JP6068130B2 - 半導体装置の製造方法、基板処理装置およびプログラム - Google Patents
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- C23C16/45527—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the ALD cycle, e.g. different flows or temperatures during half-reactions, unusual pulsing sequence, use of precursor mixtures or auxiliary reactants or activations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
基板に対して所定元素、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する工程と、前記基板に対して前記所定元素およびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する工程を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、前記所定元素および炭素を含むシード層を形成する工程と、
前記基板に対して前記所定元素を含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上に前記所定元素を含む膜を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法が提供される。
基板に対して所定元素、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する工程と、前記基板に対して前記所定元素およびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する工程を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、前記所定元素および炭素を含むシード層を形成する工程と、
前記基板に対して前記所定元素を含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上に前記所定元素を含む膜を形成する工程と、
を有する基板処理方法が提供される。
基板を収容する処理室と、
前記処理室内へガスを供給するガス供給系と、
前記処理室内の基板に対して所定元素、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する処理と、前記基板に対して前記所定元素およびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する処理と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する処理を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、前記所定元素および炭素を含むシード層を形成する処理と、前記基板に対して前記所定元素を含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上に前記所定元素を含む膜を形成する処理と、を行うように前記ガス供給系を制御する制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
基板処理装置の処理室内の基板に対して所定元素、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する手順と、前記処理室内の前記基板に対して前記所定元素およびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する手順と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する手順を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、前記所定元素および炭素を含むシード層を形成する手順と、
前記処理室内の前記基板に対して前記所定元素を含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上に前記所定元素を含む膜を形成する手順と、
をコンピュータに実行させるプログラムが提供される。
以下に、本発明の第1実施形態を図面に基づいて説明する。
図1は、本実施形態で好適に用いられる基板処理装置の縦型処理炉の概略構成図であり、処理炉202部分を縦断面図で示している。図2は、本実施形態で好適に用いられる縦型処理炉の概略構成図であり、処理炉202部分を図1のA−A線断面図で示している。
次に、上述の基板処理装置の処理炉を用い、半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程として、基板上に、所定元素および炭素を含むシード層を形成し、シード層の上に所定元素を含む膜を形成するシーケンス例について、図4、図5を参照しながら説明する。図4は、本実施形態の成膜シーケンスにおける成膜フローを示す図である。図5は、本実施形態の成膜シーケンスにおけるガス供給のタイミングを示す図である。尚、以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
基板に対して所定元素、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する工程と、基板に対して所定元素およびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、第1の原料ガスを供給する工程を単独で所定回数行うことにより、基板上に、所定元素および炭素を含むシード層を形成する工程と、
基板に対して所定元素を含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、シード層の上に所定元素を含む膜を形成する工程と、
を実施する。
まず、本実施形態の第1シーケンスについて、図4及び図5(a)を用いて説明する。
基板としてのウエハ200に対して第1の原料ガスとしてアルキル基を含むクロロシラン系原料ガスであるTCDMDSガスを供給する工程と、ウエハ200に対して第2の原料ガスとしてアミノシラン系原料ガスであるSiH3Rガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、ウエハ200上に、シリコン(Si)および炭素(C)を含むシード層を形成する工程と、
ウエハ200に対して第3の原料ガスとして無機シラン系原料ガスであるSiH4ガスを供給することにより、シード層の上にSi単体で構成されるシリコン膜(Si膜)を形成する工程と、を実施する。以下、この成膜シーケンスを具体的に説明する。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、図1に示されているように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内に搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219はOリング220を介して反応管203の下端をシールした状態となる。
処理室201内が所望の圧力(真空度)となるように真空ポンプ246によって真空排気される。この際、処理室201内の圧力は圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づきAPCバルブ244がフィードバック制御される(圧力調整)。なお、真空ポンプ246は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は常時作動させた状態を維持する。また、処理室201内が所望の温度となるようにヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電具合がフィードバック制御される(温度調整)。なお、ヒータ207による処理室201内の加熱は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は継続して行われる。続いて、回転機構267によるボート217及びウエハ200の回転を開始する。なお、回転機構267によるボート217及びウエハ200の回転は、少なくとも、ウエハ200に対する処理が完了するまでの間は継続して行われる。
その後、次の2つのステップ、すなわち、ステップ1,2を順次実行する。
(TCDMDSガス供給)
第1ガス供給管232aのバルブ243aを開き、第1ガス供給管232a内にTCDMDSガスを流す。第1ガス供給管232a内を流れたTCDMDSガスは、マスフローコントローラ241aにより流量調整される。流量調整されたTCDMDSガスは第1ノズル249aのガス供給孔250aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してTCDMDSガスが供給されることとなる。このとき同時にバルブ243fを開き、第1不活性ガス供給管232f内にN2ガス等の不活性ガスを流す。第1不活性ガス供給管232f内を流れたN2ガスは、マスフローコントローラ241fにより流量調整される。流量調整されたN2ガスはTCDMDSガスと一緒に処理室201内に供給され、排気管231から排気される。なお、このとき、第2ノズル249b、第3ノズル249c内へのTCDMDSガスの侵入を防止するため、バルブ243g,243hを開き、第2不活性ガス供給管232g、第3不活性ガス供給管232h内にN2ガスを流す。N2ガスは、第2ガス供給管232b、第3ガス供給管232c、第2ノズル249b、第3ノズル249cを介して処理室201内に供給され、排気管231から排気される。
CおよびClを含むシリコン含有層が形成された後、第1ガス供給管232aのバルブ243aを閉じ、TCDMDSガスの供給を停止する。このとき、排気管231のAPCバルブ244は開いたままとして、真空ポンプ246により処理室201内を真空排気し、処理室201内に残留する未反応もしくは第1の層形成に寄与した後のTCDMDSガスを処理室201内から排除する。なお、このとき、バルブ243f,243g,243hは開いたままとして、不活性ガスとしてのN2ガスの処理室201内への供給を維持する。N2ガスはパージガスとして作用し、これにより、処理室201内に残留する未反応もしくは第1の層形成に寄与した後のTCDMDSガスを処理室201内から排除する効果を高めることができる。
(SiH3Rガス供給)
ステップ1が終了し処理室201内の残留ガスを除去した後、第2ガス供給管232bのバルブ243bを開き、第2ガス供給管232b内にSiH3Rガスを流す。第2ガス供給管232b内を流れたSiH3Rガスは、マスフローコントローラ241bにより流量調整される。流量調整されたSiH3Rガスは、第2ノズル249bのガス供給孔250bから処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してSiH3Rガスが供給されることとなる。このとき同時にバルブ243gを開き、第2不活性ガス供給管232g内に不活性ガスとしてのN2ガスを流す。第2不活性ガス供給管232g内を流れたN2ガスは、マスフローコントローラ241gにより流量調整される。流量調整されたN2ガスは、SiH3Rガスと一緒に処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。なお、このとき、第1ノズル249a、第3ノズル249c内へのSiH3Rガスの侵入を防止するため、バルブ243f,243hを開き、第1不活性ガス供給管232f、第3不活性ガス供給管232h内にN2ガスを流す。N2ガスは、第1ガス供給管232a、第3ガス供給管232c、第1ノズル249a、第3ノズル249cを介して処理室201内に供給され、排気管231から排気される。
第2の層(Cを含むSi層)が形成された後、第2ガス供給管232bのバルブ243bを閉じ、SiH3Rガスの供給を停止する。このとき、排気管231のAPCバルブ244は開いたままとして、真空ポンプ246により処理室201内を真空排気し、処理室201内に残留する未反応もしくは第2の層形成に寄与した後のSiH3Rガスや反応副生成物を処理室201内から排除する。なお、このとき、バルブ243g,243f,243hは開いたままとして、不活性ガスとしてのN2ガスの処理室201内への供給を維持する。N2ガスはパージガスとして作用し、これにより、処理室201内に残留する未反応もしくは第2の層形成に寄与した後のSiH3Rガスや反応副生成物を処理室201内から排除する効果を高めることができる。
上述したステップ1,2を1サイクルとして、このサイクルを1回以上(所定回数)行うことにより、ウエハ200(表面の下地膜)上に、シリコン(Si)および炭素(C)を含むシード層、すなわち、ベースとしてのSi層にCが微量添加されてなる層を形成することができる。シード層は、塩素(Cl)や窒素(N)等の不純物の含有量が極めて少ない層となる。シード層は、ウエハ200(下地膜)上に後述するSi膜を形成する際の初期層として考えることもでき、また、ウエハ200(下地膜)とSi膜との間の界面に形成される界面層として考えることもできる。シード層の結晶構造はアモルファス(非晶質)状態または多結晶状態となり、このシード層を「アモルファスシード層(a−シード膜)」または「ポリシード層(Poly−シード層)」と称することもできる。なお、上述のサイクルは、複数回繰り返すのが好ましい。すなわち、1サイクルあたりに形成するCを含むSi層の厚さを所望の厚さよりも小さくして、上述のサイクルを所望の厚さになるまで複数回繰り返すのが好ましい。
ウエハ200上にシード層を形成した後、排気管231のAPCバルブ244は開いたままとして、真空ポンプ246により処理室201内を真空排気し、処理室201内に残留するガスや反応副生成物を処理室201内から排除する。なお、このとき、バルブ243f,243g,243hは開いたままとして、不活性ガスとしてのN2ガスの処理室201内への供給を維持する。N2ガスはパージガスとして作用し、これにより、処理室201内に残留するガスや反応副生成物を処理室201内から排除する効果を高めることができる。
ウエハ200上にシード層を形成し、処理室201内をパージした後、シード層の上に、CVD法によりSi膜を形成する。
シード層上に所定膜厚のSi膜を形成する成膜処理がなされると、バルブ243f,243g,243hを開き、第1不活性ガス供給管232f、第2不活性ガス供給管232g、第3不活性ガス供給管232hのそれぞれから不活性ガスとしてのN2ガスを処理室201内に供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用し、これにより、処理室201内が不活性ガスでパージされ、処理室201内に残留するガスや反応副生成物が処理室201内から除去される(パージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降されて、反応管203の下端が開口されるとともに、処理済のウエハ200がボート217に支持された状態で反応管203の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。その後、処理済のウエハ200はボート217より取出される(ウエハディスチャージ)。
次に、本実施形態の第2シーケンスについて、図4及び図5(b)を用いて説明する。
基板としてのウエハ200に対して第1の原料ガスとしてアルキル基を含むクロロシラン系原料ガスであるTCDMDSガスを供給する工程を単独で所定回数(1回)行うことにより、ウエハ200上に、SiおよびCを含むシード層を形成する工程と、
ウエハ200に対して第3の原料ガスとして無機シラン系原料ガスであるSiH4ガスを供給することにより、シード層の上にSi単体で構成されるSi膜を形成する工程と、を実施する。
(TCDMDSガス供給)
第1シーケンスのシード層形成工程と同様の処理手順により、処理室201内のウエハ200に対してTCDMDSガスを供給する。なお、このときの処理条件は、第1シーケンスのシード層形成工程で記載した条件範囲内の所定の条件であって、ウエハ200に対して供給されたTCDMDSガスが自己分解(熱分解)する条件、すなわち、TCDMDSの熱分解反応が生じる条件とする。また、TCDMDSガスのガス供給時間(照射時間)は、例えば1〜3600秒、好ましくは10〜900秒の範囲内の時間とする。
ウエハ200上にシード層を形成した後、第1ガス供給管232aのバルブ243aを閉じ、TCDMDSガスの供給を停止する。そして、第1シーケンスのパージ工程と同様の処理手順により、処理室201内に残留する未反応もしくはシード層形成に寄与した後のTCDMDSガスを処理室201内から排除し、処理室201内をパージする。なお、このとき、処理室201内に残留するガスを完全に排除しなくてもよく、処理室201内を完全にパージしなくてもよい点は、第1シーケンスと同様である。
ウエハ200上にシード層を形成し、処理室201内をパージした後、第1シーケンスのSi膜形成工程と同様の処理手順及び処理条件により、シード層の上に、例えば30nm以上100nm以下の膜厚のSi膜を形成する。
次に、本実施形態の第3シーケンスについて、図4及び図5(c)を用いて説明する。
基板としてのウエハ200に対して第1の原料ガスとしてアルキル基を含むクロロシラン系原料ガスであるTCDMDSガスを供給する工程を単独で所定回数(複数回)行うことにより、ウエハ200上に、SiおよびCを含むシード層を形成する工程と、
ウエハ200に対して第3の原料ガスとして無機シラン系原料ガスであるSiH4ガスを供給することにより、シード層の上にSi単体で構成されるSi膜を形成する工程と、を実施する。
(TCDMDSガス供給)
第1シーケンスのシード層形成工程と同様の処理手順により、処理室201内のウエハ200に対してTCDMDSガスを供給する。なお、このときの処理条件は、第1シーケンスのシード層形成工程で記載した条件範囲内の所定の条件であって、ウエハ200に対して供給されたTCDMDSガスが自己分解(熱分解)する条件、すなわち、TCDMDSの熱分解反応が生じる条件とする。また、TCDMDSガスのガス供給時間(照射時間)は、例えば1〜120秒、好ましくは1〜60秒の範囲内の時間とする。
ウエハ200上にCを含むSi層を形成した後、第1シーケンスのステップ1と同様の処理手順により、処理室201内に残留する未反応もしくはCを含むSi層形成に寄与した後のTCDMDSガスを処理室201内から排除し、処理室201内をパージする。なお、このとき、処理室201内に残留するガスを完全に排除しなくてもよく、処理室201内を完全にパージしなくてもよい点は、第1シーケンスと同様である。なお、ウエハ200上に形成されたCを含むSi層は、処理室201内をパージする際、所定温度で所定時間アニール(熱処理)されることとなる。この熱処理により、Cを含むSi層からのCl等の不純物の脱離が促され、Cを含むSi層中に含まれるClの不純物の量はさらに低減することとなる。
上述した処理室201内へのTCDMDSガスの供給と、処理室201内のパージとを1サイクルとして、このサイクルを複数回(n回)行うことにより、ウエハ200(表面の下地膜)上に、シリコン(Si)および炭素(C)を含むシード層、すなわち、ベースとしてのSi層にCが微量添加されてなる層を形成することができる。なお、シード層は、塩素(Cl)や窒素(N)等の不純物の含有量が極めて少ない層となる。
ウエハ200上にシード層を形成した後、第1シーケンスのパージ工程と同様の処理手順により、処理室201内に残留する未反応もしくはシード層形成に寄与した後のTCDMDSガスを処理室201内から排除し、処理室201内をパージする。なお、このとき、処理室201内に残留するガスを完全に排除しなくてもよく、処理室201内を完全にパージしなくてもよい点や、パージ工程を省略してもよい点は、第1シーケンスと同様である。
ウエハ200上にシード層を形成し、処理室201内をパージした後、第1シーケンスのSi膜形成工程と同様の処理手順及び処理条件により、シード層の上に、例えば30nm以上100nm以下の膜厚のSi膜を形成する。
本実施形態によれば、以下に示す1つまたは複数の効果を奏する。
上述の第1実施形態では、ウエハ200に対してTCDMDSガスを供給する工程と、ウエハ200に対してSiH3Rガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、TCDMDSガスを供給する工程を単独で所定回数行うことにより、ウエハ200の上にシード層を形成する例について説明した。しかしながら、本発明は係る態様に限定されない。
上述の第1実施形態では、ウエハ200に対してTCDMDSガスを供給する工程と、ウエハ200に対してSiH3Rガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、TCDMDSガスを供給する工程を単独で所定回数行うことにより、ウエハ200の上にシード層を形成する例について説明した。しかしながら、本発明は係る態様に限定されない。
上述の第1実施形態では、ウエハ200に対してTCDMDSガスを供給する工程と、ウエハ200に対してSiH3Rガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、TCDMDSガスを供給する工程を単独で所定回数行うことにより、ウエハ200の上にシード層を形成する例について説明した。しかしながら、本発明は係る態様に限定されない。
上述の第1実施形態では、ウエハ200上に、SiおよびCを含むシード層を形成する工程と、シード層の上にSi膜を形成する工程と、を実施する例について説明した。しかしながら、本発明は係る態様に限定されない。
ウエハ200に対してTCDMDSガスを供給する工程と、ウエハ200に対してSiH3Rガスを供給する工程と、を交互に所定回数(n回)行うことにより、もしくは、TCDMDSガスを供給する工程を単独で所定回数(n回)行うことにより、ウエハ200上に、SiおよびCを含むシード層を形成する工程と、
ウエハ200に対してSiH4ガスを供給することにより、シード層の上にSi膜を形成する工程と、
ウエハ200に対してTCDMDSガスを供給する工程と、ウエハ200に対してSiH3Rガスを供給する工程と、を交互に所定回数(m回)行うことにより、もしくは、TCDMDSガスを供給する工程を単独で所定回数(m回)行うことにより、Si膜の上に、SiおよびCを含むキャップ層、すなわち、ベースとしてのSi層にCが微量添加されてなる層を形成する工程と、
を実施するようにしてもよい。
上述の第1実施形態では、ウエハ200上に、SiおよびCを含むシード層を形成する工程と、シード層の上にSi膜を形成する工程と、を実施する例について説明した。しかしながら、本発明は係る態様に限定されない。
ウエハ200に対してSiH4ガスを供給することにより、ウエハ200上にSi膜を形成する工程と、
ウエハ200に対してTCDMDSガスを供給する工程と、ウエハ200に対してSiH3Rガスを供給する工程と、を交互に所定回数(n回)行うことにより、もしくは、TCDMDSガスを供給する工程を単独で所定回数(n回)行うことにより、Si膜の上に、SiおよびCを含むキャップ層、すなわち、ベースとしてのSi層にCが微量添加されてなる層を形成する工程と、
を実施するようにしてもよい。
以上、本発明の実施の形態を具体的に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
基板に対して金属元素、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する工程と、基板に対して上述の金属元素およびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、上述の第1の原料ガスを供給する工程を単独で所定回数行うことにより、基板上に、上述の金属元素および炭素を含むシード層を形成する工程と、
基板に対して上述の金属元素を含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、シード層の上に上述の金属元素を含む膜を形成する工程と、
を実施することになる。
以下、本発明の好ましい態様について付記する。
本発明の一態様によれば、
基板に対して所定元素、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する工程と、前記基板に対して前記所定元素およびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する工程を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、前記所定元素および炭素を含むシード層を形成する工程と、
前記基板に対して前記所定元素を含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上に前記所定元素を含む膜を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法が提供される。
付記1の半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記シード層を形成する工程および前記膜を形成する工程は、CVD反応が生じる条件下で行われる。
付記1または2の半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記シード層を形成する工程は、前記第1の原料ガスが熱分解する条件下で行われる。
付記1乃至3のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記シード層を形成する工程は、前記第2の原料ガスが熱分解する条件下で行われる。
付記1乃至4のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記膜を形成する工程は、前記第3の原料ガスが熱分解する条件下で行われる。
付記1乃至5のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記シード層を形成する工程および前記膜を形成する工程は、前記各原料ガスが熱分解する条件下で行われる。
付記1乃至6のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記シード層を形成する工程と前記膜を形成する工程は、前記基板の温度を同様な温度帯に保持した状態で行われる。
付記1乃至7のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記シード層の厚さを前記膜の厚さよりも薄くする。
付記1乃至8のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記シード層の厚さを0.1nm以上1nm以下とする。
付記1乃至9のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記シード層の炭素濃度を0.01at%以上5at%以下とする。
付記1乃至10のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記第3の原料ガスはアミノ基非含有である。
付記1乃至11のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記第3の原料ガスはクロロ基非含有である。
付記1乃至12のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記第1の原料ガスは、その組成式中に(1分子中に)複数のアルキル基を含む。
付記1乃至13のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記第1の原料ガスは、その組成式中に(1分子中に)複数のハロゲン基を含む。
付記1乃至14のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記第2の原料ガスは、その組成式中に(1分子中に)1つまたは複数のアミノ基を含む。
付記1乃至14のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記第2の原料ガスは、その組成式中に(1分子中に)1つのアミノ基を含む。
付記1乃至16のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記所定元素を含む膜は、前記所定元素単体で構成される所定元素膜である。
付記1乃至17のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記所定元素は半導体元素または金属元素を含む。
付記1乃至17のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記所定元素はシリコンを含む。
付記1乃至19のいずれかの半導体装置の製造方法であって、好ましくは、
前記第1の原料ガスは、1,1,2,2−テトラクロロ−1,2−ジメチルジシラン、および、1,2−ジクロロテトラメチルジシランのうち少なくともいずれかを含む。
本発明の他の態様によれば、
基板に対してシリコン、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する工程と、前記基板に対してシリコンおよびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する工程を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、シリコンおよび炭素を含むシード層を形成する工程と、
前記基板に対してシリコンを含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上にシリコン膜を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法が提供される。
本発明のさらに他の態様によれば、
基板に対して所定元素、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する工程と、前記基板に対して前記所定元素およびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する工程を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、前記所定元素および炭素を含むシード層を形成する工程と、
前記基板に対して前記所定元素を含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上に前記所定元素を含む膜を形成する工程と、
を有する基板処理方法が提供される。
本発明のさらに他の態様によれば、
基板を収容する処理室と、
前記処理室内へガスを供給するガス供給系と、
前記処理室内の基板に対して所定元素、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する処理と、前記基板に対して前記所定元素およびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する処理と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する処理を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、前記所定元素および炭素を含むシード層を形成する処理と、前記基板に対して前記所定元素を含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上に前記所定元素を含む膜を形成する処理と、を行うように前記ガス供給系を制御する制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本発明のさらに他の態様によれば、
基板処理装置の処理室内の基板に対して所定元素、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する手順と、前記処理室内の前記基板に対して前記所定元素およびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する手順と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する手順を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、前記所定元素および炭素を含むシード層を形成する手順と、
前記処理室内の前記基板に対して前記所定元素を含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上に前記所定元素を含む膜を形成する手順と、
をコンピュータに実行させるプログラムが提供される。
本発明のさらに他の態様によれば、
基板処理装置の処理室内の基板に対して所定元素、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する手順と、前記処理室内の前記基板に対して前記所定元素およびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する手順と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する手順を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、前記所定元素および炭素を含むシード層を形成する手順と、
前記処理室内の前記基板に対して前記所定元素を含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上に前記所定元素を含む膜を形成する手順と、
をコンピュータに実行させるプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
200 ウエハ(基板)
201 処理室
202 処理炉
203 反応管
207 ヒータ
231 排気管
232a 第1ガス供給管
232b 第2ガス供給管
232c 第3ガス供給管
232d 第4ガス供給管
232e 第5ガス供給管
Claims (10)
- 基板に対してシリコン、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する工程と、前記基板に対してシリコンおよびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する工程と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する工程を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、ベースとしてのシリコン層に炭素が微量添加されてなるシード層を形成する工程と、
前記基板に対してシリコンを含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上にシリコンを含む膜を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。 - 前記シード層の炭素濃度を0.01at%以上5at%以下とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記シード層の厚さを0.1nm以上1nm以下とする請求項1または2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記シード層の厚さを前記膜の厚さよりも薄くする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の原料ガスは、1分子中に複数のアルキル基と複数のハロゲン基とを含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の原料ガスは、1分子中に2つのシリコンを含む請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1の原料ガスは、アルキル基を含むクロロシランを含み、前記第2の原料ガスは、モノアミノシランを含み、前記第3の原料ガスは、無機シランを含む請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記シード層を形成する工程と前記膜を形成する工程とは、前記基板の温度を同一の温度帯に保持した状態で行われる請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 基板を収容する処理室と、
前記処理室内へガスを供給するガス供給系と、
前記処理室内の基板に対してシリコン、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する処理と、前記基板に対してシリコンおよびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する処理と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する処理を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、ベースとしてのシリコン層に炭素が微量添加されてなるシード層を形成する処理と、前記基板に対してシリコンを含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上にシリコンを含む膜を形成する処理と、を行わせるように前記ガス供給系を制御するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板処理装置の処理室内の基板に対してシリコン、アルキル基およびハロゲン基を含む第1の原料ガスを供給する手順と、前記処理室内の前記基板に対してシリコンおよびアミノ基を含む第2の原料ガスを供給する手順と、を交互に所定回数行うことにより、もしくは、前記第1の原料ガスを供給する手順を単独で所定回数行うことにより、前記基板上に、ベースとしてのシリコン層に炭素が微量添加されてなるシード層を形成する手順と、
前記処理室内の前記基板に対してシリコンを含むアルキル基非含有の第3の原料ガスを供給することにより、前記シード層の上にシリコンを含む膜を形成する手順と、
をコンピュータによって前記基板処理装置に実行させるプログラム。
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