JP6065357B2 - プリント配線板の製造方法 - Google Patents
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Description
もエッチングされてしまい、配線が細るという問題があった。この問題によって、電気特性の低下と共に、第一金属層3のサイドエッチされた部位でのイオン残渣による信頼性低下を引き起こす。
前記配線は、第一金属層と第二金属層と第三金属層とから成り、
第一金属層は、無電解メッキ層であり、
第二金属層は、電解メッキ層であり、
第三金属層は、第一金属層と第二金属層で形成された配線を被覆するように形成されている箇所を含む、Sn、Ag、Au、Cuから選ばれた少なくとも1種を含むメッキ金属皮膜であるプリント配線板の製造方法であって、少なくとも、
絶縁性基板の表面に触媒層を付与したのち無電解メッキ層を形成する第一金属層形成工程と、
前記第一金属層形成工程で形成された金属層の表面に、作製する配線パターンのネガパターンをメッキレジストで形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターン形成工程で得たレジストパターン付の絶縁性基板にレジストパターンの厚みより薄く電解メッキを行う第二金属層形成工程と、
前記第二金属層形成工程で電解メッキを行った前記レジストパターン付の絶縁性基板からレジストパターンを剥離し、その後、過酸化水素と硫酸系物質を含むエッチング液を用いて金属メッキ被膜表面の酸化物除去をするエッチングを行うレジスト剥離工程と、
前記レジスト剥離工程で得た絶縁性基板に形成されている金属層をエッチング除去することによりレジストパターンが形成されていた部分の下地にある無電解メッキにより形成された第一金属層を除去する全面エッチング工程と、
前記全面エッチング工程で得た絶縁性基板に形成されている第二金属層と該第二金属層の下層に形成されている第一金属層との配線パターンを、前記配線パターンを構成する金属のエッチング液では腐食されない第三金属層で被覆する配線パターン被覆工程と、
絶縁性基板を構成する樹脂をデスミア処理液でエッチング処理することにより、前記配線パターンが無い絶縁性基板の表面に残留している触媒層を除去する残留触媒除去工程と、から成ることを特徴とするプリント配線板の製造方法である。
次に図1(c)のように、絶縁樹脂基板の表面に無電解銅メッキ工程にて無電解銅メッキ層を約1.0μmの厚さに形成した。次に図1(d)のように、無電解銅メッキ層の表面に25μm厚のドライフイルムレジストを被覆し、露光、現像により、ライン/スペースが10μm/10μmのメッキレジストパターンを形成した。次に図1(e)のように、硫酸銅浴を用いて電解銅メッキを施し、厚さが15μmのパターン化した電解銅メッキ層を形成して配線パターンを形成した。次に図1(f)のように、メッキレジストパターンを剥離し、その後、銅メッキ被膜表面の酸化物除去を目的に、ソフトエッチング処理として、過酸化水素と硫酸系物質を含むエッチング液を用いてエッチングを行った。次に図1(g)のように、無電解銅メッキ層をエッチング除去するため、銅のアルカリエッチング液(塩化第二銅エッチャント)を用いてエッチング処理を行った。次に図1(h)のように、銅の配線パターンに1.0μmのスズ置換メッキを行った。次にプリント配線板の製造工程で使用する過マンガン酸デスミア工程を使用して無電解メッキの触媒を除去して配線パターンを形成した。
絶縁性基板として、プリント配線板用の資材として市販されている銅貼り積層板(ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸・固化させたプリプレグの表裏に銅箔を積層し熱プレスで積層した材料)を使用した。銅貼り積層板の表面には銅箔が貼り付けてあるので、この銅箔をエッチング除去したものを絶縁性基板として使用した。
次に図3(c)のように、エポキシ絶縁樹脂基板の表面に無電解銅メッキにて無電解銅メッキ層を1.0μmの厚さに形成した。次に図3(d)のように、無電解銅メッキ層の表面に25μm厚のドライフイルムレジストを被覆し、露光、現像により、ライン/スペースが10μm/10μmのメッキレジストパターンを形成した。次に図3(e)のように、硫酸銅浴を用いて電解銅メッキを施し、厚さが15μmの電解銅メッキ層を形成して配線パターンを形成した。次に図3(f)のように、メッキレジストを剥離し、その後、銅メッキ被膜表面の酸化物除去を目的に、ソフトエッチング処理として、過酸化水素と硫酸系物質を含むエッチング液を用いてエッチングを行った。次に図3(g)のように、無電解銅メッキ層をエッチング除去するため、銅のアルカリエッチング液(塩化第二銅エッチャント)を用いてエッチング処理を行った。次にプリント配線板の製造工程で使用する過マンガン酸デスミア工程を使用して無電解メッキの触媒を除去して配線パターンを形成した。
2・・・メッキ触媒
3・・・第一金属層
4・・・レジストパターン
5・・・第二金属層
6・・・第三金属層
Claims (1)
- 絶縁性基板上に複数の金属材料層から構成される配線を備えたプリント配線板であって、
前記配線は、第一金属層と第二金属層と第三金属層とから成り、
第一金属層は、無電解メッキ層であり、
第二金属層は、電解メッキ層であり、
第三金属層は、第一金属層と第二金属層で形成された配線を被覆するように形成されている箇所を含む、Sn、Ag、Au、Cuから選ばれた少なくとも1種を含むメッキ金属皮膜であるプリント配線板の製造方法であって、少なくとも、
絶縁性基板の表面に触媒層を付与したのち無電解メッキ層を形成する第一金属層形成工程と、
前記第一金属層形成工程で形成された金属層の表面に、作製する配線パターンのネガパターンをメッキレジストで形成するレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターン形成工程で得たレジストパターン付の絶縁性基板にレジストパターンの厚みより薄く電解メッキを行う第二金属層形成工程と、
前記第二金属層形成工程で電解メッキを行った前記レジストパターン付の絶縁性基板からレジストパターンを剥離し、その後、過酸化水素と硫酸系物質を含むエッチング液を用いて金属メッキ被膜表面の酸化物除去をするエッチングを行うレジスト剥離工程と、
前記レジスト剥離工程で得た絶縁性基板に形成されている金属層をエッチング除去することによりレジストパターンが形成されていた部分の下地にある無電解メッキにより形成された第一金属層を除去する全面エッチング工程と、
前記全面エッチング工程で得た絶縁性基板に形成されている第二金属層と該第二金属層の下層に形成されている第一金属層との配線パターンを、前記配線パターンを構成する金属のエッチング液では腐食されない第三金属層で被覆する配線パターン被覆工程と、
絶縁性基板を構成する樹脂をデスミア処理液でエッチング処理することにより、前記配線パターンが無い絶縁性基板の表面に残留している触媒層を除去する残留触媒除去工程と、から成ることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
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