JP6077526B2 - 超幅広バンドの真の時間遅延線 - Google Patents
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Description
(請求項1)時間遅延回路において、
第一の端部と、第二の端部とを有する第一のアルキメデススパイラル遅延線と、
第一の端部と、第二の端部とを有する第二のアルキメデススパイラル遅延線と、
第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線に対して配置されて、第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線間を電気的及び/又は磁気的に隔離する電磁回路の隔離構成要素とを備える、時間遅延回路。
(請求項2)請求項1に記載の遅延回路において、
第一及び/又は第二のアルキメデススパイラル遅延線は、第一の基板の共通の表面に形成され、且つ互いに同心状である、時間遅延回路。
(請求項3)請求項2に記載の遅延回路において、
第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線は組み合わさって一本の遅延線を形成する、遅延回路。
(請求項4)請求項2に記載の遅延回路において、
第一のアルキメデススパイラル遅延線の第一の端部は、入力ポートであり、第二のアルキメデススパイラル遅延線の第二の端部は、出力ポートであり、
第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線の第二の端部は、電気的に結合される、遅延回路。
(請求項5)請求項4に記載の遅延回路において、
第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線の第二の端部は直結される、遅延回路。
(請求項6)請求項4に記載の遅延回路において、
第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線の第二の端部は、回路構成要素によって結合される、遅延回路。
(請求項7)請求項2に記載の遅延回路において、
電磁回路の隔離構成要素は、第一の基板を通って第一及び第二のアルキメデススパイラル旋遅延線の間の空隙間の相互接続部(ICIC)まで伸びる複数の基板貫通ラインであり、
該基板貫通ラインは、接地面を通じて浸食され、次に、ICICを通って別のウェハの遅延線部分に配線される、遅延回路。
(請求項8)請求項2に記載の遅延回路において、
第一の基板から隔てられて、第二の基板の表面に形成された多数ビットスイッチ付き回路を含む、第二の基板を更に備える、遅延回路。
(請求項9)請求項8に記載の遅延回路において、
第一及び第二の基板の間に空隙が形成され、前記遅延回路は、空隙を通って伸びる1つ又はより多くの空隙間の相互接続部を更に備え、且つ、接地面を通じてスイッチ付き回路と電気的に結合される、遅延回路。
(請求項10)請求項1に記載の遅延回路において、
第一のアルキメデススパイラル遅延線は第一の基板の上面に形成され、
第二のアルキメデススパイラル遅延線は、第二の基板の上面に形成され、前記第一及び第二の基板は互いに隔てられ、前記第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線は、空隙間の相互接続部により互いに電気的に結合される、遅延回路。
(請求項11)請求項10に記載の遅延回路において、
電磁回路の隔離構成要素は、第一の基板の下面に形成された導電性平面であり、
該導電性平面は、空隙間の相互接続部が貫通して伸びる開口部を含む、遅延回路。
(請求項12)請求項10に記載の遅延回路において、
前記第一及び第二のスパイラル遅延線は第一及び第二の基板の中心位置又は第一及び第二の基板の外側位置にて終端となる、遅延回路。
(請求項13)時間遅延回路において、
上面と、下面とを含む第一の半導体基板と、
第一の基板の上面に形成されて、第一の端部と、第二の端部とを有する第一の遅延線と、
第一の基板の下面に形成された、開口部を含む金属層と、
上面を含み、且つ第一の基板から隔てられて、その間に空隙を提供する第二の半導体基板と、
第二の基板の上面に形成され、第一及び第二の端部を有する第二の遅延線と、
第一及び第二の遅延線の第二の端部に電気的に結合され、且つ第一の基板を貫通して伸びる空隙間の相互接続部と、を備える、遅延回路。
(請求項14)請求項13に記載の遅延回路において、
第一及び第二の遅延線はスパイラル遅延線である、遅延回路。
(請求項15)請求項14に記載の遅延回路において、
第一のスパイラル遅延線は、第一の基板の外側位置から第一の基板の内側位置までら旋状に伸び、
第一の遅延線の第二の端部は、第一の基板のほぼ中心位置であり、第二のスパイラル遅延線は、第二の基板の外側位置から第二の基板の内側位置までら旋状に伸び、
第二の遅延線の第二の端部は、第二の基板のほぼ中心位置である、遅延回路。
(請求項16)請求項14に記載の遅延回路において、
第一のスパイラル遅延線は、第一の基板の外側位置から第一の基板の中心位置に向けて、次に、第一の遅延線の第二の端部が第一の基板のほぼ外端縁となる、第一の基板の外端縁に向けてら旋状に伸びて戻り、
第二の遅延線の第二のスパイラル遅延線は、第二の基板の外側位置から第二の基板の中心位置に向けて、次に、第二の遅延線の第二の端部が第二の基板のほぼ外端縁となる、第二の基板の外端縁に向けてら旋状に伸びて戻るようにした、遅延線回路。
(請求項17)時間遅延回路において、
上面と、下面とを含む、第一の基板と、
第一の基板の上面に形成されて、第一の端部と、第二の端部とを含む遅延線と、
第一の基板の下面に形成された金属層と、
第一の基板を貫通して伸び、且つ遅延線に電気的に結合された複数の第一の基板貫通ラインと、
上面と、下面とを含む第二の基板であって、第一の基板から隔てられ、且つその間に空隙を画成する前記第二の基板と、
第二の基板の上面に形成された多数ビットスイッチ付き回路と、
多数ビットの回路と、第一の基板底面の金属層とに電気的に結合され、且つ空隙を貫通して伸びる複数の空隙間の相互接続部とを備える、時間遅延回路。
(請求項18)請求項17に記載の遅延回路において、
遅延線はスパイラル遅延線である、遅延回路。
(請求項19)請求項18に記載の遅延回路において、
遅延線は、第一及び第二の遅延線部分により形成される、遅延回路。
(請求項20)請求項19に記載の遅延回路において、
第一及び第二の遅延線部分の間にて第一の基板を貫通して伸び、且つ線部分間を磁気的に隔離する複数の第二の基板貫通ラインを更に備える、遅延回路。
Claims (8)
- 時間遅延回路において、
第一の基板(92)であって、該第一の基板(92)の平面上に同心状の第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線(98)が形成され、且つ該第一の基板(92)の前記平面とは反対側の面上に金属層(100)が形成された前記第一の基板(92)と、
前記第一の基板(92)を貫通して伸びて前記金属層(100)に接続された複数の導体(102)であって、前記第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線(98)間を電気的及び/又は磁気的に隔離する電磁回の隔離を提供する前記複数の導体(102)と、
前記第一の基板(92)に対して空隙により隔てられて配設された第二の基板(94)であって、該第二の基板(94)の平面上に形成されたスイッチ付き回路(114)を有する前記第二の基板(94)と、
前記空隙を伸び且つ前記金属層(100)を貫通して伸びる一つ又は二つ以上の相互接続部(ICIC)(104)であって、前記スイッチ付き回路(114)と前記第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線(98)とを接続する前記相互接続部(ICIC)(104)とを備える、遅延回路。 - 時間遅延回路において、
第一の端部と、第二の端部とを有し、且つ第一の基板(42)の平面上に形成された第一のアルキメデススパイラル遅延線(46、82)と、
第一の端部と、第二の端部とを有し、且つ第二の基板(44)の平面上に形成された第二のアルキメデススパイラル遅延線(58、84)と、
第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線(46、82;58、84)に対して配置されて、第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線(46、82;58、84)間を電気的及び/又は磁気的に隔離する電磁回路の隔離構成要素(54)とを備え、
前記第一及び第二の基板(42、44)は空隙により互いに隔てられ、
前記第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線(46、82;58、84)は、前記空隙を伸びる相互接続部(66)により互いに電気的に結合される、遅延回路。 - 請求項1に記載の遅延回路において、
電磁回路の隔離構成要素(54)は、第一の基板(42)の下面に形成された導電性平面(54)であり、
該導電性平面(54)は、前記相互接続部(66)が貫通して伸びる開口部(56)を含む、遅延回路。 - 請求項1に記載の遅延回路において、
前記第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線(46、82;58、84)は第一及び第二の基板(42、44)の中心位置又は第一及び第二の基板(42、44)の外側位置にて終端となる、遅延回路。 - 請求項1に記載の遅延回路において、
第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線(24、28)は組み合わさって一本の遅延線(14)を形成する、遅延回路。 - 請求項1に記載の遅延回路において、
第一のアルキメデススパイラル遅延線(24)の第一の端部(18)は、入力ポート(18)であり、第二のアルキメデススパイラル遅延線(28)の第一の端部(20)は、出力ポート(20)であり、
第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線(24、28)の各第二の端部(26、30)は、電気的に結合される、遅延回路。 - 請求項6に記載の遅延回路において、
第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線(24、28)の第二の端部(26、30)は直結される、遅延回路。 - 請求項6に記載の遅延回路において、
第一及び第二のアルキメデススパイラル遅延線(24、28)の第二の端部(26、30)は、回路構成要素によって結合される、遅延回路。
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US3135960A (en) | 1961-12-29 | 1964-06-02 | Jr Julius A Kaiser | Spiral mode selector circuit for a twowire archimedean spiral antenna |
US3585535A (en) * | 1969-07-22 | 1971-06-15 | Sprague Electric Co | Microstrip delay line |
CA1202383A (en) * | 1983-03-25 | 1986-03-25 | Herman R. Person | Thick film delay line |
US4614922A (en) | 1984-10-05 | 1986-09-30 | Sanders Associates, Inc. | Compact delay line |
US4749971A (en) | 1987-06-24 | 1988-06-07 | Unisys Corporation | Saw delay line with multiple reflective taps |
US5164692A (en) * | 1991-09-05 | 1992-11-17 | Ael Defense Corp. | Triplet plated-through double layered transmission line |
JPH0626307U (ja) * | 1992-09-01 | 1994-04-08 | 帝国通信工業株式会社 | 分布定数型電磁遅延線 |
US5619218A (en) | 1995-06-06 | 1997-04-08 | Hughes Missile Systems Company | Common aperture isolated dual frequency band antenna |
US5974335A (en) | 1995-06-07 | 1999-10-26 | Northrop Grumman Corporation | High-temperature superconducting microwave delay line of spiral configuration |
US5815122A (en) | 1996-01-11 | 1998-09-29 | The Regents Of The University Of Michigan | Slot spiral antenna with integrated balun and feed |
US5701372A (en) | 1996-10-22 | 1997-12-23 | Texas Instruments Incorporated | Hybrid architecture for integrated optic switchable time delay lines and method of fabricating same |
US5936594A (en) | 1997-05-17 | 1999-08-10 | Raytheon Company | Highly isolated multiple frequency band antenna |
US6101705A (en) | 1997-11-18 | 2000-08-15 | Raytheon Company | Methods of fabricating true-time-delay continuous transverse stub array antennas |
US6430805B1 (en) | 1998-11-06 | 2002-08-13 | Raytheon Company | Method of fabricating a true-time-delay continuous transverse stub array antenna |
US6320480B1 (en) | 1999-10-26 | 2001-11-20 | Trw Inc. | Wideband low-loss variable delay line and phase shifter |
DE60219712T2 (de) | 2001-04-19 | 2008-02-28 | Interuniversitair Microelektronica Centrum Vzw | Herstellung von integrierten abstimmbaren/umschaltbaren passiven Mikro- und Millimeterwellenmodulen |
US6897829B2 (en) | 2001-07-23 | 2005-05-24 | Harris Corporation | Phased array antenna providing gradual changes in beam steering and beam reconfiguration and related methods |
US7026891B2 (en) | 2002-01-08 | 2006-04-11 | Lamina Ceramics, Inc. | Monolithic disc delay line |
US6781560B2 (en) | 2002-01-30 | 2004-08-24 | Harris Corporation | Phased array antenna including archimedean spiral element array and related methods |
US7003204B2 (en) | 2003-08-07 | 2006-02-21 | Northrop Grumman Corporation | Systems and methods for a continuously variable optical delay line |
GB0321658D0 (en) | 2003-09-16 | 2003-10-15 | South Bank Univ Entpr Ltd | Bifilar transformer |
US20050104158A1 (en) * | 2003-11-19 | 2005-05-19 | Scintera Networks, Inc. | Compact, high q inductor for integrated circuit |
WO2005091499A1 (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Elmec Corporation | ディレイライン |
US7525509B1 (en) | 2006-08-08 | 2009-04-28 | Lockheed Martin | Tunable antenna apparatus |
WO2008094383A1 (en) | 2007-01-29 | 2008-08-07 | Fred Bassali | Advanced vehicular universal transmitter using time domain with vehicle location logging system |
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