JP6034097B2 - レーザー加工装置 - Google Patents
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Description
該レーザー光線照射手段は、レーザー光線を発振するレーザー光線発振器と、該レーザー光線発振器が発振するレーザー光線の出力を調整する出力調整手段と、該出力調整手段によって調整されたレーザー光線を集光して該チャックテーブルに保持された被加工物にレーザー光線を照射する集光器と、該出力調整手段と該集光器との間に配設された1/2波長板と、該1/2波長板を通過するレーザー光線の偏光角を調整する偏光角調整手段と、該偏光角調整手段を制御する制御手段とを具備し、
該集光器は、複屈折レンズと対物集光レンズとを備えており、
該制御手段は、該偏光角調整手段を制御して該1/2波長板を通過するレーザー光線の偏光角を調整し、該複屈折レンズを介して該対物集光レンズによって集光されるレーザー光線の集光点を2個の形態と1個の形態に適宜変更するものであって、該複屈折レンズを介して該対物集光レンズによって集光されるレーザー光線の集光点を1個の形態になるように該偏光角調整手段を制御したときには、複屈折レンズに入光するレーザー光線の出力が該複屈折レンズを介して該対物集光レンズによって集光されるレーザー光線の集光点を2個の形態になるように該偏光角調整手段を制御したときのレーザー光線の出力の1/2となるように該出力調整手段を制御する、レーザー加工装置が提供される。
図1には、本発明に従って構成されたレーザー加工装置の斜視図が示されている。図1に示すレーザー加工装置は、静止基台2と、該静止基台2に矢印Xで示す加工送り方向に移動可能に配設され被加工物を保持するチャックテーブル機構3と、静止基台2に上記矢印Xで示す方向と直角な矢印Yで示す割り出し方向に移動可能に配設されたレーザー光線照射ユニット支持機構4と、該レーザー光線照射ユニット支持機構4に矢印Zで示す焦点位置調整方向に移動可能に配設されたレーザー光線照射ユニット5とを具備している。
図2に示すレーザー光線照射手段6は、ケーシング61内に配設されたパルスレーザー光線発振器62と、このパルスレーザー光線発振器62が発振するパルスレーザー光線の出力を調整する出力調整手段63と、該出力調整手段63によって出力が調整されたパルスレーザー光線を集光してチャックテーブル36に保持された被加工物Wに照射せしめる集光器64とを含んでいる。パルスレーザー光線発振器62は、被加工物に対して透過性を有する波長(例えば1064nm)のパルスレーザー光線LBを発振する。
図5の(a)および(b)には、上記レーザー加工装置によって加工される被加工物であるウエーハとしての光デバイスウエーハの斜視図および要部を拡大して示す断面図が示されている。図5の(a)および(b)に示す光デバイスウエーハ10は、例えば厚さが150μmのサファイア基板100の表面100aにn型窒化物半導体層111およびp型窒化物半導体層112とからなる光デバイス層(エピ層)110が例えば10μmの厚さで積層されている。そして、光デバイス層(エピ層)110が格子状に形成された複数のストリート120によって区画された複数の領域に発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイス130が形成されている。以下、この光デバイスウエーハ10の内部にストリート120に沿って改質層を3層形成する方法について説明する。なお、改質層を3層形成する場合は、入力手段80から形成する改質層が3層であることを制御手段8に入力する。
波長 :1064nm
出力 :0.3W
繰り返し周波数 :100kHz
集光スポット径 :φ1μm
スポット個数 :2個
加工送り速度 :400mm/秒
3層目の改質層を形成するには、制御手段8は偏光角調整手段66を作動して複屈折レンズ642によって分離される常光LB1を100%に、異常光LB2を0%にするとともに、出力調整手段63を制御してパルスレーザー光線発振器62から発振されたパルスレーザー光線LBの出力を上記第1の変質層形成工程における出力の1/2に設定する。次に、図8の(a)で示すようにチャックテーブル36をレーザー光線照射手段6の集光器64が位置するレーザー光線照射領域に移動し、所定のストリート120を集光器64の直下に位置付ける。そして、集光器64から照射されるパルスレーザー光線の集光点Paを光デバイスウエーハ10を構成するサファイア基板100の内部における上記2個の改質層W1およびW2の上側に位置付ける。次に、レーザー光線照射手段6を作動して集光器64からパルスレーザー光線を照射するとともに、加工送り手段37を作動してチャックテーブル36を、図8の(a)において矢印X1で示す方向に所定の加工送り速度で移動せしめる(第2の変質層形成工程)。そして、図7の(b)で示すように集光器64の照射位置がストリート120の他端(図8の(b)において右端)に達したら、パルスレーザー光線の照射を停止するとともに、チャックテーブル36の移動を停止する。この結果、光デバイスウエーハ10を構成するサファイア基板100の内部には、図8の(b)に示すように所定のストリート120に沿って厚さT1およびT2を有する2個の改質層W1およびW2の上側に厚さT3の改質層W3が形成される。このように、第2の改質層形成工程においては、偏光角調整手段66を作動して複屈折レンズ642によって分離される常光LB1を100%に、異常光LB2を0%にすることにより、1個の集光点Paを光デバイスウエーハ10を構成するサファイア基板100の内部における上記2個の改質層W1およびW2の上側に位置付け改質層形成工程を実施するので、余った集光点が光デバイスウエーハ10の上面でアブレーションを引き起こすことはない。
波長 :1064nm
出力 :0.15W
繰り返し周波数 :100kHz
集光スポット径 :φ1μm
スポット個数 :1個
加工送り速度 :400mm/秒
3:チャックテーブル機構
36:チャックテーブル
37:加工送り手段
38:第1の割り出し送り手段
4:レーザー光線照射ユニット支持機構
42:可動支持基台
43:第2の割り出し送り手段
5:レーザー光線照射ユニット
53:集光点位置調整手段
6:レーザー光線照射手段
62:パルスレーザー光線発振器
63:出力調整手段
64:集光器
641:方向変換ミラー
642:複屈折レンズ
643:対物集光レンズ
65:1/2波長板
66:偏光角調整手段
8:制御手段
10:光デバイスウエーハ
Claims (1)
- 被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段と、該チャックテーブルと該レーザー光線照射手段とを相対的に加工送りする加工送り手段と、を具備するレーザー加工装置において、
該レーザー光線照射手段は、レーザー光線を発振するレーザー光線発振器と、該レーザー光線発振器が発振するレーザー光線の出力を調整する出力調整手段と、該出力調整手段によって調整されたレーザー光線を集光して該チャックテーブルに保持された被加工物にレーザー光線を照射する集光器と、該出力調整手段と該集光器との間に配設された1/2波長板と、該1/2波長板を通過するレーザー光線の偏光角を調整する偏光角調整手段と、該偏光角調整手段を制御する制御手段とを具備し、
該集光器は、複屈折レンズと対物集光レンズとを備えており、
該制御手段は、該偏光角調整手段を制御して該1/2波長板を通過するレーザー光線の偏光角を調整し、該複屈折レンズを介して該対物集光レンズによって集光されるレーザー光線の集光点を2個の形態と1個の形態に適宜変更するものであって、該複屈折レンズを介して該対物集光レンズによって集光されるレーザー光線の集光点を1個の形態になるように該偏光角調整手段を制御したときには、複屈折レンズに入光するレーザー光線の出力が該複屈折レンズを介して該対物集光レンズによって集光されるレーザー光線の集光点を2個の形態になるように該偏光角調整手段を制御したときのレーザー光線の出力の1/2となるように該出力調整手段を制御する、レーザー加工装置。
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