JP6097014B2 - イオン伝導膜を製造するためのプラズマスプレー法 - Google Patents
イオン伝導膜を製造するためのプラズマスプレー法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6097014B2 JP6097014B2 JP2012061382A JP2012061382A JP6097014B2 JP 6097014 B2 JP6097014 B2 JP 6097014B2 JP 2012061382 A JP2012061382 A JP 2012061382A JP 2012061382 A JP2012061382 A JP 2012061382A JP 6097014 B2 JP6097014 B2 JP 6097014B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- starting material
- layer
- flow rate
- oxygen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 165
- 239000007921 spray Substances 0.000 title claims description 38
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 114
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 51
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 35
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 30
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 18
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 16
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 7
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 6
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 241000446313 Lamella Species 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011796 hollow space material Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 235000021475 low acid canned food Nutrition 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011214 refractory ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000007569 slipcasting Methods 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/10—Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
- C23C4/11—Oxides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0039—Inorganic membrane manufacture
- B01D67/0041—Inorganic membrane manufacture by agglomeration of particles in the dry state
- B01D67/00414—Inorganic membrane manufacture by agglomeration of particles in the dry state by plasma spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/134—Plasma spraying
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/22—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by diffusion
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Ar流量:30から150SLPM、特に50から100SLPM;
H2流量:ゼロから20SLPM、特に2から10SLPM;
He流量:ゼロから150SLPM、特に20から100SLPM;
プロセスガスの全流量は、好ましくは200SLPMよりも小さく、特に100から160SLPMになる。
プロセスを、上述のように実施する。アルゴンとヘリウムとの混合物をプロセスガスとして使用し、このアルゴンの流量は80SLPMになり、He流量は40SLPMになり、したがってプロセスガスの全流量は120SLPMになる。プラズマを発生させるための電流は、2600Aになる。
プロセスを、上述のように実施する。アルゴン、ヘリウム、及び水素の混合物をプロセスガスとして使用し、このArの流量は80SLPMになり、He流量は20SLPMになり、H2流量は6SLPMになり、したがってプロセスガスの全流量は106SLPMになる。プラズマを発生させるための電流は、2600Aになる。
Claims (20)
- イオン伝導性を有するイオン伝導膜を製造するための方法であって、
プロセスチャンバー内に基材を配置し、
プロセスガスを含むプロセスビームを介して出発材料をプラズマスプレーし、前記出発材料は、前記プラズマスプレーの間、最大で10,000Paのプロセス圧力でプラズマに注入され、そこで部分的に又は完全に溶融されるものであって、
前記プロセスチャンバー中で、前記基材の表面に、前記のプラズマスプレーされた出発材料を堆積させることによって層を形成し、
前記プラズマスプレーの間、前記プロセスチャンバーに酸素を供給し、前記酸素は、前記プロセスガスの全流量の少なくとも1%になる流量で、前記プロセスビームの外側の位置から供給される、
前記方法。 - 前記流量が前記プロセスガスの全流量の少なくとも2%になる流量である、請求項1に記載の方法。
- 前記プラズマが前記プロセスビームの焦点外れを引き起こし且つ前記プロセスビームを加速させる、請求項1に記載の方法。
- 前記プロセス圧力が50Paと2000Paの間である、請求項1に記載の方法。
- 前記出発材料が粉末である、請求項1に記載の方法。
- 前記出発材料の化学組成が、実質的に前記層の化学組成と同じである、請求項1に記載の方法。
- 前記出発材料の相組成が、前記層の相組成と同じである、請求項1に記載の方法。
- 前記層が、ペロブスカイト型の酸化物であるセラミック材料から構成される、請求項1に記載の方法。
- 前記層が、ランタン(La)、ストロンチウム(Sr)、コバルト(Co)、及び鉄(Fe)を含むペロブスカイトから構成される、請求項1に記載の方法。
- 前記プロセスガスが、200SLPM未満の全流量を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記全流量が、100SLPMと160SLPMの間である、請求項10に記載の方法。
- 前記プロセスガスが、アルゴンとヘリウムの混合物である、請求項1に記載の方法。
- 前記プロセスガスが、アルゴンとヘリウムと水素の混合物である、請求項1に記載の方法。
- 前記層が150マイクロメートル未満の厚さを有する、請求項1に記載の方法。
- 前記層が20マイクロメートルと60マイクロメートルの間の厚さを有する、請求項14に記載の方法。
- 前記プロセスビームを前記基体表面に相対的な旋回運動又は走査に付すことを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記イオン伝導膜が、酸素に対してイオン伝導性を有する酸素透過性の膜である、請求項1に記載の方法。
- イオン伝導性を有するイオン伝導膜を製造するための方法であって、
プロセスチャンバー内に基材を配置し、
プロセスガスを含むプロセスビームを介して粉末の出発材料をプラズマスプレーし、前記出発材料は、前記プラズマスプレーの間、最大で10,000Paのプロセス圧力でプラズマに注入され、そこで部分的に又は完全に溶融されるものであって、
前記プロセスチャンバー中で、前記基材の表面に、前記のプラズマスプレーされた出発材料を堆積させることによって層を形成し、
前記プラズマスプレーの間、前記プロセスチャンバーに前記プロセスビームの外側の位置から酸素を、前記プロセスガスの全流量の少なくとも1%になる流量で、そして、前記酸素が、前記プロセスビームと混合され、且つ、前記基材の近くに存在するように、供給され、
前記出発材料の化学組成が、実質的に前記層の化学組成と同じである、
前記方法。 - イオン伝導性を有するイオン伝導膜を製造するための方法であって、
プロセスチャンバー内に基材を配置し、
プロセスガスを含むプロセスビームを介して出発材料をプラズマスプレーし、前記出発材料は、前記プラズマスプレーの間、最大で10,000Paのプロセス圧力でプラズマに注入され、そこで部分的に又は完全に溶融されるものであって、
前記プロセスチャンバー中で、前記基材の表面に、前記のプラズマスプレーされた出発材料を堆積させることによって層を形成し、
前記プラズマスプレーの間、前記プロセスチャンバーに前記プロセスガスの全流量の少なくとも1%になる流量で、そして、前記プロセスビームの外側の位置から酸素を供給し、それによって前記酸素は、前記プロセスガスと混合され、且つ前記基材の近くに存在し、
前記出発材料の化学組成及びペロブスカイト相構造が、実質的に前記層の化学組成及びペロブスカイト相構造と同じである、
前記方法。 - 前記出発材料が粉末である、請求項19に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP11159374 | 2011-03-23 | ||
EP11159374.5 | 2011-03-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012201986A JP2012201986A (ja) | 2012-10-22 |
JP6097014B2 true JP6097014B2 (ja) | 2017-03-15 |
Family
ID=44012486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012061382A Expired - Fee Related JP6097014B2 (ja) | 2011-03-23 | 2012-03-19 | イオン伝導膜を製造するためのプラズマスプレー法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8871010B2 (ja) |
EP (1) | EP2503018B8 (ja) |
JP (1) | JP6097014B2 (ja) |
CN (1) | CN102691027B (ja) |
RU (1) | RU2602210C2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1911858B1 (de) * | 2006-10-02 | 2012-07-11 | Sulzer Metco AG | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung mit kolumnarer Struktur |
CA2803728A1 (en) * | 2012-02-23 | 2013-08-23 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Method of applying a thermal barrier coating by means of plasma spray physical vapor deposition |
EP2644738B1 (de) * | 2012-03-28 | 2018-01-10 | Oerlikon Metco AG, Wohlen | Plasmaspritzverfahren zum Herstellen einer ionenleitenden Membran und ionenleitende Membran |
CN105369180A (zh) * | 2015-12-02 | 2016-03-02 | 广州有色金属研究院 | 一种致密氧离子-电子混合导体氧化物涂层的制备方法 |
USD826300S1 (en) * | 2016-09-30 | 2018-08-21 | Oerlikon Metco Ag, Wohlen | Rotably mounted thermal plasma burner for thermalspraying |
CN111869332A (zh) * | 2018-02-20 | 2020-10-30 | 欧瑞康美科(美国)公司 | 中性极堆叠用作等离子弧控制方法的单弧级联低压涂覆枪 |
US20200040444A1 (en) * | 2018-08-02 | 2020-02-06 | Lyten, Inc. | Plasma spray systems and methods |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0676652B2 (ja) * | 1984-10-08 | 1994-09-28 | キヤノン株式会社 | 真空装置用構造材の表面処理方法 |
CN1036286A (zh) * | 1988-02-24 | 1989-10-11 | 珀金·埃莱姆公司 | 超导陶瓷的次大气压等离子体喷涂 |
US5356674A (en) * | 1989-05-04 | 1994-10-18 | Deutsche Forschungsanstalt Fuer Luft-Raumfahrt E.V. | Process for applying ceramic coatings using a plasma jet carrying a free form non-metallic element |
JPH0443565A (ja) * | 1990-06-07 | 1992-02-13 | Meidensha Corp | 燃料電池用酸素極の製造法 |
JP3236398B2 (ja) * | 1993-04-02 | 2001-12-10 | 株式会社フジクラ | 溶射装置 |
US5679167A (en) | 1994-08-18 | 1997-10-21 | Sulzer Metco Ag | Plasma gun apparatus for forming dense, uniform coatings on large substrates |
WO1997008359A1 (fr) * | 1995-08-23 | 1997-03-06 | Asahi Glass Company Ltd. | Cible, son procede de production et procede de formation d'une couche tres refringente |
AU719341B2 (en) * | 1997-01-22 | 2000-05-04 | De Nora Elettrodi S.P.A. | Method of forming robust metal, metal oxide, and metal alloy layers on ion-conductive polymer membranes |
DE60239660D1 (de) * | 2002-02-22 | 2011-05-19 | Praxair Technology Inc | Durch Plasmaspritzen aufgebrachten Membranbeschichtungen für den Sauerstofftransport |
AU2003208247A1 (en) | 2002-04-12 | 2003-10-27 | Sulzer Metco Ag | Plasma injection method |
JP4686360B2 (ja) * | 2003-04-24 | 2011-05-25 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 酸化銅薄膜低摩擦材料とその成膜方法 |
EP1479788B1 (de) * | 2003-05-23 | 2007-11-28 | Sulzer Metco AG | Hybrides Verfahren zum Beschichten eines Substrats durch ein thermisches Aufbringen der Beschichtung |
EP1780298A4 (en) * | 2005-07-29 | 2009-01-07 | Tocalo Co Ltd | Part Coated with Y203 Thermally Sprayed Film and Method of Making the Same |
EP1852519B1 (de) * | 2006-05-05 | 2013-08-28 | Sulzer Metco AG (Switzerland) | Verfahren zum Herstellen einer Beschichtung |
CA2582312C (en) * | 2006-05-05 | 2014-05-13 | Sulzer Metco Ag | A method for the manufacture of a coating |
EP2030669B1 (de) * | 2007-08-16 | 2014-04-02 | Sulzer Metco AG | Verfahren zum Herstellen einer wasserstoffpermeablen Membran sowie wasserstoffpermeable Membran |
EP2025772A1 (de) * | 2007-08-16 | 2009-02-18 | Sulzer Metco AG | Verfahren zum Herstellen einer funktionalen Schicht |
-
2012
- 2012-02-06 EP EP12154006.6A patent/EP2503018B8/de not_active Not-in-force
- 2012-03-15 US US13/421,696 patent/US8871010B2/en active Active
- 2012-03-19 JP JP2012061382A patent/JP6097014B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-03-22 RU RU2012111082/02A patent/RU2602210C2/ru active
- 2012-03-22 CN CN201210077652.6A patent/CN102691027B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012201986A (ja) | 2012-10-22 |
US20120240771A1 (en) | 2012-09-27 |
EP2503018B1 (de) | 2018-08-29 |
CN102691027B (zh) | 2016-12-14 |
US8871010B2 (en) | 2014-10-28 |
CN102691027A (zh) | 2012-09-26 |
EP2503018A1 (de) | 2012-09-26 |
EP2503018B8 (de) | 2018-11-21 |
RU2602210C2 (ru) | 2016-11-10 |
RU2012111082A (ru) | 2013-09-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6097014B2 (ja) | イオン伝導膜を製造するためのプラズマスプレー法 | |
US20130220126A1 (en) | Plasma spray method for the manufacturing of an ion conducting membrane and an ion conducting membrane | |
US9120052B2 (en) | Plasma spray method for the manufacture of an ion conducting membrane and an ion conducting membrane | |
US20190291059A1 (en) | Method and a starting material for the manufacture of a hydrogen permeable membrane and a hydrogen permeable membrane | |
US6638575B1 (en) | Plasma sprayed oxygen transport membrane coatings | |
US20020127455A1 (en) | Ceria-based solid oxide fuel cells | |
JP4738414B2 (ja) | 薄く高密度のセラミック層の製造方法 | |
JPH07268595A (ja) | 電気化学的電池の電極上に溶射により相互接続材料層を形成する方法 | |
US20110003084A1 (en) | Process of Making Ceria-Based Electrolyte Coating | |
JP2009536984A (ja) | セラミックコーティングを得る方法および得られたセラミックコーティング | |
US20030108683A1 (en) | Manufacturing method for nano-porous coatings and thin films | |
JP2000087209A (ja) | 断熱被覆の製造のための高温噴霧方法の使用 | |
Pawłowski | Application of solution precursor spray techniques to obtain ceramic films and coatings | |
JP4988334B2 (ja) | 金属製担体およびアノード作用層を含む層系の製造方法 | |
Ansar et al. | Nanostructured functional layers for solid oxide fuel cells | |
JPH03287754A (ja) | 複合プラズマによる酸化物皮膜の形成方法 | |
EP1338671B1 (en) | Plasma sprayed oxygen transport membrane coatings | |
JP4109462B2 (ja) | プラズマ溶射酸素輸送膜 | |
JP2010528440A (ja) | ガス密の固体電解質層の作製方法及び固体電解質層 | |
CN116060612B (zh) | 球状氟氧化钇基粉末及其制备方法、氟氧化钇基涂层 | |
RU2309892C2 (ru) | Способ получения пленок на основе простых или сложных оксидов или их твердых растворов | |
Platenkin et al. | Process Development for obtaining functional layers for solid oxide fuel cells from liquid precursors using plasma sputtering technology | |
Hwang et al. | A nanostructured YSZ film coating by liquid suspension injection into an APS plasma flame | |
Chen et al. | Preparation of films for solid oxide fuel cells by center-injection low pressure plasma spraying | |
JPH02175854A (ja) | 多孔質溶射皮膜の形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20140918 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20140918 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150223 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160106 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160406 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160606 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160706 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160928 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161006 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170119 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170217 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6097014 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |