JP6078150B2 - 物品の表面のエピラム化のための作用剤 - Google Patents
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- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 43
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 40
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 24
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical group OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 11
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 9
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 125000001918 phosphonic acid ester group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000010979 ruby Substances 0.000 claims description 3
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003011 styrenyl group Chemical class [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 14
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L copper(ii) bromide Chemical compound [Cu+2].[Br-].[Br-] QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910021590 Copper(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010559 graft polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- QUKRIOLKOHUUBM-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl prop-2-enoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCOC(=O)C=C QUKRIOLKOHUUBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010560 atom transfer radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 3
- 238000011089 mechanical engineering Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- GIEMHYCMBGELGY-UHFFFAOYSA-N 10-undecen-1-ol Chemical compound OCCCCCCCCCC=C GIEMHYCMBGELGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YOCIJWAHRAJQFT-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-2-methylpropanoyl bromide Chemical compound CC(C)(Br)C(Br)=O YOCIJWAHRAJQFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101710141544 Allatotropin-related peptide Proteins 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000005024 alkenyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005025 alkynylaryl group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005018 aryl alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000007860 aryl ester derivatives Chemical group 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYFYYTLLBUKUHU-UHFFFAOYSA-N dopamine Chemical compound NCCC1=CC=C(O)C(O)=C1 VYFYYTLLBUKUHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N ethyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OCC SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004687 hexahydrates Chemical class 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- RPWKSQYRGFUPTA-UHFFFAOYSA-N n-[2-(3,4-dihydroxyphenyl)ethyl]nitramide Chemical group OC1=CC=C(CCN[N+]([O-])=O)C=C1O RPWKSQYRGFUPTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004172 nitrogen cycle Methods 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N pentamethyldiethylenetriamine Chemical compound CN(C)CCN(C)CCN(C)C UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000000527 sonication Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RHLOSBPISIVGMQ-UHFFFAOYSA-N undec-10-enyl 2-bromo-2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)(Br)C(=O)OCCCCCCCCCC=C RHLOSBPISIVGMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 2
- VHJFWJXYEWHCGD-UHFFFAOYSA-N 4-nonyl-2-(4-nonylpyridin-2-yl)pyridine Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=NC(C=2N=CC=C(CCCCCCCCC)C=2)=C1 VHJFWJXYEWHCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 101000801643 Homo sapiens Retinal-specific phospholipid-transporting ATPase ABCA4 Proteins 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 102100033617 Retinal-specific phospholipid-transporting ATPase ABCA4 Human genes 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005015 aryl alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N chelidonic acid Natural products OC(=O)C1=CC(=O)C=C(C(O)=O)O1 PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003638 dopamine Drugs 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006193 liquid solution Substances 0.000 description 1
- QENHCSSJTJWZAL-UHFFFAOYSA-N magnesium sulfide Chemical compound [Mg+2].[S-2] QENHCSSJTJWZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
A−F (1)
ここでAは、シラン基、ヒドロキシル基、カテコール基、リン酸基、ホスホン酸エステル基、カルボン酸基、アミン基、チオール基、上述の基のうち2つ以上のいずれかの組み合わせからなる群から選択される部分を含むアンカー基であり、
Fは官能基であり、この官能基は、バックボーン及び少なくとも2つの側鎖基を有する分岐ポリマーを含み、前記側鎖基のうちの少なくとも1つは、C1−20炭化水素基又は過ハロゲン化C1−20炭化水素基である。
(a)少なくとも1つの表面を有する基材を準備するステップ;
(b)シラン基、ヒドロキシル基、カテコール基、リン酸基、ホスホン酸エステル基、カルボン酸基、アミン基、チオール基、上述の基のうち2つ以上のいずれかの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1つのアンカー基を、前記基材の少なくとも1つの表面のうち少なくとも1つに結合させるステップ;
(c)少なくとも1種類のモノマーを準備するステップ;及び
(d)前記少なくとも1種類のモノマーを、前記少なくとも1つのアンカー基にグラフト重合させて、前記少なくとも1つのアンカー基と共有結合した分岐ポリマーを形成するステップ。
(c’)少なくとも1種類のモノマーを準備するステップ;
(d’)前記少なくとも1種類のモノマーを、シラン基、ヒドロキシル基、カテコール基、リン酸基、ホスホン酸エステル基、カルボン酸基、アミン基、チオール基、上述の基のうち2つ以上のいずれかの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1つのアンカー基にグラフト重合させて、前記少なくとも1つのアンカー基と共有結合した分岐ポリマーを形成するステップ;
(a’)少なくとも1つの表面を有する基材を準備するステップ;及び
(b’)前記少なくとも1つのアンカー基を、前記基材の少なくとも1つの表面のうち少なくとも1つに結合させるステップ。
(d’)少なくとも1種類のモノマーをグラフト重合させて、少なくとも1つの分岐ポリマーを形成するステップ;
(a)少なくとも1つの表面を有する基材を準備するステップ;
(b)シラン基、ヒドロキシル基、カテコール基、リン酸基、ホスホン酸エステル基、カルボン酸基、アミン基、チオール基、上述の基のうち2つ以上のいずれかの組み合わせからなる群から選択される少なくとも1つのアンカー基を、前記基材の少なくとも1つの表面のうち少なくとも1つに結合させるステップ;及び
(e)前記少なくとも1つの分岐ポリマーを前記少なくとも1つのアンカー基に結合させるステップ。
(i)ケイ素表面への反応開始剤の結合
ケイ素製物品(P/B<100>、Si−Mat Silicon Wafers(ドイツ)製)を、超音波浴中にイソプロパノールを用いて3回洗浄し、UVオゾン洗浄機(UV/Ozone ProCleaner(登録商標)及びProCleaner(登録商標)Plus、米国アイオワ州)で30分間処理した。このようにして得られた物品をすぐに、蒸留したばかりのトルエン中のBPCS開始剤の10mM溶液中に浸漬し、不活性雰囲気下で24時間インキュベートした。その後、異なる5つのトルエン浴に数分浸漬することによって、トルエン中での洗浄を5回行い、この5回の浴のうち最後の浴に浸漬している間に、20秒間の短い音波処理を行って弱結合分子を除去し、最後にイソプロパノールですすいだ。このようにして調製した試料を窒素流で乾燥させ、不活性雰囲気下においてパラフィルム密閉ボックス中に暗所で貯蔵し、7日以内に使用した。
環境条件下において、2.9ml(4.75g)の3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、11.3mlのシクロヘキサノン、167μl(138mg)のN,N,N’,N’,N’’−ペンタメチルジエチレントリアミン(PMDETA)を、ゴム隔壁で密閉されたフラスコに添加した。得られた溶液を4回の冷凍−吸引−解凍サイクルに供し、その後不活性雰囲気下で、57.4mgの臭化銅(I)及び10.0mgの臭化銅(II)を含有する第2のフラスコへと移した。得られた溶液を、110℃の高温油浴による加熱下で5分間撹拌して、暗褐色の均一な混合物を得た。この混合物4mlを、不活性雰囲気下において無酸素シリンジを用いて、20mlシュレンク管内に並置されたステップ(i)で調製したBPCS改質ケイ素物品試料へと移動させた。反応を、不活性雰囲気下において110℃に3時間維持した。大気への曝露及びトルエンの添加によって反応を停止させ、得られた物品、即ちシラン部分を介してその表面に付着した、上述の反応によって得られたポリマーを有するケイ素基材を、混合物から分離した。
先行するステップ(ii)で得られた物品を精製して、結合していない材料を除去した。精製は、得られた物品を音波処理しながらジクロロメタンに15分間浸漬することによって実施でき、これを合計3回実施した後、物品を乾燥させた。代替としてその他の種類の精製も実施可能である。
Claims (15)
- 少なくとも1つの表面を有する基材を備える物品であって:
前記表面の少なくとも一部は、以下の一般式(1):
A−F (1)
を有する1つ又は複数の分子を含む、物品の表面エピラム化のための作用剤でコーティングされており、
ここでAは、シラン基、ヒドロキシル基、カテコール基、リン酸基、ホスホン酸エステル基、カルボン酸基、アミン基、チオール基からなる群から選択される1つの部分を含むアンカー基であり、
Fはシラン基を有さない官能基であり、前記官能基は、バックボーン及び少なくとも2つの側鎖基を有する分岐ポリマーを含み、前記側鎖基のうちの少なくとも1つは、C4−20炭化水素基又は過ハロゲン化C4−20炭化水素基である
こと;並びに
前記作用剤は、エピラム官能基として、部分フルオロ化炭化水素基である少なくとも1つの側鎖基を含むこと
を特徴とする、物品。 - 前記側鎖基のうちの少なくとも1つ、好ましくは少なくとも50%、より好ましくは少なくとも80%、更に好ましくは少なくとも90%、最も好ましくは全ては、C4−18炭化水素基、より好ましくはC6−16炭化水素基、最も好ましくはC8−14炭化水素基であることを特徴とする、請求項1に記載の物品。
- 前記側鎖基は、部分フルオロ化炭化水素基、好ましくはパーフルオロ化炭化水素基であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の物品。
- 前記炭化水素基は、アルキルエステル基、好ましくは直鎖アルキルエステル基であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の物品。
- 前記炭化水素基は、アクリレートエステル、メタクリレートエステル、芳香族環に結合した少なくとも1つのアルキル基を有するスチレン誘導体、上述の基のうち2つ以上のいずれかの組み合わせからなる群から選択されることを特徴とする、請求項4に記載の物品。
- 前記分岐ポリマーは、2〜50、好ましくは3〜30、より好ましくは4〜20、更に好ましくは5〜15、最も好ましくは7〜13の側鎖基を含むことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の物品。
- 全ての前記側鎖基は、同一の又は異なるC4-10炭化水素基、好ましくはC3-9炭化水素基、最も好ましくはC4-8炭化水素基であることを特徴とする、請求項6に記載の物品。
- 全ての前記側鎖基は、部分フルオロ化炭化水素基、好ましくはパーフルオロ化炭化水素基であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の物品。
- 前記側鎖基のうちの少なくとも1つは、前記一般式(1)を有する前記作用剤の別の分子と架橋できる少なくとも1つの官能基を有し、
前記分岐ポリマーは、少なくとも5、好ましくは少なくとも10の側鎖基を含む少なくとも1つのブロックを含み、
前記側鎖基のうちの少なくとも2つは、それぞれ前記一般式(1)を有する前記作用剤の別の分子と架橋できる少なくとも1つの官能基を有する
ことを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の物品。 - 前記分岐ポリマーは、少なくとも5、好ましくは少なくとも10の側鎖基を含む少なくとも1つの更なるブロックを含有し、
前記少なくとも1つの更なるブロックの全ての側鎖基は、前記分岐ポリマーの別の分子と架橋できる官能基を含有せず;
より好ましくは、前記分岐ポリマーは、少なくとも5、好ましくは少なくとも10の側鎖基をそれぞれ含む2つの前記更なるブロックを含有し、
前記更なるブロックの全ての側鎖基は、前記分岐ポリマーの別の分子と架橋できる官能基を含有せず;
少なくとも5、好ましくは少なくとも10の側鎖基を含み、かつ前記側鎖基のうちの少なくとも2つがそれぞれ、前記一般式(1)を有する前記作用剤の別の分子と架橋できる少なくとも1つの官能基を含む、前記ブロックは、前記2つの更なるブロックの間に配設される
ことを特徴とする、請求項9に記載の物品。 - 前記作用剤でコーティングされる前記少なくとも1つの表面は、ケイ素、ダイヤモンド様炭素、炭化ケイ素、サファイア、鋼鉄、金属被覆鋼鉄、ニッケルメッキ鋼鉄、ルビー、酸化アルミニウム、酸化鉄、マグネシウム合金、酸化ケイ素、酸化ニオブ、酸化チタン、ポリマー、上述の材料のうち2つ以上のいずれかの組み合わせからなる群から選択される材料からなる、請求項1〜10のいずれか1項に記載の物品。
- a)少なくとも1つの表面を有する基材を準備するステップ;
b)シラン基、ヒドロキシル基、カテコール基、リン酸基、ホスホン酸エステル基、カルボン酸基、アミン基、チオール基からなる群から選択される1つの部分を含む少なくとも1つのアンカー基を、前記基材の前記少なくとも1つの表面のうち少なくとも1つに結合させるステップ;
c)少なくとも1種類のモノマーを準備するステップ;及び
d)前記少なくとも1種類のモノマーを、前記少なくとも1つのアンカー基にグラフト重合させて、前記少なくとも1つのアンカー基と共有結合した分岐ポリマーを形成するステップ
を含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載の物品を製造するための方法。 - c’)少なくとも1種類のモノマーを準備するステップ;
d’)前記少なくとも1種類のモノマーを、シラン基、ヒドロキシル基、カテコール基、リン酸基、ホスホン酸エステル基、カルボン酸基、アミン基、チオール基からなる群から選択される1つの部分を含む少なくとも1つのアンカー基にグラフト重合させて、前記少なくとも1つのアンカー基と共有結合した分岐ポリマーを形成するステップ;
a’)少なくとも1つの表面を有する基材を準備するステップ;及び
b’)前記少なくとも1つのアンカー基を、前記基材の前記表面のうち少なくとも1つに結合させるステップ
を含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載の物品を製造するための方法。 - d’)少なくとも1種類のモノマーをグラフト重合させて、少なくとも1つの分岐ポリマーを形成するステップ;
a)少なくとも1つの表面を有する基材を準備するステップ;
b)シラン基、ヒドロキシル基、カテコール基、リン酸基、ホスホン酸エステル基、カルボン酸基、アミン基、チオール基からなる群から選択される1つの部分を含む少なくとも1つのアンカー基を、前記基材の前記少なくとも1つの表面のうち少なくとも1つに結合させるステップ;及び
e)前記少なくとも1つの分岐ポリマーを前記少なくとも1つのアンカー基に結合させるステップ
を含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載の物品を製造するための方法。 - 請求項1〜11のいずれか1項に記載の物品を含む、時計。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP12175783.5A EP2684942A1 (en) | 2012-07-10 | 2012-07-10 | Agent for the surface epilamization of an article |
EP12175783.5 | 2012-07-10 | ||
PCT/EP2013/061435 WO2014009058A1 (en) | 2012-07-10 | 2013-06-04 | Agent for the surface epilamization of an article |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015528759A JP2015528759A (ja) | 2015-10-01 |
JP6078150B2 true JP6078150B2 (ja) | 2017-02-08 |
Family
ID=48613584
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015520861A Active JP6078150B2 (ja) | 2012-07-10 | 2013-06-04 | 物品の表面のエピラム化のための作用剤 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9534134B2 (ja) |
EP (2) | EP2684942A1 (ja) |
JP (1) | JP6078150B2 (ja) |
CN (2) | CN109825157A (ja) |
HK (1) | HK1205754A1 (ja) |
RU (1) | RU2647595C2 (ja) |
WO (1) | WO2014009058A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3070133B1 (fr) | 2015-03-18 | 2019-02-20 | The Swatch Group Research and Development Ltd. | Pièce d'horlogerie ou de bijouterie comprenant une surface recouverte d'un agent épilame et procédé d'épilamage d'un tel substrat |
EP3070152B1 (fr) * | 2015-03-18 | 2018-02-28 | The Swatch Group Research and Development Ltd. | Substrat comprenant une surface recouverte d'un agent épilame et procédé d'épilamage d'un tel substrat |
EP3290451B1 (fr) * | 2016-09-01 | 2021-08-18 | The Swatch Group Research and Development Ltd. | Substrat comprenant une surface recouverte d'un agent épilame et procédé d'épilamage d'un tel substrat |
EP3398978B1 (fr) * | 2017-05-05 | 2020-03-11 | The Swatch Group Research and Development Ltd | Agent d'épilamage et procédé d'épilamage utilisant un tel agent d'épilamage |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5238746A (en) * | 1990-11-06 | 1993-08-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Fluorocarbon-based polymer lamination coating film and method of manufacturing the same |
JP2528228B2 (ja) * | 1990-11-06 | 1996-08-28 | 松下電器産業株式会社 | フッ素系樹脂積層膜およびその製造方法 |
RU2083552C1 (ru) * | 1994-07-25 | 1997-07-10 | Уральский Государственный Университет Им.А.М.Горького | Этанол 2,2,2-трис-(1',1',1',2',2',3',3',5',6',6',8',-ундекафтор-5',8'-ди- (трифторметил) -4',7'-диокси-9'-метиленоксикарбонила) и способ его получения |
JP2001288233A (ja) * | 2000-04-06 | 2001-10-16 | Shiseido Co Ltd | 新規高分子およびこれを用いた化粧料 |
JP2002146271A (ja) * | 2000-11-16 | 2002-05-22 | Three M Innovative Properties Co | 撥水、撥油および防汚性コーティング組成物 |
JP2003335829A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-11-28 | Mitsubishi Chemicals Corp | 新規共重合体及びこれを含有する組成物 |
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CN1957047A (zh) * | 2004-05-25 | 2007-05-02 | 清美化学股份有限公司 | 润滑油的防渗剂组合物及其用途 |
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JP2009138228A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Kagawa Gakusei Venture:Kk | 撥水撥油防汚性貴金属製品とその製造方法 |
CN101910247B (zh) * | 2007-12-12 | 2014-10-22 | 3M创新有限公司 | 包含具有聚(烯化氧)重复单元的全氟聚醚聚合物的硬质涂膜 |
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WO2010079495A1 (en) * | 2009-01-12 | 2010-07-15 | Cleansun Energy Ltd. | A substrate having a self cleaning anti-reflecting coating and method for its preparation |
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JP2012097125A (ja) * | 2009-03-04 | 2012-05-24 | Unimatec Co Ltd | 含フッ素重合体を有効成分とする表面改質剤 |
JP6083071B2 (ja) * | 2010-06-09 | 2017-02-22 | アロー インターナショナル インコーポレイテッド | 非汚染性、抗菌性、抗血栓性グラフトフロム組成物 |
CN103261242B (zh) * | 2010-12-17 | 2016-05-04 | 3M创新有限公司 | 包含含有亚磺酸根的分子的含氟聚合物 |
EP2655577B1 (fr) * | 2010-12-23 | 2014-04-23 | Rolex S.A. | Composition pour augmenter la lipophobicite d'un composant horloger |
-
2012
- 2012-07-10 EP EP12175783.5A patent/EP2684942A1/en not_active Withdrawn
-
2013
- 2013-06-04 CN CN201910149997.XA patent/CN109825157A/zh active Pending
- 2013-06-04 WO PCT/EP2013/061435 patent/WO2014009058A1/en active Application Filing
- 2013-06-04 EP EP13728350.3A patent/EP2872606B1/en active Active
- 2013-06-04 RU RU2015104172A patent/RU2647595C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2013-06-04 US US14/413,097 patent/US9534134B2/en active Active
- 2013-06-04 JP JP2015520861A patent/JP6078150B2/ja active Active
- 2013-06-04 CN CN201380036300.9A patent/CN104428402A/zh active Pending
-
2015
- 2015-07-06 HK HK15106411.1A patent/HK1205754A1/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015528759A (ja) | 2015-10-01 |
CN109825157A (zh) | 2019-05-31 |
CN104428402A (zh) | 2015-03-18 |
EP2872606B1 (en) | 2023-07-26 |
EP2872606A1 (en) | 2015-05-20 |
US9534134B2 (en) | 2017-01-03 |
US20150197661A1 (en) | 2015-07-16 |
WO2014009058A1 (en) | 2014-01-16 |
RU2647595C2 (ru) | 2018-03-16 |
RU2015104172A (ru) | 2016-08-27 |
HK1205754A1 (en) | 2015-12-24 |
EP2684942A1 (en) | 2014-01-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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