JP6024372B2 - 基板処理装置および基板処理チャンバモジュール - Google Patents
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Description
(a)上下に積み重ねられて気密封止部材を介して互いに直接取り付けられた第1および第2のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第2のチャンバに対面する第1の壁に設けられ、基板が通過可能な第1の開口と、
前記第1の壁と交差する前記第1のチャンバの第2の壁に設けられ、前記基板が通過可能な第2の開口と、
前記第2のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第3の壁に、前記第1の開口と連通して設けられ、前記基板が通過可能な第3の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第1の開口を開閉する第1の開閉手段と、
前記第1の開閉手段よりも前記第2のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載し、前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第2のチャンバ内とで移動可能な第1の基板搭載手段と、
前記第2のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第1の基板処理手段と、
前記第1のチャンバに対して前記第2のチャンバとは反対側に前記第1のチャンバと上下に積み重ねられて気密封止部材を介して互いに直接取り付けられた第3のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第3のチャンバに対面する第4の壁に設けられ、前記基板が通過可能な第4の開口と、
前記第3のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第5の壁に、前記第4の開口と連通して設けられ、前記基板が通過可能な第5の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第4の開口を開閉する第2の開閉手段と、
前記第2の開閉手段よりも前記第3のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載し、前記基板を前記第1のチャンバ内と前記第3のチャンバ内とで移動可能な第2の基板搭載手段と、
前記第3のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第2の基板処理手段と、
前記第1、第2および第3のチャンバにそれぞれ接続された第1、第2および第3の高真空ポンプと、
前記第2の壁において前記第2の開口と異なる位置に設けられた第6の開口と、
前記第1のチャンバの前記第2の壁に第1のゲートバルブを介して取り付けられ、前記第6の開口と前記第1のゲートバルブを介して連通する第7の開口が設けられた第6の壁を有する搬送チャンバと、
前記第6の壁において前記第7の開口と異なる位置に設けられた第8の開口と、
前記第6の壁に第2のゲートバルブを介して取り付けられ、前記第8の開口と前記第2のゲートバルブを介して連通する第9の開口が設けられた第7の壁を有する第4のチャンバと、
前記第4のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第3の基板処理手段と、
前記搬送チャンバ内に設けられ、前記第4のチャンバと前記第1のチャンバとの間で前記基板を搬送する第1の基板搬送手段と、
を有する基板処理チャンバモジュールと、
(b)前記第2の壁に第3のゲートバルブを介して取り付けられ、前記第2の開口と前記第3のゲートバルブを介して連通する第10の開口が設けられた第8の壁を有する搬送コアチャンバと、
(c)前記搬送コアチャンバ内に設けられ、前記搬送コアチャンバと前記第1のチャンバとの間で前記基板を搬送する第2の基板搬送手段と、
(d)前記搬送コアチャンバの前記第8の壁に取り付けられたロードロックチャンバと、
を備える基板処理装置が提供される。
上下に積み重ねられて気密封止部材を介して互いに直接取り付けられた第1および第2のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第2のチャンバに対面する第1の壁に設けられ、基板が通過可能な第1の開口と、
前記第1の壁と交差する前記第1のチャンバの第2の壁に設けられ、前記基板が通過可能な第2の開口と、
前記第2のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第3の壁に、前記第1の開口と連通して設けられ、前記基板が通過可能な第3の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第1の開口を開閉する第1の開閉手段と、
前記第1の開閉手段よりも前記第2のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載し、前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第2のチャンバ内とで移動可能な第1の基板搭載手段と、
前記第2のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第1の基板処理手段と、
前記第1のチャンバに対して前記第2のチャンバとは反対側に前記第1のチャンバと上下に積み重ねられて気密封止部材を介して互いに直接取り付けられた第3のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第3のチャンバに対面する第4の壁に設けられ、前記基板が通過可能な第4の開口と、
前記第3のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第5の壁に、前記第4の開口と連通して設けられ、前記基板が通過可能な第5の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第4の開口を開閉する第2の開閉手段と、
前記第2の開閉手段よりも前記第3のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載し、前記基板を前記第1のチャンバ内と前記第3のチャンバ内とで移動可能な第2の基板搭載手段と、
前記第3のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第2の基板処理手段と、
前記第2の壁において前記第2の開口と異なる位置に設けられた第6の開口と、
前記第1のチャンバの前記第2の壁に第1のゲートバルブを介して取り付けられ、前記第6の開口と前記第1のゲートバルブを介して連通する第7の開口が設けられた第6の壁を有する搬送チャンバと、
前記第6の壁において前記第7の開口と異なる位置に設けられた第8の開口と、
前記第6の壁に第2のゲートバルブを介して取り付けられ、前記第8の開口と前記第2のゲートバルブを介して連通する第9の開口が設けられた第7の壁を有する第4のチャンバと、
前記第4のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第3の基板処理手段と、
前記搬送チャンバ内に設けられ、前記第4のチャンバと前記第1のチャンバとの間で前記基板を搬送する第1の基板搬送手段と、
を備える基板処理チャンバモジュールが提供される。
図1を参照すれば、本発明の好ましい第1の実施の形態の基板処理装置1として、基板を真空処理するための、典型的なクラスタ型装置が示されている。基板22としては、例えば、シリコンウエハやAlTiC(Al2O3−TiC)ウエハが好適に使用される。
図9を参照すれば、上述した第1の実施の形態では、基板搭載部材15は垂直移動エレベータバルブ14上に設けられており、基板搭載部材15は垂直移動エレベータバルブ14と一緒に上下する。これに対して、本実施の形態では、基板搭載部材15を垂直移動エレベータバルブ14の上側に垂直移動エレベータバルブ14とは独立して設け、基板搭載部材15の駆動部材を垂直移動エレベータバルブ14の駆動部材とは別に設け、基板搭載部材15の上下動と、垂直移動エレベータバルブ14の上下動とを独立させている点が第1の実施の形態と異なる。すなわち、基板搭載部材15は、プレート15bとプレート15b上に設けられた複数のピン15aとを備えている。基板22は複数のピン15a上に搭載される。プレート15bは、プロセスチャンバ30の上壁31bを貫通して設けられる駆動部材(図示せず)によって上下駆動される。この駆動部材は、第1の実施の形態における基板搭載部材18の上プレート18dを上下に駆動した駆動部材と同様なので、説明は省略する。
本発明の好ましい第3の実施の形態に係る基板処理装置は、基本的な構成は、第1の実施の形態の基板処理装置と同様であり、同一のものには同一の符号を付し、説明は省略する。図10を参照すれば、本発明の好ましい第3の実施の形態では、チャンバアセンブリ100は、搬送チャンバ10、プロセスチャンバ30、プロセスチャンバ50を備えている。チャンバアセンブリ100は、搬送チャンバ10とゲートバルブ61によって連結された搬送チャンバ57と、ゲートバルブ62によって搬送チャンバ57と連結されたプロセスチャンバ63をさらに有している。
本発明の好ましい第4の実施の形態に係る基板処理装置は、基本的な構成は、第3の実施の形態の基板処理装置と同様であり、同一のものには同一の符号を付し、説明は省略する。図11を参照すれば、本実施の形態に係る基板処理装置の搬送チャンバ10には、図10で示した基板処理装置とは異なり、基板22を支持するための、複数のピンを有する基板搭載部材23bを備えている。本実施の形態に係る基板処理装置では、垂直移動エレベータバルブ14、17を閉めることで、プロセスチャンバ30、プロセスチャンバ50でそれぞれ独立して、基板22の処理を実行しながら、搬送チャンバ10は、パスチャンバとして機能する。
本発明の好ましい第5の実施の形態に係る基板処理装置は、基本的な構成は、第3の実施の形態の基板処理装置と同様であり、同一のものには同一の符号を付し、説明は省略する。図12を参照すれば、本実施の形態に係る基板処理装置の搬送チャンバ10には、図10で示した基板処理装置とは異なり、基板22を支持するための、複数のピンを有する基板搭載部材25aを備えた回転可能な基板ステージ25が設けられている。ピンまたはステージ25は上下動可能になっている。さらに、基板ステージ25の上方には、基板の向きを検出するための、基板向き検出手段26が設けられている。基板向き検出手段26としては、CCDカメラが用いられ、基板22のノッチやオリエンテーションフラットを検出することで、基板22の向きを認識することができる。基板向き検出手段26は、基板の向きを知らせる信号を基板ステージ25の回転モータに送信し、基板を180°反転させることができる。
(変形例)
図13を参照すれば、比較例1の基板処理装置は、本発明の好ましい実施の形態のチャンバアセンブリ100に代えて、搬送コアチャンバ70にゲートバルブ74hを介して取り付けられたパスチャンバ76と、パスチャンバ76にゲートバルブ74hを介して取り付けられた補助搬送コアチャンバ75と、補助搬送コアチャンバ75にゲートバルブ74j、74kをそれぞれ介して取り付けられたプロセスチャンバ77a、77bを備えている。補助搬送コアチャンバ75には基板搬送ロボット94が設けられている。パスチャンバ76は、特に基板処理を行うことないが、基板22を支持するための複数のピン(図示せず)が設けられている。このように一時的に基板22が支持されることで、基板搬送ロボット90から基板搬送ロボット94へ基板22を間接的に受け渡す。なお、パスチャンバ76に、このような複数のピンがない場合、基板搬送ロボット90から基板搬送ロボット94へ直接基板22を受け渡すようにしてもよい。
図14を参照すれば、基板搬送ロボットを使用して占有床面積を小さくした基板処理装置が示されている。上部ロードロックチャンバ80a、下部ロードロックチャンバ80bを有するロードロックチャンバ80は、スリットバルブ83b、83dをそれぞれ介して基板搬送ロボット85を有する搬送コアチャンバ81に取り付けられている。搬送コアチャンバ81は、ゲートバルブ84を介して、プロセスチャンバ82に連結されている。上部ロードロックチャンバ80aのロードロックスペース72a、下部ロードロックチャンバ80bのロードロックスペース72bは外部環境87から、搬入口ゲートバルブ83a、83bによって、個別に分離されており、さらに、搬送コアチャンバ81の真空空間88とスリットバルブ83b、83dによって個別に分離されている。
11 側壁
11a 上壁
11b 下壁
12a 開口
12b 開口
12c 開口
14 垂直移動エレベータバルブ
15 基板受取部材
17 垂直移動エレベータバルブ
18 基板受取部材
22 基板
30 プロセスチャンバ
31 側壁
31a 下壁
31b 上壁
35 ランプヒータユニット
36a 開口
50 プロセスチャンバ
51 側壁
51b 上壁
51a 下壁
57a 開口
Claims (12)
- (a)上下に積み重ねられて気密封止部材を介して互いに直接取り付けられた第1および第2のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第2のチャンバに対面する第1の壁に設けられ、基板が通過可能な第1の開口と、
前記第1の壁と交差する前記第1のチャンバの第2の壁に設けられ、前記基板が通過可能な第2の開口と、
前記第2のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第3の壁に、前記第1の開口と連通して設けられ、前記基板が通過可能な第3の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第1の開口を開閉する第1の開閉手段と、
前記第1の開閉手段よりも前記第2のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載し、前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第2のチャンバ内とで移動可能な第1の基板搭載手段と、
前記第2のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第1の基板処理手段と、
前記第1のチャンバに対して前記第2のチャンバとは反対側に前記第1のチャンバと上下に積み重ねられて気密封止部材を介して互いに直接取り付けられた第3のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第3のチャンバに対面する第4の壁に設けられ、前記基板が通過可能な第4の開口と、
前記第3のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第5の壁に、前記第4の開口と連通して設けられ、前記基板が通過可能な第5の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第4の開口を開閉する第2の開閉手段と、
前記第2の開閉手段よりも前記第3のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載し、前記基板を前記第1のチャンバ内と前記第3のチャンバ内とで移動可能な第2の基板搭載手段と、
前記第3のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第2の基板処理手段と、
前記第1、第2および第3のチャンバにそれぞれ接続された第1、第2および第3の高真空ポンプと、
前記第2の壁において前記第2の開口と異なる位置に設けられた第6の開口と、
前記第1のチャンバの前記第2の壁に第1のゲートバルブを介して取り付けられ、前記第6の開口と前記第1のゲートバルブを介して連通する第7の開口が設けられた第6の壁を有する搬送チャンバと、
前記第6の壁において前記第7の開口と異なる位置に設けられた第8の開口と、
前記第6の壁に第2のゲートバルブを介して取り付けられ、前記第8の開口と前記第2のゲートバルブを介して連通する第9の開口が設けられた第7の壁を有する第4のチャンバと、
前記第4のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第3の基板処理手段と、
前記搬送チャンバ内に設けられ、前記第4のチャンバと前記第1のチャンバとの間で前記基板を搬送する第1の基板搬送手段と、
を有する基板処理チャンバモジュールと、
(b)前記第2の壁に第3のゲートバルブを介して取り付けられ、前記第2の開口と前記第3のゲートバルブを介して連通する第10の開口が設けられた第8の壁を有する搬送コアチャンバと、
(c)前記搬送コアチャンバ内に設けられ、前記搬送コアチャンバと前記第1のチャンバとの間で前記基板を搬送する第2の基板搬送手段と、
(d)前記搬送コアチャンバの前記第8の壁に取り付けられたロードロックチャンバと、
を備える基板処理装置。 - 前記第1、第2又は第3の基板処理手段は、ランプヒータユニットによる加熱、スパッタリング、エッチング、酸化および急速冷却のうちのいずれかの処理を行う請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記搬送コアチャンバの前記第8の壁において、前記第10の開口と異なる位置にプロセスチャンバが取り付けられている請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記第1の開閉手段を上下動させる第1の駆動源を前記第1のチャンバの外側にさらに備える請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記第2のチャンバは前記第1のチャンバ上に設けられ、
前記第1の基板搭載手段は、前記第1の開閉手段上に設けられ、前記第1の駆動源によって前記第1の開閉手段を上下動させることによって、前記第1の基板搭載手段に搭載された前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第2のチャンバ内とで移動させる請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記第1のチャンバは前記第3のチャンバ上に設けられ、
前記第2の基板搭載手段は、前記第2の開閉手段の下側に前記第2の開閉手段と独立して設けられ、かつ、前記第2の開閉手段と独立に上下動可能である請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第2の開閉手段を上下動させる第2の駆動源を前記第1のチャンバの外側にさらに備え、
前記第2の基板搭載手段を上下動させる第3の駆動源を前記第1のチャンバおよび前記第3のチャンバの外側にさらに備える請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第1の基板搭載手段は、前記基板を複数のピンにより支持する請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記第1のチャンバ内に設けられ、前記基板を回転する基板回転手段と、前記基板の向きを検出する基板向き検出手段をさらに備える請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 上下に積み重ねられて気密封止部材を介して互いに直接取り付けられた第1および第2のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第2のチャンバに対面する第1の壁に設けられ、基板が通過可能な第1の開口と、
前記第1の壁と交差する前記第1のチャンバの第2の壁に設けられ、前記基板が通過可能な第2の開口と、
前記第2のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第3の壁に、前記第1の開口と連通して設けられ、前記基板が通過可能な第3の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第1の開口を開閉する第1の開閉手段と、
前記第1の開閉手段よりも前記第2のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載し、前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第2のチャンバ内とで移動可能な第1の基板搭載手段と、
前記第2のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第1の基板処理手段と、
前記第1のチャンバに対して前記第2のチャンバとは反対側に前記第1のチャンバと上下に積み重ねられて気密封止部材を介して互いに直接取り付けられた第3のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第3のチャンバに対面する第4の壁に設けられ、前記基板が通過可能な第4の開口と、
前記第3のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第5の壁に、前記第4の開口と連通して設けられ、前記基板が通過可能な第5の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第4の開口を開閉する第2の開閉手段と、
前記第2の開閉手段よりも前記第3のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載し、前記基板を前記第1のチャンバ内と前記第3のチャンバ内とで移動可能な第2の基板搭載手段と、
前記第3のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第2の基板処理手段と、
前記第2の壁において前記第2の開口と異なる位置に設けられた第6の開口と、
前記第2の壁に第1のゲートバルブを介して取り付けられ、前記第6の開口と前記第1のゲートバルブを介して連通する第7の開口が設けられた第6の壁を有する搬送チャンバと、
前記第6の壁において前記第7の開口と異なる位置に設けられた第8の開口と、
前記第6の壁に第2のゲートバルブを介して取り付けられ、前記第8の開口と前記第2のゲートバルブを介して連通する第9の開口が設けられた第7の壁を有する第4のチャンバと、
前記第4のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第3の基板処理手段と、
前記搬送チャンバ内に設けられ、前記第4のチャンバと前記第1のチャンバとの間で前記基板を搬送する第1の基板搬送手段と、
を備えた基板処理チャンバモジュール。 - 前記第1の基板搭載手段は、前記基板を複数のピンにより支持する請求項10に記載の基板処理チャンバモジュール。
- 前記第1のチャンバ内に設けられ、前記基板を回転する基板回転手段と、前記基板の向きを検出する基板向き検出手段をさらに備える請求項10または11に記載の基板処理チャンバモジュール。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012226988A JP6024372B2 (ja) | 2012-10-12 | 2012-10-12 | 基板処理装置および基板処理チャンバモジュール |
US14/051,452 US9355878B2 (en) | 2012-10-12 | 2013-10-11 | Substrate processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012226988A JP6024372B2 (ja) | 2012-10-12 | 2012-10-12 | 基板処理装置および基板処理チャンバモジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014078669A JP2014078669A (ja) | 2014-05-01 |
JP6024372B2 true JP6024372B2 (ja) | 2016-11-16 |
Family
ID=50475454
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012226988A Expired - Fee Related JP6024372B2 (ja) | 2012-10-12 | 2012-10-12 | 基板処理装置および基板処理チャンバモジュール |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9355878B2 (ja) |
JP (1) | JP6024372B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102401606B1 (ko) * | 2015-07-18 | 2022-05-23 | 안범주 | 반도체 프로세싱을 위한 수직 적층형 다중 챔버 |
US20170029948A1 (en) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | Asm Ip Holding B.V. | Methods and apparatuses for temperature-indexed thin film deposition |
US11802340B2 (en) * | 2016-12-12 | 2023-10-31 | Applied Materials, Inc. | UHV in-situ cryo-cool chamber |
JP7409800B2 (ja) | 2019-08-09 | 2024-01-09 | 川崎重工業株式会社 | ロボット制御装置、ロボット、及びロボット制御方法 |
KR20210032112A (ko) * | 2019-09-16 | 2021-03-24 | 삼성전자주식회사 | 스퍼터링 장치 및 그를 이용한 자기 기억 소자의 제조 방법 |
US11545347B2 (en) * | 2020-11-05 | 2023-01-03 | Applied Materials, Inc. | Internally divisible process chamber using a shutter disk assembly |
KR102424853B1 (ko) * | 2021-10-12 | 2022-07-25 | 주식회사 바코솔루션 | 반도체 기판 처리 장치 |
KR102418530B1 (ko) * | 2021-10-12 | 2022-07-07 | 주식회사 바코솔루션 | 반도체 기판 처리 장치 |
KR102418534B1 (ko) * | 2021-10-12 | 2022-07-07 | 주식회사 바코솔루션 | 반도체 기판의 처리를 위한 클러스터 툴 및 그 제어 방법 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0736416B2 (ja) * | 1989-01-25 | 1995-04-19 | 日新電機株式会社 | ウェーハ搬送装置 |
JP2937846B2 (ja) * | 1996-03-01 | 1999-08-23 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | マルチチャンバウェハ処理システム |
JP3437734B2 (ja) | 1997-02-26 | 2003-08-18 | 富士通株式会社 | 製造装置 |
US6079928A (en) * | 1997-08-08 | 2000-06-27 | Brooks Automation, Inc. | Dual plate gas assisted heater module |
JP4048387B2 (ja) * | 1997-09-10 | 2008-02-20 | 東京エレクトロン株式会社 | ロードロック機構及び処理装置 |
JP3844608B2 (ja) | 1998-10-12 | 2006-11-15 | 株式会社アルバック | 真空成膜装置 |
US6183564B1 (en) * | 1998-11-12 | 2001-02-06 | Tokyo Electron Limited | Buffer chamber for integrating physical and chemical vapor deposition chambers together in a processing system |
US6409837B1 (en) * | 1999-01-13 | 2002-06-25 | Tokyo Electron Limited | Processing system and method for chemical vapor deposition of a metal layer using a liquid precursor |
JP2000299367A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-10-24 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び被処理体の搬送方法 |
US6352623B1 (en) * | 1999-12-17 | 2002-03-05 | Nutool, Inc. | Vertically configured chamber used for multiple processes |
WO2001066817A1 (en) * | 2000-03-09 | 2001-09-13 | Semix Incorporated | Wafer processing apparatus and method |
JP5021112B2 (ja) | 2000-08-11 | 2012-09-05 | キヤノンアネルバ株式会社 | 真空処理装置 |
JP4821074B2 (ja) | 2001-08-31 | 2011-11-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム |
US6729824B2 (en) * | 2001-12-14 | 2004-05-04 | Applied Materials, Inc. | Dual robot processing system |
US7651583B2 (en) * | 2004-06-04 | 2010-01-26 | Tokyo Electron Limited | Processing system and method for treating a substrate |
TW200715448A (en) | 2005-07-25 | 2007-04-16 | Canon Anelva Corp | Vacuum processing apparatus, semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing system |
JP2008153339A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | 搬送装置並びに半導体ウエハー及び半導体素子製造用処理装置 |
JP2009071214A (ja) * | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Seiko Epson Corp | 基板処理装置 |
JP2011138859A (ja) | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Canon Anelva Corp | 真空処理装置、および半導体デバイスの製造方法。 |
-
2012
- 2012-10-12 JP JP2012226988A patent/JP6024372B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-10-11 US US14/051,452 patent/US9355878B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9355878B2 (en) | 2016-05-31 |
JP2014078669A (ja) | 2014-05-01 |
US20140105709A1 (en) | 2014-04-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A711 | Notification of change in applicant |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141030 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141031 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150709 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150714 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |