JP6071506B2 - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6071506B2 JP6071506B2 JP2012269360A JP2012269360A JP6071506B2 JP 6071506 B2 JP6071506 B2 JP 6071506B2 JP 2012269360 A JP2012269360 A JP 2012269360A JP 2012269360 A JP2012269360 A JP 2012269360A JP 6071506 B2 JP6071506 B2 JP 6071506B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wire
- thin film
- voltage
- electrostatic spraying
- liquid agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Description
5 ワイヤ
5a 絶縁ワイヤ
5b 導電ワイヤ
7 電極部
8 カメラ
10 制御手段
12 発光層
23 陽極
24 陰極
31 粒子
32 静電噴霧装置
100 薄膜形成装置
200、300 有機EL素子
Claims (6)
- 溶媒に薄膜材料を溶融した液剤を静電噴霧によりワイヤに塗布して薄膜を形成する薄膜形成装置であって、
第1の溶媒に第1の薄膜材料を溶融した第1の液剤を複数の方向から前記ワイヤに向かって噴霧する第1の複数のノズル部、および、該第1の複数のノズル部のそれぞれと該ワイヤとの間に第1の電圧を印加する第1の電圧制御装置を有する第1の静電噴霧装置と、
前記第1の液剤を塗布したワイヤの乾燥および焼成を行う第1の乾燥/焼成装置と、
第2の溶媒に第2の薄膜材料を溶融した第2の液剤を複数の方向から前記ワイヤに向かって噴霧する第2の複数のノズル部、および、該第2の複数のノズル部のそれぞれと該ワイヤとの間に第2の電圧を印加する第2の電圧制御装置を有する第2の静電噴霧装置と、
前記ワイヤを移動させる移動装置と、を有し、
前記第1の電圧制御装置は、前記第1の電圧を印加することにより、前記第1の液剤を前記第1の複数のノズル部から前記ワイヤに向かって噴霧させ、
前記第1の乾燥/焼成装置は、前記第1の液剤が塗布されたワイヤの前記第1の溶媒を乾燥させ、前記第1の薄膜材料を焼成することにより、該ワイヤに第1の薄膜を形成し、
前記移動装置は、前記第1の薄膜が形成されたワイヤを前記第2の静電噴霧装置まで移動させ、
前記第2の電圧制御装置は、前記第2の電圧を印加して前記第2の液剤を前記第2の複数のノズル部から前記ワイヤに向かって噴霧することにより、前記第1の薄膜が形成されたワイヤに第2の薄膜を形成する、ことを特徴とする薄膜形成装置。 - 前記第1の乾燥/焼成装置は、前記第1の静電噴霧装置と前記第2の静電噴霧装置との間に設けられることを特徴とする請求項1に記載の薄膜形成装置。
- 前記第2の静電噴霧装置と前記移動装置との間に、前記第2の液剤を塗布したワイヤの乾燥および焼成を行う第2の乾燥/焼成装置を更に有し、
前記第2の乾燥/焼成装置は、前記第2の液剤が塗布されたワイヤの前記第2の溶媒を乾燥させ、前記第2の薄膜材料を焼成することにより、該ワイヤに前記第2の薄膜を形成することを特徴とする請求項1または2に記載の薄膜形成装置。 - 前記第1の複数のノズル部は、前記ワイヤに直交する面において互いに等しい第1の角度で配置されており、
前記第2の複数のノズル部は、前記ワイヤに直交する面において互いに等しい第2の角度で配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の薄膜形成装置。 - 前記ワイヤは接地されており、
前記第1の電圧制御装置は、前記ワイヤに対して前記第1の電圧を前記第1の複数のノズル部のそれぞれに印加し、
前記第2の電圧制御装置は、前記ワイヤに対して前記第2の電圧を前記第2の複数のノズル部のそれぞれに印加することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の薄膜形成装置。 - 前記移動装置は、前記ワイヤを巻取ることにより該ワイヤの薄膜形成領域を移動させることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の薄膜形成装置。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012269360A JP6071506B2 (ja) | 2012-12-10 | 2012-12-10 | 薄膜形成装置 |
PCT/JP2013/006611 WO2014083782A1 (ja) | 2012-11-30 | 2013-11-11 | レジスト膜形成装置とその方法、導電膜形成および回路形成装置とその方法、電磁波シールド形成装置とその方法、短波長高透過率絶縁膜の成膜装置とその方法、蛍光体の成膜装置とその方法、微量材料合成装置とその方法、樹脂モールド装置、樹脂モールド方法、薄膜形成装置、有機el素子、バンプ形成装置とその方法、配線形成装置とその方法、および、配線構造体 |
CN201380062908.9A CN105493233B (zh) | 2012-11-30 | 2013-11-11 | 抗蚀膜、导电膜、ptfe膜、荧光体成膜、以及绝缘膜的 形成装置及其方法 |
US14/648,587 US9831187B2 (en) | 2012-11-30 | 2013-11-11 | Apparatus and method for electrostatic spraying or electrostatic coating of a thin film |
TW104124726A TW201546878A (zh) | 2012-11-30 | 2013-11-19 | 光阻膜形成裝置及其方法、導電膜形成及電路形成裝置及其方法、電磁波遮罩形成裝置及其方法、短波長高透過率絕緣膜之成膜裝置及其方法、螢光體之成膜裝置及其方法、微量材料合成裝置及其方法、樹脂模封裝置、樹脂模封方法、薄膜形成裝置、有機el元件、凸塊形成裝置及其方法、配線形成裝置及其方法、以及配線構造體 |
TW102142089A TWI570772B (zh) | 2012-11-30 | 2013-11-19 | Photoresist film forming apparatus and method thereof, conductive film forming and circuit forming apparatus and method thereof, electromagnetic wave mask forming apparatus and method thereof, film forming apparatus and method for short wavelength high transmittance insulating film, film forming of phosphor Device and method thereof, micro-material synthesizing device and method thereof, resin mold sealing device, resin sealing method, film forming apparatus, organic EL element, bump forming apparatus and method thereof, wiring forming apparatus and method thereof, and wiring structure |
PH12015501217A PH12015501217A1 (en) | 2012-11-30 | 2015-05-29 | Resist film forming device and method, conductive film forming and circuit forming device and method, electromagnetic wave shield forming device and method, shortwave high-transmissibility insulation film forming device and method, fluorescent light body film forming device and method, trace material combining device and method, resin molding device, resin molding method, thin film forming device, organic electroluminescence element, bump forming device and method, wiring forming device and ... |
US15/362,258 US20170077042A1 (en) | 2012-11-30 | 2016-11-28 | Apparatus and method for electrostatic spraying or electrostatic coating of a thin film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012269360A JP6071506B2 (ja) | 2012-12-10 | 2012-12-10 | 薄膜形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014113543A JP2014113543A (ja) | 2014-06-26 |
JP6071506B2 true JP6071506B2 (ja) | 2017-02-01 |
Family
ID=51170135
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012269360A Active JP6071506B2 (ja) | 2012-11-30 | 2012-12-10 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6071506B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101839077B1 (ko) * | 2015-08-13 | 2018-03-16 | (주)세온 | 이중 노즐을 갖는 분무 열분해 장치 |
JP2018167133A (ja) * | 2015-09-03 | 2018-11-01 | コニカミノルタ株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
KR102523973B1 (ko) * | 2016-02-18 | 2023-04-20 | 삼성전자주식회사 | 정전분무 방법을 이용한 백색 유기 발광 소자의 제조방법 |
KR102490407B1 (ko) * | 2017-09-29 | 2023-01-18 | 한양대학교 산학협력단 | 정전분무법을 사용하여 도전성 와이어 상에 고분자 코팅막을 형성하는 방법, 고분자 코팅막을 구비하는 도전성 와이어, 및 상기 도전성 와이어들을 구비하는 누액 감지 케이블 |
KR102322533B1 (ko) * | 2019-10-21 | 2021-11-05 | 한밭대학교 산학협력단 | 다층 인쇄회로기판의 제조방법 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01146946A (ja) * | 1987-12-02 | 1989-06-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 防鼠性熱可塑性樹脂組成物 |
JP2894493B2 (ja) * | 1988-02-09 | 1999-05-24 | 三菱マテリアル株式会社 | 銀被覆有機繊維の製造方法 |
JPH0286016A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-27 | Fujikura Ltd | テープ状電線の製造方法 |
JPH055271A (ja) * | 1991-06-28 | 1993-01-14 | Kanebo Ltd | 金属皮膜を有する導電繊維の製造方法 |
JPH10249248A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-09-22 | Daido Steel Co Ltd | 溶接ワイヤ用静電塗油装置 |
JPH11213760A (ja) * | 1998-01-30 | 1999-08-06 | Sumitomo Wiring Syst Ltd | 被覆電線およびその被覆剥離方法 |
JP2003135997A (ja) * | 2001-11-02 | 2003-05-13 | Kansai Paint Co Ltd | 粉体塗装装置及び粉体塗装方法 |
JP5753710B2 (ja) * | 2011-03-11 | 2015-07-22 | Lui株式会社 | 静電型液体塗布装置及び静電型液体塗布方法 |
-
2012
- 2012-12-10 JP JP2012269360A patent/JP6071506B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014113543A (ja) | 2014-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6071506B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
WO2014083782A1 (ja) | レジスト膜形成装置とその方法、導電膜形成および回路形成装置とその方法、電磁波シールド形成装置とその方法、短波長高透過率絶縁膜の成膜装置とその方法、蛍光体の成膜装置とその方法、微量材料合成装置とその方法、樹脂モールド装置、樹脂モールド方法、薄膜形成装置、有機el素子、バンプ形成装置とその方法、配線形成装置とその方法、および、配線構造体 | |
KR102206027B1 (ko) | 박막 형성 장치 및 이를 이용한 유기 발광 소자의 제조 방법 | |
KR20170028050A (ko) | 박막 형성 장치, 이를 이용한 유기 발광 소자 및 이의 제조 방법 | |
CN103906703B (zh) | 用于对准通过静电纺丝工艺沉积的纳米线的方法和设备 | |
JP2016538693A (ja) | マイクロ又はナノ構造伝導層を有する材料を作製するためのプロセス | |
US20230345641A1 (en) | Method and system for manufacturing flexible transparent conductive film with embedded metal material | |
JP2017031517A (ja) | 電界紡糸装置 | |
JP2012135704A (ja) | エレクトロスプレーデポジション装置 | |
JPWO2013105558A1 (ja) | 静電スプレー装置および有機薄膜デバイスの製造方法 | |
KR101323763B1 (ko) | 투명전극필름 제조장치 | |
CN104947319B (zh) | 成膜装置 | |
WO2013180370A1 (ko) | 투명전극필름 제조장치 및 제조방법 | |
CN109478558A (zh) | 用于在基板上形成线结构的自下而上法 | |
KR20160046934A (ko) | 내부광추출층을 구비한 유연성 유기발광소자의 제조방법 | |
JP6502019B2 (ja) | 有機el素子用薄膜の評価方法及び有機el素子用薄膜の成膜装置 | |
KR100847676B1 (ko) | 정전 분무 방식에 의한 전자소자 미세박막 패턴의 롤인쇄장치 | |
Lee et al. | Fully Self-Powered Electrospray System via Triboelectric High Voltage Generator and Its Use to Control Wettability of Various Surfaces | |
CN102231430A (zh) | 有机电致发光显示器老化线的布线方法 | |
JP6292843B2 (ja) | エレクトロスプレー装置 | |
TWM559512U (zh) | 電激發光裝置 | |
CN110952311A (zh) | 一种大面积柔性电致发光纳米纤维网的制备方法 | |
JP2015029971A (ja) | エレクトロスプレー装置 | |
CN113713975B (zh) | 一种四电极静电喷雾打印装置及薄膜制备方法 | |
JP2011181271A (ja) | Esd有機el装置及び方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150831 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160823 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161018 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161108 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20161206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161227 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6071506 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |