JPH08172034A

JPH08172034A - 真空処理装置

Info

Publication number: JPH08172034A
Application number: JP32622193A
Authority: JP
Inventors: Tomoyuki Ishii; 智之石井; Tadashi Komiyama; 正小宮山; Katsuhiko Takazoe; 克彦高添
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Priority date: 1993-11-30
Filing date: 1993-11-30
Publication date: 1996-07-02
Anticipated expiration: 2016-12-10
Also published as: JP3236724B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】真空処理室や容器載置室の配置のレイアウト
の自由度を向上させるとともに、装置のメンテナンス効
率を向上させる真空処理装置を提供する。【構成】減圧雰囲気とされる気密構造の搬送室２と、
この搬送室２に搬出入口を介して気密に接続された予備
真空室３Ａ，３Ｂと、搬送室２に搬出入口を介して気密
に接続された複数の真空処理室４Ａ〜４Ｃと、搬送室２
内に設けられると共に各々独立して水平方向に回動され
る少なくとも３本の搬送アームを備え、予備真空室３
Ａ，３Ｂ及び真空処理室４Ａ〜４Ｃ間で被処理体Ｗを搬
送するための搬送手段５とを備えた真空処理装置であっ
て、この真空処理装置は、クリーンルーム内に配置さ
れ、真空処理装置が配置される最もクリーン度の高い筐
体面側に設けられた、真空処理装置を制御する制御板等
を具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、真空処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体を製造するための真空処理装置の
中には、エッチング、成膜処理、アッシング、及びスパ
ッタリングなど種々の装置があり、また装置のタイプと
しても枚葉式及びバッチ式のものがある。この種の半導
体製造装置は、半導体の高集積化、高スループット化に
対応するため種々の工夫、改良がなされ、例えば枚葉式
の真空処理装置については、複数の真空処理室を共通の
搬送室に接続し、共通の入出力ポートから各真空処理室
に搬送する装置も知られている。

【０００３】図７はこのような装置を示す図であり、進
退自在及び回転自在な搬送アーム１０１を備えた搬送室
１０２に複数の真空処理室１０３及びカセット室１０４
を、搬送アーム１０１の回転中心に対して放射状に接続
して真空処理装置が構成され、被処理体、例えば半導体
ウエハ（以下ウエハという）を例えば２５枚収納したウ
エハカセット１００をカセット室１０４内に搬入し、こ
の中を減圧した後搬送アーム１０１によりウエハカセッ
ト１００内のウエハを順次真空処理室１０３内に搬送
し、例えば各真空処理室１０３内で並行してウエハの処
理を行うようにしている。

【０００４】このような装置では、真空処理室１０３と
ロードロック室１０２とを１対１で接続する場合に比べ
て、複数の真空処理室１０３に対して搬送アームを共通
化しているので構成上有利であり、また各真空処理室１
０３で異なる処理を行うように構成し、１枚のウエハに
ついて連続処理を行って、スループットの向上を図って
いた。また、図８に示すように、各真空処理室１０３等
を制御する制御装置１０５は例えば真空処理室１０３や
ロードロック室１０２を載置する基台１０６内に配置さ
れており、制御装置１０５内には、装置全体を制御する
演算処理部、例えばＣＰＵ１０７と、このＣＰＵ１０７
を駆動するためのプログラムを記録した記録媒体、例え
ばＲＯＭ１０８によって基本部が構成されている。そし
て、ＲＯＭ１０８とＣＰＵ１０７は、データバス及びア
ドレスバス等の信号線１０９にて接続されている。

【０００５】また、その装置は、カセット室１０４内に
カセット１０３を搬入又は搬出する搬入出口をクリール
ーム内に配置されたパネル１１０に嵌合して設けられて
おり、クリーンルームの環境は、そのパネル１１０を挟
んで装置側１１１のクリーン度よりカセット室１０４の
搬入出口側１１２の方がクリーン度が高くなっており、
一般に狭義で総称すると装置側１１１をメンテナンスル
ーム、搬入出口側１１２を作業側クリーンルームと言わ
れている。そして、パネル１１０には、その装置を駆動
するための制御板として操作パネル１１３が設けられ、
この操作パネル１１３は、信号線１１４を介してＣＰＵ
１０７と接続されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
装置では搬送アームが直線に沿って進退する構成である
ため、各真空処理室及びカセット室を搬送アームの回転
中心に対して放射状に配列しなければならないが、周方
向に配列される各室間にはスペースがあるといっても、
このスペースは現実にはデッドスペースであって、他の
装置を配置することはできず、従って装置全体の実際上
の占有空間は非常に広いものであり、高価なクリーンル
ーム内で使用することからすれば、搬送アームの共通化
を図っている割にはスペース的にはあまり大きなメリッ
トがなかった。

【０００７】また、ＣＰＵを駆動するプログラムを記録
する記録媒体が装置側に配置されているので、装置を駆
動するプログラムのバージョンアップ，変更，機能追加
等に伴って、その記録媒体を交換する際、通常作業員は
作業側クリーンルーム内にて作業しているので、メンテ
ナンスルーム側に、一旦移動し、ＲＯＭを交換すること
になる。そのような、記録媒体の交換のため何度かクリ
ーンルームとメンテナンスルームを行き来すると、メン
テナンスルームのパーティクルがクリーンルーム内に侵
入し、このパーティクルの侵入に伴って、クリーンルー
ム内に置かれている被処理体、例えば半導体ウエハの表
面に付着してしまい、被処理体の歩留りを低下させてし
まうという問題が生じていた。また、記録媒体の交換の
ため何度かクリーンルームとメンテナンスルームを行き
来しなくてはならないので、媒体交換作業の作業時間の
スループットの効率が悪かった。

【０００８】また、装置が大型化、複合化に伴って、装
置内のどの箇所で、現在被処理体がどういう処理を行な
われているのか、又は如何なる箇所に半導体ウエハが移
動しているのか等の表示がされておらず、例えば装置内
でトラブル、例えば搬送装置が暴走し、半導体ウエハを
破損した際、どこで破損したか分からないために、それ
ぞれの部屋を大気開放して、対処していた。このような
対処をすると、半導体ウエハが破損していない部屋まで
開けるので大気開放に係るメンテナンス時間のスループ
ットが低下してしまい、さらに処理室等に不要なクリー
ンルーム中のパーティクルが付着し、処理室内等の洗浄
する時期を伸ばすことができないという問題があった。

【０００９】本発明の目的は、真空処理室や容器載置室
の配置のレイアウトの自由度を向上させるとともに、装
置のメンテナンス効率を向上させる真空処理装置を提供
することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、減圧
雰囲気とされる気密構造の搬送室と、この搬送室に搬出
入口を介して気密に接続された予備真空室と、前記搬送
室に搬出入口を介して気密に接続された複数の真空処理
室と、前記搬送室内に設けられると共に各々独立して水
平方向に回動される少なくとも３本の搬送アームを備
え、前記予備真空室及び真空処理室間で被処理体を搬送
するための搬送手段とを備えた真空処理装置であって、
この真空処理装置は、クリーンルーム内に配置され、前
記真空処理装置が配置される最もクリーン度の高い筐体
面側に設けられた、前記真空処理装置を制御する制御板
と、この制御板に設けられ、ＩＣカードの情報を読み込
むための読込媒体器と、前記制御板側に設けられた演算
処理部とを具備し、前記ＩＣカードに蓄積されたプログ
ラムにより、前記演算処理部を駆動して前記真空処理装
置を制御することを特徴とする。

【００１１】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、前記複数の真空処理室には、少なくともプラズマを
生起させ、磁場を作用して前記被処理体をエッチング処
理する処理室を含むことを特徴とする。

【００１２】請求項３の発明は、請求項１の発明におい
て、制御板には、被処理体の処理のリアルタイム情報を
表示する表示板が設けられたことを特徴とする。

【００１３】請求項４の発明は、静求項３の発明におい
て、リアルタイム情報は、搬送アームの移動位置情報又
は／及び磁場の駆動情報であることを特徴とする。

【００１４】請求項５の発明は、請求項２の発明におい
て、磁場は、永久磁石を回転させて発生することを特徴
とする。

【００１５】

【作用】本発明によれば、搬送アームによる被処理体の
搬送経路をアームのストローク範囲であれば自由に選択
できる。従って真空処理室の搬出入口や予備真空室例え
ば容器載置室の搬出入口の向きと搬送アームとの位置関
係の自由度が大きいので、例えば搬送室の一辺に沿って
真空処理室の搬出入口を横に並べることもでき、スペー
ス効率を高めることができる。そして、装置が配置され
る最もクリーン度の高い筐体面側に設けられた、制御板
にＩＣカードの情報をリード又は／及びライトするため
の読込媒体器が具備されているので、この読込媒体に対
してクリーン度の高いクリーンルーム側からＩＣカード
を挿入し、このＩＣカードに蓄積されたプログラムによ
って演算処理部を駆動し、装置を全体を制御するので、
プログラムの変更等に係るメンテナンス時にメンテナン
スルーム側に移動することないので、メンテナンス効率
を向上することができる。

【００１６】

【実施例】図１及び図２は、夫々本発明の実施例の全体
構成を示す一部破断斜視図及び平面図である。図中２は
搬送室であり、この搬送室２は、直方体形状に形成され
た気密構造のチャンバよりなる。この搬送室２には、一
方の長辺に沿って設けられた、被処理体、例えばウエハ
Ｗを搬入出する２個のの搬出入口３１、３１が側壁に形
成されており、ウエハカセットＣが載置される気密構造
の２個のカセット室３Ａ、３Ｂが夫々前記搬出入口３
１、３１を介して搬送室２に気密に接続されている。

【００１７】前記ウエハカセット（以下単にカセットと
いう。）Ｃは、２５枚のウエハＷを収納する容器であ
り、カセット室３Ａ、３Ｂは、この実施例では容器載置
部に相当する。カセット室３Ａ、３Ｂの上部には、カセ
ットＣを取り入れ、取り出しできるように前後に開閉自
在な蓋部３２が形成されると共に、内部には図３に示す
ように、カセットＣを間欠的に昇降させるための昇降機
構３３が設けられ、また底部には排気管３４が接続され
ている。この排気管３４はバルブＶ１を介して真空ポン
プ３４ａ例えばドライポンプに接続されている。

【００１８】更に前記搬送室２には、他方の長辺に沿っ
て２個のウエハの搬出入口４１、４１が側壁に形成され
ており、これら搬出入口４１、４１を介して２個の真空
処理室、例えばマグネットを用いたプラズマエッチング
を行うための真空処理室４Ａ、４Ｂが搬送室２に気密に
接続されている。またこの例では、搬送室２の短辺側に
も真空処理室４Ｃが搬出入口４１を介して気密に接続さ
れている。なおカセット室３Ａ、３Ｂの各搬出入口３
１、及び真空処理室４Ａ〜４Ｃの各搬出入口には、ゲー
トバルブＧ（符号共通）が設けられている。

【００１９】前記真空処理室４Ａ（４Ｂ、４Ｃ）には、
図３に示すようにサセプタを兼用する下部電極４２、上
部電極４３が設けられると共に処理ガス供給管４４及び
排気管４５が接続されている。上部電極４３の上方に
は、マグネット収納用の磁場漏洩防止用の筐体４６が真
空処理室とは分割されて設けられており、この中には真
空処理室４Ａ（４Ｂ、４Ｃ）内に磁場を形成するマグネ
ット４７及びこのマグネット４７の上方に磁場極性が互
いに反するように設けられた、前記マグネット４７から
の磁場、特に上方及び側方に磁場の漏洩を防止するため
の磁場漏洩防止用のマグネット４８とがモータ４９で同
期して回転されるように配設されている。

【００２０】前記搬送室２内には、前記カセット室３
Ａ、３Ｂ及び真空処理室４Ａ〜４Ｃ間でウエハＷを搬送
するための搬送手段５が設けられている。前記搬送手段
５は、各々独立して水平方向に回動される３本の搬送ア
ーム５１、５２、５３を備えた多関節アームよりなり、
下段の搬送アーム５１は、図３に示すように搬送室の下
部に設けられた駆動部６によって回転可能にされてお
り、この駆動部６は、気密構造の円筒状のケース部６５
が取り付けられ、ケース部６５内の空間は大気側と気密
に区画されている。

【００２１】そして、前記ケース部６５には、排気管３
６が接続され、この排気管３６は、バルブＶ２を介して
前記真空ポンプ３５例えばターボ分子ポンプに接続され
ている。従ってバルブＶ２を開くと、ケース部６５の内
部空間が真空排気され、前記搬送室２内も駆動部６の軸
受け部（図示せず）を介して排気されるように構成さ
れ、前記３本の搬送アーム５１〜５３の軸受け部等で発
生したパーティクルがケース部６５の内部空間を介して
排気管３６内に排出されるように構成されている。ま
た、前記駆動部６は、前記３本の搬送アーム５１〜５３
に対応して３個の駆動モータ（図示せず）を備えてお
り、駆動部６の駆動により上段及び中段の搬送アーム５
２、５３が独立して駆動されるように構成されている。

【００２２】また、前記上段の搬送アーム５３のウエハ
保持部には、例えばウエハを安定して保持できる３個所
の位置に、摩擦によりパーティクルの発生しにくい材質
例えばフッ素樹脂よりなる突起部５５が設けられてお
り、このように構成すればウエハを搬送アーム５３に保
持したときにウエハの位置ずれを防止でき、ウエハ自身
のダメージもない。

【００２３】前記搬送室２には排気管２１が接続されて
おり、この排気管２１はバルブＶ３を介して前記真空ポ
ンプ３５に接続されている。また前記搬送室２内には、
ウエハＷを一時的に載置するための昇降自在なバッファ
ステージ２２と、ウエハのオリエンテーションフラット
（以下「オリフラ」という。）の向き及び中心位置を合
わせるための位置合わせ機構７とが配置されている（図
１及び図２参照）。この位置合わせ機構７は、Ｘ、Ｙ、
Ｚ及びθ方向に移動可能な回転ステージ７１、及びウエ
ハの周縁部を光学的に検出する発受光部７２などを備え
ている。

【００２４】また前記搬送室２内には、図１及び図２に
示すように不活性ガス例えば窒素ガスを供給するための
不活性ガス供給管２３が前記下段の搬送アーム５１の回
動中心付近の上方位置まで延び出して配管されており、
この不活性ガス供給管２３の先端部には，例えば焼結金
属よりなる不活性ガス供給部２４が形成されており、前
記不活性ガス供給管２３の基端側は例えば窒素ガス供給
源２５に接続されている。

【００２５】そして、前記搬送室２，真空処理室４Ａ〜
４Ｃ及びカセット室３Ａ，３Ｂ等の室は、図４に示す、
筐体８０に覆われており、この筐体８０はクリーンルー
ム内に配置されている。そして、この筐体８０の殆ど
は、装置の保守を行なうためのクリーン度の低いメンテ
ナンスルームに配置されており、このメンテナンスルー
ムとクリーンルームの最もクリーン度の高い側、つま
り、作業者が処理すべきウエハＷを配置する側としての
作業用クリーンルームとは、パネル８１で仕切られてい
る。そして、その作業用クリーンルーム側の筐体８０面
側には、前記カセット室３Ａ，３Ｂにカセットを搬入出
するための蓋部３２が配置するようにされている、そし
てその蓋部３２を覆って、メンテナンスルームと作業用
クリーンルームとを遮断するための板体、例えばアクリ
ル板８２が筐体８０に脱着可能に設けられている。ま
た、このアクリル板８２の側方には、装置を駆動するた
めの制御板として操作パネル８３が設けられており、こ
の操作パネル８３には、装置状態を表示するための表示
装置、例えば液晶ディスプレイ８４，処理条件等を入力
するためのキーボード８５，記録媒体、例えばＩＣカー
ドを挿入するための読込媒体器としての記録媒体挿入部
８６とが設けられている。また、操作パネル８３の下方
には、緊急時に装置を停止するためのＥＭＧ（エマージ
ェンシー）スイッチ８７が設けられている。

【００２６】前記記録媒体挿入部８６は、図５に示すよ
うに、制御板としての操作パネル８３には、ＩＣカード
９０の記録素子、例えばＲＯＭ９１に記憶されている装
置の制御プログラムを読込む読込媒体器本体９２の記憶
媒体挿入部としてのＩＣカード挿入部８６が設けてあ
り、その読込媒体器本体９２は、前記操作パネル８３に
読込媒体器本体９２の取り付け金具９３をネジ９４で締
めつけて取り付けられている。そして、ＩＣカード９０
の制御プログラムは、一旦読込媒体器本体９２を経由
し、ＣＰＵ９７に制御されたＥＥＰＲＯＭ９８に接続ケ
ーブル９６を介して読み込まれる。更に、ＣＰＵ９７が
このＥＥＰＲＯＭに読み込まれた制御プログラムに依
り、装置全体の制御を行なう。

【００２７】次に上述実施例の作用について述べる。先
ずゲートバルブＧを閉じて搬送室２及び真空処理室４Ａ
〜４Ｃ内を夫々真空排気する。搬送室２内の真空排気初
期時（粗引き時）には、バルブＶ２を開いて真空ポンプ
３５により排気管３６を介してケース部６５内を真空排
気すると共に、不活性ガス供給管２３より不活性ガス供
給部２４を介して不活性ガス例えば窒素ガスを搬送室２
内に供給する。これにより搬送室２内の気体が排気管２
１からの経路に加えて、回転軸６１の軸受け部→ケース
部６５→排気管３６の経路で排気される。そして搬送室
２内がある程度減圧された後バルブＶ２を閉じ、その後
は排気管２１を通じて例えば５０〜９００ｍＴｏｒｒの
真空度まで減圧する。

【００２８】一方作業クリーンルーム側からカセット室
３Ａ、３Ｂの蓋３２を開き、被処理体であるウエハＷを
２５枚収納した容器としてのカセットＣをウエハＷが水
平になる姿勢で例えば一方のカセット室３Ａ（搬入用カ
セット室３Ａ）内の昇降機構３３上に例えばオペレータ
（作業員又はＡＧＶ等のロボット）により載置すると共
に、他方のカセット室３Ｂ（搬出用カセット室３Ｂ）内
に空のカセットＣを載置し、蓋３２を閉じてカセット室
３Ａ、３Ｂ内を搬送室２内と同じ程度の真空度まで真空
排気した後、カセット室３Ａ、３ＢのゲートバルブＧを
開く。次いで搬送手段５の搬送アーム５１が搬出入口３
１を介してカセット室３ＡのカセットＣ内に進入し、ウ
エハＷを受け取る。この場合、昇降機構３３を間欠的に
降下させてカセットＣから１枚づつウエハＷから搬出さ
れ、ウエハＷは、搬送アーム５３の先端部の保持部の３
つの突起部５４により保持される。

【００２９】次に、搬送アーム５３はカセットＣから受
け取ったウエハＷを位置合わせ機構７の回転ステージ７
１上に載置して、例えば発受光部７２によりウエハＷの
周縁を検出し、その結果にもとづき回転ステージ７１を
動かしてウエハＷのオリフラの向き及び中心の位置合わ
せを行う。続いてこのウエハＷを搬送手段５により搬出
入口４１を介して例えば真空処理室４Ａ内に搬入する。
真空処理室４Ａ内では、サセプタ４２に組み合わされた
図示しない昇降ピンの昇降動作を介してウエハＷがサセ
プタ４２上に載置され、サセプタ４２及び上部電極４３
間の高周波電力とマグネット４７の磁場とのエネルギー
により得られたプラズマによってエッチングされる。

【００３０】カセットＣ内のウエハＷは、上述のような
搬送工程により例えば各真空処理室３Ａ〜３Ｃに分配さ
れ、並行して真空処理、例えばプラズマエッチングが行
われる。処理済みのウエハＷは搬送手段５により例えば
他方のカセット室３ＢのカセットＣ内に受け渡される
が、次に処理されるべきウエハＷは、真空処理室３Ａ〜
３Ｃで処理が行われている間に位置合わせを行ってバッ
ファステージ２２上で待機している。

【００３１】そして搬送手段５が駆動されている間はバ
ルブＶ２を開いてケース部６５内を真空排気して既述の
ように軸受け部より吸引すると共に不活性ガス供給部２
４より例えば窒素ガスを搬送室２内に供給する。この不
活性ガス供給部２４は搬送手段５の回転軸６１の上方付
近にあるため、前記窒素ガスは主として軸受け部より既
述の経路でケース部６５内に流れ込む。

【００３２】また、前述の装置のステータス情報は、図
６に示すように、表示装置８４に表示されており、搬送
装置５のアーム５１，５２，５３の情報は、図中の２０
０で示すように表示されている。さらに、そのアーム５
１，５２，５３でウエハＷを保持しているか、或いはウ
エハＷをいかなる位置に移動中であるか等の情報をリア
ルタイムで表示している。つまり、アーム５１，５２，
５３が実際に移動していれば、アームの表示２００もそ
の移動に伴って、表示も変化する。また、それぞれの室
間に配置したゲートバルブＧの開閉状態も図中の２０１
（開放状態）及び２０２（閉じた状態）等も表示され
る。さらに、処理室４Ａ〜４Ｃのマグネット４７（図中
の２０３）の回転も図中２０４のマーカーで回転中或い
は停止しているのかを明確に判断できるよう表示されて
いる。さらに、それぞれの処理室４Ａ〜４ＣでウエハＷ
をどのレシピーのいかなるステップで処理中であるかも
表示（図中２０５）されている。これによって、作業側
クリーンルームにいるオペレータは、メンテナンスルー
ムに行かなくても、一目で装置の処理状態を明確に確認
できることになる。

【００３３】また、前述の装置を駆動するプログラムの
バージョンアップ，変更，機能追加等に伴って、そのプ
ログラムの交換は、作業員が作業側クリーンルーム内か
ら図５に示すように、ＩＣカード９０を読込媒体本体９
２の記録媒体挿入部８６に差し込んで、その後、装置を
リセット、例えばＣＰＵ９７をリセットしたり、電源リ
セットし、差し込んだＩＣカード９０のプログラムによ
って、ＣＰＵ９７を駆動することによって、プログラム
の変更を行なう。

【００３４】上述の実施例によれば、搬送室２内に、各
々独立して水平に移動自在な３本の搬送アーム５１〜５
３を備えた多関節アームよりなる搬送手段５を設けてい
るため、搬送手段５の水平姿勢のとり得る自由度が大き
く、搬送アーム５１〜５３によるウエハの搬送経路をア
ームのストローク範囲内であれば自由に選択できる。従
って真空処理室４Ａ〜４Ｃの夫々の搬出入口４１及びカ
セット室３Ａ、３Ｂの夫々の搬出入口３１の向きと搬送
手段５との位置関係の自由度が大きいので、搬送室２を
直方体形状に形成し、その一辺に沿って真空処理室４
Ａ、４Ｂの搬出入口４１、４１を並べると共に、カセッ
ト室３Ａ、３Ｂの搬出入口３１、３１を並べることがで
きる。このことは換言すれば、搬送室２の形状、真空処
理室４Ａ〜４Ｃ及びカセット室３Ａ、３Ｂの配置のレイ
アウトの自由度が大きいことであり、四角形の搬送室２
の周りに上述のように真空処理室４Ａ〜４Ｃ及びカセッ
ト室３Ａ、３Ｂを配置することにより、搬送手段の回転
中心に対して放射状に真空処理室やカセット室を放射状
に並べていた場合に比べて、装置の配置スペースが狭く
て済み、複数の真空処理室を組み合わせた装置を高価な
クリーンルーム内に設置するにあたって非常に有効であ
る。更に各室の配置のレイアウトの自由度が大きいこと
から搬送距離を短くすることもできるため、スループッ
トの向上が図れる。

【００３５】また、前述の装置を駆動するプログラムの
バージョンアップ，変更，機能追加等に伴うプログラム
の交換は、作業員が作業側クリーンルーム内からＩＣカ
ードを読込媒体本体９２の記録媒体挿入部８６に差し込
んで、その後、装置をリセット、例えばＣＰＵ９７をリ
セットしたり、電源リセットし、差し込んだＩＣカード
９０のプログラムによって、ＣＰＵ９７を駆動すること
によって、プログラムの変更を行なうことができるの
で、作業員はメンテナンスルーム側に、いちいち移動し
なくてもよいので、クリーンルームとメンテナンスルー
ムを行き来する際の、メンテナンスルームからのパーテ
ィクルがクリーンルーム内に侵入するのを抑制できる。
そして、このパーティクルの侵入を抑制することができ
るので、パーティクルがクリーンルーム内に置かれてい
る被処理体、例えば半導体ウエハの表面に付着するのを
抑制することができる。また、媒体交換作業の作業時間
のスループットの効率も向上することができる。

【００３６】また、装置が大型化、複合化しても、装置
内のどの箇所で、現在被処理体がどういう処理を行なわ
れているのか、又は如何なる箇所に半導体ウエハＷが移
動しているのか等の表示が、図６に示す、表示装置８４
の画面にリアルタイムで表示されるので、例えば装置内
でトラブル、例えば搬送装置が暴走し、半導体ウエハを
破損した際、明確に作業員が確認することができるの
で、処理の確認の明確化の向上及びトラブル等に対する
メンテナンス時間のスループットを向上することができ
る。

【００３７】以上において上述の実施例ではカセット室
３Ａ、３Ｂが請求項１の発明の予備真空室に相当するも
のであるが、この予備真空室としてはカセット室に限ら
ず、１枚だけのウエハを載置するためのロードロック室
や、搬送手段を備えた別の搬送室であってもよい。そし
て真空処理室としてはマグネットを用いたエッチングを
行う処理室に限らず、プラズマＣＶＤ、熱ＣＶＤ、アッ
シング、スパッタリングなどを行う真空処理室であって
もよいし、各真空処理室にて別々の真空処理を行うよう
にしてもよい。なお被処理体としてはウエハに限らずＬ
ＣＤ基板などであってもよい。また、ＩＣカードの制御
プログラムを、ＥＥＰＲＯＭに一旦読み込んだが、直
接、演算処理部としてのＣＰＵに接続してもよいことは
言うまでもない。

【００３８】

【発明の効果】本発明によれば、真空処理室の搬出入口
や予備真空室例えば容器載置室の搬出入口の向きと搬送
アームとの位置関係の自由度が大きいので、例えば搬送
室の一辺に沿って真空処理室の搬出入口を横に並べるこ
ともでき、クリーンルーム内でのスペース効率を高める
ことができ、被処理体の生産効率を向上することができ
る。そして、プログラムの変更等に係るメンテナンス時
にメンテナンスルーム側に移動することないので、メン
テナンス効率を向上することができるので、被処理体の
生産効率を向上することができる。

【００３９】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の全体構成を示す一部破断斜視
図である。

【図２】図１の全体構成を示す平面図である。

【図３】図１の全体構成を示す断面図である。

【図４】図１の作業用クリーンルームからみた装置の正
面図である。

【図５】図１の制御板の部分破断斜視図である。

【図６】図１の表示装置の表示画面を説明する図であ
る。

【図７】従来の真空処理装置を示す平面図である。

【図８】従来の真空処理装置を示す断面図である。

【符号の説明】

Ｗ半導体ウエハ（被処理体）２搬送室２４不活性ガス供給部３Ａ、３Ｂカセット室３１、４１搬出入口３５真空ポンプ４Ａ〜４Ｃ真空処理室５搬送手段５１〜５３搬送アーム６駆動部６５ケース部８０筐体８３操作パネル（制御板）８４表示装置９０ＩＣカード９２読込媒体器９７ＣＰＵ（演算処理部）９８ＥＥＰＲＯＭ

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ (72)発明者高添克彦山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地―１東京エレクトロン山梨株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】減圧雰囲気とされる気密構造の搬送室
と、この搬送室に搬出入口を介して気密に接続された予
備真空室と、前記搬送室に搬出入口を介して気密に接続
された複数の真空処理室と、前記搬送室内に設けられる
と共に各々独立して水平方向に回動される少なくとも３
本の搬送アームを備え、前記予備真空室及び真空処理室
間で被処理体を搬送するための搬送手段とを備えた真空
処理装置であって、この真空処理装置は、クリーンルー
ム内に配置され、前記真空処理装置が配置される最もク
リーン度の高い筐体面側に設けられた、前記真空処理装
置を制御する制御板と、この制御板に設けられ、ＩＣカ
ードの情報を読み込むための読込媒体器と、前記制御板
側に設けられた演算処理部とを具備し、前記ＩＣカード
に蓄積されたプログラムにより、前記演算処理部を駆動
して前記真空処理装置を制御することを特徴とする真空
処理装置。
【請求項２】前記複数の真空処理室には、少なくとも
プラズマを生起させ、磁場を作用して前記被処理体をエ
ッチング処理する処理室を含むことを特徴とする請求項
１の真空処理装置。
【請求項３】前記制御板には、被処理体の処理のリア
ルタイム情報を表示する表示板が設けられたことを特徴
とする請求項１の真空処理装置。
【請求項４】前記リアルタイム情報は、搬送アームの
移動位置情報又は／及び磁場の駆動情報であることを特
徴とする請求項３の真空処理装置。
【請求項５】前記磁場は、永久磁石を回転させて発生
することを特徴とする請求項２の真空処理装置。