拡大した図面である。 本発明の他の実施形態による有機電界発光表示装置の画素を拡大した図面である。 本発明のさらに他の実施形態による有機電界発光表示装置の画素を拡大した図面である。 本発明のさらに他の実施形態による有機電界発光表示装置の断面図である。 図１及び図２に図示された有機電界発光表示装置の製造方法を示す図面である。 図１及び図２に図示された有機電界発光表示装置の製造方法を示す図面である。 図１及び図２に図示された有機電界発光表示装置の製造方法を示す図面である。 図１及び図２に図示された有機電界発光表示装置の製造方法を示す図面である。 図１及び図２に図示された有機電界発光表示装置の製造方法を示す図面である。

以下、添付した図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。上記した本発明の目的、特徴及び効果は図面に関連された実施形態を通じて容易に理解され得る。但し、本発明はここで説明される実施形態に限定されることはなく、多様な形態に応用されて変形されることもあり得る。むしろ後述される本発明の実施形態は本発明によって開示された技術思想をより明確にし、さらに本発明が属する分野で平均的な知識を有する当業者に本発明の技術思想が十分に伝達され得るように提供される。したがって、本発明の範囲が後述される実施形態によって限定されることとして解釈されてはならない。一方、下記の実施形態と図面上に同一の参照番号は同一の構成要素を示す。

図１は本発明の実施形態による有機電界発光表示装置の画素を示す断面図である。図２は図１の一部分を拡大した図面であり、より詳細には、図２は図１に図示された画素定義膜ＰＤＬの開口部ＯＰ及び前記開口部ＯＰの周辺を拡大した図面である。一方、前記有機電界発光表示装置３００は多数の画素を包含するが、図１及び図２を参照して前記多数の画素の中で１つの画素領域ＰＡに配置された１つの画素を例として説明し、残る画素に対する説明は省略される。

図１及び図２を参照すれば、有機電界発光表示装置３００は表示機板１００、前記表示機板１００と対向する対向基板２００、及び前記表示機板１００と前記対向基板２００との間に介在される絶縁層１５０を含む。

前記表示機板１００は基板１０、駆動トランジスターＴＲ、第１電極Ｅ１、画素定義膜ＰＤＬ、撥液性膜（ｌｉｑｕｉｄ−ｒｅｐｅｌｌｅｎｔ ｌａｙｅｒ）２０、親液性膜（ｌｙｏｐｈｉｌｉｃ ｌａｙｅｒ）３０、有機発光層ＥＭＬ及び第２電極Ｅ２を含む。

前記基板１０は画素領域ＰＡ及び非画素領域ＳＡを有し、本発明の実施形態では、前記駆動トランジスターＴＲは前記非画素領域ＳＡに配置され得る。前記駆動トランジスターＴＲは前記第１電極Ｅ１と電気的に接続されて前記第１電極Ｅ１側に提供される電源信号をスイッチングする。

前記駆動トランジスターＴＲはゲート電極ＧＥ、アクティブパターンＡＰ、ソース電極ＳＥ、及びドレーン電極ＤＥを包含することができる。前記ソース電極ＳＥは前記電源信号を伝送する電源ライン（図示せず）と電気的に接続され、前記ドレーン電極ＤＥは前記第１電極Ｅ１と電気的に接続される。したがって、前記駆動トランジスターＴＲがターンオンされる場合に、前記電源ラインにしたがって流れる前記電源信号は前記駆動トランジスターＴＲを通じて前記第１電極Ｅ１側へ提供され得る。

ゲート絶縁膜Ｌ１は前記アクティブパターンＡＰをカバーして前記ゲート電極ＧＥ及び前記アクティブパターンＡＰを相互間に絶縁させ、層間絶縁膜Ｌ２は前記ゲート電極ＧＥをカバーして前記ゲート電極ＧＥを前記ソース及びドレーン電極ＳＥ、ＤＥと絶縁させる。また、平坦化膜Ｌ３は前記駆動トランジスターＴＲをカバーし、前記平坦化膜Ｌ３にはコンタクトホールＣＨが形成される。したがって、前記平坦化膜Ｌ３の上に配置される前記第１電極Ｅ１は前記コンタクトホールＣＨを通じて前記ドレーン電極ＤＥと電気的に接続され得る。

前記画素定義膜ＰＤＬは前記第１電極Ｅ１の上に配置され、前記第１電極Ｅ１と重畳される部分に開口部ＯＰが形成される。本発明の実施形態では、前記画素定義膜ＰＤＬは上部面ＵＳ及び傾斜面ＳＳを有するようにすることができ、前記傾斜面ＳＳは前記上部面ＵＳと連結されて前記開口部ＯＰ側に延長されて前記基板１０に対して傾くようになることができる。

前記撥液性膜２０は前記画素領域ＰＡ及び前記非画素領域ＳＡに配置される。より詳細には、前記撥液性膜２０は前記画素定義膜ＰＤＬと前記親液性膜３０との間、及び前記第１電極Ｅ１及び前記親液性膜３０の間に配置される。前記撥液性膜２０の一部は前記開口部ＯＰを通じて前記第１電極Ｅ１の上に配置されて前記第１電極Ｅ１と接触され得る。

本発明の実施形態では、前記撥液性膜２０は前記画素領域ＰＡ及び前記非画素領域ＳＡに架けて配置される単一膜形状を有するようにすることができ、前記撥液性膜２０は前記画素領域ＰＡと図１に図示されなかった他の画素領域及び他の非画素領域に架けて配置される共通層の形状を有することもあり得る。

本発明の実施形態では、前記撥液性膜２０は弗素を含む有機材料を含んで撥液性を有することができる。これによって、前記撥液性膜２０と液相材料との間の湿潤性（ｗｅｔｔａｂｉｌｉｔｙ）は親液性を有する前記親液性膜３０及び前記液相材料との間の湿潤性より小さいことがあり得る。

本発明の実施形態では、前記撥液性膜２０を通じて前記第１電極Ｅ１から提供される電子又は正孔が前記有機発光層ＥＭＬ側へ容易に伝達されるために前記撥液性膜２０は導電性を有することができる。本発明の他の実施形態では、前記撥液性膜２０の厚さが５０マイクロメータ以下であり、この場合に、前記撥液性膜２０が導電性を有しなくとも、前記撥液性膜２０を通じて前記第１電極Ｅ１から提供される電子又は正孔が前記有機発光層ＥＭＬ側へ伝達されることができるので、前記撥液性膜２０は導電性を有しないこともあり得る。

本発明の実施形態では、前記親液性膜３０は親液性を有する有機材料を包含することができる。したがって、前記親液性膜３０及び液相材料との間の湿潤性は前記撥液性膜２０及び前記液相材料との間の湿潤性より大きくなり得る。また、本発明の実施形態では、前記親液性膜３０は５０マイクロメータ以下の厚さを有するようにすることができ、この場合に、前記親液性膜３０が導電性を有しなくとも、前記第１電極Ｅ１から提供される電子又は正孔は前記親液性膜３０を通じて前記有機発光層ＥＭＬ側へ伝達され得る。

前記親液性膜３０は前記画素領域ＰＡで前記撥液性膜２０の上に配置される。より詳細には、前記親液性膜３０は前記画素領域ＰＡ及び前記非画素領域ＳＡの中で前記画素領域ＰＡに配置される。したがって、前記画素領域ＰＡでは前記基板１０の上に前記撥液性膜２０及び前記親液性膜３０が順次的に積層され、前記非画素領域ＳＡでは前記基板１０の上に前記撥液性膜２０及び前記親液性膜３０の中で前記撥液性膜２０が配置される。この場合に、プリンティング方法を利用してプリンティング溶液（図６ＤのＰＳ）を前記画素領域ＰＡ及び前記非画素領域ＳＡの中で前記画素領域ＰＡへ容易に提供することができ、前記プリンティング溶液を硬化して前記有機発光層ＥＭＬを容易に形成することができる。これに対するより詳細な説明は、図６Ａ乃至図６Ｅを参照して後述される。

一方、前記親液性膜３０は中心部ＣＰ及び前記中心部ＣＰから延長されるエッジ部ＳＰを含む。前記中心部ＣＰは前記開口部ＯＰを通じて前記第１電極Ｅ１の上に配置されて大略的に前記基板１０と水平になることができる。また、前記エッジ部ＳＰは前記画素定義膜ＰＤＬの前記傾斜面ＳＳ及び前記上部面ＵＳの上に配置され、前記エッジ部ＳＰで前記傾斜面ＳＳの上に配置される部分は前記基板１０に傾くようにすることができる。

本発明の実施形態では、前記中心部ＣＰには少なくとも１つのリセス部ＲＰが形成され得る。図１及び図２に図示された実施形態では、前記リセス部ＲＰは前記親液性膜３０を貫通するホールＨＬとして定義され、前記ホールＨＬは互いに離隔されて配置され得る。したがって、前記親液性膜３０の上に配置された前記有機発光層ＥＭＬは前記ホールＨＬを通じて前記撥液性膜２０と部分的に接触され、これによって、前記親液性膜３０及びその上に提供される液相材料との間に作用する表面エネルギーの大きさは前記撥液性膜２０及び前記ホールＨＬを通じて接触される前記液相材料との間に作用する反発力によって減少され得る。

上述したように、前記親液性膜３０に前記リセス部ＲＰが形成される場合に、前記中心部ＣＰの上部面が第１表面エネルギーを有し、前記エッジ部ＳＰの上部面が第２表面エネルギーを有すると定義すれば、前記第１表面エネルギーの大きさは前記第２表面エネルギーの大きさより小さい。したがって、前記親液性膜３０の上にプリンティング方法を利用して液相材料を提供し、前記液相材料を硬化して前記親液性膜３０上に膜を形成する時に、前記第１及び第２表面エネルギーの差によって前記親液性膜３０上に提供された前記液相材料の一部は前記中心部ＣＰから前記エッジ部ＳＰ側に移動されて前記液相材料が再配置されるようにすることができる。したがって、前記液相材料が前記エッジ部ＳＰから前記中心部ＣＰ側に流れ下る現象が最少化されて、前記中心部ＣＰ及び前記エッジ部ＳＰに架けて形成される前記膜の厚さが均一になり得る。これに対しては、図６Ａ乃至図６Ｅを参照してより詳細に後述される。

前記有機発光層ＥＭＬは前記親液性膜３０の上に配置される。前記撥液性膜２０及び前記親液性膜３０を通じて前記第１電極Ｅ１から提供される正孔及び前記第２電極Ｅ２から提供される電子が前記有機発光層ＥＭＬで再結合されて前記有機発光層ＥＭＬから光が放出され得る。

本発明の実施形態では、前記有機発光層ＥＭＬは前記画素領域ＰＡ及び前記非画素領域ＳＡの中で前記画素領域ＰＡに配置され得る。前記有機発光層ＥＭＬが配置される位置は図６Ａ乃至図６Ｅを参照して後述される前記有機発光層ＥＭＬを形成する方法と関連され得る。

前記第２電極Ｅ２は前記有機発光層ＥＭＬの上に配置される。本発明の実施形態では、前記第２電極Ｅ２はカソード電極として作用することができ、この場合に、前記第１電極Ｅ１はアノード電極として作用することができる。また、本発明の実施形態では、前記有機発光層ＥＭＬ及び前記第２電極Ｅ２の間に電子輸送層（図示せず）及び電子注入層（図示せず）がさらに配置できることもあり得る。

前記対向基板２００は前記表示機板１００と対向するように配置され、前記表示機板１００及び前記対向基板２００間には前記絶縁層１５０が満たされる。前記絶縁層１５０はポリイミド樹脂のような高分子物質を包含でき、前記絶縁層１５０は前記表示機板１００の全体領域に架けて配置されて前記表示機板１００をカバーし、前記絶縁層１５０はガス及び水分を遮断して前記有機発光層ＥＭＬが前記ガス及び水分によって劣化されることが防止され得る。

図３は本発明の他の実施形態による有機電界発光表示装置の画素を拡大した図面である。より詳細には、図３は前記有機電界発光表示装置が有する画素定義膜ＰＤＬの上に配置された親液性膜３１の中心部ＣＰ及びエッジ部ＳＰを拡大した図面である。一方、図３に図示された前記有機電界発光表示装置は、親液性膜３１を除外すれば、先に図１及び図２を参照して説明された有機電界発光表示装置（図１の３００）と同一の構造を有する。したがって、図３の説明において、先に図１及び図２を参照して説明された構成要素に対しては図面符号を併記し、前記構成要素に対する重複された説明は省略される。

図３を参照すれば、有機電界発光表示装置は親液性膜３１を含み、前記親液性膜３１は中心部ＣＰ及び前記中心部ＣＰから延長されて基板１０と傾いたエッジ部ＳＰを含む。前記中心部ＣＰにリセス部ＲＰ＿１が形成され、図３に図示される実施形態では、前記リセス部ＲＰ＿１は前記中心部ＣＰの上部面から前記中心部ＣＰの厚さ方向に除去された溝ＧＶとして定義され得る。また、前記溝ＧＶは互いに離隔されて配置され得る。

上述したように、前記親液性膜３１に前記リセス部ＲＰ＿１が形成されるので、前記中心部ＣＰの上部面が有する表面エネルギーの大きさは前記エッジ部ＳＰの上部面が有する表面エネルギーの大きさより小さい。したがって、先に図１及び図２を参照して説明したように、前記親液性膜３１上に液相材料を提供し、前記液相材料を硬化して膜を形成する時に、前記液相材料の一部は前記中心部ＣＰから前記エッジ部ＳＰ側に移動されて前記液相材料が再配置されることができる。したがって、前記液相材料が前記エッジ部ＳＰから前記中心部ＣＰ側に流れ下ることが最少化されて、前記中心部ＣＰ及び前記エッジ部ＳＰに架けて形成される前記膜の厚さが均一になり得る。

図４は本発明のさらに他の実施形態による有機電界発光表示装置の画素を拡大した図面である。より詳細には、図４は前記有機電界発光表示装置が有する画素定義膜ＰＤＬの上に配置された親液性膜３２の中心部ＣＰ及びエッジ部ＳＰを拡大した図面である。一方、図４に図示された前記有機電界発光表示装置は、親液性膜３２を除外すれば、先に図１及び図２を参照して説明された有機電界発光表示装置（図１の３００）と同一の構造を有する。したがって、図４の説明において、先に図１及び図２を参照して説明された構成要素に対しては図面符号を併記し、前記構成要素に対する重複された説明は省略される。

図４を参照すれば、有機電界発光表示装置は親液性膜３２を含み、前記親液性膜３２は中心部ＣＰ及び前記中心部ＣＰから延長されて基板１０と傾いたエッジ部ＳＰを含む。前記中心部ＣＰにリセス部ＲＰ＿２が形成され、図４に図示される実施形態では、前記リセス部ＲＰ＿２は前記中心部ＣＰの上部面から前記中心部ＣＰの厚さ方向に除去された溝ＧＶ及び前記中心部ＣＰを貫通するホールＨＬとして定義され得る。また、前記溝ＧＶ及び前記ホールＨＬは互いに離隔されて配置され得る。

上述したように、前記親液性膜３２に前記リセス部ＲＰ＿２が形成されるので、前記中心部ＣＰの上部面が有する表面エネルギーの大きさは前記エッジ部ＳＰの上部面が有する表面エネルギーの大きさより小さい。したがって、先に図１及び図２を参照して説明したように、前記親液性膜３２上に液相材料を提供し、前記液相材料を硬化して膜を形成する時に、前記液相材料の一部は前記中心部ＣＰから前記エッジ部ＳＰ側に移動されて前記液相材料が再配置されることができる。したがって、前記液相材料が前記エッジ部ＳＰから前記中心部ＣＰ側に流れ下ることが最少化されて、前記中心部ＣＰ及び前記エッジ部ＳＰに架けて形成される前記膜の厚さが均一になり得る。

図５は本発明のさらに他の実施形態による有機電界発光表示装置３０１の断面図である。図５の説明において、先に図１及び図２を参照して説明された構成要素に対しては図面符号を併記し、前記構成要素に対する重複された説明は省略される。

図５に図示された有機電界発光表示装置３０１の構造及び図１に図示された有機電界発光表示装置（図１の３００）の構造を比較すれば、前記有機電界発光表示装置３０１はその構成要素として撥液性膜（図１の２０）を包含することはなく、その代わりに、撥液性を有する画素定義膜ＰＤＬ＿１を構成要素として含む。

この実施形態でも先に実施形態と同様に、画素領域ＰＡ及び非画素領域ＳＡの中で前記画素領域ＰＡに親液性膜３０が配置されるので、プリンティング方法を利用して液相材料を前記画素領域ＰＡ側に容易に提供することができ、前記画素領域ＰＡへ提供された前記液相材料を硬化して前記有機発光層ＥＭＬを容易に形成することができる。

図６Ａ乃至図６Ｅは図１及び図２に図示された有機電界発光表示装置の製造方法を示す図面である。図６Ａ乃至図６Ｅの説明において、先に説明された構成要素に対しては図面符号を併記し、前記構成要素に対する重複された説明は省略される。

図６Ａを参照すれば、画素領域ＰＡ及び非画素領域ＳＡを有する基板１０の上に駆動トランジスターＴＲを形成し、前記駆動トランジスターＴＲをカバーする平坦化膜Ｌ３を形成する。その後に、前記平坦化膜Ｌ３にコンタクトホールＣＨを形成して前記駆動トランジスターＴＲのドレーン電極ＤＥを露出させた後に、前記平坦化膜Ｌ３の上に第１電極Ｅ１を形成する。したがって、前記第１電極Ｅ１は前記コンタクトホールＣＨを通じて前記駆動トランジスターＴＲのドレーン電極ＤＥと接触され得る。

図６Ｂ及び図６Ｃを参照すれば、第１電極Ｅ１の上に開口部ＯＰが形成された画素定義膜ＰＤＬを形成して、前記開口部ＯＰを通じて前記第１電極Ｅ１を部分的に露出させる。その後に、前記画素定義膜ＰＤＬの上に撥液性膜２０及び予備親液性膜３０＿１を順次的に形成する。

その後に、前記予備親液性膜３０＿１の上にマスクＳＭを配置する。前記マスクＳＭは透光部Ｐ１及び遮光部Ｐ２を含む。前記透光部Ｐ１は前記非画素領域ＳＡと対応されるように配置されて光ＬＴを透過させ、前記遮光部Ｐ２は前記画素領域ＳＡと対応されるように配置されて前記光ＬＴを遮断する。また、前記遮光部Ｐ２にはリセス部（図１のＲＰ）の位置に対応するスリットＳＴが形成され、前記スリットＳＴは前記透光部Ｐ１のように前記光ＬＴを透過させる。

前記マスクＳＭを前記予備親液性膜３０＿１の上に配置した後に、前記光ＬＴを前記予備親液性膜３０＿１へ照射して露光工程を遂行し、前記露光工程が遂行された前記予備親液性膜３０＿１に対して現像工程を遂行する。その結果、前記予備親液性膜３０＿１が親液性膜３０にパターニングされる。

他の実施形態では、前記予備親液性膜３０＿１の上に前記透光部Ｐ１及び前記スリットＳＴの位置に対応する感光膜パターン（図示せず）を形成し、前記感光膜パターンを蝕刻マスクを利用するフォトリソグラフィー法を利用して前記予備親液性膜３０＿１を前記親液性膜３０にパターニングすることもできる。

また、他の実施形態では、先に上述した図５に図示された有機電界発光表示装置の構造に対応されるように、前記画素定義膜ＰＤＬの上に前記撥液性膜２０を形成することはなく、前記画素定義膜ＰＤＬを撥液性を有する材料に形成して前記画素定義膜ＰＤＬが撥液性を有することもあり得る。

図６Ｄを参照すれば、ノズルＮＬを第１方向Ｄ１又は前記第１方向Ｄ１の逆方向へ移動して画素領域ＰＡに液相のプリンティング溶液ＰＳを提供する。その結果、前記プリンティング溶液ＰＳが親液性膜３０上へ提供され得る。

一方、前記ノズルＮＬを利用して前記プリンティング溶液ＰＳを前記親液性膜３０上へ提供する前に、前記画素領域ＰＡで前記親液性膜３０が外部へ露出され、前記非画素領域ＳＡで撥液性膜２０が外部へ露出される。したがって、前記プリンティング溶液ＰＳは前記撥液性膜２０より前記親液性膜３０と湿潤性が大きいので、前記プリンティング溶液ＰＳは前記画素領域ＰＡに容易に提供され得る。

また、前記親液性膜３０の中心部ＣＰにリセス部ＲＰが形成されて、前記リセス部ＲＰによって前記中心部ＣＰの上部面の表面エネルギーの大きさは前記エッジ部ＳＰの上部面の表面エネルギーより小さく、前記リセス部ＲＰを通じて前記撥液性膜２０が外部へ露出される。したがって、前記中心部ＣＰの上部面より前記エッジ部ＳＰの上部面が前記プリンティング溶液ＰＳと湿潤性が大きいので、前記画素領域ＰＡに前記プリンティング溶液ＰＳが提供された後に、前記プリンティング溶液ＰＳが前記エッジ部ＳＰから前記中心部ＣＰ側に移動する現象が最小化され得る。また、前記中心部ＣＰの上部面より前記エッジ部ＳＰの上部面が前記プリンティング溶液ＰＳと湿潤性が大きいので、前記プリンティング溶液ＰＳは第２方向Ｄ２及び第３方向Ｄ３にしたがって前記中心部ＣＰから前記エッジ部ＳＰ側に移動され、これによって、前記プリンティング溶液ＰＳが再配置されて前記プリンティング溶液ＰＳの厚さが均一にされ得る。

図６Ｅを参照すれば、画素領域ＰＡにプリンティング溶液（図６ＤのＰＳ）を形成した後に、基板１０側に熱ＨＴを加える熱処理工程が遂行され、前記熱処理工程によって前記プリンティング溶液が硬化されて有機発光層ＥＭＬが形成される。

前記熱処理工程が遂行される間に、先に図６Ｄを参照して説明したように、中心部ＣＰの上部面の表面エネルギー及びエッジ部ＳＰの上部面の表面エネルギーの差によって前記中心部ＣＰ側に提供された前記プリンティング溶液は前記エッジ部ＳＰ側に移動されるようにすることができ、これによって、前記プリンティング溶液が再配置されて前記プリンティング溶液の厚さが均一になり得る。

その結果、前記熱処理工程が終了された後に、前記有機発光層ＥＭＬの厚さの均一度が向上されることが可能になり、特に、前記中心部ＣＰと前記エッジ部ＳＰが会う位置で前記有機発光層ＥＭＬの厚さの均一度が低下することが防止され得る。

その後に、前記有機発光層ＥＭＬの上に第２電極（図１のＥ２）及び絶縁層（図１の１５０）を形成して表示機板（図１の１００）の製造を完成し、前記表示機板を対向基板（図１の２００）と結合して有機電界発光表示装置３００の製造を完了する。

以上実施形態を参照して説明したが、該当技術分野において熟練した当業者は下記の特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び領域から逸脱しない範囲内で本発明を多様に修正及び変更させ得ることを理解できるであろう。

１００・・・表示機板
２００・・・対向基板
３００・・・有機電界発光表示装置
ＰＤＬ・・・画素定義膜
ＥＭＬ・・・有機発光層
Ｅ１・・・第１電極
Ｅ２・・・第２電極
ＴＲ・・・駆動トランジスター
２０・・・撥液性膜
３０・・・親液性膜
ＲＰ・・・リセス部
ＣＰ・・・中心部
ＥＰ・・・エッジ部

Claims (20)

1. 基板と、
   前記基板上に配置される第１電極と、
   前記第１電極の上に配置され、前記第１電極と重畳される部分に開口部が形成された画素定義膜と、
   親液性を有し、前記第１電極及び前記画素定義膜の上に配置される親液性膜と、
   前記親液性膜の上に配置された有機発光層と、
   前記有機発光層の上に配置される第２電極と、を含み、
   前記親液性膜は、
   前記開口部を通じて前記第１電極の上に配置され、少なくとも１つのリセス部が形成された中心部と、
   前記中心部から延長されて前記画素定義膜の上に配置されるエッジ部と、を含む有機電界発光表示装置。
2. 前記画素定義膜は上部面及び前記上部面と連結されて前記開口部側に延長された傾斜面を有し、前記エッジ部は前記傾斜面の上に配置されて前記基板と傾き、前記中心部は前記基板と水平であることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光表示装置。
3. 撥液性を有し、前記画素定義膜と前記親液性膜との間及び前記第１電極及び前記親液性膜の間に配置される撥液性膜をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の有機電界発光表示装置。
4. 前記リセス部によって前記中心部の上部面の表面エネルギーの大きさは前記エッジ部の上部面の表面エネルギーの大きさより小さいことを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光表示装置。
5. 前記リセス部は前記親液性膜が貫通された形状に定義され、前記リセス部を通じて前記有機発光層は前記撥液性膜と接触されることを特徴とする請求項３に記載の有機電界発光表示装置。
6. 前記基板は画素領域及び非画素領域を有し、前記親液性膜は前記画素領域及び前記非画素領域の中で前記画素領域に配置され、前記撥液性膜は前記画素領域及び前記非画素領域に配置されることを特徴とする請求項３に記載の有機電界発光表示装置。
7. 前記有機発光層は前記画素領域及び前記非画素領域の中で前記画素領域に配置されることを特徴とする請求項６に記載の有機電界発光表示装置。
8. 前記画素定義膜は撥液性を有することを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光表示装置。
9. 前記基板は画素領域及び非画素領域を有し、前記画素定義膜は前記画素領域及び前記非画素領域に配置され、前記開口部は前記画素領域に位置し、前記有機発光層及び前記親液性膜は前記画素領域及び前記非画素領域の中で前記画素領域に配置されることを特徴とする請求項８に記載の有機電界発光表示装置。
10. 前記リセス部は前記親液性膜を貫通するホール及び前記親液性膜の上部面から厚さ方向に前記親液性膜が除去された溝の中で少なくともいずれか１つに定義されることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光表示装置。
11. 画素領域及び非画素領域を有する基板上に第１電極を形成する段階と、
    前記第１電極の上に前記第１電極の少なくとも一部を露出させる開口部が形成された画素定義膜を形成する段階と、
    前記第１電極及び前記画素定義膜の上に親液性を有する予備親液性膜を形成する段階と、
    前記予備親液性膜をパターニングして親液性膜を形成する段階と、
    前記親液性膜の上にプリンティング溶液を提供して有機発光層を形成する段階と、
    前記有機発光層の上に第２電極を形成する段階と、を含み、
    前記親液性膜を形成する段階は、
    前記非画素領域に位置した前記予備親液性膜を除去して、前記開口部を通じて前記第１電極の上に配置される中心部及び前記中心部から延長されて前記画素定義膜の上に配置されるエッジ部を形成する段階と、
    前記中心部にリセス部を形成する段階と、を含む有機電界発光表示装置の製造方法。
12. 前記画素定義膜は上部面及び前記上部面と連結されて前記開口部側に延長された傾斜面を有し、前記エッジ部は前記傾斜面の上に配置されて前記基板と傾き、前記中心部は前記基板と水平であることを特徴とする請求項１１に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
13. 撥液性を有し、前記画素定義膜と前記親液性膜との間及び前記第１電極及び前記親液性膜の間に撥液性膜を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
14. 前記リセス部によって前記中心部の上部面の表面エネルギーの大きさは前記エッジ部の上部面の表面エネルギーの大きさより小さいことを特徴とする請求項１３に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
15. 前記リセス部は前記親液性膜が貫通されて形成され、前記親液性膜の上に前記プリンティング溶液が提供される時、前記プリンティング溶液は前記リセス部を通じて前記撥液性膜と接触されることを特徴とする請求項１３に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
16. 前記親液性膜は前記画素領域及び前記非画素領域の中で前記画素領域に形成され、前記撥液性膜は前記画素領域及び前記非画素領域に形成されることを特徴とする請求項１３に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
17. 前記有機発光層は前記画素領域及び前記非画素領域の中で前記画素領域に形成されることを特徴とする請求項１６に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
18. 前記画素定義膜は撥液性を有し、前記画素定義膜は前記画素領域及び前記非画素領域に形成され、前記画素定義膜の前記開口部は前記画素領域に位置し、前記有機発光層及び前記親液性膜は前記画素領域及び前記画素領域の中で前記画素領域に形成されることを特徴とする請求項１１に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
19. 前記リセス部は前記親液性膜を貫通するか、或いは前記親液性膜の上部面から厚さ方向に前記親液性膜が除去されて形成されることを特徴とする請求項１１に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
20. 前記有機発光層を形成する段階は、
    前記親液性膜上へ提供された前記プリンティング溶液を熱処理して硬化する段階を含み、
    前記熱処理が進行される間に、前記親液性膜の前記中心部側に提供された前記プリンティング溶液は前記親液性膜の前記エッジ部側に移動されて、前記プリンティング溶液が再配置されることを特徴とする請求項１１に記載の有機電界発光表示装置の製造方法。
    

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