JP6070722B2 - 反応性化合物 - Google Patents
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Description
[1] 式(I)で表される反応性化合物。
〔式(I)中、Zは2価の基を表す。Yは、同一でも異なっていてもよく、ヒドロキシル基を1個以上有する1価のボロン酸エステル残基を表し、Ar1及び、Ar2は、同一でも異なっていてもよく、3価の芳香族炭化水素基又は3価の複素環基を表す。〕
〔式(Y’−1)、(Y’−2)および(Y’−3)中、R’は、下記式(R’−1)、(R’−2)または(R’−3)で表される置換基である。R’’は、水素原子、メチル基、またはエチル基を表す。n及びmは、それぞれ整数を表し、n≧1、m≧0、n+m≦4を満たす。〕
〔式(R’−1)、(R’−2)および(R’−3)中、R’’’は、同一又は相異なり、水素原子、メチル基、またはエチル基を表す。〕
〔式(Z−1)〜式(Z−7)中、Rは、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表す。〕
〔式(II)中、Zは前述と同様の意味を表し、Yは、前述と同様の意味を表す。〕
〔式(III−1)及び式(III−2)中、Zは前述と同様の意味を表す。〕
〔式(IV−1)及び式(IV−2)中、R’’’’は、同一又は相異なり、水素原子又は置換基を表す。〕
〔式(Z−1)〜式(Z−7)中、Rは、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表す。〕
置換基を有していてもよいアルキル基の中で、ハロゲン原子で置換されたアルキル基の具体例としては、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3―トリフルオロプロピル基、4,4,4−トリフルオフォブチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、6,6,6−トリフルオロヘキシル基、7,7,7−トリフルオロヘプチル基、8,8,8−トリフルオロオクチル基、9,9,9−トリルフオロノニル基及び、10,10,10−トリフルオロデシル基が挙げられる。
置換基を有していてもよいアルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、トリフルオロメトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロブトキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、メトキシメチルオキシ基及び2−メトキシエチルオキシ基が挙げられる。
置換シリル基が有する置換基としては、例えば、置換されていてもよいアルキル基及びアリール基が挙げられる。置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例は、Rで表される置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例と同じである。 置換シリル基の具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ−p−キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、tert−ブチルジフェニルシリル基及びジメチルフェニルシリル基が挙げられる。
置換シリルオキシ基が有する置換基としては、例えば、置換されていてもよいアルキル基及びアリール基が挙げられる。置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例は、Rで表される置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例と同じである。置換シリルオキシ基の具体例としては、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリプロピルシリルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、tert−ブチルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリ−p−キシリルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジフェニルシリルオキシ基及びジメチルフェニルシリルオキシ基が挙げられる。
置換シリルチオ基が有する置換基としては、例えば、置換されていてもよいアルキル基及びアリール基が挙げられる。置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例は、Rで表される置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例と同じである。置換シリルチオ基の具体例としては、トリメチルシリルチオ基、トリエチルシリルチオ基、トリプロピルシリルチオ基、トリイソプロピルシリルチオ基、tert−ブチルジメチルシリルチオ基、トリフェニルシリルチオ基、トリ−p−キシリルシリルチオ基、トリベンジルシリルチオ基、ジフェニルメチルシリルチオ基、tert−ブチルジフェニルシリルチオ基及びジメチルフェニルシリルチオ基が挙げられる。
置換シリルアミノ基が有する置換基としては、例えば、置換されていてもよいアルキル基及びアリール基が挙げられる。置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例は、Rで表される置換されていてもよいアルキル基及びアリール基の具体例と同じである。置換シリルアミノ基の具体例としては、トリメチルシリルアミノ基、トリエチルシリルアミノ基、トリプロピルシリルアミノ基、トリイソプロピルシリルアミノ基、tert−ブチルジメチルシリルアミノ基、トリフェニルシリルアミノ基、トリ−p−キシリルシリルアミノ基、トリベンジルシリルアミノ基、ジフェニルメチルシリルアミノ基、tert−ブチルジフェニルシリルアミノ基、ジメチルフェニルシリルアミノ基、ジ(トリメチルシリル)アミノ基、ジ(トリエチルシリル)アミノ基、ジ(トリプロピルシリル)アミノ基、ジ(トリイソプロピルシリル)アミノ基、ジ(tert−ブチルジメチルシリル)アミノ基、ジ(トリフェニルシリル)アミノ基、ジ(トリ−p−キシリルシリル)アミノ基、ジ(トリベンジルシリル)アミノ基、ジ(ジフェニルメチルシリル)アミノ基、ジ(tert−ブチルジフェニルシリル)アミノ基、ジ(ジメチルフェニルシリル)アミノ基が挙げられる。
複素環式化合物の炭素数は通常4〜20程度である。複素環式化合物としては、例えば、フラン、チオフェン、ピロール、ピロリン、ピロリジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、イミダゾリン、イミダゾリジン、ピラゾール、ピラゾリン、プラゾリジン、フラザン、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、テトラゾール、ピラン、ピリジン、ピペリジン、チオピラン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピペラジン、モルホリン、トリアジン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、インドリン、イソインドリン、クロメン、クロマン、イソクロマン、ベンゾピラン、キノリン、イソキノリン、キノリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、インダゾール、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、キナゾリジン、シンノリン、フタラジン、プリン、プテリジン、カルバゾール、キサンテン、フェナントリジン、アクリジン、β−カルボリン、ペリミジン、フェナントロリン、チアントレン、フェノキサチイン、フェノキサジン、フェノチアジン及びフェナジンが挙げられる。複素環式化合物が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基及び置換されていてもよいアルキルチオ基が挙げられる。ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基及び置換及び置換されていてもよいアルキルチオ基の具体例は、Rで表されるハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基及び置換されていてもよいアルキルチオ基の具体例と同じである。1価の複素環基としては、1価の芳香族複素環基が好ましい。
ヒドロキシル基を有するボロン酸エステル残基としては、
3価以上のアルコールと2価のボロン酸により形成されるボロン酸エステル残基が挙げられ、式 (A):
(ここに、Gは、ヒドロキシル基を1個以上有する2価の飽和炭化水素基を表す。)
で示される基が好ましい。
ヒドロキシル基を1個以上有する2価の飽和炭化水素基の炭素数は通常、2〜84程度、好ましくは2〜10である。
ヒドロキシル基を1個以上有する2価の飽和炭化水素基の例としては、(A−1)〜(A−3)で示される基があげられる。
ここに、R1〜R4は同一または相異なり、水素原子、メチル基、エチル基、下記式(R’−1)で表される置換基、(R’−2)で表される置換基または(R’−3)で表される置換基である。但し、R1〜R4の1個以上4個以下、(好ましくは1個以上2個以下)が下記式(R’−1)で表される置換基、(R’−2)で表される置換基及び(R’−3)で表される置換基からなる群から選ばれる基である。
ここに、R5〜R10は同一または相異なり、水素原子、メチル基、エチル基、下記式(R’−1)で表される置換基、(R’−2)で表される置換基または(R’−3)で表される置換基である。但し、R5〜R10の1個以上6個以下、(好ましくは1個以上4個以下、より好ましくは1個以上2個以下)が、下記式(R’−1)で表される置換基、(R’−2)で表される置換基及び(R’−3)で表される置換基からなる群から選ばれる基である。
ここに、R11〜R17は同一または相異なり、水素原子、メチル基、エチル基、下記式(R’−1)で表される置換基、(R’−2)で表される置換基または(R’−3)で表される置換基である。但し、R11〜R17の1個以上8個以下、(好ましくは1個以上4個以下、より好ましくは1個以上2個以下)が、下記式(R’−1)で表される置換基、(R’−2)で表される置換基及び(R’−3)で表される置換基からなる群から選ばれる基である。
中でも、下記式(Y’−1)〜式(Y’−3)で表される基であることがより好ましい。
〔式(Y’−1)、(Y’−2)および(Y’−3)中、R’は、下記式(R’−1)、(R’−2)または(R’−3)で表される置換基である。R’’は、水素原子、メチル基、またはエチル基を表す。n及びmは、それぞれ整数を表し、n≧1、m≧0、n+m≦4を満たす。〕
R’は、下記式(R’−1)〜式(R’−3)で表される基であることが好ましい。
〔式(II)中、Zは前述と同様の意味を表し、Yは、前述と同様の意味を表す。〕
〔式(III−1)及び式(III−2)中、Zは前述と同様の意味を表す。〕
式(II)で表される反応性化合物としては、例えば、式(501)〜式(515)で表される化合物が挙げられる。
式(I):
〔式中、Ar1、Ar2、Z及び、Yは、前述と同様の意味を表す。〕
で表される1種類以上の化合物と、式(V):
〔式中、Ar3は、2価の芳香族炭化水素基又は、2価の複素環基を表す。式中Xは、同一又は相異なりハロゲン原子を表す。〕
で表される1種類以上の化合物とを反応させる、高分子化合物の製造方法が挙げられる。
(式(Cy−1)〜(Cy−5)中、Rは、前述と同じ意味を表す。R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は1価の基を表す。R1とR2は、互いに連結して、それらが結合している炭素原子とともに環状構造を形成してもよい。環Cyは、同一又は相異なり、置換基を有していてもよい芳香環を表す。R3は、2価の基を表す。)
(式(D−1)〜式(D−5)中、Rは、前述と同じ意味を表す。)
(ここに、Ar1、Ar2 、G及びZはそれぞれ前記と同様の意味を表す。)
で表される化合物は、
たとえば、
下記式(C):
(ここに、Ar1、Ar2 及びZはそれぞれ前記と同様の意味を表す。)
で表される化合物と、
下記式(D):
HO−G−OH (D)
(ここに、Gは 前記と同様の意味を表す。)
で表される化合物とを、
脱水反応に供することにより製造できる。
脱水反応は、酸の存在下で行うことができる。酸としては、パラトルエンスルホン酸等の有機酸;濃硫酸、希硫酸等の無機酸を用いることができる。酸を用いる場合、酸の添加量は、特に限定されず、式(C)で表される化合物1モルに対して、通常0.001モル〜100モルであり、好ましくは0.01モル〜10モルである。
脱水反応は、例えば、反応より生成する水を、反応系外に排出しながら行うことができる。水を反応系外に排出する方法としては、例えば、ディーンスターク管を用いる方法があげられる。
脱水反応の温度は通常40〜200℃であり、好ましくは60〜120℃である。脱水反応の時間は通常1分〜50時間であり、好ましくは、10分〜10時間である。
得られた化合物(B)は、再結晶法により容易に精製することができる。
下記式(E):
(ここに、Ar1、Ar2 Zは それぞれ前記と同様の意味を表し、Wは同一または相異なり、水素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。)
で表される化合物と、
メタル化剤
とを反応させて、式(F):
(ここに、Ar1、Ar2、Zは それぞれ前記と同様の意味を表し、Mは同一または相異なり、金属原子を表す。)
で表される化合物を製造し、
式(F)で表される化合物と
ジヒドロキシホウ素化剤とを反応させて製造することができる。
式(E)においてWが水素原子であることが化合物の製造が容易なので好ましい。
メタル化剤としては、アルキルリチウム、リチウムアミドが好ましい。アルキルリチウムの具体例としては、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウムが挙げられる。リチウムアミドの具体例としては、リチウムジイソプロピルアミドがあげられる。
メタル化剤の使用量は、式(E)で示される化合物1モルに対して、通常2〜10モルであり、好ましくは2〜4モルである。
反応の温度は通常−78℃〜50℃であり、好ましくは―78℃〜20℃である。反応の時間は通常5分〜5時間であり、好ましくは、10分〜3時間である。
式(F)で示される化合物において、Mとしてはリチウム原子が好ましい。
ジヒドロキシホウ素化剤の使用量は、式(F)で示される化合物1モルに対して、通常 2〜10モルであり、好ましくは2〜4モルである。
ジヒドロキシホウ素化反応の温度は通常−78℃〜80℃であり、好ましくは―20℃〜80℃である。反応の時間は通常5分〜5時間であり、好ましくは、10分〜3時間である。
式(E)で表される化合物と、メタル化剤とを反応させて、式(F)で表される化合物を製造し、
式(F)で表される化合物と
ジヒドロキシホウ素化剤と反応させて式(C)で示される化合物を製造し、
式(C)で表される化合物と、式(D)で表される化合物とを、脱水反応に供する製造方法である。
NMR測定は、化合物を重クロロホルムに溶解させ、NMR装置(Varian社製、INOVA300)を用いて行った。
LC測定は、化合物をテトラヒドロフランに溶解させ、LC装置(島津製作所製、LC−20A)を用いて行った。
(化合物3の合成)
四つ口フラスコに、国際公開番号(WO2011/052709A1)に記載の方法で合成した化合物1を9.50g(20.00mmol)、ジエチルエーテルを100mL加え、得られた反応液に室温(25℃)で30分間アルゴンガスを導入し、バブリングを行った。反応液を−70℃まで冷却した後、n−ブチルリチウム溶液(1.64mol/L,ヘキサン溶液)を29.3mL加え、室温にて2時間攪拌を行った。反応液を−70℃まで冷却した後、トリメトキシボランを5.20g(50.00mmol)を加え、−70℃のまま2時間攪拌を行った。液体クロマトグラフィーにより化合物1のピーク消失と、化合物2の生成を確認し、反応を終了した。
1.05−1.54(m,20H),1.840(m,4H),3.633(m,4H),
3.805(m,4H),4.015(m,4H),7.051(s,1H),7.111(s,1H)
(化合物6の合成)
四つ口フラスコに、国際公開番号(WO2011/052709A1)に記載の方法で合成した化合物4を10.62g(20.00mmol)、ジエチルエーテルを100mL加え、得られた反応液に室温(25℃)で30分間アルゴンガスを導入し、バブリングを行った。反応液を−70℃まで冷却した後、n−ブチルリチウム溶液(1.64mol/L,ヘキサン溶液)を29.3mL加え、室温にて2時間攪拌を行った。反応液を−70℃まで冷却した後、トリメトキシボランを5.20g(50.00mmol)を加え、−70℃のまま2時間攪拌を行った。液体クロマトグラフィーにより化合物4のピーク消失と、化合物5の生成を確認し、反応を終了した。
(化合物9の合成)
四つ口フラスコに、国際公開番号(WO2011/052709A1)に記載の方法で合成した化合物7を2.91g(4.00mmol)、ジエチルエーテルを20mL加え、得られた反応液に室温(25℃)で30分間アルゴンガスを導入し、バブリングを行った。反応液を−70℃まで冷却した後、n−ブチルリチウム溶液(1.64mol/L,ヘキサン溶液)を5.9mL加え、室温にて2時間攪拌を行った。反応液を−70℃まで冷却した後、トリメトキシボランを1.04g(10.00mmol)を加え、−70℃のまま2時間攪拌を行った。液体クロマトグラフィーにより化合物7のピーク消失と、化合物8の生成を確認し、反応を終了した。
(化合物22の合成)
500mlフラスコに、4,5−ジフルオロ−1,2−ジアミノベンゼン(化合物21)(東京化成工業製)を10.2g(70.8mmol)、ピリジンを150mL入れて均一溶液とした。フラスコを0℃に冷却し、フラスコ内に塩化チオニル16.0g(134mmol)を滴下した。滴下後、フラスコを25℃に温めて、6時間反応を行った。その後、反応液に水250mlを加え、さらにクロロホルムを加えて反応生成物を含む有機層を抽出した。クロロホルム溶液である有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液をエバポレーターで濃縮し、析出した固体を再結晶で精製した。再結晶の溶媒には、メタノールを用いた。精製後、化合物22を10.5g(61.0mmol)得た。
19F−NMR(CDCl3,δ(ppm)):−128.3(s,2F)
(化合物23の合成)
100mLフラスコに、化合物22を2.00g(11.6mmol)、鉄粉を0.20g(3.58mmol)入れ、フラスコを90℃に加熱した。このフラスコに、臭素31g(194mmol)を1時間かけて滴下した。滴下後、反応液を90℃で38時間攪拌した。その後、フラスコを室温(25℃)まで冷却し、クロロホルム100mLを入れて希釈した。得られた溶液を、5wt%の亜硫酸ナトリウム水溶液300mLに注ぎ込み、1時間攪拌した。得られた混合液の有機層を分液ロートで分離し、水層をクロロホルムで3回抽出した。得られた抽出液を有機層に混合し、混合した溶液を硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後、濾液をエバポレーターで濃縮し、溶媒を留去した。得られた黄色の固体を、55℃に熱したメタノール90mLに溶解させ、その後、25℃まで冷却した。析出した結晶を濾過して回収し、その後、室温(25℃)で減圧乾燥して化合物23を1.50g得た。
(重合体Aの合成)
四つ口フラスコに、化合物23を197.9mg(0.600mmol)、及び、テトラヒドロフランを15mL加え、得られた反応液に室温(25℃)で30分間アルゴンガスを導入し、バブリングを行った。その後、反応液にトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムを27.47mg(0.03mmol)、[トリ(ターシャリーブチル)ホスホニウム]テトラフルオロボレートを34.82mg(0.12mmol)、3mol/Lのリン酸カリウム水溶液を2.0mL(6.0mmol)加えた。系内温度25℃で攪拌しながら、219.2mgの化合物3(0.300mmol)と、236.0mgの化合物6(0.300mmol)を、15mLの1−クロロナフタレンに溶解させて得られた溶液を10分かけて滴下した。その後10分かけてオイルバスの温度を80℃まで昇温し反応を継続し、合計2時間攪拌を続けた。この時、系内の内温は60℃であった。その後、反応液にフェニルホウ酸を60.0mg(0.492mmol)加え、さらに1時間攪拌した後、反応を停止した。なお、反応はアルゴン雰囲気下で行った。その後、有機層を、10重量(wt)%の酢酸水溶液30mLで3回、さらに水30mLで1回洗浄し、アセトンに注いでポリマーを析出させ、濾過、乾燥することで粗精製ポリマーを得た。
(重合体Bの合成)
四つ口フラスコに、化合物23を99.0mg(0.300mmol)、及び、テトラヒドロフランを7.5mL加え、得られた反応液に室温(25℃)で30分間アルゴンガスを導入し、バブリングを行った。その後、反応液にトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムを13.74mg(0.015mmol)、[トリ(ターシャリーブチル)ホスホニウム]テトラフルオロボレートを17.41mg(0.06mmol)、3mol/Lのリン酸カリウム水溶液を1.0mL(3.0mmol)加えた。系内温度25℃で攪拌しながら、219.2mgの化合物3(0.300mmol)を、7.5mLのクロロベンゼンに溶解させて得られた溶液を10分かけて滴下した。その後、10分かけてオイルバスの温度を80℃まで昇温し反応を継続し、合計2時間攪拌を続けた。この時、系内の内温は60℃であった。その後、反応液にフェニルホウ酸を30.0mg(0.246mmol)加え、さらに1時間攪拌した後、反応を停止した。なお、反応はアルゴン雰囲気下で行った。その後、有機層を、10重量(wt)%の酢酸水溶液15mLで3回、さらに水15mLで1回洗浄し、アセトンに注いでポリマーを析出させ、濾過、乾燥することで粗精製ポリマーを得た。
(重合体Cの合成)
四つ口フラスコに、化合物23を197.9mg(0.600mmol)、及び、テトラヒドロフランを15mL加え、得られた反応液に室温(25℃)で30分間アルゴンガスを導入し、バブリングを行った。その後、反応液にトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムを27.47mg(0.03mmol)、[トリ(ターシャリーブチル)ホスホニウム]テトラフルオロボレートを34.82mg(0.12mmol)、3mol/Lのリン酸カリウム水溶液を2.0mL(6.0mmol)加えた。系内温度25℃で攪拌しながら、219.2mgの化合物3(0.300mmol)と、236.0mgの化合物6(0.300mmol)を、15mLのテトラヒドロフランに溶解させて得られた溶液を10分かけて滴下した。その後、10分かけてオイルバスの温度を80℃まで昇温し反応を継続し、合計2時間攪拌を続けた。この時、系内の内温は60℃であった。その後、反応液にフェニルホウ酸を60.0mg(0.492mmol)加え、さらに1時間攪拌した後、反応を停止した。なお、反応はアルゴン雰囲気下で行った。その後、有機層を、10重量(wt)%の酢酸水溶液30mLで3回、さらに水30mLで1回洗浄し、アセトンに注いでポリマーを析出させ、濾過、乾燥することで粗精製ポリマーを得た。
(重合体Dの合成)
四つ口フラスコに、化合物23を197.9mg(0.600mmol)、及び、テトラヒドロフランを21mL加え、得られた反応液に室温(25℃)で30分間アルゴンガスを導入し、バブリングを行った。その後、反応液にトリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムを27.47mg(0.03mmol)、[トリ(ターシャリーブチル)ホスホニウム]テトラフルオロボレートを34.82mg(0.12mmol)、3mol/Lのリン酸カリウム水溶液を2.0mL(6.0mmol)加えた。系内温度25℃で攪拌しながら、219.2mgの化合物3(0.300mmol)と、236.0mgの化合物6(0.300mmol)を、9mLのトルエンに溶解させて得られた溶液を10分かけて滴下した。その後、その後、10分かけてオイルバスの温度を80℃まで昇温し反応を継続し、合計2時間攪拌を続けた。この時、系内の内温は60℃であった。その後、反応液にフェニルホウ酸を60.0mg(0.492mmol)加え、さらに1時間攪拌した後、反応を停止した。なお、反応はアルゴン雰囲気下で行った。その後、有機層を、10重量(wt)%の酢酸水溶液30mLで3回、さらに水30mLで1回洗浄し、アセトンに注いでポリマーを析出させ、濾過、乾燥することで粗精製ポリマーを得た。
Claims (8)
- 下記式(I)で表される反応性化合物。
〔式(I)中、Zは2価の基を表す。Yは、同一でも異なっていてもよく、下記式(Y’−1)、(Y’−2)または(Y’−3)で表される基を表し、Ar1及びAr2は、同一でも異なっていてもよく、3価の芳香族炭化水素基又は3価の複素環基を表す。〕
〔式(Y’−1)、(Y’−2)および(Y’−3)中、R’は、下記式(R’−1)、(R’−2)または(R’−3)で表される置換基である。R’’は、水素原子、メチル基、またはエチル基を表す。n及びmは、それぞれ整数を表し、n≧1、m≧0、n+m≦4を満たす。〕
〔式(R’−1)、(R’−2)および(R’−3)中、R’’’は、同一又は相異なり、水素原子、メチル基、またはエチル基を表す。〕 - Ar1及びAr2が、3価の複素環基である請求項1に記載の反応性化合物。
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