JP2014078669A - 基板処理装置および基板処理装置用モジュール - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上下に積み重ねられたチャンバ10、30と、チャンバ10の壁11aに設けられた開口12aと、チャンバ10の壁11cに設けられた開口12cと、チャンバ30の壁31aに、開口12aと連通して設けられた開口36aと、チャンバ10内に上下動可能に設けられ、開口12aを開閉する開閉手段14と、開閉手段14よりもチャンバ30側に設けられ、基板22を搭載する基板搭載手段15であって、基板22をチャンバ10内と、チャンバ30内とで移動可能な基板搭載手段15と、第2のチャンバ30に設けられ、基板22を処理する基板処理手段35と、を備える。
【選択図】図2
Description
上下に積み重ねられて設けられた第1および第2のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第2のチャンバに対面する第1の壁に設けられ、その内部を基板が通過可能な第1の開口と、
前記第1のチャンバの前記第1の壁と交差する前記第1のチャンバの第2の壁に設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第2の開口と、
前記第2のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第3の壁に、前記第1の開口と連通して設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第3の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第1の開口を開閉する開閉手段と、
前記開閉手段よりも前記第2のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載する基板搭載手段であって、前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第2のチャンバ内とで移動可能な前記基板搭載手段と、
前記第2のチャンバに設けられ、前記基板を処理する基板処理手段と、を備える基板処理装置が提供される。
上下に積み重ねられて設けられた第1および第2のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第2のチャンバに対面する第1の壁に設けられ、その内部を基板が通過可能な第1の開口と、
前記第1のチャンバの前記第1の壁と交差する前記第1のチャンバの第2の壁に設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第2の開口と、
前記第2のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第3の壁に、前記第1の開口と連通して設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第3の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第1の開口を開閉する開閉手段と、
前記開閉手段よりも前記第2のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載する基板搭載手段であって、前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第2のチャンバ内とで移動可能な前記基板搭載手段と、
前記第2のチャンバに設けられ、前記基板を処理する基板処理手段と、を備える基板処理装置用モジュールが提供される。
図1を参照すれば、本発明の好ましい第1の実施の形態の基板処理装置1として、基板を真空処理するための、典型的なクラスタ型装置が示されている。基板22としては、例えば、シリコンウエハやAlTiC(Al2O3−TiC)ウエハが好適に使用される。
図9を参照すれば、上述した第1の実施の形態では、基板搭載部材15は垂直移動エレベータバルブ14上に設けられており、基板搭載部材15は垂直移動エレベータバルブ14と一緒に上下する。これに対して、本実施の形態では、基板搭載部材15を垂直移動エレベータバルブ14の上側に垂直移動エレベータバルブ14とは独立して設け、基板搭載部材15の駆動部材を垂直移動エレベータバルブ14の駆動部材とは別に設け、基板搭載部材15の上下動と、垂直移動エレベータバルブ14の上下動とを独立させている点が第1の実施の形態と異なる。すなわち、基板搭載部材15は、プレート15bとプレート15b上に設けられた複数のピン15aとを備えている。基板22は複数のピン15a上に搭載される。プレート15bは、プロセスチャンバ30の上壁31bを貫通して設けられる駆動部材(図示せず)によって上下駆動される。この駆動部材は、第1の実施の形態における基板搭載部材18の上プレート18dを上下に駆動した駆動部材と同様なので、説明は省略する。
本発明の好ましい第3の実施の形態に係る基板処理装置は、基本的な構成は、第1の実施の形態の基板処理装置と同様であり、同一のものには同一の符号を付し、説明は省略する。図10を参照すれば、本発明の好ましい第3の実施の形態では、チャンバアセンブリ100は、搬送チャンバ10、プロセスチャンバ30、プロセスチャンバ50を備えている。チャンバアセンブリ100は、搬送チャンバ10とゲートバルブ61によって連結された搬送チャンバ57と、ゲートバルブ62によって搬送チャンバ57と連結されたプロセスチャンバ63をさらに有している。
本発明の好ましい第4の実施の形態に係る基板処理装置は、基本的な構成は、第3の実施の形態の基板処理装置と同様であり、同一のものには同一の符号を付し、説明は省略する。図11を参照すれば、本実施の形態に係る基板処理装置の搬送チャンバ10には、図10で示した基板処理装置とは異なり、基板22を支持するための、複数のピンを有する基板搭載部材23bを備えている。本実施の形態に係る基板処理装置では、垂直移動エレベータバルブ14、17を閉めることで、プロセスチャンバ30、プロセスチャンバ50でそれぞれ独立して、基板22の処理を実行しながら、搬送チャンバ10は、パスチャンバとして機能する。
本発明の好ましい第5の実施の形態に係る基板処理装置は、基本的な構成は、第3の実施の形態の基板処理装置と同様であり、同一のものには同一の符号を付し、説明は省略する。図12を参照すれば、本実施の形態に係る基板処理装置の搬送チャンバ10には、図10で示した基板処理装置とは異なり、基板22を支持するための、複数のピンを有する基板搭載部材25aを備えた回転可能な基板ステージ25が設けられている。ピンまたはステージ25は上下動可能になっている。さらに、基板ステージ25の上方には、基板の向きを検出するための、基板向き検出手段26が設けられている。基板向き検出手段26としては、CCDカメラが用いられ、基板22のノッチやオリエンテーションフラットを検出することで、基板22の向きを認識することができる。基板向き検出手段26は、基板の向きを知らせる信号を基板ステージ25の回転モータに送信し、基板を180°反転させることができる。
(変形例)
図13を参照すれば、比較例1の基板処理装置は、本発明の好ましい実施の形態のチャンバアセンブリ100に代えて、搬送コアチャンバ70にゲートバルブ74hを介して取り付けられたパスチャンバ76と、パスチャンバ76にゲートバルブ74hを介して取り付けられた補助搬送コアチャンバ75と、補助搬送コアチャンバ75にゲートバルブ74j、74kをそれぞれ介して取り付けられたプロセスチャンバ77a、77bを備えている。補助搬送コアチャンバ75には基板搬送ロボット94が設けられている。パスチャンバ76は、特に基板処理を行うことないが、基板22を支持するための複数のピン(図示せず)が設けられている。このように一時的に基板22が支持されることで、基板搬送ロボット90から基板搬送ロボット94へ基板22を間接的に受け渡す。なお、パスチャンバ76に、このような複数のピンがない場合、基板搬送ロボット90から基板搬送ロボット94へ直接基板22を受け渡すようにしてもよい。
図14を参照すれば、基板搬送ロボットを使用して占有床面積を小さくした基板処理装置が示されている。上部ロードロックチャンバ80a、下部ロードロックチャンバ80bを有するロードロックチャンバ80は、スリットバルブ83b、83dをそれぞれ介して基板搬送ロボット85を有する搬送コアチャンバ81に取り付けられている。搬送コアチャンバ81は、ゲートバルブ84を介して、プロセスチャンバ82に連結されている。上部ロードロックチャンバ80aのロードロックスペース72a、下部ロードロックチャンバ80bのロードロックスペース72bは外部環境87から、搬入口ゲートバルブ83a、83bによって、個別に分離されており、さらに、搬送コアチャンバ81の真空空間88とスリットバルブ83b、83dによって個別に分離されている。
11 側壁
11a 上壁
11b 下壁
12a 開口
12b 開口
12c 開口
14 垂直移動エレベータバルブ
15 基板受取部材
17 垂直移動エレベータバルブ
18 基板受取部材
22 基板
30 プロセスチャンバ
31 側壁
31a 下壁
31b 上壁
35 ランプヒータユニット
36a 開口
50 プロセスチャンバ
51 側壁
51b 上壁
51a 下壁
57a 開口
Claims (14)
- 上下に積み重ねられて設けられた第1および第2のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第2のチャンバに対面する第1の壁に設けられ、その内部を基板が通過可能な第1の開口と、
前記第1のチャンバの前記第1の壁と交差する前記第1のチャンバの第2の壁に設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第2の開口と、
前記第2のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第3の壁に、前記第1の開口と連通して設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第3の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第1の開口を開閉する開閉手段と、
前記開閉手段よりも前記第2のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載する基板搭載手段であって、前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第2のチャンバ内とで移動可能な前記基板搭載手段と、
前記第2のチャンバに設けられ、前記基板を処理する基板処理手段と、を備える基板処理装置。 - 前記第1のチャンバの前記第1の壁と対向する前記第1のチャンバの第4の壁に設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第4の開口と、
前記第1のチャンバに対して前記第2のチャンバとは反対側に前記第1のチャンバと上下に積み重ねられて設けられた第3のチャンバと、
前記第3のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第5の壁に、前記第4の開口と連通して設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第5の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第5の開口を開閉する第2の開閉手段と、
前記第2の開閉手段よりも前記第3のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載する第2の基板搭載手段であって、前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第3のチャンバ内とで移動可能な前記第2の基板搭載手段と、
前記第3のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第2の基板処理手段と、をさらに備える請求項1記載の基板処理装置。 - 前記第1のチャンバの前記第2の壁に設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第6の開口をさらに備える請求項1または2記載の基板処理装置。
- 前記開閉手段を上下動させる駆動源を前記第1のチャンバの外側にさらに備える請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記第2のチャンバは前記第1のチャンバ上に設けられ、
前記基板搭載手段は、前記開閉手段上に設けられ、前記駆動源によって前記開閉手段を上下動させることによって、前記基板搭載手段に搭載された前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第2のチャンバ内とで移動させる請求項4記載の基板処理装置。 - 前記第1のチャンバは前記第3のチャンバ上に設けられ、
前記第2の基板搭載手段は、前記第2の開閉手段の下側に前記第2の開閉手段と独立して設けられ、前記第2の基板搭載手段は、前記第2の開閉手段と独立に上下動可能である請求項2記載の基板処理装置。 - 前記第2の開閉手段を上下動させる第2の駆動源を前記第1のチャンバの外側にさらに備え、
前記第2の基板搭載手段を上下動させる第3の駆動源を前記第1のチャンバおよび前記第3のチャンバの外側にさらに備える請求項6記載の基板処理装置。 - 前記第1のチャンバの前記第2の壁に取り付けられ、前記第2の開口と連通する第7の開口が設けられた第6の壁を有する第4のチャンバと、
前記第4のチャンバ内に設けられ、第4のチャンバから前記第1のチャンバ内に位置している前記基板搭載手段に前記基板を搬送し、前記第1のチャンバ内に位置している前記基板搭載手段から前記基板を第4のチャンバに搬送する基板搬送手段と、をさらに備える請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記第1のチャンバの前記第2の壁に取り付けられ、前記第2の開口と連通する第7の開口が設けられた第6の壁を有する第4のチャンバと、
前記第4のチャンバ内に設けられ、第4のチャンバから前記第1のチャンバ内に位置している前記基板搭載手段に前記基板を搬送し、前記第1のチャンバ内に位置している前記基板搭載手段から前記基板を第4のチャンバに搬送し、第4のチャンバから前記第1のチャンバ内に位置している前記第2の基板搭載手段に前記基板を搬送し、前記第1のチャンバ内に位置している前記第2の基板搭載手段から前記基板を第4のチャンバに搬送する基板搬送手段と、をさらに備える請求項2記載の基板処理装置。 - 前記第1のチャンバの前記第2の壁に設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第6の開口と、
前記第1のチャンバの第2の壁に取り付けられ、前記第6の開口と連通する第8の開口が設けられた第7の壁を有する第5のチャンバと、
前記第5のチャンバ内に設けられ、第5のチャンバと前記第1のチャンバとの間で前記基板を搬送する第2の基板搬送手段と、をさらに備える請求項1、2、4〜9のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記開閉手段に対して前記基板搭載手段と反対側であって、前記第1のチャンバ内に設けられた第3の基板搭載手段をさらに備える請求項1〜10のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記第1のチャンバ内に設けられ、前記基板を回転する基板回転手段と、前記基板の向きを検出する基板向き検出手段をさらに備える請求項1〜11のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 上下に積み重ねられて設けられた第1および第2のチャンバと、
前記第1のチャンバの前記第2のチャンバに対面する第1の壁に設けられ、その内部を基板が通過可能な第1の開口と、
前記第1のチャンバの前記第1の壁と交差する前記第1のチャンバの第2の壁に設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第2の開口と、
前記第2のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第3の壁に、前記第1の開口と連通して設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第3の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第1の開口を開閉する開閉手段と、
前記開閉手段よりも前記第2のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載する基板搭載手段であって、前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第2のチャンバ内とで移動可能な前記基板搭載手段と、
前記第2のチャンバに設けられ、前記基板を処理する基板処理手段と、を備える基板処理装置用モジュール。 - 前記第1のチャンバの前記第1の壁と対向する前記第1のチャンバの第4の壁に設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第4の開口と、
前記第1のチャンバに対して前記第2のチャンバとは反対側に前記第1のチャンバと上下に積み重ねられて設けられた第3のチャンバと、
前記第3のチャンバの前記第1のチャンバに対面する第5の壁に、前記第4の開口と連通して設けられ、その内部を前記基板が通過可能な第5の開口と、
前記第1のチャンバ内に上下動可能に設けられ、前記第5の開口を開閉する第2の開閉手段と、
前記第2の開閉手段よりも前記第3のチャンバ側に設けられ、前記基板を搭載する第2の基板搭載手段であって、前記基板を前記第1のチャンバ内と、前記第3のチャンバ内とで移動可能な前記第2の基板搭載手段と、
前記第3のチャンバに設けられ、前記基板を処理する第2の基板処理手段と、をさらに備える請求項13記載の基板処理装置用モジュール。
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