JP6068907B2 - ケイ素およびアルカリ金属ケイ酸塩の製造方法 - Google Patents
ケイ素およびアルカリ金属ケイ酸塩の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6068907B2 JP6068907B2 JP2012219096A JP2012219096A JP6068907B2 JP 6068907 B2 JP6068907 B2 JP 6068907B2 JP 2012219096 A JP2012219096 A JP 2012219096A JP 2012219096 A JP2012219096 A JP 2012219096A JP 6068907 B2 JP6068907 B2 JP 6068907B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sodium
- alkali metal
- silicon
- silica
- silicide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 93
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 88
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 88
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 38
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 title description 41
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 126
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 69
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 57
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 51
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 50
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 45
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 37
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 23
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 23
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 claims description 22
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 22
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 22
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 22
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910021336 sodium silicide Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical compound [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 120
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 116
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 60
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 description 51
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 29
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 15
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 10
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910019443 NaSi Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 7
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000000724 energy-dispersive X-ray spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 3
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 alkali metals form metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005169 Debye-Scherrer Methods 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017976 MgO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002389 environmental scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000011044 quartzite Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- HJELPJZFDFLHEY-UHFFFAOYSA-N silicide(1-) Chemical compound [Si-] HJELPJZFDFLHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000003583 soil stabilizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
Description
二酸化炭素の排出量削減や、省エネルギー化、さらにはシリコン系太陽光発電の普及拡大のため、より低いエネルギー消費で且つより低いコストでケイ素を製造することができる新たな方法が求められている(非特許文献1)。
シリカからケイ素を製造する方法として、carbothermal還元法、aluminothermal還元法などが知られている。
carbothermal還元法は、例えば、カーボン電極を使用したアーク炉で黒鉛(C)と石英(SiO2)の混合物を1700℃以上の高温に加熱する工程を有する方法である。carbothermal還元法では反応生成物の一酸化炭素をガス相として容易にケイ素から分離できる。carbothermal還元法によって得られるケイ素は、純度が約99%で、金属シリコンと呼ばれている(非特許文献2)。また、金属シリコンをシーメンス法などによって精製して高純度なケイ素を製造することができる。シーメンス法は金属シリコンと塩素とのガス化反応を利用した精製法である。得られた高純度なケイ素は、半導体材料や太陽電池材料として利用されている。
4Na + 3SiO2 → 2Na2SiO3 + Si (1)
このようなNaを利用した方法によれば、低い温度でかつ常圧に近い圧力下でケイ素およびアルカリ金属ケイ酸塩を製造できる可能性がある。
この原因は次のように推定される。Na2SiO3粉末を水に溶解させると苛性ソーダ(NaOH)が生成する。この苛性ソーダはケイ素粉末と式(2)で表される反応を起こし、ケイ素粉末がメタケイ酸ナトリウムとして水とともに流出してしまったからである。
2NaOH + Si + H2O → Na2SiO3 + 2H2 (2)
〔1〕 シリカにアルカリ金属を接触させてアルカリ金属ケイ化物とアルカリ金属ケイ酸塩との混合物を得る工程、および
得られた混合物からケイ素を分離する工程を含むケイ素およびアルカリ金属ケイ酸塩の製造方法。
〔2〕 シリカとアルカリ金属との接触をアルカリ金属の融点以上の温度にて行う、〔1〕に記載の製造方法。
〔3〕 シリカとアルカリ金属との接触を650〜900℃にて行う、〔1〕に記載の製造方法。
アルカリ金属ケイ化物とアルカリ金属ケイ酸塩との混合物を加熱して融解させ、
該融液を冷却してアルカリ金属ケイ化物を晶析させ、
晶析したアルカリ金属ケイ化物の結晶を分級し、
分級されたアルカリ金属ケイ化物を加熱してアルカリ金属を蒸発させてケイ素を晶析させることを含む、〔1〕〜〔3〕のいずれかひとつに記載の製造方法。
〔5〕 アルカリ金属ケイ化物の晶析を、アルカリ金属ケイ化物の融点付近の温度にて行う、〔4〕に記載の製造方法。
アルカリ金属ケイ化物とアルカリ金属ケイ酸塩との混合物を液体アルカリ金属に溶解させ、
該溶液を冷却してアルカリ金属ケイ化物を晶析させ、
晶析したアルカリ金属ケイ化物の結晶を分級し、
分級されたアルカリ金属ケイ化物を加熱してアルカリ金属を蒸発させて除去することを含む、〔1〕〜〔3〕のいずれかひとつに記載の製造方法。
〔7〕 アルカリ金属ケイ化物の晶析を、アルカリ金属の融点以上の温度にて行う、〔6〕に記載の製造方法。
混合物を加熱してアルカリ金属を蒸発させてケイ素を晶析させ、
晶析したケイ素の結晶を分級することを含む、〔1〕〜〔3〕のいずれかひとつに記載の製造方法。
〔9〕 ケイ素の晶析を、700〜900℃にて行う、〔8〕に記載の製造方法。
〔10〕 シリカにアルカリ金属を接触させてアルカリ金属ケイ化物とアルカリ金属ケイ酸塩との混合物を得る工程と 得られた混合物を加熱してアルカリ金属を蒸発させてケイ素を晶析させることとを、同時並行して行い、
晶析したケイ素の結晶を分級することを含む、ケイ素およびアルカリ金属ケイ酸塩の製造方法。
〔11〕 アルカリ金属がナトリウムである、〔1〕〜〔10〕のいずれかひとつに記載の製造方法。
〔12〕 ナトリウムの量がシリカ3モルに対して5モル以上である、〔11〕に記載の製造方法。
〔13〕 ナトリウムの量がシリカ1モルに対して2〜8モルである、〔11〕に記載の製造方法。
5Na + 3SiO2 → 2Na2SiO3 + NaSi (3)
5Na+ 3SiO2 → 2Na2SiO3 + Na +Si (4)
なお、アルカリ金属ケイ化物はアルカリ金属とケイ素とからなる金属間化合物であるが、本明細書では、便宜上、アルカリ金属とケイ素とが混じり合っているだけの場合も「アルカリ金属ケイ化物」と表記する。ナトリウム以外のアルカリ金属の場合にも上記と同様の反応は進み、アルカリ金属ケイ化物とアルカリ金属ケイ酸塩との混合物が得られる。
また、アルカリ金属とシリカとの接触は、不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。不活性ガスとしては、アルゴン、ヘリウム、窒素ガスなどが代表的なものとして挙げられる。不活性ガスの圧力は、1気圧(大気圧)前後が好ましい。
ケイ素を分離する工程としては、次のようなものが挙げられる。
第一形態のケイ素分離工程は、アルカリ金属ケイ化物とアルカリ金属ケイ酸塩との混合物を加熱して融解させ、該融液を冷却してアルカリ金属ケイ化物を晶析させ、 晶析させたアルカリ金属ケイ化物の結晶を分級し、 分級されたアルカリ金属ケイ化物を加熱してアルカリ金属を蒸発させてケイ素を晶析させることを含むものである。
また、アルカリ金属ケイ酸塩(固相)とアルカリ金属ケイ化物(液相)とからなる融液を固液分離して、アルカリ金属ケイ化物(液相)を主に含有する融液を得、これを後述する晶析工程に送ることができる。固液分離の手段としては、ろ過、デカンテーションなどが挙げられる。
さらに、アルカリ金属ケイ酸塩の融点以上の温度に加熱すると混合物はアルカリ金属ケイ酸塩(液相)とアルカリ金属ケイ化物(液相)とからなる融液になる。アルカリ金属ケイ酸塩(液相)とアルカリ金属ケイ化物(液相)との比重差を利用して、液相を分離して、アルカリ金属ケイ化物(液相)を主に含有する融液を得、これを後述する晶析工程に送ることができる。
第二形態のケイ素分離工程は、アルカリ金属ケイ化物とアルカリ金属ケイ酸塩との混合物を液体アルカリ金属に溶解させ、 該溶液を冷却してアルカリ金属ケイ化物を晶析させ、 晶析したアルカリ金属ケイ化物の結晶を分級し、 分級されたアルカリ金属ケイ化物を加熱してアルカリ金属を蒸発させて除去することを含むものである。
第三形態のケイ素分離工程は、アルカリ金属ケイ化物とアルカリ金属ケイ酸塩との混合物を加熱してアルカリ金属を蒸発させてケイ素を晶析させ、 晶析したケイ素の結晶を分級することを含むものである。アルカリ金属の蒸発は第一形態におけるものと同じようにして行うことができる。
反応容器4は、例えば、内径が10.7mm、長さが約100mmである。反応容器7は、例えば内径が10.7mm、長さが約200 mmである。反応容器12は、例えば、内径が10.7mm、長さが約300mmである。
高純度アルゴンガス雰囲気(O2およびH2O濃度が共に1ppm未満)のグローブボックス内で、0.1472g(6.4mmol)の金属ナトリウム(日本曹達株式会社製、純度99.95%)と0.0480g(0.8mmol)のSiO2(和光純薬工業社製、特級)とを秤量し、内径約6.5mm、深さ18mmの多結晶BN製ルツボ3(昭和電工株式会社製、純度99.5%)に入れた。ナトリウム(Na)とシリカ(SiO2)とのモル比(Na/SiO2)は8/1であった。
その後、ルツボ3を炉内で室温まで冷却(炉冷)した。反応容器4をグローブボックス内で切断し、ルツボ3を取り出した。アルゴン雰囲気下で、ルツボ3から塊状生成物を取り出した。該生成物を光学顕微鏡で観察した。その結果、図2に示すように、銀色の金属ナトリウムの基質の中に、黒色で柱状の単結晶(サイズは約0.5mm×約0.2mm×約0.2mm)が含まれていた。
構造解析の結果、柱状単結晶は、単斜晶系(空間群C2/c)で、格子定数が、a=1.21518(11)nm、b=0.65458(5)nm、c=1.11290(8)nm、β=118.846(3)°で、b軸方向に伸長していることが判った。
この原子座標パラメータは、Witteら(Z. Anorg. Allg. Chem. 327, 260-273 (2008))やGoebelら(Z. Kristallogr. NCS 223, 187-188 (2008))が先にNaSi単結晶で報告した値と一致した(解析の信頼度:R1=0.0459、S=1.208 全測定データによる解析)。
この柱状固体のX線回折写真を撮影した。その結果、図7に示すようなデバイシェラーリングが観察された。Siの格子定数(立方晶系、空間群Fd−3m、a=0.543nm、(J. Appl. Phys. 56, 314-320 (1984)))によって、回折反射が指数づけすることができ、この柱状固体が多結晶シリコンであることが示された。
内径約6.5mm、深さ18mmの多結晶BN製ルツボ3(昭和電工株式会社製、純度99.5%)に、4mmolまたは8mmolのNa(日本曹達株式会社製、純度99.95%)と、1mmolのSiO2(和光純薬工業社製、特級)とを入れた。このルツボ3をステンレス鋼(SUS316)製の反応容器12の中に入れて支持棒13で支持し、次いでArガスで反応容器内を置換して封入した。電気炉14の高温部にルツボが位置するように反応容器12を設置し加熱した。ルツボ3の部分の温度を2時間掛けて830℃まで上げ、その温度を12時間維持した。反応容器12内の温度分布は図9に示すようになった。その後、ルツボ3を室温まで炉冷した。
前記固体は、メタケイ酸ナトリウムNa2SiO3(斜方晶系、空間群Cmc21、a=1.048nm、b=0.607nm、c=0.482nm(Acta Crystallogr. 22, 37-43 (1967))とSi(立方晶系、空間群Fd−3m、a=0.543nm(J. Appl. Phys. 56, 314-320 (1984))の2相からなり、非特許文献6の方法で作製された試料のX線回折パターンに比べ回折ピークの幅が狭く、生成物の結晶性がよいことが判った。
前記固体を光学顕微鏡で観察した。その観察像写真を図11に示す。固体は、数十μmの大きさの粒状で、表面の一部がデンドライド状に成長した金属光沢のSi結晶粒が、白黄褐色のNa2SiO3微粉末中に分散している様子が観察された。ルツボ3内に生成した固体の総質量は4/3mmolのNaと1mmolのSiO2を併せた91mgであった。余剰のNaは反応容器内の低温部(635〜680℃)に析出していた。なお、このNaを回収し、再び出発原料の一部として利用することができる。
水洗の際のガス発生は、ほとんど認められなかった。フィルタ中およびフィルタ上の生成物の質量は、Si理論収量(1/3mmol、9.4mg)に近い約9mgであった。フィルタ上の粗粒粉体は、X線回折よりSiの単一相(立方晶系、空間群Fd−3m、a=0.543nm)であることが示された(図10(b))。フィルタ上から集めたSi粗粒粉は約8mg(理論収率の約85%に相当する量)であった。図13に原料に使用したSiO2粉末60mgの写真、図14に本発明の方法で得られたSi粗粒粉8mgの写真を示す。
なお、ルツボ3に得られたSi結晶粒とNa2SiO3微粉末との混合物を水を入れ、濾過せずに放置していると、Na2SiO3がまず溶解し、次いでH2ガスの発生と伴にSi結晶が溶解していく様子が観察された。
2 二酸化ケイ素(シリカ)
3 BNルツボ、Al2O3、またはMgO製ルツボ
4 反応容器
5 電気炉
6 試料
7 反応容器
8 電気炉
9 冷却ファン
10 真空バルブ
11 真空ポンプ
12 反応容器
13 ルツボ支持棒
14 電気炉
Claims (8)
- シリカ3モルに対して5モル以上の金属ナトリウムをシリカに650〜900℃にて接触させてケイ化ナトリウムとケイ酸ナトリウムとの混合物を得る工程、および
得られた混合物からケイ化ナトリウム由来のケイ素を分離する工程を含む
分離されたケイ素およびケイ酸ナトリウムのそれぞれを製造する方法。 - 前記のケイ素を分離する工程が、
ケイ化ナトリウムとケイ酸ナトリウムとの混合物を加熱して融解させ、
該融液を冷却してケイ化ナトリウムを晶析させ、
晶析したケイ化ナトリウムの結晶を分級し、
分級されたケイ化ナトリウムを加熱して金属ナトリウムを蒸発させてケイ素を晶析させることを含む、請求項1に記載の製造方法。 - 前記のケイ素を分離する工程が、
ケイ化ナトリウムとケイ酸ナトリウムとの混合物を液化した金属ナトリウムに溶解させ、
該溶液を冷却してケイ化ナトリウムを晶析させ、
晶析したケイ化ナトリウムの結晶を分級し、
分級されたケイ化ナトリウムを加熱して金属ナトリウムを蒸発させて除去することを含む、請求項1に記載の製造方法。 - ケイ化ナトリウムの晶析を金属ナトリウムの融点以上の温度にて行う、請求項2または3に記載の製造方法。
- 前記のケイ素を分離する工程が、
ケイ化ナトリウムとケイ酸ナトリウムとの混合物を加熱して金属ナトリウムを蒸発させてケイ素を晶析させ、
晶析したケイ素の結晶を分級することを含む、請求項1に記載の製造方法。 - ケイ素の晶析を、700〜900℃にて行う、請求項5に記載の製造方法。
- シリカ3モルに対して5モル以上の金属ナトリウムをシリカに接触させ650〜900℃にて加熱して、
シリカと金属ナトリウムからケイ化ナトリウムとケイ酸ナトリウムを生成させる反応と、
ケイ化ナトリウムからケイ素を晶析させる反応とを、同時並行して行い、
晶析したケイ素の結晶を分級することを含む、分離されたケイ素およびケイ酸ナトリウムのそれぞれを製造する方法。 - シリカに接触させるナトリウムの量がシリカ1モルに対して2〜8モルである、請求項1〜7のいずれかひとつに記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012219096A JP6068907B2 (ja) | 2012-10-01 | 2012-10-01 | ケイ素およびアルカリ金属ケイ酸塩の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012219096A JP6068907B2 (ja) | 2012-10-01 | 2012-10-01 | ケイ素およびアルカリ金属ケイ酸塩の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014070005A JP2014070005A (ja) | 2014-04-21 |
JP6068907B2 true JP6068907B2 (ja) | 2017-01-25 |
Family
ID=50745552
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012219096A Active JP6068907B2 (ja) | 2012-10-01 | 2012-10-01 | ケイ素およびアルカリ金属ケイ酸塩の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6068907B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4436904B2 (ja) * | 2002-07-23 | 2010-03-24 | 新日鉄マテリアルズ株式会社 | Si製造方法 |
CN1906140B (zh) * | 2003-11-24 | 2011-02-23 | 迈克尔·莱芬费尔德 | 包含碱金属和碱金属合金的硅胶组合物 |
EP2546193B1 (en) * | 2004-06-14 | 2018-06-13 | SiGNa Chemistry, Inc. | Silicide compositions containing alkali metals and methods of making the same |
JP5142211B2 (ja) * | 2008-10-02 | 2013-02-13 | 国立大学法人東北大学 | シリコン結晶の製造方法および太陽電池膜の製造方法 |
JP5534434B2 (ja) * | 2009-07-07 | 2014-07-02 | 国立大学法人東北大学 | シリコンの精製方法 |
-
2012
- 2012-10-01 JP JP2012219096A patent/JP6068907B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014070005A (ja) | 2014-04-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5311930B2 (ja) | シリコンの製造方法 | |
JP2001220123A (ja) | 酸化珪素粉末の連続製造方法及び連続製造装置 | |
JP4630993B2 (ja) | 高純度シリコンの製造方法 | |
US20100158782A1 (en) | Magnesiothermic Methods Of Producing High-Purity Silicon | |
JP5768714B2 (ja) | シリコンの製造方法 | |
Morito et al. | Low-temperature purification of silicon by dissolution and solution growth in sodium solvent | |
US20120171848A1 (en) | Method and System for Manufacturing Silicon and Silicon Carbide | |
JP4436904B2 (ja) | Si製造方法 | |
US8173094B2 (en) | Method for producing polycrystalline silicon | |
CN101555010A (zh) | 碳化硅 | |
JP6068907B2 (ja) | ケイ素およびアルカリ金属ケイ酸塩の製造方法 | |
JP2008037735A (ja) | シリコン製造装置 | |
JPWO2012086544A1 (ja) | シリコンの製造方法及び製造装置、シリコンウェハー、並びに、太陽電池用パネル | |
JP2009208995A (ja) | シリコンの製造装置 | |
JP2007055891A (ja) | 多結晶シリコンの製造方法 | |
KR101504118B1 (ko) | 고온 진공소결로를 이용한 고순도 고밀도 알루미나의 제조방법 | |
JP5217162B2 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法 | |
WO2007013644A1 (ja) | 多結晶シリコンの製造方法 | |
Yamane et al. | Formation of Si grains from a NaSi melt prepared by reaction of SiO2 and Na | |
JP5359119B2 (ja) | 高純度シリコンの製造方法 | |
JP5534434B2 (ja) | シリコンの精製方法 | |
JP6650828B2 (ja) | シリコンの精製方法 | |
JP2010030873A (ja) | 高純度シリコン及びその製造方法 | |
JP4672264B2 (ja) | SiOの精製方法及び得られたSiOを用いる高純度シリコンの製造方法 | |
TW201215711A (en) | Polysilicon production device and polysilicon production method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150522 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160315 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160406 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160823 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161013 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161220 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161226 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6068907 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |