JP6072230B2 - 共重合体または組成物からなる膜 - Google Patents
共重合体または組成物からなる膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6072230B2 JP6072230B2 JP2015511256A JP2015511256A JP6072230B2 JP 6072230 B2 JP6072230 B2 JP 6072230B2 JP 2015511256 A JP2015511256 A JP 2015511256A JP 2015511256 A JP2015511256 A JP 2015511256A JP 6072230 B2 JP6072230 B2 JP 6072230B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- copolymer
- film
- compound
- represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims description 271
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 103
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 205
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 123
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 77
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 62
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 57
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 35
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 34
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 34
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 29
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 27
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 22
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 19
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 15
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 15
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 15
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 14
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 12
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 10
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 claims description 5
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 5
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 claims description 5
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 258
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 181
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 146
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 129
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 126
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 120
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 101
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 94
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 71
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 60
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 58
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 54
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 51
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 47
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 34
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 34
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 33
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 33
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 33
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 description 31
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 31
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 30
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 28
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 28
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 27
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 26
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 26
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 26
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 25
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 24
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 23
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 23
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 18
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 17
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 16
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 16
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 16
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 15
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 15
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 14
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 14
- AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 1-[6-[4-(5-chloro-6-methyl-1H-indazol-4-yl)-5-methyl-3-(1-methylindazol-5-yl)pyrazol-1-yl]-2-azaspiro[3.3]heptan-2-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound ClC=1C(=C2C=NNC2=CC=1C)C=1C(=NN(C=1C)C1CC2(CN(C2)C(C=C)=O)C1)C=1C=C2C=NN(C2=CC=1)C AZUYLZMQTIKGSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 12
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 12
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 11
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 10
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 10
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 10
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 10
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 9
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 9
- ABUFMGLVKVVDFW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-2-sulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CC(C)(C)S(O)(=O)=O ABUFMGLVKVVDFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 8
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 8
- 229920001480 hydrophilic copolymer Polymers 0.000 description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 7
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 7
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 7
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 7
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 6
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 6
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 6
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 6
- ZUBIJGNKOJGGCI-UHFFFAOYSA-M potassium;prop-2-enoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C=C ZUBIJGNKOJGGCI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 6
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 6
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical group C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 5
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical group C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 5
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 5
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 5
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 5
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AUZRCMMVHXRSGT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1-sulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CC(C)CS(O)(=O)=O AUZRCMMVHXRSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FKTLISWEAOSVBS-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-en-2-yloxyprop-1-ene Chemical group CC(=C)OC(C)=C FKTLISWEAOSVBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 4
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 4
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 4
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 4
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWLDCNACDPTRMY-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC RWLDCNACDPTRMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCC[Si](OC)(OC)OC TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 3
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 3
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 3
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 3
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JJZKWYVOTNUCDJ-UHFFFAOYSA-N (prop-2-enoylamino) 2-methylpropane-1-sulfonate Chemical compound CC(C)CS(=O)(=O)ONC(=O)C=C JJZKWYVOTNUCDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODEIZNBPYITUTO-UHFFFAOYSA-N 1-[diethoxy(propyl)silyl]oxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OC(C)OC(=O)C=C ODEIZNBPYITUTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AAUXVPAKDMCMMN-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-ethenylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1OCC1OC1 AAUXVPAKDMCMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 2
- YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropan-1-ol Chemical compound COC(C)CO YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN=C=O FMGBDYLOANULLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NYUTUWAFOUJLKI-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCOC(=O)C=C NYUTUWAFOUJLKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNVNLUSHGRBCLO-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxybenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC(C(O)=O)=C1 QNVNLUSHGRBCLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003677 Sheet moulding compound Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 229920006125 amorphous polymer Polymers 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical group CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HZGIOLNCNORPKR-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCNCCC[Si](OC)(OC)OC HZGIOLNCNORPKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000011527 polyurethane coating Substances 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LLFJTNCNMDDSKD-UHFFFAOYSA-M potassium propane-1-sulfonate prop-2-enamide Chemical compound C(CC)S(=O)(=O)O.C(C=C)(=O)N[K] LLFJTNCNMDDSKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 2
- QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N sec-pentyl alcohol Natural products CCC(C)CO QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUVZTKMMRCCGHN-OUKQBFOZSA-N triethoxy-[(e)-2-phenylethenyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)\C=C\C1=CC=CC=C1 UUVZTKMMRCCGHN-OUKQBFOZSA-N 0.000 description 2
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRSJRHKJPOJTMS-MDZDMXLPSA-N trimethoxy-[(e)-2-phenylethenyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)\C=C\C1=CC=CC=C1 JRSJRHKJPOJTMS-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- JMYZLRSSLFFUQN-UHFFFAOYSA-N (2-chlorobenzoyl) 2-chlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1Cl JMYZLRSSLFFUQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy propan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(C)(C)C KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N (4-tert-butylcyclohexyl) (4-tert-butylcyclohexyl)oxycarbonyloxy carbonate Chemical compound C1CC(C(C)(C)C)CCC1OC(=O)OOC(=O)OC1CCC(C(C)(C)C)CC1 NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- RECUJCZKSPUYIL-UHFFFAOYSA-N (methoxy-methyl-propylsilyl)oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](C)(OC)OCOC(=O)C=C RECUJCZKSPUYIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIYIGPVBMDKPCR-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(ethenoxymethyl)cyclohexane Chemical compound C=COCC1(COC=C)CCCCC1 HIYIGPVBMDKPCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHBXNPKRAUYBTH-UHFFFAOYSA-N 1,1-ethanedithiol Chemical compound CC(S)S DHBXNPKRAUYBTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6-pentaoxepane-5,7-dione Chemical compound O=C1OOOOC(=O)O1 BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDJWTMYNYYJBAT-UHFFFAOYSA-N 1,3,3-tris(sulfanylmethylsulfanyl)propylsulfanylmethanethiol Chemical compound SCSC(SCS)CC(SCS)SCS FDJWTMYNYYJBAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFLJVRLBIZHFSU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dithiane-2,5-dithiol Chemical compound SC1CSC(S)CS1 JFLJVRLBIZHFSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUTBTTGBSQUMMR-UHFFFAOYSA-N 1,6-bis(ethenyl)-7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-2,4-diene Chemical compound C1=CC=CC2(C=C)C1(C=C)O2 AUTBTTGBSQUMMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroperoxycyclohexyl)peroxycyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1(O)OOC1(OO)CCCCC1 UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUPHQYDFWPTUQV-UHFFFAOYSA-N 1-(1-prop-1-en-2-yloxypropan-2-yloxy)-2-(2-prop-1-en-2-yloxypropoxy)propane Chemical compound C(=C)(C)OC(C)COC(C)COC(C)COC(=C)C CUPHQYDFWPTUQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COJQGBQTQDRLMT-UHFFFAOYSA-N 1-(ethoxy-ethyl-propylsilyl)oxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OC(C)O[Si](OCC)(CC)CCC COJQGBQTQDRLMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAXBHRGRFDHRMG-UHFFFAOYSA-N 1-[dibutoxy(propyl)silyl]oxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OC(CCC)O[Si](OCCCC)(OCCCC)CCC ZAXBHRGRFDHRMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMJKAQQBRZYOSK-UHFFFAOYSA-N 1-[dipropoxy(propyl)silyl]oxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OC(CC)O[Si](OCCC)(OCCC)CCC FMJKAQQBRZYOSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOC=C SAMJGBVVQUEMGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOWNZLLMQHBVQT-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-[2-(2-ethenoxypropoxy)propoxy]propane Chemical compound C=COCC(C)OCC(C)OCC(C)OC=C FOWNZLLMQHBVQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS IMQFZQVZKBIPCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQOVXPHOJANJBR-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(tert-butylperoxy)butane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(CC)OOC(C)(C)C HQOVXPHOJANJBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAJBSGLXSREIHP-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]butyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(CC)(COC(=O)CS)COC(=O)CS KAJBSGLXSREIHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDUYAMDJQXHINM-UHFFFAOYSA-N 2,2-diphenylpropylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CN)(C)C1=CC=CC=C1 CDUYAMDJQXHINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSSFYDMUTATOHG-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)-3-[3-sulfanyl-2-(2-sulfanylethylsulfanyl)propyl]sulfanylpropane-1-thiol Chemical compound SCCSC(CS)CSCC(CS)SCCS VSSFYDMUTATOHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethanethiol Chemical compound SCCSCCS KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQTJDGFTPKMODO-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethenoxybutoxymethyl)oxirane Chemical compound C=COCCCCOCC1CO1 LQTJDGFTPKMODO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJBSAXOAOCMCBJ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-prop-1-en-2-yloxybutoxymethyl)oxirane Chemical compound C(=C)(C)OCCCCOCC1CO1 YJBSAXOAOCMCBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 2-(ethenoxymethyl)oxirane Chemical compound C=COCC1CO1 JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJRVYLRYHDIJAX-UHFFFAOYSA-N 2-(prop-1-en-2-yloxymethyl)oxirane Chemical compound CC(=C)OCC1CO1 VJRVYLRYHDIJAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTJFUMJBKBGHOW-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-ethenylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1OCC1OC1 XTJFUMJBKBGHOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXYACERDENCTQE-UHFFFAOYSA-N 2-[(3-ethenylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC(OCC2OC2)=C1 AXYACERDENCTQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQKZSTFCPAOFIV-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-ethylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(CC)=CC=C1OCC1OC1 AQKZSTFCPAOFIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPILSDOMLLYBQF-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(CCC)OCC1CO1 HPILSDOMLLYBQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQNSNCDRQNRUOH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-1-en-2-yloxyethoxy)ethoxy]prop-1-ene Chemical compound CC(=C)OCCOCCOC(C)=C AQNSNCDRQNRUOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INUQYDFFPFWCIF-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-(ethenoxymethyl)cyclohexyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1CC(COC=C)CCC1COCC1OC1 INUQYDFFPFWCIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVQVNVOXBBPUNS-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-(prop-1-en-2-yloxymethyl)cyclohexyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C(C1CO1)OCC1CCC(CC1)COC(=C)C RVQVNVOXBBPUNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVYJSOSGTDINLW-UHFFFAOYSA-N 2-[dimethyl(octadecyl)azaniumyl]acetate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC([O-])=O HVYJSOSGTDINLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- IZTBBIXVWBWSMW-UHFFFAOYSA-N 2-but-1-enyloxirane Chemical compound CCC=CC1CO1 IZTBBIXVWBWSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJQYEEBUDSHIKV-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(2,4,4-trimethylpentylperoxy)hexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)(C(=O)O)OOCC(C)CC(C)(C)C AJQYEEBUDSHIKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFSAPCRASZRSKS-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCCCC1=O LFSAPCRASZRSKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPBWMJBZQXCSFW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanoyl 2-methylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)C(=O)OOC(=O)C(C)C RPBWMJBZQXCSFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIZZJWNNGJSGL-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpropan-2-yl 2,2-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CCCCCCC(C)(C)C(=O)OOC(C)(C)c1ccccc1 NUIZZJWNNGJSGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOHBFAGTEWFCBI-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-enyloxirane Chemical compound CC=CC1CO1 KOHBFAGTEWFCBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRGJXSZPYHCBOY-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylsulfonyl-2-methylpropane;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CC(C)(C)S(=O)(=O)C(C)(C)C WRGJXSZPYHCBOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMDGQEQWSSYZKX-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenoxy)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(OC=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O SMDGQEQWSSYZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSSOJMFOKGTAFU-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2-prop-2-enoxyethoxy)ethoxy]prop-1-ene Chemical compound C=CCOCCOCCOCC=C XSSOJMFOKGTAFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJZLOCLHYFRDMX-UHFFFAOYSA-N 3-[2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propanoyl]oxypropane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)C(=O)OCCCS(O)(=O)=O LJZLOCLHYFRDMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 3-mercaptopropionate Chemical compound [O-]C(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVIDTCAFIMQJAZ-UHFFFAOYSA-N 4,5,6-tris(tert-butylperoxy)triazine Chemical compound CC(C)(C)OOC1=NN=NC(OOC(C)(C)C)=C1OOC(C)(C)C CVIDTCAFIMQJAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USWANRSZMQLWTG-UHFFFAOYSA-N 4-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOCC1CO1 USWANRSZMQLWTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCJIMAHNJOIWKQ-UHFFFAOYSA-N 4-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-4-yl)oxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C2=C1C=CC=C2OC1=CC=CC2=C1C(=O)OC2=O BCJIMAHNJOIWKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCKGFTQIICXDQW-ZEQRLZLVSA-N 5-[(1r)-1-hydroxy-2-[4-[(2r)-2-hydroxy-2-(4-methyl-1-oxo-3h-2-benzofuran-5-yl)ethyl]piperazin-1-yl]ethyl]-4-methyl-3h-2-benzofuran-1-one Chemical compound C1=C2C(=O)OCC2=C(C)C([C@@H](O)CN2CCN(CC2)C[C@H](O)C2=CC=C3C(=O)OCC3=C2C)=C1 OCKGFTQIICXDQW-ZEQRLZLVSA-N 0.000 description 1
- LIFHMKCDDVTICL-UHFFFAOYSA-N 6-(chloromethyl)phenanthridine Chemical compound C1=CC=C2C(CCl)=NC3=CC=CC=C3C2=C1 LIFHMKCDDVTICL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 6-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CCCC2OC21C=C XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWOCHAWPCWADAG-UHFFFAOYSA-N C(=C)(C)OC(C)O[Si](OCC)(OCC)CCC Chemical compound C(=C)(C)OC(C)O[Si](OCC)(OCC)CCC OWOCHAWPCWADAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOXXROJZJHTIKC-UHFFFAOYSA-N C(=C)(C)OC(CCC)[O+](C(=C)C)[O-] Chemical compound C(=C)(C)OC(CCC)[O+](C(=C)C)[O-] KOXXROJZJHTIKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXSMBGZAIZAAEU-UHFFFAOYSA-N C(=C)(C)[O+](CC1(CCCCC1)COC(=C)C)[O-] Chemical compound C(=C)(C)[O+](CC1(CCCCC1)COC(=C)C)[O-] WXSMBGZAIZAAEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYYNWKZBHSKFJN-UHFFFAOYSA-N C(=C)OC(CCC)[O+](C=C)[O-] Chemical compound C(=C)OC(CCC)[O+](C=C)[O-] PYYNWKZBHSKFJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCBCWFOLCLWBSC-UHFFFAOYSA-N C(=C)OCO[Si](OC)(OC)CC Chemical compound C(=C)OCO[Si](OC)(OC)CC MCBCWFOLCLWBSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKNXLYMQCUSTQL-UHFFFAOYSA-M C(=C)S(=O)(=O)[O-].[Rb+] Chemical compound C(=C)S(=O)(=O)[O-].[Rb+] RKNXLYMQCUSTQL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JXUQBQDGGNSGKG-UHFFFAOYSA-N C(C)O[Si](CCCNCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC.CO[Si](CCCNCCNCCC[Si](OC)(OC)OC)(OC)OC Chemical compound C(C)O[Si](CCCNCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC)(OCC)OCC.CO[Si](CCCNCCNCCC[Si](OC)(OC)OC)(OC)OC JXUQBQDGGNSGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWQYJUPJOXHGG-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OCO[Si](OC)(OC)CC Chemical compound C(C=C)(=O)OCO[Si](OC)(OC)CC FWWQYJUPJOXHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSHGQNRVBQTDMC-UHFFFAOYSA-M C=CC1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)[O-].[Rb+] Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C1)S(=O)(=O)[O-].[Rb+] HSHGQNRVBQTDMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AQUIHBGAORCCSB-UHFFFAOYSA-N CC(CS(=O)(=O)CC(C)C)C.C(C=C)(=O)N Chemical compound CC(CS(=O)(=O)CC(C)C)C.C(C=C)(=O)N AQUIHBGAORCCSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXVCZONNYCXPOJ-UHFFFAOYSA-M CS(=O)(=O)[O-].[K+].C(C=C)(=O)N Chemical compound CS(=O)(=O)[O-].[K+].C(C=C)(=O)N YXVCZONNYCXPOJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001391944 Commicarpus scandens Species 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-UHFFFAOYSA-N D-OH-Asp Natural products OC(=O)C(N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N Epoxybutene Chemical compound C=CC1CO1 GXBYFVGCMPJVJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-UWTATZPHSA-N L-Aspartic acid Natural products OC(=O)[C@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-UWTATZPHSA-N 0.000 description 1
- ODKSFYDXXFIFQN-BYPYZUCNSA-N L-arginine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCCN=C(N)N ODKSFYDXXFIFQN-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- 229930064664 L-arginine Natural products 0.000 description 1
- 235000014852 L-arginine Nutrition 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- LEVWYRKDKASIDU-IMJSIDKUSA-N L-cystine Chemical compound [O-]C(=O)[C@@H]([NH3+])CSSC[C@H]([NH3+])C([O-])=O LEVWYRKDKASIDU-IMJSIDKUSA-N 0.000 description 1
- 239000004158 L-cystine Substances 0.000 description 1
- 235000019393 L-cystine Nutrition 0.000 description 1
- ZDXPYRJPNDTMRX-VKHMYHEASA-N L-glutamine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(N)=O ZDXPYRJPNDTMRX-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- 229930182816 L-glutamine Natural products 0.000 description 1
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N N,N-Diethylethanamine Substances CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- GRSMWKLPSNHDHA-UHFFFAOYSA-N Naphthalic anhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=CC3=C1 GRSMWKLPSNHDHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHABMANUFPZXEB-UHFFFAOYSA-N O-demethyl-aloesaponarin I Natural products O=C1C2=CC=CC(O)=C2C(=O)C2=C1C=C(O)C(C(O)=O)=C2C MHABMANUFPZXEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N [2-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N [3-(2-sulfanylacetyl)oxy-2,2-bis[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]propyl] 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(COC(=O)CS)(COC(=O)CS)COC(=O)CS RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAAUVJUJVBJRSQ-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2-[[3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS YAAUVJUJVBJRSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPYFJVIASOJLJS-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)-2-bicyclo[2.2.1]heptanyl]methanamine Chemical compound C1CC2C(CN)C(CN)C1C2 RPYFJVIASOJLJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMUACOFWPWSQMR-UHFFFAOYSA-L [Ca+2].CC(CS(=O)(=O)[O-])C.C(C=C)(=O)[NH-] Chemical compound [Ca+2].CC(CS(=O)(=O)[O-])C.C(C=C)(=O)[NH-] GMUACOFWPWSQMR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NLAJTFZTDCZMFL-UHFFFAOYSA-L [Mg+2].CC(CS(=O)(=O)[O-])C.C(C=C)(=O)[NH-] Chemical compound [Mg+2].CC(CS(=O)(=O)[O-])C.C(C=C)(=O)[NH-] NLAJTFZTDCZMFL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WXCHCKJJFFTCBC-UHFFFAOYSA-N [NH4+].CC(CS(=O)(=O)[O-])C.C(C=C)(=O)[NH-].[NH4+] Chemical compound [NH4+].CC(CS(=O)(=O)[O-])C.C(C=C)(=O)[NH-].[NH4+] WXCHCKJJFFTCBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPXLADWLGCFEAM-UHFFFAOYSA-M [Rb+].CC(CS(=O)(=O)[O-])C.C(C=C)(=O)N Chemical compound [Rb+].CC(CS(=O)(=O)[O-])C.C(C=C)(=O)N PPXLADWLGCFEAM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BLNANQAUYMHROE-UHFFFAOYSA-N [butyl(dimethoxy)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCO[Si](OC)(OC)CCCC BLNANQAUYMHROE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSHQUWQUROJUEC-UHFFFAOYSA-N [decyl(dimethoxy)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCCC XSHQUWQUROJUEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFDUEJVHPWBNSM-UHFFFAOYSA-N [hexyl(dimethoxy)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCO[Si](OC)(OC)CCCCCC CFDUEJVHPWBNSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229960005261 aspartic acid Drugs 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTSSRZUUXRDFPD-UHFFFAOYSA-N azane;4-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical compound [NH4+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 WTSSRZUUXRDFPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPKYZIPODULRBM-UHFFFAOYSA-N azane;prop-2-enoic acid Chemical compound N.OC(=O)C=C WPKYZIPODULRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGIAKTJHCBPGOS-UHFFFAOYSA-N azanium;ethenesulfonate Chemical compound N.OS(=O)(=O)C=C SGIAKTJHCBPGOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011127 biaxially oriented polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920006378 biaxially oriented polypropylene Polymers 0.000 description 1
- CSXPRVTYIFRYPR-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-diethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C=C)(C=C)OCC CSXPRVTYIFRYPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPECUSGQPIKHLT-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-dimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(C=C)C=C ZPECUSGQPIKHLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OCC2OC2)C=1C(=O)OCC1CO1 JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDPRMMIFFJALK-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) cyclohexane-1,1-dicarboxylate Chemical compound C1CCCCC1(C(=O)OCC1OC1)C(=O)OCC1CO1 UTDPRMMIFFJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKZZIQXKLWDPCD-UHFFFAOYSA-N but-1-en-2-ol Chemical compound CCC(O)=C IKZZIQXKLWDPCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- IDXJVMVVQWXPSX-UHFFFAOYSA-N butoxy-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound CCCCO[Si](C)(C)C=C IDXJVMVVQWXPSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQEKAFQSVPLXON-UHFFFAOYSA-N butyl(trichloro)silane Chemical compound CCCC[Si](Cl)(Cl)Cl FQEKAFQSVPLXON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- HKVZTNFPHKXJJF-UHFFFAOYSA-L calcium;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Ca+2].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1.[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 HKVZTNFPHKXJJF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- TXTCTCUXLQYGLA-UHFFFAOYSA-L calcium;prop-2-enoate Chemical compound [Ca+2].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C TXTCTCUXLQYGLA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 229960002173 citrulline Drugs 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229960003067 cystine Drugs 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- LIQOCGKQCFXKLF-UHFFFAOYSA-N dibromo(dimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(Br)Br LIQOCGKQCFXKLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQNWJCQWBFHQAO-UHFFFAOYSA-N dibutoxy(dimethyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(C)OCCCC GQNWJCQWBFHQAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L dibutyl(dichloro)stannane Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)CCCC RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COHMKHHPCFCFPA-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(2-phenylethyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC[Si](Cl)(Cl)CCC1=CC=CC=C1 COHMKHHPCFCFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(ethenyl)silane Chemical compound C=C[Si](Cl)(Cl)C=C MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTEHVUWHCBXMPI-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](Cl)(Cl)CC=C VTEHVUWHCBXMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDASGLPLQWLMSJ-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-phenylsilane Chemical compound C=C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 QDASGLPLQWLMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)C1CCCCC1 QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIPQCVIAAJMBCE-UHFFFAOYSA-N diethoxy-bis(2-phenylethyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC[Si](OCC)(OCC)CCC1=CC=CC=C1 GIPQCVIAAJMBCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWQIWFOQNHTTIA-UHFFFAOYSA-N diethoxy-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(CC=C)OCC NWQIWFOQNHTTIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYZARHCMSBEPFF-UHFFFAOYSA-N diiodo(dimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(I)I UYZARHCMSBEPFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQVCMHAAWOVTNS-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-bis(2-phenylethyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC[Si](OC)(OC)CCC1=CC=CC=C1 PQVCMHAAWOVTNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WERMRYHPOOABQT-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](OC)(CC=C)OC WERMRYHPOOABQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQTNGCZMPUCIEX-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-prop-2-enylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CC=C WQTNGCZMPUCIEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIDTUTFKRRXWTK-UHFFFAOYSA-N dimethyl(dipropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(C)OCCC ZIDTUTFKRRXWTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019329 dioctyl sodium sulphosuccinate Nutrition 0.000 description 1
- MGHPNCMVUAKAIE-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)C1=CC=CC=C1 MGHPNCMVUAKAIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCIDZIIHRGYJAE-YGFYJFDDSA-L dipotassium;[(2r,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trihydroxy-6-(hydroxymethyl)oxan-2-yl] phosphate Chemical compound [K+].[K+].OC[C@H]1O[C@H](OP([O-])([O-])=O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H]1O KCIDZIIHRGYJAE-YGFYJFDDSA-L 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- YHAIUSTWZPMYGG-UHFFFAOYSA-L disodium;2,2-dioctyl-3-sulfobutanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCCCC(C([O-])=O)(C(C([O-])=O)S(O)(=O)=O)CCCCCCCC YHAIUSTWZPMYGG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- DHUSXRNOMZWNNA-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CCS(O)(=O)=O DHUSXRNOMZWNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPSWQJOTPSECLR-UHFFFAOYSA-N ethenoxymethoxy-dimethoxy-propylsilane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC=C VPSWQJOTPSECLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUZDTMQNDHYEFF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triiodo)silane Chemical compound I[Si](I)(I)C=C UUZDTMQNDHYEFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNBRCHPBPDRPIT-UHFFFAOYSA-N ethenyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)C=C NNBRCHPBPDRPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRTACFOVZDBFEX-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-ethylsilane Chemical compound CCO[Si](CC)(C=C)OCC IRTACFOVZDBFEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URZLRFGTFVPFDW-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(C=C)C1=CC=CC=C1 URZLRFGTFVPFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJNRGJJYCUCFHY-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-phenylsilane Chemical compound CO[Si](OC)(C=C)C1=CC=CC=C1 IJNRGJJYCUCFHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAZZFQOWCCWCNN-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-diethylsilane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)C=C FAZZFQOWCCWCNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C=C MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940052303 ethers for general anesthesia Drugs 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-N ethyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCOP(O)(O)=O ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N fenbutatin oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)C[Sn](O[Sn](CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)(CC(C)(C)C=1C=CC=CC=1)CC(C)(C)C1=CC=CC=C1 HOXINJBQVZWYGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000010438 granite Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910003471 inorganic composite material Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007759 kiss coating Methods 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- YSKIQSYEHUCIFO-UHFFFAOYSA-M lithium;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Li+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 YSKIQSYEHUCIFO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BKOLBAQLWMWQMZ-UHFFFAOYSA-M lithium;ethenesulfonate Chemical compound [Li+].[O-]S(=O)(=O)C=C BKOLBAQLWMWQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- PTCDAFSUWNMVBA-UHFFFAOYSA-L magnesium;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Mg+2].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1.[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 PTCDAFSUWNMVBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DWLAVVBOGOXHNH-UHFFFAOYSA-L magnesium;prop-2-enoate Chemical compound [Mg+2].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C DWLAVVBOGOXHNH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004579 marble Substances 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- BFOQBMCQGCJJTA-UHFFFAOYSA-N methanesulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound CS(O)(=O)=O.NC(=O)C=C BFOQBMCQGCJJTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- QMIREOCYHAFOPK-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC QMIREOCYHAFOPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVEKCXOJTLDBFE-UHFFFAOYSA-N n-dodecyl-n,n-dimethylglycinate Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC([O-])=O DVEKCXOJTLDBFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTNWKDHZTDQSST-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-diamine Chemical compound C1=CC=CC2=C(N)C(N)=CC=C21 NTNWKDHZTDQSST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- VUWDAOLDXOYMIZ-UHFFFAOYSA-N nonadecan-1-amine;hydrochloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCCC[NH3+] VUWDAOLDXOYMIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 229940049964 oleate Drugs 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 239000005026 oriented polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000009428 plumbing Methods 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- OLKADYSEEGGSCR-UHFFFAOYSA-M potassium prop-1-ene-2-sulfonate Chemical compound C(=C)(C)S(=O)(=O)[O-].[K+] OLKADYSEEGGSCR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OBRRLBBTAKVBRN-UHFFFAOYSA-M potassium;2-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [K+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C=C OBRRLBBTAKVBRN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AASJYTSQRQLZNE-UHFFFAOYSA-M potassium;2-methylpropane-1-sulfonate;prop-2-enamide Chemical compound [K+].NC(=O)C=C.CC(C)CS([O-])(=O)=O AASJYTSQRQLZNE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KURXMXVKOLLMCX-UHFFFAOYSA-M potassium;3-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [K+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC(C=C)=C1 KURXMXVKOLLMCX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YLQIJFPHMPTBGU-UHFFFAOYSA-M potassium;ethenesulfonate Chemical compound [K+].[O-]S(=O)(=O)C=C YLQIJFPHMPTBGU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N prop-2-ene-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC=C UIIIBRHUICCMAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJFFFGGTNMFGIH-UHFFFAOYSA-M prop-2-enoate;rubidium(1+) Chemical compound [Rb+].[O-]C(=O)C=C OJFFFGGTNMFGIH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CDMWFXRNJMRCQL-UHFFFAOYSA-N propane-1,2,3-triol;2-sulfanylacetic acid Chemical compound OC(=O)CS.OC(=O)CS.OCC(O)CO CDMWFXRNJMRCQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAYRWMCIKCRHIN-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid;prop-2-enamide Chemical compound NC(=O)C=C.CCCS(O)(=O)=O AAYRWMCIKCRHIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005053 propyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001028 reflection method Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229910001419 rubidium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 238000010187 selection method Methods 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N silicon tetrabromide Chemical compound Br[Si](Br)(Br)Br AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFTHARXEQHJSEH-UHFFFAOYSA-N silicon tetraiodide Chemical compound I[Si](I)(I)I CFTHARXEQHJSEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010454 slate Substances 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- JYILBYKLHQLTOL-UHFFFAOYSA-M sodium ethanesulfonate prop-2-enamide Chemical compound C(C)S(=O)(=O)[O-].[Na+].C(C=C)(=O)N JYILBYKLHQLTOL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- XESUCHPMWXMNRV-UHFFFAOYSA-M sodium;2-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C=C XESUCHPMWXMNRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AZGINNVTHJQMPB-UHFFFAOYSA-M sodium;2-methylpropane-1-sulfonate;prop-2-enamide Chemical compound [Na+].NC(=O)C=C.CC(C)CS([O-])(=O)=O AZGINNVTHJQMPB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PQVFIKHKSFZHLT-UHFFFAOYSA-M sodium;3-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC(C=C)=C1 PQVFIKHKSFZHLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M sodium;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M sodium;ethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=C BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPJUXKYRSFYJPS-UHFFFAOYSA-M sodium;prop-1-ene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].CC(=C)S([O-])(=O)=O CPJUXKYRSFYJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOEYNURYLFDCEV-UHFFFAOYSA-N tert-butyl hydroxy carbonate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)OO YOEYNURYLFDCEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 125000005068 thioepoxy group Chemical group S(O*)* 0.000 description 1
- 229940071127 thioglycolate Drugs 0.000 description 1
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M thioglycolate(1-) Chemical compound [O-]C(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- BZAROSBWJASVBU-UHFFFAOYSA-N tribromo(ethenyl)silane Chemical compound Br[Si](Br)(Br)C=C BZAROSBWJASVBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SGCFZHOZKKQIBU-UHFFFAOYSA-N tributoxy(ethenyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)C=C SGCFZHOZKKQIBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMYXZXAKZWIOHO-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-phenylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCC1=CC=CC=C1 FMYXZXAKZWIOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)Cl ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXYNXVPCURWAZ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-1-en-2-yl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)=C HPXYNXVPCURWAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-phenylethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=CC=C1 UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H zinc phosphate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000165 zinc phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/24—Homopolymers or copolymers of amides or imides
- C09D133/26—Homopolymers or copolymers of acrylamide or methacrylamide
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/283—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09D133/062—Copolymers with monomers not covered by C09D133/06
- C09D133/068—Copolymers with monomers not covered by C09D133/06 containing glycidyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D143/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium, or a metal; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D143/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium, or a metal; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D143/04—Homopolymers or copolymers of monomers containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D201/00—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
- C09D201/02—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
- C09D201/10—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups containing hydrolysable silane groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/02—Emulsion paints including aerosols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1656—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the film-forming substance
- C09D5/1662—Synthetic film-forming substance
- C09D5/1668—Vinyl-type polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/20—Properties of the layers or laminate having particular electrical or magnetic properties, e.g. piezoelectric
- B32B2307/21—Anti-static
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
- B32B2307/554—Wear resistance
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/712—Weather resistant
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/718—Weight, e.g. weight per square meter
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/728—Hydrophilic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2551/00—Optical elements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Description
曇りの問題を解決する方法として、アクリル系オリゴマーに反応性界面活性剤を加えた防曇塗料が提案されており、この防曇塗料から得られる硬化膜は親水性と吸水性が向上するとされている(非特許文献1)。また、汚れの問題を解決する方法として、例えば、表面の親水性を向上させて、外壁等に付着した汚れ(外気疎水性物質等)を降雨または散水等によって浮き上がらせて効率的に除去するセルフクリーニング性(防汚染性)を有する防汚染材料が注目されている(非特許文献2、3)。
その他に、鋼板塗装用水分散性樹脂組成物として、エポキシ基を有する重合性不飽和モノマーと、スルホン酸基等の酸基を有する重合性不飽和モノマーと、水酸基を有する重合性不飽和モノマーと、加水分解性シリル基を有する重合性不飽和モノマーとを、モノマー総量に対して各々0.1〜10wt%の使用量の範囲で乳化重合された共重合体樹脂(A)に、ジルコニウム化合物(B)とシランカップリング剤(C)が配合された組成物(特許文献6)が知られている。
[1]下記一般式(1)、(2)、および(3)で表される構成単位を含む共重合体(i)または該共重合体(i)を含む組成物から得られる、厚みが100nm(0.1μm)以下である膜。
A1は、単結合、炭素数1〜10である2価の炭化水素基、下記式(1−1)で表される基、または下記式(1−2)で表される基を示し、A2は、単結合、炭素数1〜10である2価の炭化水素基、下記式(2−1)で表される基、または下記式(2−2)で表される基を示し、A3は、単結合、炭素数1〜10である2価の炭化水素基、下記式(3−1)で表される基、または下記式(3−2)で表される基を示し、
R1、R2、およびR3は独立して水素原子またはメチル基を示し、R4は独立して水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、またはブチル基を示し、R10は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、またはブトキシ基を示し、
Mは水素原子、アルカリ金属イオン、1/2価のアルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、またはアミンイオンを示し;
下記式(1−1)、(1−2)、(2−1)、(2−2)、(3−1)、および(3−2)において、nおよびn2は独立して1〜10の整数であり、n1は0〜10の整数であり、mは1〜6の整数であり、m1は0〜6の整数であり、lは0〜4の整数であり、R5およびR6は独立して水素原子またはメチル基を示し、*はSO3Mと結合する側の端部、**はエポキシ基と結合する側の端部、***はSi原子と結合する側の端部を示す。)
n1は0〜10の整数であり、nは1〜10の整数であり、
R1、R2、R3、R5、およびR6は独立して水素原子またはメチル基を示し、R4は独立して水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、またはブチル基を示し、R10は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、またはブトキシ基を示し、
Mは水素原子、アルカリ金属イオン、1/2価のアルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、またはアミンイオンを示す。)
[4]上記共重合体(i)と、下記一般式(7)で表されるシラン化合物(ii)とを含む組成物から得られる項[1]〜[3]のいずれか1項に記載の膜。
R11〜R14は、それぞれ独立して、水酸基、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ビニル基、アリル基、フェニル基、2−フェニル−エチル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、またはハロゲン原子を示し、
qは0〜10000の整数である。)。
[7]項[1]〜[6]のいずれか1項に記載の膜からなる層(Z)と基材とを有する積層体。
[8]前記層(Z)が積層体の最外層である項[7]に記載の積層体。
[10]前記層(Z)と基材との間に、反射防止層を有する項[7]〜[9]のいずれか1項に記載の積層体。
[12]項[7]〜[11]のいずれか1項に記載の積層体を有する光学物品または光学装置。
上記式中、A1は、単結合、炭素数1〜10である2価の炭化水素基、下記式(1−1)で表される基、または下記式(1−2)で表される基を示し、A2は、単結合、炭素数1〜10である2価の炭化水素基、下記式(2−1)で表される基、または下記式(2−2)で表される基を示し、A3は、単結合、炭素数1〜10である2価の炭化水素基、下記式(3−1)で表される基、または下記式(3−2)で表される基を示す。
上記式(1−1)および(1−2)中、*はSO3Mと結合する側の端部、上記式(2−1)および(2−2)中、**はエポキシ基と結合する側の端部、上記式(3−1)および(3−2)中、***はSi原子と結合する側の端部を示す。
上記式(2)のA2が式(2−1)で表される基である場合には、上記式(2)で表される構成単位は、下記式(5A)で表される構成単位となる。
上記式(3)のA3が式(3−1)で表される基である場合には、上記式(3)で表される構成単位は、下記式(6)で表される構成単位となる。
イソプロペニル基を有するスルホン酸系化合物としては、イソプロペニルスルホン酸ナトリウム、イソプロペニルスルホン酸カリウムなどが好ましい。
アリル基を有するアルコキシシリル化合物としては、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリプロポキシシラン、アリルトリイソプロポキシシラン、アリルトリブトキシシラン、イソプロペニルトリエトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、アリルフェニルジメトキシシラン、アリルエチルジエトキシシラン、アリルジエチルモノエトキシシラン、アリルジメチルモノブトキシシランなどが好ましい。
スチリル基を有するアルコキシシリル化合物としては、スチリル−トリメトキシシラン、スチリル−トリエトキシシラン、スチリル−トリブトキシシラン、スチリル−メチルジメトキシシランなどが好ましい。
上記式(6')で表される化合物としては、例えば、(メタ)アクリロイルオキシ−エチルトリメトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシ−プロピル−トリメトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシ−ブチル−トリメトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシ−ヘキシル−トリメトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシ−デシル−トリメトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシ−プロピル−トリエトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシ−プロピル−トリプロポキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシ−プロピル−トリブトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシ−プロピル−メチルジメトキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシ−プロピル−エチルジエトキシシランなどが挙げられる。
他の構成単位は、例えば、上記(1')〜(3')で表される化合物を含む単量体混合物に、他の構成単位に対応する化合物をさらに加えて、重合することにより得ることができる。
上記共重合体(i)の繰り返し構造単位数は、通常1〜10,000の範囲であり、好ましくは3〜3,000の範囲、さらに好ましくは30〜1,500の範囲である。
ラジカル重合開始剤としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル等のニトリル類;
メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類;
イソブチリルパーオキサイド、o−クロロベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類;
トリス(t−ブチルパーオキシ)トリアジン、t−ブチルクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド類;
2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン、2,2−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブタン等のパーオキシケタール類;
α−クミルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシピバレート、2,4,4−トリメチルペンチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート等のアルキルパーエステル類;
ジ−3−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ジエチレングリコールビス(t−ブチルパーオキシカーボネート)等のパーカボネート類等が挙げられる。
上記共重合体(i)は、高い透明性が要求される用途の膜および積層体として使用される場合があるため、透明性が高くなるアモルファス性の重合体(結晶化度が低く、Tm(融点)が測定されないか、融解熱が小さい。非晶質重合体または潜晶質重合体に相当する。)が好ましい。
一方、コア・シェル構造体などの高次構造を形成する場合、これらのコア・シェル構造体は、一般的にミクロンサイズの大きい粒子となり易く、ナノサイズの小さい粒子ができても、凝集等により二次粒子化して、結局大きいミクロンサイズの粒子集合体となる傾向にある。例えば、これらミクロンサイズのコア・シェル構造体は、粒子サイズが光の1/4波長(約100nm)を超えるため、光が散乱して透明性が低下するため、高い透明性を要求される用途には使用できない。
このようにして生成した共重合体(i)は、通常、スルホン酸含有基を多数有する高分子量体であり、水にしか溶解しない性質を有することも多い。したがって、この場合、重合溶媒として、水を大量に用いなければ、重合反応の進行とともに、重合溶液から共重合体が析出してくる。
一方、重合溶液から共重合体が析出しにくい、スルホン酸含有基の数が少ない共重合体の場合は、貧溶媒に入れて析出させるか、エバポレーター等で溶媒を留去した後、貧溶媒中で撹拌し、濾過して乾燥する方法により目的の共重合体が得られる。
以下、それぞれの基で起こる反応について、詳細に説明する。
エポキシ基同士の反応は一般式(11)で表され、加熱して反応させることが好ましい。加熱温度は、おおよそ30〜250℃の範囲であり、好ましくは30〜200℃の範囲、さらに好ましくは30〜150℃の範囲である。このエポキシ基同士の反応は、酸などのカチオンおよび塩基などのアニオンに代表される触媒の存在によって、反応が加速される傾向にある。
エポキシ基とアルコキシシリル基の反応は、一般式(12)および一般式(14)で表される。
アルコキシシリル基同士の反応式は、一般式(13)で表され、加熱して反応させることが好ましい。加熱温度は、おおよそ30〜250℃の範囲であり、好ましくは30〜200℃の範囲、さらに好ましくは30〜180℃の範囲である。
この組成物中、重量比 共重合体(i)/共重合体(i)以外の反応性化合物は、おおよそ99.9/0.1〜0.1/99.9の範囲、好ましくは99.1/0.1〜0.1/99.9の範囲、より好ましくは99/1〜1/99の範囲、さらに好ましくは90/10〜10/90の範囲である。
また、反応性化合物として、シラン化合物(ii)を用いる場合には、シラン化合物(ii)以外の加水分解性基を有するシラン化合物、共重合体(i)以外のエポキシ基を有する化合物、水酸基を有する化合物、メルカプト基を有する化合物、カルボキシル基を有する化合物、アミノ基を有する化合物、酸無水物から選ばれる少なくとも1つの化合物と、シラン化合物(ii)とを組み合わせて用いることも好ましい一態様である。
X1、X2、および、R11〜R14が水酸基である場合には、その水酸基はSi原子に結合しているシラノール基であるため反応性が高く、場合によっては室温でも容易にシラノール基が関与する反応、例えば、シラン化合物(ii)および共重合体(i)中に含まれるシラノール基同士の脱水縮合によるシロキサン結合(Si−O−Si)を形成する反応、シラン化合物(ii)に含まれるシラノール基と共重合体(i)中のエポキシ基との反応などが起こり得る。また、X1、X2、および、R11〜R14がアルコキシ基またはハロゲン原子である場合、水酸基と同様の反応性を有し、例えばアルコキシ基またはハロゲン原子は加水分解されて水酸基(シラノール基)となった後、上述と同様のシラノール基が関与する反応が起こり得る。さらに、アルコキシ基は、水酸基よりも反応性は低いものの、比較的高温での加熱(おおよそ100℃以上)した場合には、直接縮合反応が起こり、シロキサン結合(Si−O−Si)を形成する反応などが起こり得る。したがって、Si原子に結合したX1、X2、および、R11〜R14が水酸基、アルコキシ基、またはハロゲン原子である場合には、これらにより、シラン化合物(ii)と共重合体(i)との間での架橋反応、シラン化合物(ii)同士の架橋反応などが起こり得て、共重合体(i)とシラン化合物(ii)を含む組成物を硬化させることが可能となる。
このような膜の硬度を制御する観点からは、シラン化合物(ii)に含まれるSi原子1個あたりの、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ビニル基、アリル基、フェニル基、および2−フェニル−エチル基(シラノール基が関与する反応が起こり得ない基)の総数は、好ましくは2個以下、より好ましくは1個以下であることが望ましい。また、シラン化合物(ii)に含まれるSi原子1個あたりの、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基、およびハロゲン原子(シラノール基が関与する反応が起こり得る基または原子)、ならびにシロキサン結合の総数は、好ましくは2個〜4個、より好ましくは3〜4個であることが望ましい。
ヒドロトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、(2−フェニル−エチル)トリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシラン類;
ジメチルジメトキシシラン、ジヒドロジメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジ(2−フェニル−エチル)ジメトキシシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジアリルジメトキシシラン、ヒドロフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ヒドロビニルジメトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、フェニルビニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジ(2−フェニル−エチル)ジエトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、ジアリルジエトキシシラン、ヒドロフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、ヒドロビニルジエトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、フェニルビニルジエトキシシランなどのジアルコキシシラン類;
テトラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラヨードシランなどのテトラハロゲン化シラン類;
ヒドロトリブロモシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、プロピルトリクロロシラン、ブチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、(2−フェニル−エチル)トリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリブロモシラン、ビニルトリヨードシラン、アリルトリクロロシランなどのトリハロゲン化シラン類;
ジヒドロジブロモシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジブロモシラン、ジメチルジヨードシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジ(2−フェニル−エチル)ジクロロシラン、ジビニルジクロロシラン、ジアリルジクロロシラン、ヒドロフェニルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、ヒドロビニルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、フェニルビニルジクロロシランなどのジハロゲン化シラン類;などが挙げられる。
(1)1mol当たりの蒸発潜熱 Hb=21×(273+Tb)〔単位:cal/mol〕,Tb:溶媒の沸点(℃)
(2)25℃での1mol当たりの蒸発潜熱 H25=Hb×{1+0.175×(Tb−25)/100}〔単位:cal/mol〕,Tb:溶媒の沸点(℃)
(3)分子間結合エネルギー E=H25−596〔単位:cal/mol〕
(4)溶媒1ml(cm3)当たりの分子間結合エネルギー E1=E×D/Mw〔単位:cal/cm3〕,D:密度(g/cm3),Mw:溶媒の分子量
(5)SP値: 溶解パラメーター σ=(E1)1/2 〔単位:(cal/cm3)1/2〕
メタノール、エタノール、1−プロパノール、IPA(イソプロパノール)、1−ブタノール、イソブタノール、2−ブタノール、1−ペンタノール、シクロヘキサノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−メトキシプロパノール、2−メチル−1−ブタノール、イソアミルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコールモノアセテート、ベンジルアルコール、エチレングリコール、1.2−プロピレングリコールなどのアルコール;
シクロヘキサノン、2−メチルシクロヘキサノン、アセトンなどのケトン;
蟻酸、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸;
酢酸メチル、エチレングリコールジアセテートなどのカルボン酸エステル;
ジオキサン、アニソール、THF(テトラヒドロフラン)などのエーテル;
DMF(N,N'−ジメチルホルムアミド)、DMAC(N,N'−ジメチルアセトアミド)などのアミド;
アセトニトリルなどのニトリル;及び
水等が挙げられる。
また、上記溶媒が2以上の溶媒を含む混合溶媒である場合には、少なくともその1つが、上記溶解パラメーターの条件を満たしていればよい。混合溶媒中に含まれるその1つの溶媒の溶解パラメーターが上記条件を満たしている場合には、共重合体(i)に由来する親水性のスルホン酸含有基とその1つの溶媒とが一定の相互作用を有するため、この混合物を基材に塗布して、その混合物から溶媒を除去する際に、塗布された混合物の外気に接する表面にその1つの溶媒と同伴して親水性のスルホン酸含有基を有する共重合体(i)が移動することには変わりはなく、その結果として、表面に親水性のスルホン酸含有基が濃縮されることになるからである。
(A) 蒸発速度=乾燥温度での飽和蒸気圧(mmHg)×√(分子量)
(B) 水に対する蒸発速度比R=水以外の溶媒の蒸発速度/水の蒸発速度
例えば、50℃における水の蒸発速度は92.6と計算され、50℃で溶媒乾燥を行う場合の代表的な溶媒の蒸発速度比Rは、およそ以下の通り計算される。
共重合体(i)または共重合体(i)を含む組成物から得られる膜の物性を改良する目的で、共重合体(i)または組成物に、添加剤または改質剤等を添加してもよい。添加剤または改質剤としては、例えば、紫外線吸収剤、HALS(ヒンダードアミン系光安定剤)、酸化防止剤、ラジカル捕捉剤、充填材、顔料、色補正剤、高屈折率化剤、香料、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、タレ防止材、その他改質剤などが挙げられる。
このようにして得られる共重合体(i)または共重合体(i)およびシラン化合物(ii)を含む組成物を硬化させることにより膜を形成することができる。なお、本発明で硬化とは、例えば共重合体(i)または該共重合体(i)を含む組成物から溶媒が除去された場合に、典型的には溶媒への溶解性が減じているまたは失われていることを意味する場合がある。共重合体(i)または該共重合体(i)を含む組成物が硬化されている場合には、典型的には、共重合体(i)または共重合体(i)およびシラン化合物(ii)を含む組成物中に含まれる基(典型的には、Si原子に結合するハロゲン原子、水酸基、およびアルコキシ基、ならびにエポキシ基)を反応させることにより形成されるシロキサン結合を主としたネットワーク(架橋構造)が、膜中に形成されている。
上記共重合体(i)または該共重合体(i)を含む組成物を基材に塗布する方法としては、例えば、刷毛塗り法、スプレーコーティング法、ワイヤーバー法、バーコーター法、ブレード法、ロールコーティング法、スピンコート法、ディッピング法、その他公知のコーティング方法が挙げられる。
スチレン−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、メチルメタアクリレート−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、クロロプレンラテックスコート剤、ポリブタジェンラテックスのゴム系ラテックスコート剤、ポリアクリル酸エステルラテックスコート剤、ポリ塩化ビニリデンラテックスコート剤、ポリブタジエンラテックスコート剤、あるいはこれらラテックスコート剤に含まれる樹脂のカルボン酸変性物ラテックスもしくはディスパージョンからなるコート剤が好ましい。
また、上記基材と層(Z)とを有する積層体には、種々の機能層が設けられていてもよい。
このような機能層としては、例えば、ハードコート層、反射防止(AR)層などが挙げられる。
上記反射防止層としては、低屈折率材料から形成される層、低屈折材料からなる層と高屈折材料からなる層を交互に積層した多層型反射防止層などが挙げられる。
一般に、光学用途で該積層体を用いる場合、高い透明性が必要となる場合が多い。そのような場合には積層体の各層をできるだけ薄くすることが望ましい傾向にある。上記機能層は、公知の方法で、積層体中に設けることができる。
本発明により得られる膜の水接触角は、通常30°以下、好ましくは20°以下、より好ましくは10°以下である。水接触角が上記上限値以下である膜は、親水性が高く、水となじみ(濡れ)やすく親水性材料として優れている。
本発明において、共重合体(i)の構造の評価は下記のようにして行った。
スルホン酸含有基を有するユニット(1)、エポキシ基を有するユニット(2)、およびトリアルコキシシリル基を有するユニット(3)のユニット比(1)/(2)/(3)は13C−NMRにより分析した。測定条件を以下に記載する。
* 装置: ブルカー・バイオスピン製 AVANCEIII cryo−500型核磁気共鳴装置
* 測定核: 13C(125MHz)
* 測定モード: シングルパルスプロトンブロードバンドデカップリング
* パルス幅: 45°(5.0μ秒)
* ポイント数: 64K
* 測定範囲: −25〜225ppm
* 積算回数: 1000回
* 測定溶剤: D2O
* 測定温度: 室温
* 試料濃度: 40mg/0.6ml−D2O
下記式(200)のf炭素のピーク(57〜59ppm付近)、下記式(300)のk炭素のピーク(51〜52ppm付近)、および下記式(400)のt炭素のピーク(4〜6ppm付近)の積分強度比で算出した。
即ち、ユニット比(1)/(2)/(3)=f炭素ピークの積分強度/k炭素ピークの積分強度/t炭素ピークの積分強度とした。
Mw(重量平均分子量)、および分散Mw(重量平均分子量)/Mn(数平均分子量)はGPCにより分析した。測定条件を以下に記載する。
測定条件
* 装置: 日本分光(株) GPC−900
* カラム: 昭和電工(株) Shodex Asahipac「GF−7M HQ」,Φ7.5mm×300mm
* 測定温度: 40℃
* 溶離液: 水/メタノール/NaHPO4/NaHPO4・2H2O=850.0/150.0/2.7/7.3(重量比)
* 流速: 0.5ml/min.
なお、本発明において被膜の物性評価は、下記のようにして行った。
協和界面科学社製の水接触角測定装置CA−V型を用いて、1サンプルについて3箇所測定し、これら値の平均値を水接触角の値とした。
日本電色工業社製のヘーズメーターNDH2000を用いて、1サンプルについて4箇所測定し、これら値の平均値をヘーズの値とした。
スチールウール#0000を用いて、ある一定の荷重をかけて10往復擦る。傷が入らなかった場合を〇、1〜5本の傷が入った場合を△、6本〜無数に傷が入った場合を×とした。
測定機器: ロータリーアブレージョンテスター ,(株)東洋精機製作所
磨耗輪: C180 OXF
荷重: 500g(250g+250g)×2
碁盤目テープ剥離試験により評価した。
呼気により曇らなかった場合を〇、曇った場合を×とした。
ゼブラ(株)製の油性マーカー「マッキー極細」(黒,品番MO-120-MC-BK)でマークし、その上に水滴を垂らして30秒間放置し、ティッシュペーパーでふき取る。マークがふき取れた場合を〇、ふき取れずに残った場合を×とした。
図2に示す試料調製の通り、基材10の上にコート層20を形成してなるサンプルを斜めに切断し、飛行時間型2次イオン質量分析装置(TOF−SIMS)を用いて、外表面におけるスルホン酸濃度(Sa)と、基材10に接する界面と前記外表面との中間地点におけるスルホン酸濃度(Da)とを測定し、その値から外気に接する膜の外表面と膜の内表面と外表面との中間地点のスルホン濃度比で表される傾斜度(Sa/Da)を求めた。ここで、本発明に係る積層体において、本発明に係る膜はコート層20を構成する。
TOF−SIMS; ION・TOF社製 TOF−SIMS 5
1次イオン; Bi3 2+ (加速電圧25kV)
測定面積; 300〜340μm2 測定には帯電補正用電子銃を使用
図2に示す通りに、基材10の表面にコート層20が設けられたサンプルを切削方向30に向かって、精密斜め切削を行った後、10×10mm2程度の大きさに切り出し、測定面にメッシュを当て、サンプルホルダーに固定し、外気と接するコート層表面40および膜の内部であるコート層内部50(膜厚1/2の地点、基材10に接するコート層の内表面)で飛行時間型2次イオン質量分析装置(TOF−SIMS)を用いてスルホン酸濃度を測定した。
評価は以下の計算式で行った。なお、各測定点のイオン濃度は、相対強度(トータル検出イオンに対する)を用いた。
傾斜度Sa/Da(スルホン酸濃度比,傾斜度)=コート層表面40でのスルホン酸濃度/コート層20の膜厚1/2の地点でのスルホン酸濃度
測定装置および条件
装置 :電界放出型透過電子顕微鏡(FE−TEM): JEM−2200FS(日本電子製)
加速電圧 : 200 kV
FIB(Focused Ion Beam System,集束イオンビームシステム)加工装置 : SMI2050(セイコーインスツルメンツ社製)
試料の凸面中央部を切り出した後、試料最表面にPtコートおよびカーボン蒸着を行った。これをFIB加工により薄膜化し、測定検体とした。測定検体を電界放出型透過電子顕微鏡(FE−TEM)で観察し、膜厚を測定した。
測定装置: 島津製作所,自動示差走査熱量計 DSC−60A
測定温度範囲: −30〜200℃(昇温速度20℃/分)
リファレンス: Al2O3 10mg
サンプル: 10mg
JIS K5600−5−6(付着性−クロスカット法)に準じて試験を行った。尚、評価は25マスを100マスに換算して剥離しなかった(密着していた)マスの数で表した。
コニカミノルタオプティクス株式会社,色彩色差計「CR−400」にて測定を行った。
減圧下で脱ガスされたメタノール559.6gを反応フラスコに装入し、攪拌しながら純度85wt%のKOHフレーク25.0g(0.379モル)を徐々に加えて完溶させた。次にアクリルアミド−t−ブチルスルホン酸(以下ATBSと略す。)81.0g(0.382モル)を分割装入して中和(PH=7.4)を行い、アクリルアミド−t−ブチルスルホン酸カリウム塩(以下ATBS−Kと略す。)を含む中和混合物を作製した。
減圧下で脱ガスされたメタノール535.5gを反応フラスコに装入し、攪拌しながら純度85wt%のKOHフレーク23.6g(0.357モル)を徐々に加えて完溶させた。次にATBS 75.7g(0.357モル)を分割装入して中和(PH=7.5)を行い、ATBS−Kを含む中和混合物を作製した。
減圧下で脱ガスされたメタノール400.0gを反応フラスコに装入し、攪拌しながら純度85wt%のKOHフレーク15.7g(0.237モル)を徐々に加えて完溶させた。次にATBS 50.1g(0.237モル)を分割装入して中和(PH=7.5)を行い、ATBS−Kを含む中和混合物を作製した。
減圧下で脱ガスされたメタノール1156.5gを反応フラスコに装入し、攪拌しながら純度85wt%のKOHフレーク15.0g(0.227モル)を徐々に加えて完溶させた。次にATBS 48.7g(0.230モル)を分割装入して中和(PH=7.5)を行い、ATBS−Kを含む中和混合物を作製した。
減圧下で脱ガスされたメタノール1062.1gを反応フラスコに装入し、攪拌しながら純度85wt%のKOHフレーク28.0g(0.424モル)を徐々に加えて完溶させた。次にATBS 89.9g(0.424モル)を分割装入して中和(PH=7.6)を行い、ATBS−Kを含む中和混合物を作製した。
減圧下で脱ガスされたメタノール550.0gを反応フラスコに装入し、攪拌しながら純度85wt%のKOHフレーク25.0g(0.379モル)を徐々に加えて完溶させた。次にATBS 81.0g(0.382モル)を分割装入して中和(PH=7.6)を行い、ATBS−Kを含む中和混合物を作製した。
減圧下で脱ガスされたメタノール1032.9gを反応フラスコに装入し、攪拌しながら純度85wt%のKOHフレーク28.0g(0.424モル)を徐々に加えて完溶させた。次にATBS 89.9g(0.424モル)を分割装入して中和(PH=7.6)を行い、ATBS−Kを含む中和混合物を作製した。
減圧下で脱ガスされたメタノール556.4gを反応フラスコに装入し、攪拌しながら純度85wt%のKOHフレーク13.0g(0.197モル)を徐々に加えて完溶させた。次にATBS 41.7g(0.197モル)を分割装入して中和(PH=7.6)を行い、ATBS−Kを含む中和混合物を作製した。
減圧下で脱ガスされたメタノール543.0gを反応フラスコに装入し、攪拌しながら純度85wt%のKOHフレーク8.00g(0.121モル)を徐々に加えて完溶させた。次にATBS 25.7g(0.121モル)を分割装入して中和(PH=7.6)を行い、ATBS−Kを含む中和混合物を作製した。
析出した重合体を濾別し、得られた濾塊をエタノールで洗浄後、減圧下(100mmHg未満)50℃の条件で重量変化がみられなくなるまで十分に乾燥し、白色の共重合体58.9g(収率89%)を得た。
反応フラスコに、3−スルホプロピルアクリレート・ナトリウム塩(以下SPA−Naと略す。)52.43g(0.2425モル)、4−グリシジルオキシ−ブチルアクリレート(以下GOBAと略す。) 2.43g(0.0121モル)、3−アクリロイルオキシ−プロピルトリメトキシシラン(以下KBM−5103と略す。) 2.84g(0.0121モル)、および減圧下で脱ガスされたメタノール488.9gを装入して混合液を作製した。
析出した重合体を濾別し、得られた濾塊をエタノールで洗浄後、減圧下(100mmHg未満)50℃の条件で重量変化がみられなくなるまで十分に乾燥し、白色の共重合体52.5g(収率91%)を得た。
減圧下で脱ガスされたメタノール1019.3gを反応フラスコに装入し、攪拌しながら純度85wt%のKOHフレーク30.0g(0.455モル)を徐々に加えて完溶させた。次にATBS 97.5g(0.460モル)を分割装入して中和(PH=7.6)を行い、ATBS−Kを含む中和混合物を作製した。
<光学系基材の作製>
MR−8ATM 50.6g、MR−8B1TM 23.9g、およびMR−8B2TM 25.5g(いずれも三井化学社製)と、ジブチルチンジクロリド0.035g、紫外線吸収剤(共同薬品社製、商品名バイオソーブ583)1.5g、および内部離型剤(三井化学社製、商品名MR用内部離型剤)0.1gとを混合して、均一な溶液を作製した。
合成例4で作製された共重合体 CH120531 0.5gに水2.5gを混合して水溶液を作製した後、この水溶液にEGM 170.31g、TEOS 1.3g、および5wt%硫酸 0.39gを混合した。得られた混合液を平均孔径0.5μmのフィルターに通して、固形分(共重合体およびSiO2換算のTEOSの合計量)NV0.5wt%の無色透明なコーティング用組成物−100を得た。この組成物中のポリマー/TEOS(SiO2換算)重量比は4/3(57/43)であった。
AR層を有するMR−8TM眼鏡レンズのAR層の表面に、上記コーティング用組成物−100をスピンコーター(回転数4000rpm)で塗布し、80℃×3時間加熱した。室温まで冷却後、コーティング膜表面を水で洗浄して、さらに40℃温風乾燥機で乾燥して、4nmの厚さのコーティング膜がAR層上に形成されたMR−8TM眼鏡レンズを得た。室温で、得られたMR−8TM眼鏡レンズ(積層体)の評価を行った。得られたコーティング膜が形成されたMR−8TM眼鏡レンズ(積層体)は透明で、親水性が高く、防曇および防汚性に優れていた。
現在市販されている防曇眼鏡レンズ(定期的にメーカー指定販売の界面活性剤を塗布して使用する眼鏡レンズ)について、メーカー指定の界面活性剤を塗布した後、実施例1Aと同様に評価を行った。結果を表1に掲載する。
表面にAR層を有するMR−8TM眼鏡レンズについて、何も処理せずに評価を行った。結果を表1および表2掲載する。さらに、反射率の測定結果を図4に掲載する。
<コーティング用組成物−101の調製>
合成例4で作製された共重合体 CH120531 0.5gに水2.5gを混合して水溶液を作製した後、この水溶液にEGM 39.1g、TEOS 1.3g、および5wt%硫酸 0.39gを混合した。得られた混合液を平均孔径0.5μmのフィルターに通して、固形分(共重合体およびSiO2換算のTEOSの合計量)NV2.0wt%無色透明なコーティング用組成物−101を得た。この組成物中のポリマー/TEOS(SiO2換算)重量比は4/3(57/43)であった。
HC層を有するMR−8TM眼鏡レンズのHC層の表面に上記コーティング用組成物−101(固形分NV2.0wt%)をスピンコーター(回転数4000rpm)で塗布し、80℃×3時間加熱した。室温まで冷却後、コーティング膜表面を水で洗浄して、さらに40℃温風乾燥機で乾燥して、厚み140nmのコーティング膜がHC層上に形成されたMR−8TM眼鏡レンズを得た。室温で、得られたMR−8TM眼鏡レンズ(積層体)の評価を行った。結果を表2に掲載する。
よく洗浄されたガラス板(表面の水接触角 8°未満)の表面に実施例1Aで調製されたコーティング用組成物−100(固形分NV0.5wt%)をスピンコーター(回転数4000rpm)で塗布し、80℃×3時間加熱した。室温まで冷却後、コーティング膜表面を水で洗浄して、さらに40℃温風乾燥機で乾燥して、厚み4nmコーティング膜が形成されたガラス板を得た。室温で膜の評価を行った。結果を表2に掲載する。
<コーティング用組成物−103の調製>
合成例7で作製された共重合体 CH130115 0.5gに水2.5gを混合して水溶液を作製した後、この水溶液にEGM 170.31g、TEOS 1.3g、および5wt%硫酸 0.39gを混合した。得られた混合液を平均孔径0.5μmのフィルターに通して、固形分(共重合体およびSiO2換算のTEOSの合計量)NV0.5wt%の無色透明なコーティング用組成物−103を得た。この組成物中のポリマー/TEOS(SiO2換算)重量比は4/3(57/43)であった。
AR層を有するMR−8TM眼鏡レンズのAR層の表面に、実施例4Aで調製されたコーティング用組成物−103(固形分NV0.5wt%)をスピンコーター(回転数4000rpm)で塗布し、80℃×3時間加熱した。室温まで冷却後、コーティング膜表面を水で洗浄して、さらに40℃温風乾燥機で乾燥して、4nmの厚さのコーティング膜がAR層上に形成されたMR−8TM眼鏡レンズを得た。室温で、得られたMR−8TM眼鏡レンズ(積層体)の評価を行った。結果を表2に掲載する。
<コーティング用組成物−104の調製>
合成例8で作製された共重合体 CH121112 0.5gに水2.5gを混合して水溶液を作製した後、この水溶液にEGM 96.7g、5wt%硫酸 0.23gを混合した。得られた混合液を平均孔径0.5μmのフィルターに通して、固形分NV0.5wt%の無色透明なコーティング用組成物−104を得た。
AR層を有するMR−8TM眼鏡レンズのAR層の表面に、実施例5Aで調製されたコーティング用組成物−104(固形分NV0.5wt%)をスピンコーター(回転数4000rpm)で塗布し、80℃×3時間加熱した。室温まで冷却後、コーティング膜表面を水で洗浄して、さらに40℃温風乾燥機で乾燥して、4nmの厚さのコーティング膜がAR層上に形成されたMR−8TM眼鏡レンズを得た。室温で、得られたMR−8TM眼鏡レンズ(積層体)の評価を行った。結果を表2に掲載する。
<プライマー用組成物−20の調製>
撹拌条件下、シランカップリング剤であるビス(トリメトキシシリルプロピル)アミン(以下KBM−666Pと略す。)0.5gに、EGM94.5g、および水5.0gを混合して、固形分0.5wt%のプライマー用組成物−20を調製した。
合成例4で作製された共重合体 CH120531 1.25gに、水62.5gを混合して水溶液を作製した後、室温および撹拌条件下、この水溶液にEGM 185.5g、および5wt%硫酸0.1gを混合した。得られた混合液を平均孔径0.5μmのフィルターに通して、固形分NV0.5wt%の無色透明なコーティング用組成物−20を得た。
(プライマー層の形成)
よく洗浄されたガラス板(表面の水接触角 8°未満)を、スピンコーター(MIKASA SPINCOATER 1H−DX2)にセットし、500rpmの回転速度で回転させながら、調製したプライマー用組成物−20(固形分0.5wt%)を滴下し、滴下5秒後4000rpmに回転速度を上昇し、さらにその回転数で10秒間ガラス板を回転させて、プライマー用組成物−20をガラス板表面に均一に塗布した。得られた塗布ガラス板を50℃のオーブンで1分間予備乾燥した後、150℃のオーブンで1時間加熱し、ガラス板上に、厚み5nmのシランカップリング剤から形成されたプライマー層を形成した。
そのプライマー層表面に、上記コーティング用組成物−20(固形分0.5wt%)をプライマー層の形成と同様にスピンコーター(MIKASA SPINCOATER 1H−DX2)で塗布し、50℃のオーブンで1分間予備乾燥した後、150℃×1時間加熱し、シランカップリング層上に、厚み5nmのコーティング膜を形成した。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120531 1.25gの替わりに、合成例2で作製された共重合体 CH110901 1.25gを用いる以外は、実施例1Bと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表3に掲載する。
共重合体 CH120531 1.25gの替わりに、合成例3で作製された共重合体 CH111011 1.25gを用いる以外は、実施例1Bと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表3に掲載する。
<プライマー用組成物−23の調製>
撹拌条件下、シランカップリング剤であるKBM−666P 0.5gに、EGM148.7g、および固形分30wt%のシリカゾル(メタノール溶液,日産化学社製) 0.8gを順次混合して、固形分0.5wt%のプライマー用組成物−23を150g調製した。
プライマー組成物−20をプライマー組成物−23に変更した以外は、実施例1Bと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。得られた硬化膜は透明で、水接触角5°、密着性100/100であった。
<コーティング用組成物の調製>
合成例4で作製された共重合体 CH120531 1.0gに水5.0gを混合して水溶液を作製した後、この水溶液にEGM 100.0g、TEOS 2.6g、および5wt%硫酸2.5gを混合した。得られた混合液を平均孔径0.5μmのフィルターに通して、固形分(共重合体およびSiO2換算のTEOSの合計量)NV3.0wt%の無色透明なコーティング用組成物を得た。この組成物中の重合体/TEOS(SiO2換算)重量比は4/3(57/43)である。
両面にAR(反射防止)層が積層された厚さ2mmの光学系ガラス板表面に、上記の組成物を含ませたティシュで両面に塗布し、50℃で3分間予備乾燥した後、170℃×1時間加熱してコーティング膜を形成した。室温まで冷却後、コーティング膜表面を水で洗浄し、エアガンで乾燥することにより、AR層上に10nmのコーティング膜を形成した。この膜の評価結果を表4に掲載する。
なお、反射率は以下の条件で測定した。
測定機種: 日立製作所製,紫外可視近赤外分光光度計「U−4100」
測定方法: 透過法、正反射法(入射角5°,絶対反射率)
測定波長領域: 450〜750nm
スキャンスピード: 300nm/分
サンプリング間隔: 1nm
スプリット幅: 6nm
<コーティング用組成物の調製>
合成例1で作製された共重合体 CH120417 5gに水28gを混合して溶液を作製した後、撹拌条件下、この溶液に2−メトキシエタノール(以下EGMと略す。)35g、テトラエトキシシラン(以下TEOSと略す。)26g、および5wt%硫酸6gを混合した。得られた混合液を平均孔径0.5μmのフィルターに通して、固形分(共重合体およびSiO2換算のTEOSの合計量)NV13wt%の無色透明なコーティング用組成物を得た。この組成物中の重合体/TEOS(SiO2換算)重量比は40/60である。
よく洗浄されたガラス板(表面の水接触角 8°未満)の表面に、上記コーティング用組成物をバーコーター#24で塗布し、50℃で5分間予備乾燥した後、150℃×1時間加熱し、ガラス板表面に厚み3μmのコーティング膜を形成した。室温まで冷却して、コーティング膜表面を水で洗浄し、エアガンで乾燥した後、膜の評価(外観、水接触角、防曇性、防汚性、摩耗試験)を行った。結果を表5に掲載する。なお、参考実験例1aでは、耐擦傷性、密着性の評価も行っているが、これらの結果はそれぞれ表6、表7に記載する。
<コーティング用組成物の調製およびコーティング膜の形成>
共重合体 CH120417 5gの替わりに、合成例2で作製されたATBS−K/GMA共重合体 CH110901 5gを用いる以外は参考実験例1aと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表5に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120417 5gの替わりに、合成例3で作製されたATBS−K/KBM−503共重合体 CH111011 5gを用いる以外は参考実験例1aと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表5に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH111011 5gの替りに、共重合体 CH111011 4.8gとグリセリントリグリシジルエーテル(以下EX−314と略す。)0.2gとの混合物を用いる以外は参考例2aと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表5に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
コーティング組成物を作製する際にTEOSを添加しない以外は参考例3aと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表5に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120417 5gの替わりに、重量平均分子量Mw=50万のPSS−Na(ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩,21wt%水溶液)23gとEX−314 0.2gとの混合物を用い、これと混合する水の量を28gから10gに変更した以外は参考実験例1aと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表5に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120417 5gの替わりに、重量平均分子量Mw=50万のPSS−Na(ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩,21wt%水溶液)24gを用い、これと混合する水の量を28gから9gに変更した以外は参考実験例1aと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表5に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120417 5gの替わりに、EX−314 5gを用いた以外は参考実験例1aと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表5に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120417を用いず、これと水28gを混合しない以外は参考実験例1aと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表5に掲載する。
参考実験例1aで作製した膜についてキセノン耐候性試験を行い、試験時間0時間、試験時間1000時間、試験時間2000時間での水接触角およびb*を測定した。なお、b*で表される値は、L*a*b*表色系におけるb*成分の値を示す。また、表6には、後述する参考例1bの実験結果と対比するため、キセノン耐候性試験前の膜の評価(外観、耐擦傷性、摩耗試験)の結果を掲載する。
測定装置:(株)東洋精機製作所 Ci40000
キセノン耐候試験条件
光源:キセノンランプ,放射強度:60W/m2(300〜400nm),BPT:63℃,降雨:18/120分
フィルター:内/外= ボロシリケートS/ボロシリケートS
<コーティング溶液の調製>
イルガキュアー127(チバ・ジャパン(株))0.30gにメタノール2.0gを混合してメタノール溶液を作製した後、撹拌条件下、このメタノール溶液にナイロスタッブS−EED(クラリアント・ジャパン(株))0.01g、3−スルホプロピルアクリレート0.12g、2,2−ビス(アクリロイルオキシメチル)プロピオン酸−3−スルホプロピルエステル・カリウム塩0.12g、および2−メトキシエタノール6.0gを混合して溶液を作製した。
得られた固形分NV50wt%のコーティング溶液を、バーコーター#06で基材(タキロン(株)製,ポリカーボネート板,縦100mm×横100mm×厚さ2mm)に塗布し、直ちに40〜50℃の温風乾燥機に2分間装入して溶剤を蒸発させ、最後にUVコンベアー(フュージョンUVシステムズ・ジャパン(株)製,無電極放電ランプ Hバルブ,コンベアー速度6m/分,積算光量900mJ/cm2)を通過させて、基材表面に厚み4μmの透明な膜を形成した。最後に表面を流水で洗浄しエアガンで乾燥し、膜の評価(外観、耐擦傷性、摩耗試験)を行った。さらに参考実験例1bと同様に耐候性試験を行い、試験時間0時間、試験時間1000時間、試験時間2000時間との水接触角を測定した。結果を表6に掲載する。ここで、下記表6において、参考例1bにおける膜組成(重量比)の欄に「アクリル樹脂 100」とあるのは、参考例1bではコーティング溶液を構成する重合体成分におけるアクリル樹脂の割合が100%であることを意味する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120417の量を5.0gから7.1gに変更し、TEOSの量を26gから18.6gに変更した以外は、参考実験例1aと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価(外観、水接触角、防曇性、防汚性、摩耗試験、密着性)を行った。結果を表7に掲載する。なお表7には、参考実験例1aで得られた膜の評価も併記する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120417の量を5.0gから6.3gに変更し、TEOSの量を26gから21.7gに変更した以外は、参考実験例1cと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表7に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120417の量を5.0gから4.2gに変更し、TEOSの量を26gから28.9gに変更した以外は、参考実験例1cと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表7に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120417の量を5.0gから3.1gに変更し、TEOSの量を26gから32.5gに変更した以外は、参考実験例1cと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表7に掲載する。
<コーティング用組成物の調製>
合成例4で作製された共重合体 CH120531 3.3gに水22gを混合して溶液を作製した後、撹拌条件下、この溶液にEGM 28g、TEOS 22g、および5wt%硫酸4.5gを混合した。得られた混合液を平均孔径0.5μmのフィルターに通して固形分(共重合体およびSiO2換算のTEOSの合計量)NV12wt%の無色透明なコーティング用組成物を得た。この組成物中の重合体/TEOS(as SiO2)重量比は33/67である。
よく洗浄されたガラス板(表面の水接触角 8°未満)の表面に、上記コーティング用組成物をバーコーター#24で塗布し、50℃で5分間予備乾燥した後、150℃×1時間で加熱し、ガラス板表面に厚み3μmのコーティング膜を形成した。室温まで冷却して、コーティング膜表面を水で洗浄した後、膜の評価(外観、水接触角、摩耗試験)を行った。結果を表8に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120531 3.3gの替わりに、合成例5で作製された共重合体 CH130117 3.3gを用いる以外は参考実験例1dと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表8に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120531 3.3gの替わりに、合成例6で作製された共重合体 CH120517 3.3gを用いる以外は参考実験例1dと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表8に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120531 3.3gの替わりに、合成例7で作製された共重合体 CH130115 3.3gを用いる以外は参考実験例1dと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表8に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120531 3.3gの替わりに、合成例8で作製された共重合体 CH121112 3.3gを用いる以外は参考実験例1dと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表8に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120531 3.3gの替わりに、合成例9で作製された共重合体 CH121029 3.3gを用いる以外は参考実験例1dと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表8に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120531 3.3gの替わりに、合成例10で作製された共重合体 CH130219 3.3gを用いる以外は参考実験例1dと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表8に掲載する。
<コーティング用組成物の調製とコーティング膜の形成および評価>
共重合体 CH120531 3.3gの替わりに、合成例11で作製された共重合体 CH130319 3.3gを用いる以外は参考実験例1dと同様に、コーティング組成物の作製、コーティング膜の形成、および水で洗浄後の膜の評価を行った。結果を表8に掲載する。
<コーティング用組成物の調製>
合成例4で作製された共重合体 CH120531 6.0gに水29.0gを混合して水溶液を作製した後、室温および撹拌条件下、この水溶液にEGM 38.0g、TEOS 21.0g、および5wt%硫酸6.0gを混合した。得られた混合液を平均孔径0.5μmのフィルターに通して、固形分NV12wt%の無色透明なコーティング用組成物100.0gを得た。この組成物中の重合体/TEOS(SiO2換算)重量比は1/1(50/50)である。
良く洗浄されたガラス板(表面の水接触角 8°未満)の表面に、上記コーティング用組成物をバーコーター#12で塗布し、50℃で5分間予備乾燥した後、150℃×1時間加熱し、ガラス板表面に厚み1.5μmのコーティング膜を形成した。室温まで冷却して、コーティング膜表面を水で洗浄した後、膜の評価(外観、水接触角、スルホン酸濃度)を行った。結果を表9に掲載する。
<ウレタン系プライマー組成物の調製>
三井化学社製 タケラックA315(固形分50wt%)10.0g、溶媒である2−ペンタノン 104.0g、および三井化学製 タケネートA10(固形分75wt%) 1.0gを混合溶解し、固形分5wt%のウレタン系プライマー溶液 115.0gを調製した。
参考実験例1eで得られたコーティング用組成物をそのまま用いた。
良く洗浄されたガラス板(表面の水接触角 8°未満)の表面に、上記プライマー組成物をバーコーター#2で塗布し、150℃×10分間加熱し、ガラス板表面に厚み0.1μmプライマー層を形成した。
そのプライマー層表面に、参考実験例1eと同様に、上記コーティング用組成物から厚み1.5μmのコーティング膜を形成し、コーティング膜表面を水で洗浄した後、膜の評価を行った。結果を表9に掲載する。
<コーティング用組成物−16の調製>
合成例6で作製された共重合体 CH120517 3.0gに、水10.0gを混合して水溶液を作製した後、室温および撹拌条件下、この水溶液にEGM 15.0g、グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(以下KBM−403と略す。) 1.5g、添加剤としてポリフローKL−100(共栄社化学社製) 0.03g、および5wt%硫酸5.0gを混合した。
なお、得られたコーティング用組成物の主成分の組成比(重量比)は、共重合体/KBM−403/シリカ=50/25/6(61.7/30.9/7.4)である。
(プライマー層の形成)
厚み2mmのポリカーボネート板(タキロン株式会社)をスピンコーター(MIKASA SPINCOATER 1H−DX)にセットし、500rpmの回転速度で回転させながら、参考実験例2eで調製したウレタン系プライマー組成物(固形分5wt%)を滴下し、滴下5秒後4000rpmに回転速度を上昇し、さらにその回転数で10秒間ポリカーボネート板を回転させて、ウレタン系プライマー組成物をポリカーボネート板表面に均一に塗布した。得られた塗布板を50℃のオーブンで1分間予備乾燥した後、120℃のオーブンで10分間加熱し、ポリカーボネート板表面に厚み0.05μmプライマー層を形成した。
そのプライマー層表面に、上記コーティング用組成物−16をバーコーター#40で塗布し、50℃で5分間予備乾燥した後、120℃×1時間加熱し、プライマー層上に厚み5μmのコーティング膜を形成した。室温まで冷却して、コーティング膜表面を水で洗浄した後、膜の評価(外観、水接触角、密着性)を行った。
得られた膜は透明で、膜の水接触角15°であり、密着性試験(碁盤目剥離試験)の結果は100/100であった。
<コーティング用組成物−17の調製>
合成例1で作製された共重合体 CH120417 6.0gに、水29.0gを混合して溶液を作製した後、室温および撹拌条件下、この溶液にEGM 38.0g、TEOS 20.8g、および5wt%硫酸6.0gを混合した。得られた混合液に、多官能アクリレートであるデナコールアクリレートDX−314(ナガセケムテックス(株)) 1.2g{共重合体 CH120417およびTEOS(SiO2換算)の合計重量に対して10wt%}とUV重合開始剤であるダロキュアー1173(BASF Japan Ltd.)0.06gとを混合した後、これを平均孔径0.5μmのフィルターに通して、固形分NV13wt%の無色透明なコーティング用組成物101gを得た。この組成物中の重合体/多官能アクリレート/TEOS(SiO2換算)重量比は5/1/5 (45.5/9.0/45.5)である。
よく洗浄されたガラス板(表面の水接触角 8°未満)の表面に、上記のコーティング用組成物−17をバーコーター#24で塗布し、50℃で5分間予備乾燥した後、UV照射し(無電極放電ランプ Hバルブ,照度800mW/cm2,積算光量390mJ/cm2)、次いで150℃×1時間加熱し、ガラス板表面に厚み3μmのコーティング膜を形成した。室温まで冷却して、コーティング膜表面を水で洗浄した後、膜の評価(水接触角、防曇性、防汚性)を行った。
得られた膜の水接触角6°であり、膜は防曇性および防汚性に優れていた。
Claims (11)
- 下記一般式(1)、(2)、および(3)で表される構成単位を含む共重合体(i)と下記一般式(7)で表されるシラン化合物(ii)とを含む組成物から得られる、厚みが100nm以下である膜。
A1は、単結合、炭素数1〜10である2価の炭化水素基、下記式(1−1)で表される基、または下記式(1−2)で表される基を示し、A2は、単結合、炭素数1〜10である2価の炭化水素基、下記式(2−1)で表される基、または下記式(2−2)で表される基を示し、A3は、単結合、炭素数1〜10である2価の炭化水素基、下記式(3−1)で表される基、または下記式(3−2)で表される基を示し、
R1、R2、およびR3は独立して水素原子またはメチル基を示し、R4は独立して水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、またはブチル基を示し、R10は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、またはブトキシ基を示し、
Mは水素原子、アルカリ金属イオン、1/2価のアルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、またはアミンイオンを示し;
下記式(1−1)、(1−2)、(2−1)、(2−2)、(3−1)、および(3−2)において、nおよびn2は独立して1〜10の整数であり、n1は0〜10の整数であり、mは1〜6の整数であり、m1は0〜6の整数であり、lは0〜4の整数であり、R5およびR6は独立して水素原子またはメチル基を示し、*はSO3Mと結合する側の端部、**はエポキシ基と結合する側の端部、***はSi原子と結合する側の端部を示す。)
R 11 〜R 14 は、それぞれ独立して、水酸基、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、ビニル基、アリル基、フェニル基、2−フェニル−エチル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、またはハロゲン原子を示し、
qは0〜10000の整数である。) - 一般式(1)、(2)、および(3)で表される構成単位が、それぞれ、下記一般式(4)、(5)および(6)で表される構成単位を含む請求項1に記載の膜。
n1は0〜10の整数であり、nは1〜10の整数であり、
R1、R2、R3、R5、およびR6は独立して水素原子またはメチル基を示し、R4は独立して水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、またはブチル基を示し、R10は水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、またはブトキシ基を示し、
Mは水素原子、アルカリ金属イオン、1/2価のアルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、またはアミンイオンを示す。) - 上記共重合体(i)のGPCにより測定した重量平均分子量が500〜3,000,000である請求項1または2に記載の膜。
- 上記共重合体(i)の重量と、上記シラン化合物(ii)のSiO2換算重量との比が99.9/0.1〜0.1/99.9の範囲にある組成物から得られる請求項1〜3のいずれか1項に記載の膜。
- 加熱により得られる請求項1〜4のいずれか1項に記載の膜。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の膜からなる層(Z)と基材とを有する積層体。
- 前記層(Z)が積層体の最外層である請求項6に記載の積層体。
- 前記層(Z)と基材との間に、ハードコート層を有する請求項6または7に記載の積層体。
- 前記層(Z)と基材との間に、反射防止層を有する請求項6〜8のいずれか1項に記載の積層体。
- 前記層(Z)を25℃の水に浸漬して10分間超音波処理する前後の、水接触角の変化が20°以内である請求項6〜9のいずれか1項に積層体。
- 請求項6〜10のいずれか1項に記載の積層体を有する光学物品または光学装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013083915 | 2013-04-12 | ||
JP2013083915 | 2013-04-12 | ||
PCT/JP2014/060119 WO2014168123A1 (ja) | 2013-04-12 | 2014-04-07 | 共重合体または組成物からなる膜 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016253852A Division JP6239086B2 (ja) | 2013-04-12 | 2016-12-27 | 共重合体または組成物からなる膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6072230B2 true JP6072230B2 (ja) | 2017-02-01 |
JPWO2014168123A1 JPWO2014168123A1 (ja) | 2017-02-16 |
Family
ID=51689530
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015511256A Active JP6072230B2 (ja) | 2013-04-12 | 2014-04-07 | 共重合体または組成物からなる膜 |
JP2016253852A Active JP6239086B2 (ja) | 2013-04-12 | 2016-12-27 | 共重合体または組成物からなる膜 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016253852A Active JP6239086B2 (ja) | 2013-04-12 | 2016-12-27 | 共重合体または組成物からなる膜 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20160046827A1 (ja) |
EP (1) | EP2985324A4 (ja) |
JP (2) | JP6072230B2 (ja) |
KR (1) | KR101777034B1 (ja) |
CN (1) | CN105073917B (ja) |
BR (1) | BR112015025893A2 (ja) |
WO (1) | WO2014168123A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3176216B1 (en) | 2014-07-31 | 2019-04-24 | Mitsui Chemicals, Inc. | Hydrophilic material comprising sulfonate copolymer and amino resin |
CN105368207A (zh) * | 2015-11-23 | 2016-03-02 | 周淑华 | 一种高清投影涂料 |
CN105542065B (zh) * | 2016-02-02 | 2018-05-08 | 浙江大学 | 一种多功能两亲性梳型聚合物改性剂及其制备方法与应用 |
US20210284862A1 (en) * | 2016-08-26 | 2021-09-16 | Mitsui Chemicals, Inc. | Antireflective Laminate |
BR112019003909A2 (pt) | 2016-08-26 | 2019-05-21 | Mitsui Chemicals, Inc. | laminado antiembaçante |
US10428229B2 (en) | 2017-12-28 | 2019-10-01 | Industrial Technology Research Institute | Aqueous coating material and method for manufacturing the same |
JP2021120421A (ja) * | 2018-03-29 | 2021-08-19 | 株式会社Lixil | プライマー組成物、機能性部材及び機能性部材の製造方法 |
CN111635700B (zh) * | 2020-06-04 | 2021-09-17 | 清远市宏图助剂有限公司 | 一种高效防龟裂抛光液及其使用方法 |
CN114958198B (zh) * | 2022-05-25 | 2023-09-01 | 武汉工程大学 | 一种聚合物铸膜液、抗雾涂层及其制备方法和应用 |
CN115948096B (zh) * | 2022-12-17 | 2023-08-22 | 沪宝新材料科技(上海)股份有限公司 | 一种楼地面隔音涂料及其制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08290531A (ja) * | 1995-02-07 | 1996-11-05 | Teijin Ltd | 表面を保護されたプラスチック成形体及びその製造方法 |
JPH1121512A (ja) * | 1997-07-01 | 1999-01-26 | Asahi Denka Kogyo Kk | 親水性コーティング用樹脂組成物 |
WO2007064003A1 (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-07 | Mitsui Chemicals, Inc. | 単層膜およびこれからなる親水性材料 |
JP2009292992A (ja) * | 2008-06-09 | 2009-12-17 | Daicel Chem Ind Ltd | 共重合体及び硬化性樹脂組成物 |
JP2010070735A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Fujifilm Corp | 親水性組成物、親水性部材、フィン材、熱交換器、及びエアコン |
JP2013020103A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ネガ型感光性平版印刷版 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5622365A (en) | 1979-08-02 | 1981-03-02 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Coating composition |
JPS61166824A (ja) | 1986-01-24 | 1986-07-28 | Toray Ind Inc | 硬化性樹脂組成物 |
JP2556126B2 (ja) | 1988-02-16 | 1996-11-20 | キヤノン株式会社 | 間隔測定装置及び間隔測定方法 |
JPH06166847A (ja) | 1992-11-30 | 1994-06-14 | Mitsubishi Kasei Corp | ハードコート |
EP1480061A1 (en) * | 2002-02-22 | 2004-11-24 | TDK Corporation | Article with composite hard coat layer and method for forming composite hard coat layer |
JP2006089589A (ja) | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Daicel Chem Ind Ltd | 金属表面用水分散性樹脂処理剤及び表面処理金属板 |
JP2006342221A (ja) | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Daicel Chem Ind Ltd | 水分散性樹脂組成物 |
JP2008088261A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Fujifilm Corp | 親水性膜形成用組成物および親水性部材 |
CA2675405C (en) * | 2007-01-16 | 2011-09-06 | Mitsui Chemicals, Inc. | Hardcoat composition |
JP5337394B2 (ja) * | 2007-05-15 | 2013-11-06 | 富士フイルム株式会社 | 親水性コーティング組成物及びこれを用いた親水性部材 |
CN101952381B (zh) * | 2008-03-10 | 2013-08-14 | 三井化学株式会社 | 底涂层剂组合物 |
KR101300382B1 (ko) * | 2008-03-21 | 2013-08-26 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 친수막 |
JP5604126B2 (ja) * | 2009-01-30 | 2014-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 親水性フィルム |
DE102012009691B4 (de) * | 2012-05-15 | 2021-12-09 | Carl Zeiss Vision International Gmbh | Antifog-Beschichtung auf einer Optikkomponente, Optikkomponente mit dieser Antifog-Beschichtung sowie Verfahren zur Herstellung dieser Antifog-Beschichtung |
-
2014
- 2014-04-07 JP JP2015511256A patent/JP6072230B2/ja active Active
- 2014-04-07 EP EP14782728.1A patent/EP2985324A4/en not_active Withdrawn
- 2014-04-07 US US14/779,902 patent/US20160046827A1/en not_active Abandoned
- 2014-04-07 KR KR1020157031033A patent/KR101777034B1/ko active IP Right Grant
- 2014-04-07 CN CN201480018593.2A patent/CN105073917B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-04-07 WO PCT/JP2014/060119 patent/WO2014168123A1/ja active Application Filing
- 2014-04-07 BR BR112015025893A patent/BR112015025893A2/pt not_active Application Discontinuation
-
2016
- 2016-12-27 JP JP2016253852A patent/JP6239086B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08290531A (ja) * | 1995-02-07 | 1996-11-05 | Teijin Ltd | 表面を保護されたプラスチック成形体及びその製造方法 |
JPH1121512A (ja) * | 1997-07-01 | 1999-01-26 | Asahi Denka Kogyo Kk | 親水性コーティング用樹脂組成物 |
WO2007064003A1 (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-07 | Mitsui Chemicals, Inc. | 単層膜およびこれからなる親水性材料 |
JP2009292992A (ja) * | 2008-06-09 | 2009-12-17 | Daicel Chem Ind Ltd | 共重合体及び硬化性樹脂組成物 |
JP2010070735A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Fujifilm Corp | 親水性組成物、親水性部材、フィン材、熱交換器、及びエアコン |
JP2013020103A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ネガ型感光性平版印刷版 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150136127A (ko) | 2015-12-04 |
JP2017110227A (ja) | 2017-06-22 |
JPWO2014168123A1 (ja) | 2017-02-16 |
EP2985324A1 (en) | 2016-02-17 |
US20160046827A1 (en) | 2016-02-18 |
KR101777034B1 (ko) | 2017-09-08 |
CN105073917A (zh) | 2015-11-18 |
EP2985324A4 (en) | 2016-10-12 |
CN105073917B (zh) | 2016-11-02 |
BR112015025893A2 (pt) | 2017-07-25 |
JP6239086B2 (ja) | 2017-11-29 |
WO2014168123A1 (ja) | 2014-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6283718B2 (ja) | 共重合体及びそれからなる親水性材料 | |
JP6239086B2 (ja) | 共重合体または組成物からなる膜 | |
JP6434519B2 (ja) | スルホン酸系共重合体とアミノ樹脂からなる親水性材料 | |
JP6483822B2 (ja) | 塗膜 | |
JP5788014B2 (ja) | 組成物及びそれからなる膜 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161021 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161227 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6072230 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |