JP6069362B2 - 液晶ディスプレイ - Google Patents

Description

本発明は、液晶ディスプレイに関する。より詳しくは、高精細ディスプレイに好適な液晶ディスプレイに関するものである。

近年、平面ディスプレイが盛んに開発されており、中でも液晶ディスプレイが、軽量、薄型、低消費電力等の利点から注目を集めている。また、特に最近では、主にスマートフォンやタブレットＰＣ等の携帯電子機器において、表示品位向上の観点から高精細度及び高視野角特性が求められるとともに、バッテリーを長持ちさせるために更なる低消費電力化が要望されている。例えば、２００〜３００ｐｐｉを超えるような超高精細度が望まれている。また、低消費電力化を実現するために画素の更なる高開口率化が求められている。

液晶ディスプレイは、一対の基板の間にシール材によって封止された液晶層を備えている。液晶層の厚み（いわゆるセルギャップ）を一定に維持するために、この一対の基板の間に柱状スペーサを設ける技術が一般に知られている（例えば、特許文献１参照。）。液晶層の厚みを一定に維持することは、表示品位を低下させないために重要である。

液晶層の厚みを一定に維持するための技術に関しては、例えば、第１基板と、上記第１基板に対向して配置された第２基板と、上記第１基板及び上記第２基板の間に設けられた表示媒体層と、複数の画素からなる表示領域とを備えた表示パネルであって、上記第１基板は、上記各画素毎に穴構造が上記第２基板側に開口して形成された層間絶縁膜を有し、上記第２基板には、上記表示媒体層の厚みを規定する複数の柱状スペーサが設けられ、上記柱状スペーサは、上記第２基板に平行な断面における最大幅が、上記穴構造の開口部における上記第２基板に平行な少なくとも１方向の幅よりも大きくなるように形成され、上記柱状スペーサと、該柱状スペーサの最も近くに配置されている上記穴構造との位置関係が、複数種類設けられていることを特徴とする表示パネルが開示されている（例えば、特許文献２参照。）。

また、液晶層を挟持する一対の基板が柱状スペーサを介して貼り合わされ、複数の画素によって表示を行う液晶ディスプレイにおいて、該画素内には、柱状スペーサとコンタクトホールとが設けられており、該柱状スペーサは、基板と平行な断面形状において、コンタクトホールと重なる領域と重ならない領域とを有していることを特徴とする液晶ディスプレイが開示されている（例えば、特許文献３参照。）。

特開２００９−４２６５６号公報 特開２００９−８０２００号公報 特開２００５−１０７４９４号公報

ここで、本発明者らが検討を行った比較形態１に係る液晶ディスプレイについて説明する。図２５は、比較形態１の液晶ディスプレイの断面構造を示す模式図である。比較形態１に係る液晶ディスプレイは、液晶パネル１０１と、液晶パネルの後方に配置されたバックライト（図示せず）とを備えている。液晶パネル１０１は、アレイ基板１１０と、対向基板１４０と、両基板１１０及び１４０の間にシール材（図示せず）によって封止された液晶層１０３とを有している。

アレイ基板１１０は、絶縁基板１１１と、絶縁基板１１１上の下地絶縁膜１１２と、下地絶縁膜１１２上の複数の半導体層１１６と、半導体層１１６を覆うゲート絶縁膜１１７と、ゲート絶縁膜１１７上の複数のゲートバスライン（図示せず）及び複数のゲート電極１１８と、ゲートバスライン及びゲート電極１１８を覆う層間絶縁膜１２２と、層間絶縁膜１２２上の複数のソースバスライン（図示せず）、複数のソース電極１１９及び複数のドレイン電極１２０と、ソースバスライン、ソース電極１１９及びドレイン電極１２０を覆う層間絶縁膜１２３と、層間絶縁膜１２３上の複数の画素電極１２１と、画素電極１２１を覆う配向膜（図示せず）とを含んでいる。層間絶縁膜１２３は、フォトリソグラフィー技術を用いて感光性樹脂膜から形成されており、各サブ画素内において層間絶縁膜１２３にはコンタクトホールとして各々機能する複数の開口部１３６が形成されている。各画素電極１２１は、開口部１３６を介してドレイン電極１２０に電気的に接続されている。

対向基板１４０は、絶縁基板１４１と、絶縁基板１４１上に形成されたブラックマトリクス（ＢＭ）１４２及びカラーフィルタ（図示せず）と、これらを覆うオーバーコート膜１４３と、オーバーコート膜１４３上に配置された共通電極１４４と、共通電極１４４上に形成された柱状スペーサ１４５と、共通電極１４４及びスペーサ１４５上に形成された配向膜（図示せず）とを含んでいる。スペーサ１４５は、フォトリソグラフィー技術を用いて感光性樹脂膜から形成されている。

スペーサ１４５の形成部においてアレイ基板１１０及び対向基板１４０が互いに接することで、液晶層１０３の厚みが一定に維持されている。

ここで、高精細度及び高開口率を実現する上では、スペーサ１４５の配置場所と層間絶縁膜１２３の開口部１３６の配置場所とが非常に重要であり、これらを同一直線上に配置した場合に最も高い開口率を確保することができる。これは、開口部１３６及びスペーサ１４５がともに、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ Ｆｉｅｌｄ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード等のノーマリーブラック方式を採用する液晶モードにおいて光漏れの原因となり、ＢＭ１４２で覆われる必要があるためである。また、精細度が高くなると、スペーサ１４５を小さくする必要が生じる。しかしながら、スペーサ１４５を小さくすると、スペーサ１４５を円柱のような柱状に設計したとしても、その先端部は、丸みを帯びてしまい、スペーサ１４５は、１つだけの頂点部分を有してしまう。

また、層間絶縁膜１２３の側面部（開口部１３６に隣接する部分）は通常、順テーパ状に形成されるが、開口部１３６のピッチが小さくなると、２つの側面部の距離が短くなる。更に、側面部が急峻になると、配向膜形成用のインクが開口部１３６上において表面張力で盛り上がり、インクを均一に塗布できず、配向膜の膜厚にムラが生じることがある。以上より、配向膜の膜厚ムラを防止しつつ高精細度を実現するためには、隣り合う２つの開口部１３６間の距離を小さくし、かつ、層間絶縁膜１２３の側面部の傾斜を緩やかにする必要が生じる。その結果、隣り合う２つの開口部１３６の間において、層間絶縁膜１２３の表面は、丸みを帯びてしまう。

そして、本発明者らは、このような比較形態１に係る液晶ディスプレイにおいてアレイ基板１１０及び対向基板１４０の貼り合せずれが生じると、以下に示すような不具合が発生することを見いだした。

層間絶縁膜１２３の表面とスペーサ１４５の先端部とがともに丸みを帯びており、両者が点で接することから、図２６に示すように基板１１０及び１４０の貼り合せずれが生じると、スペーサ１４５によって保持される基板１１０と基板１４０の間隔が小さくなり、それらの隙間の容積が小さくなってしまう。他方、基板１１０及び１４０の間に供給される液晶材料の容量は、貼り合せずれの有無にかかわらず所定の容量に設定されている。したがって、貼り合わせずれが発生したセルに所定の容量の液晶材料が供給されると、スペーサ１４５によって形成された基板１１０及び１４０間の隙間に液晶材料が過剰に詰まった状態となる。このような過剰な液晶材料は、シール材周辺の内部応力が集中しやすい領域に集まりやすいため、シール材周辺で液晶層１０３の厚みにムラが生じ、表示ムラが発生してしまう。例えば、白い表示ムラが発生したり、ＩＰＳモードのように誘電率異方性の高い液晶材料を用いた場合では黄色い表示ムラが発生したりする。

また、基板１１０及び１４０の貼り合せずれが生じた場合では、図２７に示すように、スペーサ１４５がもつ弾性力（復元力）が分散し、液晶層１０３の厚さ方向における弾性力の成分は、図２８に示す貼り合せずれが生じていない場合と比べて小さくなる。そのため、パネル表面を押す等してパネル表面に一時的に荷重をかけたとき、液晶層１０３が元の厚さに戻るのに時間がかかってしまう。したがって、比較形態１の液晶パネル１０１は、タッチパネルに対応したパネルに適さないものとなってしまう。

また、特許文献２に記載の表示パネルでは、柱状スペーサと、柱状スペーサの最も近くに配置されている穴構造との位置関係が複数種類設けられる必要がある。しかしながら、２００ｐｐｉを超えるような超高精細パネルの場合、柱状スペーサ及び穴構造そのものを限界まで小さくする必要がある。また、開口率を限界まで高めるには柱状スペーサ及び穴構造の配置関係を複数種類設けることは困難である。したがって、特許文献２に記載の表示パネルでは、更なる高精細度を実現するという点で改善の余地があった。

更に、特許文献３には、柱状スペーサがコンタクトホールと重なる領域と重ならない領域とを有することによって開口率を向上できると記載されている。しかしながら、コンタクトホールの周辺では層間絶縁膜は、上述のように、順テーパ形状を有することがある。そのため、基板の貼り合せずれが生じると、液晶層の厚みにムラが生じたり、液晶材料が不足して気泡が発生したりする可能性がある。また、そのような不具合を考慮して柱状スペーサを大きくすると開口率が低下してしまう。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、基板の貼り合わせずれが発生したとしても不具合の発生を抑制でき、かつ高精細化に有利な液晶ディスプレイを提供することを目的とするものである。

本発明の一態様は、第１基板と、第２基板と、前記第１及び第２基板の間に挟持された液晶層とを備える液晶ディスプレイであってもよく、
前記第１基板は、同一の直線上に複数の開口部が形成された層間絶縁膜を含んでもよく、
前記層間絶縁膜は、湾曲した上面部を各々有する複数の湾曲部を含んでもよく、
前記複数の湾曲部は各々、隣り合う２つの開口部の間に位置してもよく、
前記第２基板は、前記複数の湾曲部の少なくとも１つに対向するスペーサを含んでもよく、
前記直線と平行な方向を第１方向とし、前記第１方向に直交する方向を第２方向とすると、前記スペーサは、前記第２方向よりも前記第１方向において、より長くてもよい。
以下、この液晶ディスプレイを本発明に係る液晶ディスプレイとも言う。

本発明に係る液晶ディスプレイにおける好ましい実施形態について以下に説明する。なお、以下の好ましい実施形態は、適宜、互いに組み合わされてもよく、以下の２以上の好ましい実施形態を互いに組み合わせた実施形態もまた、好ましい実施形態の一つである。

前記スペーサは、前記複数の湾曲部の内の連続するＮ個（Ｎは２以上の整数）の湾曲部に押し付けられてもよい。

前記第１方向における前記スペーサの長さをＸとし、前記第１方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｘとし、前記第１方向における前記Ｎ個の開口部のピッチをＬとすると、本発明に係る液晶ディスプレイは、（Ｎ−１）×Ｌ＋２×Δｘ≦Ｘの関係を満たしてもよい。

前記第１方向における前記スペーサの長さをＸとし、前記第１方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｘとし、前記第１方向における前記Ｎ個の開口部のピッチをＬとすると、本発明に係る液晶ディスプレイは、Ｘ≦（Ｎ＋１）×Ｌ−２×Δｘの関係を満たしてもよい。

前記スペーサは、前記複数の湾曲部の内の１つの湾曲部だけに押し付けられてもよい。

前記第１方向における前記スペーサの長さをＸとし、前記第１方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｘとすると、本発明に係る液晶ディスプレイは、２×Δｘ≦Ｘの関係を満たしてもよい。

前記第１方向における前記スペーサの長さをＸとし、前記第１方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｘとし、前記第１方向における前記２つの開口部のピッチをＬとすると、本発明に係る液晶ディスプレイは、Ｘ≦２×Ｌ−２×Δｘの関係を満たしてもよい。

前記第２方向における前記スペーサの長さをＹとし、前記第２方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｙとすると、本発明に係る液晶ディスプレイは、２×Δｙ≦Ｙの関係を満たしてもよい。

前記第２基板は、ブラックマトリクスを更に含んでもよく、
前記スペーサは、前記ブラックマトリクス上に配置されてもよく、
前記第２方向における前記ブラックマトリクスの幅をＢとし、前記第２方向における前記スペーサの長さをＹとすると、本発明に係る液晶ディスプレイは、Ｙ≦Ｂの関係を満たしてもよい。

前記層間絶縁膜は、２つの突起部を更に含んでもよく、
前記スペーサは、前記第２方向において、前記２つの突起部の間に配置されてもよく、
前記第２方向における前記スペーサの長さをＹとし、前記第２方向における前記２つの突起部の互いに対向する２つの端部間の距離をＭとし、前記第２方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｙとすると、本発明に係る液晶ディスプレイは、Ｙ≦Ｍ−２×Δｙの関係を満たしてもよい。

前記スペーサは、平坦な上面部を有してもよく、
前記上面部の高さのばらつきは、０．０５μｍ以下であってもよい。

前記スペーサの平面形状の中心及び／又は重心は、平面視において、前記直線上に位置してもよい。

前記スペーサの平面形状の中心及び／又は重心は、平面視において、前記直線上に位置しなくてもよい。

前記スペーサは、平面視において、ｎ角形状、楕円形状若しくは円形状に形成されるか、又は、複数の形が組み合わされた形状に形成されてもよい。

前記スペーサは、平面視において、前記複数の形が互いに部分的に重なり合った形状に形成されてもよい。

前記スペーサは、平面視において、前記複数の形が互いに離れて配置された形状に形成されてもよい。

本発明によれば、基板の貼り合わせずれが発生したとしても不具合の発生を抑制でき、かつ高精細化に有利な液晶ディスプレイを実現することができる。

実施形態１の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。 実施形態１の液晶ディスプレイの断面構造を示す模式図であり、図１中のＡ−Ｂ線における断面構造を示す。 実施形態１の液晶ディスプレイにおけるアレイ基板の断面構造を示す模式図であり、図１中のＣ−Ｄ線における断面構造を示す。 実施形態１の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。 実施形態１の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。 実施形態１の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。 実施形態１の液晶ディスプレイの断面構造を示す模式図であり、アレイ基板及び対向基板の貼り合わせずれが生じた状態を示す。 実施形態１に係る、スペーサと層間絶縁膜の湾曲部とを示す断面模式図である。 実施形態１に係る、スペーサと層間絶縁膜の湾曲部とを示す断面模式図である。 実施形態１に係る、スペーサと層間絶縁膜の湾曲部とを示す断面模式図である。 実施形態１に係る、スペーサと層間絶縁膜の湾曲部とを示す断面模式図である。 実施形態１に係る、スペーサとブラックマトリクスと層間絶縁膜とを示す断面模式図である。 実施形態１に係るスペーサを示す断面模式図である。 実施形態２の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。 実施形態２の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。 実施形態２の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。 実施形態２に係る、スペーサと層間絶縁膜の開口部とを示す断面模式図である。 実施形態２に係る、スペーサと層間絶縁膜の開口部とを示す断面模式図である。 実施形態１に係る、スペーサと層間絶縁膜の開口部とを示す断面模式図である。 実施形態３の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。 実施形態３に係るスペーサを示す斜視模式図である。 実施形態１に係るスペーサを示す斜視模式図である。 実施形態３の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。 実施形態３に係るスペーサを示す斜視模式図である。 比較形態１の液晶ディスプレイの断面構造を示す模式図である。 比較形態１の液晶ディスプレイの断面構造を示す模式図であり、アレイ基板及び対向基板の貼り合わせずれが生じた状態を示す。 比較形態１に係る、スペーサ及び層間絶縁膜を示す断面模式図である。 比較形態１に係る、スペーサ及び層間絶縁膜を示す断面模式図である。

以下に実施形態を掲げ、本発明を図面に参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。

なお、本明細書において、ｎ角形状は、理想的なｎ角形と同視できる形状のみならず、理想的なｎ角形の角が丸められた形状も包含するものとする。また、複数の形が組み合わされた形状において複数の形がｎ角形を含む場合も同様とし、該ｎ角形には、理想的なｎ角形と同視できる形のみならず、理想的なｎ角形の角が丸められた形も包含するものとする。

また、本明細書において、平行四辺形は、２組の対辺がいずれも平行である四角形であって一組の長辺及び一組の短辺からなるものを意味し、２組の対辺がいずれも平行である四角形であって四辺の長さが互いに等しい菱形は含まないものとする。

（実施形態１）
図１及び４〜６は、実施形態１の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。図２は、実施形態１の液晶ディスプレイの断面構造を示す模式図であり、図１中のＡ−Ｂ線における断面構造を示す。図３は、実施形態１の液晶ディスプレイにおけるアレイ基板の断面構造を示す模式図であり、図１中のＣ−Ｄ線における断面構造を示す。図８〜１１は、実施形態１に係る、スペーサと層間絶縁膜の湾曲部とを示す断面模式図である。図１２は、実施形態１に係る、スペーサとブラックマトリクスと層間絶縁膜とを示す断面模式図である。図１３は、実施形態１に係るスペーサを示す断面模式図である。なお、図２及び３は、それぞれ、後述する第１方向及び第２方向に平行な断面を示している。

実施形態１に係る液晶ディスプレイは、アクティブマトリクス駆動方式、かつ、透過型の液晶ディスプレイであり、液晶パネル１と、液晶パネルの後方に配置されたバックライト（図示せず）とを備えている。液晶パネル１は、上記第１基板に対応するアレイ基板１０と、上記第２基板に対応し、アレイ基板１０と対向して配置された対向基板４０と、両基板１０及び４０の間にシール材（図示せず）によって封止された液晶層３とを有している。また、本実施形態の液晶ディスプレイは、画像を表示する表示エリア（図示せず）を有しており、表示エリアは、マトリクス状に配置された複数のサブ画素２によって構成されている。また、複数（例えば、赤、緑及び青の３つ）のサブ画素２から１つの画素が構成されている。サブ画素及び画素は、表示エリア内において、行方向（左右方向）及び列方向（上下方向）に配列されている。

アレイ基板１０は、ガラス板や石英板等の透光性を有する絶縁基板１１を含んでいる。絶縁基板１１上には、表示エリア内において、サブ画素２毎に配置された複数の画素電極２１と、列方向に各々延在された複数のゲートバスライン１３と、行方向に各々延在された複数のソースバスライン１４と、各サブ画素２においてソースバスライン１４及びゲートバスライン１３の交差部付近に配置された複数のスイッチング素子とが形成されている。各スイッチング素子は、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１５によって構成されている。

絶縁基板１１上には下地絶縁膜１２が形成されており、下地絶縁膜１２上には各ＴＦＴ１５の半導体層１６が形成されている。半導体層１６は、例えば、ポリシリコン、アモルファスシリコン等の１４属元素の半導体や、酸化物半導体等の材料から形成することができる。半導体層１６の結晶性は特に限定されず、半導体層１６は、単結晶、多結晶、非晶質、又は、微結晶であってもよく、これらの２種以上の結晶構造を含んでもよい。なお、微結晶とは、非晶質と多結晶が混在する状態を意味する。

酸化物半導体は、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）及びカドミウム（Ｃｄ）からなる群より選ばれる少なくとも一種の元素と、酸素（Ｏ）とを含むことが好ましく、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、亜鉛（Ｚｎ）及び酸素（Ｏ）を含むことがより好ましい。酸化物半導体を用いた場合は、アモルファスシリコンを用いた場合に比べて、ＴＦＴ１５の移動度を高くすることができる。そのため、精細度が高くなったとしても、すなわち、サブ画素２当たりのＴＦＴ１５のオン時間が短くなったとしても、画素電極２１に充分に電圧を印加することができる。また、酸化物半導体を用いた場合は、アモルファスシリコンを用いた場合に比べて、ＴＦＴ１５のオフ状態でのリーク電流（オフリーク）を減少することができる。そのため、高精細度の場合もそうでない場合も、低周波駆動、停止期間を設ける駆動等の駆動を採用でき、消費電力を低減することができる。

酸化物半導体の具体例としては、ＩＧＺＯ（Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ、酸化インジウムガリウム亜鉛）、ＩｎＧａＯ_３（ＺｎＯ）_５、Ｍｇ_ｘＺｎ_１−ｘＯ、Ｃｄ_ｘＺｎ_１−ｘＯ、ＣｄＯ等が挙げられる。また、１族元素、１３族元素、１４族元素、１５族元素及び１７族元素からなる群より選ばれる少なくとも一種の元素（不純物元素）が添加された、非晶質状態、多結晶状態若しくは微結晶状態のＺｎＯ、又は、上記不純物元素が添加されていない、非晶質状態、多結晶状態若しくは微結晶状態のＺｎＯを使用してもよい。

半導体層１６は、ゲート絶縁膜１７によって覆われており、ゲート絶縁膜１７上には、上記ゲートバスライン１３と、複数のゲート電極１８とが形成されている。各ゲート電極１８は、対応するゲートバスライン１３と一体的に形成されることによってそのゲートバスライン１３に電気的に接続されている。ゲートバスライン１３は、表示エリア外に設けられたゲートドライバ（図示せず）に接続されている。

表示エリアにおいて、ゲートバスライン１３及びゲート電極１８は、層間絶縁膜２２によって覆われており、層間絶縁膜２２上には、上記ソースバスライン１４、複数のソース電極１９及び複数のドレイン電極２０が形成されている。ゲート絶縁膜１７及び層間絶縁膜２２には、コンタクトホールとして各々機能する複数の開口部３４及び複数の開口部３５が形成されている。各サブ画素２において、ソース電極１９及びドレイン電極２０は、それぞれ、半導体層１６の一方及び他方の端部上に配置されている。そして、ソース電極１９は、対応するソースバスライン１４と一体的に形成されることによってそのソースバスライン１４に電気的に接続されるとともに、開口部３５を介して半導体層１６の一方の端部（ソース領域）に接触している。また、ドレイン電極２０は、画素電極２１に電気的に接続されるとともに、開口部３４を介して半導体層１６の他方の端部（ドレイン領域）に接触している。各ＴＦＴ１５は、半導体層１６、ゲート絶縁膜１７、ゲート電極１８、ソース電極１９及びドレイン電極２０から構成されている。ソースバスライン１４は、ゲートバスライン１３と直交するように延在され、表示エリア外に設けられたソースドライバ（図示せず）に接続されている。

表示エリアにおいて、ソースバスライン１４と、ソース電極１９と、ドレイン電極２０の一部とは、層間絶縁膜２３によって覆われている。層間絶縁膜２３は、層間絶縁膜としての機能に加えて、平坦化膜としての機能を有している。そのため、アレイ基板１０の表面の凹凸を小さくする（平坦化する）ことができる。また、層間絶縁膜２３には、コンタクトホールとして各々機能する複数の開口部３６が形成されている。各列のサブ画素２において、開口部３６は、列方向と平行な直線（仮想的な直線）６上に一列に配置されている。各開口部３６の平面形状は特に限定されないが、通常、四角形又は円形である。

層間絶縁膜２３の表面は、バックライトからの光を透過し得る開口領域内においては、略平坦である。他方、遮光領域内、特に隣り合う２つの開口部３６の間においては、層間絶縁膜２３の表面は、丸みを帯びている。より詳細には、層間絶縁膜２３は、隣り合う２つの開口部３６の間に各々位置する複数の湾曲部２４を含んでおり、開口部３６と湾曲部２４とは直線６上で交互に配置されている。また、各湾曲部２４は、弧を描くように湾曲した上面部（液晶層３側の表面部分）を有し、平坦な上面部を有していない。そして、アレイ基板１０に対して垂直な断面であって直線６を通る断面（以下、垂直断面とも言う。）において、各湾曲部２４の高さは、一方の端部から他方の端部に向かって、単調増加した後、単調減少している。また、各湾曲部２４は、垂直断面において、１つの頂点部分を有しており、この頂点部分は、湾曲部２４の略中央、すなわち隣り合う２つの開口部３６の間の略中央に位置している。

なお、湾曲部２４又は層間絶縁膜２３の高さとは、湾曲部２４又は層間絶縁膜２３の表面の基準面（例えば絶縁基板１１の主面）からの距離を意味する。

また、湾曲部２４の高さが単調増加又は単調減少するとは、より詳細には以下の内容を意味する。まず、垂直断面上に直交座標系を導入し、絶縁基板１１に平行な方向に右方向を正の向きにしてｘ軸を設定し、ｘ軸に対して垂直な方向に上方向（液晶層３に向かう方向）を正の向きにしてｚ軸を設定する。次に、湾曲部２４の輪郭線上の任意の点の座標を（ｘ，ｚ）で表す。そして、湾曲部２４の高さが単調増加するとは、ｘ１＜ｘ２であれば、ｚ１≦ｚ２となることを意味し、湾曲部２４の高さが単調減少するとは、ｘ１＜ｘ２であれば、ｚ１≧ｚ２となることを意味する。

層間絶縁膜２３の形成方法は特に限定されないが、層間絶縁膜２３は、フォトリソグラフィー技術によって形成されることが好ましく、感光性樹脂膜から形成されることが好ましい。この場合、層間絶縁膜２３は、感光性樹脂を含でいる。感光性樹脂膜の材料としては、例えば、感光性アクリル樹脂、感光性ポリイミド等が挙げられる。感光性樹脂膜の膜厚は、２μｍ〜５μｍ（好ましくは３μｍ〜３．６μｍ）である。層間絶縁膜２３は、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化シリコン等の無機絶縁材料を含む無機絶縁膜を更に含んでもよく、無機絶縁膜及び感光性樹脂膜の積層膜を含んでいてもよい。

層間絶縁膜２３上には上記画素電極２１が配置されており、各サブ画素２において、画素電極２１は、開口部３６を介してドレイン電極２０と接触することによって、ドレイン電極２０と電気的に接続されている。画素電極２１は、透明であり、ＩＴＯ（インジウム−スズ酸化物）、ＩＺＯ（インジウム−亜鉛酸化物）等の透明導電材料から形成されている。

ゲートドライバは、表示エリア外に設けられたコントローラ（図示せず）による制御に基づいて複数のゲートバスライン１３に走査信号を順次供給する。ソースドライバは、各列のＴＦＴ１５が走査信号によってオン状態となるタイミングで、コントローラによる制御に基づいて複数のソースバスライン１４に映像信号を供給する。これにより、各列の画素電極２１は各々、対応するＴＦＴ１５を介して供給される映像信号に応じた電位に設定される。その結果、保持容量（図示せず）と、画素電極２１、液晶層３及び後述する共通電極４４から構成される液晶容量とに電荷が蓄積され、複数のサブ画素２が個々に独立して駆動される。

一方、対向基板４０は、ガラス板や石英板等の透光性を有する絶縁基板４１を含み、絶縁基板４１上には、遮光部材として機能するブラックマトリクス（ＢＭ）４２と、複数色のカラーフィルタ（図示せず）とが形成されている。ＢＭ４２は、表示エリア内と、表示エリアの周囲の領域内とに形成されており、該周囲の領域と、ソースバスライン１４及びゲートバスライン１３に対向する領域と、スイッチング素子に対向する領域とを遮光するように形成されている。そのため、層間絶縁膜２３の開口部３６もＢＭ４２によって覆われている。ＢＭ４２は、黒色の着色樹脂等の遮光材料から形成されている。

各色のカラーフィルタは、表示エリア内に設けられており、ＢＭ４２で区画された領域、すなわち、ＢＭ４２の開口を覆うように形成されている。このように、各色のカラーフィルタは、各サブ画素２に対応して配置され、各サブ画素２は、ＢＭ４２によって区画されている。カラーフィルタは、互いに異なる色に着色された複数色の着色樹脂（例えば、赤色、青色及び緑色の着色樹脂）から形成されている。なお、カラーフィルタは、対向基板４０ではなく、アレイ基板１０に配置されてもよい。

カラーフィルタ及びＢＭ４２は、透明なオーバーコート膜４３によって覆われている。オーバーコート膜４３は、対向基板４０の表面の凹凸を小さくする（平坦化する）ために設けられている。オーバーコート膜４３は、アクリル樹脂、ポリイミド等の有機絶縁材料を含む透明な絶縁膜から形成されている。

オーバーコート膜４３上には、表示エリアを覆うように共通電極４４が形成されている。共通電極４４には、全サブ画素２に共通の信号（コモン信号）が供給されている。共通電極４４は、透明であり、ＩＴＯ（インジウム−スズ酸化物）、ＩＺＯ（インジウム−亜鉛酸化物）等の透明導電材料から形成されている。

共通電極４４上には、１以上のスペーサ４５が形成されている。スペーサ４５は、アレイ基板１０と対向基板４０との間隔を所定の間隔に保持するための部材であり、ＢＭ４２上に所定のピッチで配置されている。スペーサ４５は、平面視において、長手状に形成されており、直線６と平行な方向を第１方向７とし、第１方向７に直交する方向を第２方向８とすると、スペーサ４５の長さ（幅）は、第２方向８よりも第１方向７の方が長い（大きい）。スペーサ４５の形成方法は特に限定されないが、スペーサ４５は、フォトリソグラフィー技術によって形成されることが好ましく、感光性樹脂膜から形成されることが好ましい。この場合、スペーサ４５は、フォトスペーサと呼ばれるものであってもよい。感光性樹脂膜の材料としては、例えば、感光性アクリル樹脂、感光性ポリイミド等が挙げられる。スペーサ４５の形成部においてアレイ基板１０及び対向基板４０が互いに当接し合うことで、液晶層３の厚み（セルギャップ）が略一定に維持されている。スペーサ４５の個数は特に限定されないが、通常は、サブ画素２の個数よりも少なく設定される。

スペーサ４５の具体的な平面形状は特に限定されないが、スペーサ４５は、平面視において、ｎ角形状（ｎは、３以上の整数）に形成されてもよい。ｎ角形しては、具体的には四角形、五角形、六角形等が挙げられ、なかでも四角形が好適である。四角形としては、平行四辺形（図１参照）、長方形及び台形が好適である。また、スペーサ４５は、図４に示すように、平面視において、楕円形状に形成されてもよい。この場合は、フォトリソグラフィー技術を用いてより容易にスペーサ４５を形成することができる。また、スペーサ４５は、平面視において、複数の形が組み合わされた形状に形成されてもよい。複数の形の具体的な種類は特に限定されないが、幾何学的な形が好ましく、なかでも長方形、台形、平行四辺形、菱形、円形及び楕円形が好適である。例えば、スペーサ４５は、図５に示すように複数の菱形が組み合わされた形状に形成されてもよいし、図６に示すように複数の円形が組み合わされた形状に形成されてもよい。このように、スペーサ４５は、平面視において複数の形が互いに部分的に重なり合った形状に形成されてもよいし、一塊の構造体であってもよい。他方、スペーサ４５は、平面視において複数の形が互いに離れて配置された形状に形成されてもよいし、互いに離れて配置された複数の部分を含む構造体であってもよい。なお、複数の形は、１種の形のみを含んでもよいし、２種以上の形を含んでいてもよい。更に、スペーサ４５の平面形状は、上述の形の一部を切り取った形状を含んでもよいし、不定形であってもよい。ただし、本実施形態では、スペーサ４５は、スペーサ４５の平面形状を構成する各形の中心及び／又は重心が平面視において直線６上に配置されるように形成されている。

アレイ基板１０及び対向基板４０の液晶層３側の表面には、それぞれ、配向膜（図示せず）が形成されている。配向膜には、ラビング処理、光配向処理等の配向処理が施されてもよいし、垂直配向膜のように配向処理が施されていなくてもよい。配向膜は、例えば、ポリイミド等の樹脂材料から形成することができる。

各々の配向膜が互いに対向するようにアレイ基板１０及び対向基板４０を貼り合わせたとき、スペーサ４５により所定の厚さの隙間が形成される。液晶層３は、この隙間内にネマチック液晶を含む液晶組成物を封入することによって形成されている。液晶層３は、シール材によって基板１０及び４０の間に封止されている。また、シール材は、表示エリアを取り囲むように設けられ、基板１０及び４０を互いに接着している。

アレイ基板１０及び対向基板４０の液晶層３と反対側の主面上には、それぞれ、光学素子４及び５が貼り付けられている。各光学素子４及び５は、偏光板を含み、これらの偏光板は、通常はクロスニコルに配置されている。

そして、本実施形態では、各列のサブ画素２において、層間絶縁膜２３の開口部３６は、直線６上に配置され、スペーサ４５は、層間絶縁膜２３の湾曲部２４に対向している。したがって、光漏れの原因になり得る開口部３６及びスペーサ４５を直線６上に配置することができる。また、スペーサ４５の第１方向７における長さ（幅）は、スペーサ４５の第２方向８における長さ（幅）よりも長く（大きく）なっている。すなわち、開口部３６の配列方向に比べて、この配列方向に直交する方向において、スペーサ４５はより短くなっている。したがって、開口部３６及びスペーサ４５を遮光するための領域を狭めることができ、開口率を向上することができる。

なお、開口部３６が直線６上に配置されるとは、開口部３６の少なくとも一部が平面視において直線６上に配置されることを意味するが、開口率の観点からは、開口部３６の平面形状の中心及び／又は重心は、平面視において、直線６上に配置されることが好ましい。

更に、本実施形態では、平面視において、スペーサ４５の平面形状を構成する各形の中心及び／又は重心が直線６上に配置されている。そのため、後述する実施形態２に比べて、開口部３６及びスペーサ４５を遮光するための領域をより狭めることができ、開口率をより向上することができる。

また、湾曲部２４の上面部は、湾曲しているため、隣り合う２つの開口部３６の間の距離を小さくした場合でも、層間絶縁膜２３の側面部（開口部３６に隣接する部分）を傾斜が緩やかな順テーパ状に容易に形成することができる。すなわち、精細度の向上と配向膜の膜厚ムラの防止という観点から、層間絶縁膜２３は好ましい形状を有している。他方、基板１０及び４０の貼り合せずれが発生した時に不具合が発生するのを防止するという観点からは、層間絶縁膜２３は不利な形状を有しているとも言える。

そこで、本実施形態では、スペーサ４５が第２方向８よりも第１方向７においてより長くなっている。そのため、比較形態１のスペーサ１４５のようにスペーサ４５が１つだけの頂点部分を有さないようにすることができる。また、スペーサ４５の高さが略同じである箇所を第１方向７において複数形成することができる。スペーサの大きさ及び形状にもよるが、例えば、スペーサ４５の最上部を絶縁基板４１に略平行な線状又は平面状の部分としたり、そのような線状又は平面状の部分を複数形成したり、高さが略同じである複数の点状の最上部を形成したりすることができる。そのため、基板１０及び４０が所定の位置からずれて貼り合わされたたとしても、不具合が発生するのを抑制することができる。具体的には、図７に示すように、第１方向７において基板１０及び４０の貼り合わせずれが発生した場合、比較形態１と同様に、スペーサ４５の形成部においてアレイ基板１０及び対向基板４０は互いに点で接する。しかしながら、比較形態１とは異なり、本実施形態では、基板１０と基板４０の間隔が大きく変化するのを防止することができる。したがって、基板１０及び４０間の隙間に所定の容量の液晶材料が供給されても液晶層３の厚みにムラが発生することを抑制でき、表示ムラの発生を抑制することができる。また、スペーサ４５がもつ弾性力（復元力）が小さくなるのを抑制することができるため、本実施形態の液晶パネル１はタッチパネルに対応したパネルに好適である。

なお、スペーサ４５の高さとは、絶縁基板４１からの距離を意味し、スペーサ４５の最上部とは、絶縁基板４１から最も遠い部分を意味する。

また、第２方向８に平行な断面、特に第２方向８に平行な断面であって隣り合う２つの開口部３６の間の略中央を通る断面においては、図３に示すように、層間絶縁膜２３の湾曲部２４は、平坦であり、その表面は絶縁基板４１に略平行である。また、スペーサの大きさ及び形状にもよるが、スペーサ４５の高さが略同じである箇所を第２方向８においても複数形成することができる。そのため、例え第２方向８において基板１０及び４０の貼り合わせずれが発生したとしても、基板１０と基板４０の間隔が大きく変化するのを防止することができる。

スペーサ４５は、少なくとも１つの湾曲部２４に押し付けられていればよく、図２等に示したように、１つの湾曲部２４のみに押し付けられていてもよい。この場合、図８及び９に示すように、第１方向７におけるスペーサ４５の長さ（幅）Ｘと、第１方向７における基板１０及び４０の貼り合わせ精度Δｘとは、２×Δｘ≦Ｘの関係を満たすことが好ましい。Ｘが２×Δｘ未満となると、基板１０及び４０の貼り合わせずれが生じた時に、湾曲部２４の所望の場所（通常は、その頂点部分）の上にスペーサ４５を配置することができず、基板１０と基板４０の間隔が変化する可能性がある。また、図１０に示すように、Ｘと、Δｘと、第１方向７における開口部３６のピッチＬ（例えば、開口部３６の平面形状の中心又は重心間の距離）とは、Ｘ≦２×Ｌ−２×Δｘの関係を満たすことが好ましい。Ｘが２×Ｌ−２×Δｘよりも大きくなると、基板１０及び４０の貼り合わせずれが生じた時に、スペーサ４５が２つ以上の湾曲部２４に押し付けられる可能性がある。

なお、基板１０及び４０の貼り合わせ精度とは、基板１０及び基板４０を貼り合わせた時に生じ得る最大のずれの大きさ（距離）を意味する。また、開口部３６のピッチＬは、第１方向７における湾曲部２４のピッチ（例えば、湾曲部２４の頂点部分の間隔）と実質的に同じであり、また、第１方向７におけるサブ画素２のピッチと実質的に同じである。

また、スペーサ４５は、図１１に示すように、Ｎ個（Ｎは２以上の整数）の湾曲部２４に押し付けられていてもよい。これにより、スペーサ４５が局部的に欠損したとしても、品質に及ぼす影響を小さくすることができる。この場合、Ｘ及びΔｘは、（Ｎ−１）×Ｌ＋２×Δｘ≦Ｘの関係を満たすことが好ましい。Ｘが（Ｎ−１）×Ｌ＋２×Δｘ未満となると、基板１０及び４０の貼り合わせずれが生じた時に、Ｎ個の湾曲部２４の所望の場所（通常は、それらの頂点部分）の上にスペーサ４５を配置できなくなる可能性がある。また、Ｘ、Δｘ及びＬは、Ｘ≦（Ｎ＋１）×Ｌ−２×Δｘの関係を満たすことが好ましい。Ｘが（Ｎ＋１）×Ｌ−２×Δｘよりも大きくなると、基板１０及び４０の貼り合わせずれが生じた時に、スペーサ４５がＮ＋１個の湾曲部２４に押し付けられる可能性がある。

また、図１２に示すように、第２方向８におけるスペーサ４５の長さ（幅）Ｙと、第２方向８における基板１０及び４０の貼り合わせ精度Δｙとは、２×Δｙ≦Ｙの関係を満たすことが好ましい。Ｙが２×Δｙ未満となると、基板１０及び４０の貼り合わせずれが生じた時に、湾曲部２４の所望の場所の上にスペーサ４５を配置することができなくなる可能性がある。

また、図１２に示すように、Ｙと、第２方向８におけるＢＭ４２の幅Ｂとは、Ｙ≦Ｂの関係を満たすことが好ましい。ＹがＢよりも大きくなると、ＢＭ４２からスペーサ４５がはみ出し、光漏れが生じる可能性がある。

また、図１２に示すように、層間絶縁膜２３は、第２方向８においてスペーサ４５を挟むように配置された複数の突起部２５を含んでいてもよい。この場合、Ｙと、Δｙと、第２方向８における突起部２５の互いに対向する２つの端部間の距離Ｍとは、Ｙ≦Ｍ−２×Δｙの関係を満たすことが好ましい。ＹがＭ−２×Δｙより大きくなると、基板１０及び４０の貼り合わせずれが生じた時に、突起部２５の上にスペーサ４５が配置され、基板１０と基板４０の間隔が変化する可能性がある。

なお、突起部２５は、層間絶縁膜２３と絶縁基板１１の間にある部材、例えば、ゲートバスライン１３、ソースバスライン１４、半導体層１６、層間絶縁膜２３等の部材に起因して発生したものである。また、突起部２５の下には遮光膜が配置されていてもよい。

また、複数の形が互いに離れて配置された形状にスペーサ４５が形成されている場合、Ｘ及びＹは、それぞれ、スペーサ４５に含まれる全ての形の部分を一塊の構造体とみなし、該構造体の第１方向７及び第２方向８における長さ（幅）と定義する。

スペーサ４５は、平坦な上面部（液晶層３側の表面部分）を有することが好ましく、この上面部の高さのばらつきは、０．０５μｍ以下であることが好ましく、０．０３μｍ以下であることがより好ましい。これは、液晶層３の厚みが０．０５μｍを超えて変化すると、表示ムラとして視認される可能性があるためである。同様の観点から、図１３に示すように、スペーサ４５の平面形状の中心又は重心におけるスペーサ４５の高さと、第１方向７において該中心又は該重心からΔｘだけ離れた箇所におけるスペーサ４５の高さとの差ΔＺは、０．０５μｍ以下であることが好ましく、０．０３μｍ以下であることがより好ましい。ΔＺは、スペーサ４５の平面形状の中心又は重心におけるスペーサ４５の高さと、第２方向８において該中心又は該重心からΔｙだけ離れた箇所におけるスペーサ４５の高さとの差であってもよい。この場合も、ΔＺは、０．０５μｍ以下であることが好ましく、０．０３μｍ以下であることがより好ましい。

（実施形態２）
本実施形態は、スペーサの形状が異なることを除いて、実施形態１と実質的に同じである。したがって、本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、実施形態１と重複する内容については説明を省略する。また、本実施形態と実施形態１とにおいて、同一又は同様の機能を有する部材には同一の符号を付し、本実施形態において、その部材の説明は省略する。

図１４〜１６は、実施形態２の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。図１７及び１８は、実施形態２に係る、スペーサと層間絶縁膜の開口部とを示す断面模式図である。図１９は、実施形態１に係る、スペーサと層間絶縁膜の開口部とを示す断面模式図である。

図１４〜１８に示すように、本実施形態において、スペーサ４５は、平面視において、複数の形が組み合わされた形状に形成されている。例えば、図１４及び１８に示すように、スペーサ４５は、平面視において、２つの長方形が互いに部分的に重なり合った形状に形成されてもよい。また、図１５に示すように、スペーサ４５は、平面視において、互いに離れて配置された上下の部分を含んでもよく、各部分は、２つの菱形が互いに部分的に重なり合った形であってもよい。また、図１６に示すように、スペーサ４５は、平面視において、３つの円形が互いに部分的に重なり合った形状に形成されてもよい。更に、図１７に示すように、スペーサ４５は、平面視において、２つの長方形が互いに離れて配置された形状に形成されてもよい。このように、スペーサ４５は、平面視において複数の形が互いに部分的に重なり合った形状に形成されてもよし、一塊の構造体であってもよい。他方、スペーサ４５は、平面視において複数の形が互いに離れて配置された形状に形成されてもよいし、互いに離れて配置された複数の部分を含む構造体であってもよい。図１７及び１８に示されるスペーサ４５は、破線で示された楕円状のスペーサと同様の機能を発揮することができる。

なお、スペーサ４５が互いに離れて配置された複数の形（部分）を含む場合、隣り合う形（部分）の間の隙間の幅は各々、特に限定されないが、通常は開口部３６のピッチ未満に設定される。また、各隙間の幅は、好ましくは２μｍ以上、４μｍ以下である。

ただし、本実施形態では、スペーサ４５は、スペーサ４５の平面形状を構成する各形の中心及び／又は重心が平面視において直線６上に配置されないように形成されている。図１４、１７及び１８に示す場合、上側の長方形部分の中心及び重心は、直線６の右側に配置され、下側の長方形部分の中心及び重心は、直線６の左側に配置されている。図１５に示す場合、上側の部分の中心及び重心は、直線６の左側に配置され、下側の部分の中心及び重心は、直線６の右側に配置されている。図１６に示す場合、両端の円形部分の中心及び重心は、直線６の右側に配置され、中央の円形部分の中心及び重心は、直線６の左側に配置されている。

そして、本実施形態においても、複数の開口部３６は、行方向と平行な同一の直線６上に配置され、スペーサ４５は、層間絶縁膜の湾曲部２４に対向している。また、スペーサ４５の第１方向７における長さ（幅）は、スペーサ４５の第２方向８における長さ（幅）よりも長く（大きく）なっている。したがって、開口率を向上させることができる。ただし、本実施形態では、スペーサ４５の平面形状を構成する各形の中心及び／又は重心は、平面視において、直線６上に配置されていない。そのため、開口率向上の観点からは、本実施形態よりも実施形態１の方がより好ましい。

また、スペーサ４５は第２方向８よりも第１方向７においてより長くなっている。そのため、実施形態１と同様に、第１方向７において基板１０及び４０の貼り合わせずれが発生した場合でも、表示ムラ等の不具合の発生をより効果的に抑制することができる。

更に、本実施形態では、上述のように、スペーサ４５の平面形状を構成する各形の中心及び／又は重心が平面視において直線６上に配置されていない。そのため、第１方向７のみならず第２方向８において、スペーサ４５の高さが略同じである複数の箇所をより確実に形成することができる。したがって、第２方向８において基板１０及び４０の貼り合わせずれが発生した場合において、表示ムラ等の不具合の発生をより効果的に抑制することができる。

なお、実施形態１と同様の観点から、本実施形態においても、第１方向７におけるスペーサ４５の長さＸと、第２方向８におけるスペーサ４５の長さＹとは、実施形態１で説明した不等式を満たすことが好ましい。

（実施形態３）
本実施形態は、スペーサの形状が異なることを除いて、実施形態１と実質的に同じである。したがって、本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、実施形態１と重複する内容については説明を省略する。また、本実施形態と実施形態１とにおいて、同一又は同様の機能を有する部材には同一の符号を付し、本実施形態において、その部材の説明は省略する。

図２０及び２３は、実施形態３の液晶ディスプレイの構成を示す平面模式図である。図２１及び２４は、実施形態３に係るスペーサを示す斜視模式図である。図２２は、実施形態１に係るスペーサを示す斜視模式図である。

実施形態１及び２で説明したスペーサ４５の面積は、平面視において、一般的な形状のスペーサ（例えば円柱状のスペーサ）の面積に比べて大きくなる傾向にある。そのため、配向膜としてラビングによる配向処理が必要なものを用いた場合、図２２に示すように、ラビングによる配向処理が充分に施されない領域４６が発生し、配向規制力が弱まる可能性がある。特にラビング方向が第２方向８に設定された場合、ラビング布の毛先がスペーサ４５によって乱れやすく、配向膜の配向規制力が落ちやすい。

そこで、本実施形態では、図２０及び２１に示すように、スペーサ４５の表面に微細なスリット４５ｓをラビング方向に沿って形成している。このため、ラビング布の毛先がスペーサ４５によって乱れにくくすることができ、配向膜の配向規制力が低下するのを抑制することができる。

なお、スリット４５ｓの幅及び深さは特に限定されないが、幅は、例えば２μｍ以下であってもよい。また、スリット４５ｓの形成方法は特に限定されず、例えば、スリット４５ｓは、ハーフトーン型位相シフトマスクを用いたフォトリソグラフィー技術により形成することができる。

また、図２３及び２４に示すように、スペーサ４５は、複数の長手状の形（例えば、長方形、楕円形等）が互いに離れて配置された形状に形成されてもよく、その長軸方向がラビング方向に沿うよう各長手状の部分を配置してもよい。これにより、ラビング方向に沿って長手状の部分の間に隙間４５ｇを形成することができる。したがって、ラビング布の毛先がスペーサ４５によって乱れにくくすることができ、配向膜の配向規制力が低下するのを抑制することができる。

なお、実施形態１と同様の観点から、本実施形態においても、第１方向７におけるスペーサ４５の長さＸと、第２方向８におけるスペーサ４５の長さＹとは、実施形態１で説明した不等式を満たすことが好ましい。

以上、実施形態１〜３では、層間絶縁膜の開口部が列方向に平行な直線上に配置される構造について説明したが、直線の向きは特に限定されず、例えば、開口部は、行方向に平行な直線上に配置されてもよい。

また、実施形態１〜３では、列方向よりも行方向においてピッチが大きい横長のサブ画素について説明したが、各サブ画素は、行方向よりも列方向においてピッチが大きい縦長のサブ画素であってもよい。

また、実施形態１〜３では、直線状のゲートバスラインを列方向に配置し、直線状のソースバスラインを行方向に配置した構造について説明したが、ゲートバスラインを行方向に配置し、ソースバスラインを列方向に配置してもよい。また、ゲートバスライン及びソースバスラインの少なくとも一方は、平面視において、折れ曲がっていてもよく、例えば、ジグザグに形成されてもよい。

また、実施形態１〜３では、対向基板に共通電極を設けて、液晶層の厚み方向に発生する電界（縦電界）を利用する液晶モード（例えば、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードやＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード）について説明したが、液晶パネルの液晶モードは特に限定されない。例えば、共通電極は、アレイ基板に設けられてもよく、液晶パネルの液晶モードは、ＩＰＳモードやＦＦＳモードのように、アレイ基板の主面と略平行な電界（横電界）を利用するものであってもよい。更に、液晶パネルを断面視した時にアレイ基板と対向基板との間で斜めに発生する電界（斜め電界）を利用したものであってもよい。

また、実施形態１〜３の液晶ディスプレイは、モノクロ液晶ディスプレイであってもよいし、各画素は複数のサブ画素に分割されていなくてもよい。

更に、実施形態１〜３では、透過型の液晶ディスプレイについて説明したが、各液晶ディスプレイの液晶パネルは、外光を反射することで表示を行う反射表示部を備えていてもよい。

そして、上述した実施形態は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、適宜組み合わされてもよい。また、各実施形態の変形例は、他の実施形態に組み合わされてもよい。

１：液晶パネル
２：サブ画素
３：液晶層
４、５：光学素子
６：直線
７：第１方向
８：第２方向
１０：アレイ基板
１１：絶縁基板
１２：下地絶縁膜
１３：ゲートバスライン
１４：ソースバスライン
１５：薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
１６：半導体層
１７：ゲート絶縁膜
１８：ゲート電極
１９：ソース電極
２０：ドレイン電極
２１：画素電極
２２、２３：層間絶縁膜
２４：湾曲部
２５：突起部
３４、３５、３６：開口部
４０：対向基板
４１：絶縁基板
４２：ブラックマトリクス（ＢＭ）
４３：オーバーコート膜
４４：共通電極
４５：スペーサ
４５ｓ：スリット
４５ｇ：隙間
４６：領域

Claims (15)

1. 第１基板と、第２基板と、前記第１及び第２基板の間に挟持された液晶層とを備え、
   前記第１基板は、同一の直線上に複数の開口部が形成された層間絶縁膜を含み、
   前記層間絶縁膜は、湾曲した上面部を各々有する複数の湾曲部を含み、
   前記複数の湾曲部は各々、隣り合う２つの開口部の間に位置し、
   前記第２基板は、前記複数の湾曲部の少なくとも１つに対向するスペーサを含み、
   前記直線と平行な方向を第１方向とし、前記第１方向に直交する方向を第２方向とすると、前記スペーサは、前記第２方向よりも前記第１方向において、より長い液晶ディスプレイ。
2. 前記スペーサは、前記複数の湾曲部の内の連続するＮ個（Ｎは２以上の整数）の湾曲部に押し付けられる請求項１記載の液晶ディスプレイ。
3. 前記第１方向における前記スペーサの長さをＸとし、前記第１方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｘとし、前記第１方向における前記複数の開口部のピッチをＬとすると、（Ｎ−１）×Ｌ＋２×Δｘ≦Ｘの関係を満たす請求項２記載の液晶ディスプレイ。
4. 前記第１方向における前記スペーサの長さをＸとし、前記第１方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｘとし、前記第１方向における前記複数の開口部のピッチをＬとすると、Ｘ≦（Ｎ＋１）×Ｌ−２×Δｘの関係を満たす請求項２又は３記載の液晶ディスプレイ。
5. 前記スペーサは、前記複数の湾曲部の内の１つの湾曲部だけに押し付けられる請求項１記載の液晶ディスプレイ。
6. 前記第１方向における前記スペーサの長さをＸとし、前記第１方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｘとすると、２×Δｘ≦Ｘの関係を満たす請求項５記載の液晶ディスプレイ。
7. 前記第１方向における前記スペーサの長さをＸとし、前記第１方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｘとし、前記第１方向における前記２つの開口部のピッチをＬとすると、Ｘ≦２×Ｌ−２×Δｘの関係を満たす請求項５又は６記載の液晶ディスプレイ。
8. 前記第２方向における前記スペーサの長さをＹとし、前記第２方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｙとすると、２×Δｙ≦Ｙの関係を満たす請求項１〜７のいずれかに記載の液晶ディスプレイ。
9. 前記層間絶縁膜は、２つの突起部を更に含み、
   前記スペーサは、前記第２方向において、前記２つの突起部の間に配置され、
   前記第２方向における前記スペーサの長さをＹとし、前記第２方向における前記２つの突起部の互いに対向する２つの端部間の距離をＭとし、前記第２方向における前記第１基板及び前記第２基板の貼り合わせ精度をΔｙとすると、Ｙ≦Ｍ−２×Δｙの関係を満たす請求項１〜８のいずれかに記載の液晶ディスプレイ。
10. 前記スペーサは、平坦な上面部を有し、
    前記上面部の高さのばらつきは、０．０５μｍ以下である請求項１〜９のいずれかに記載の液晶ディスプレイ。
11. 前記スペーサの平面形状の中心及び／又は重心は、平面視において、前記直線上に位置する請求項１〜１０のいずれかに記載の液晶ディスプレイ。
12. 前記スペーサの平面形状の中心及び／又は重心は、平面視において、前記直線上に位置しない請求項１〜１０のいずれかに記載の液晶ディスプレイ。
13. 前記スペーサは、平面視において、ｎ角形状、楕円形状若しくは円形状に形成されるか、又は、複数の形が組み合わされた形状に形成される請求項１〜１２のいずれかに記載の液晶ディスプレイ。
14. 前記スペーサは、平面視において、前記複数の形が互いに部分的に重なり合った形状に形成される請求項１３記載の液晶ディスプレイ。
15. 前記スペーサは、平面視において、前記複数の形が互いに離れて配置された形状に形成される請求項１３記載の液晶ディスプレイ。

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